JPH024286A - Liquid crystal projector - Google Patents

Liquid crystal projector

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Publication number
JPH024286A
JPH024286A JP63153329A JP15332988A JPH024286A JP H024286 A JPH024286 A JP H024286A JP 63153329 A JP63153329 A JP 63153329A JP 15332988 A JP15332988 A JP 15332988A JP H024286 A JPH024286 A JP H024286A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display device
scanning
crystal display
projection
Prior art date
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Pending
Application number
JP63153329A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyao Kozai
香西 甲矢夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH024286A publication Critical patent/JPH024286A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce a liquid crystal display device in size and to miniaturize it by scanning stepwise at every scanning stage images corresponding to one scanning position of one-dimensional liquid crystal display device and being irradiated with light from a light source for projection. CONSTITUTION:The title liquid crystal projector is provided with the one- dimensional liquid crystal display device 25 of a horizontal scanning type, which is arranged on the optical axis of the light source 20 for projection, and with scanning means 27A and 27B which scan stepwise in a vertical (or horizontal) direction at every scanning stage images corresponding to one scanning portion of one-dimensional liquid crystal display device 25. Those images are irradiated with light from the light source 20 for projection. Therefore, the one-dimensional liquid crystal display device can be reduced in size in its height direction, thereby miniaturizing the liquid crystal projector. In the one-dimensional liquid crystal display device, the number of picture elements in a vertical (or horizontal) direction becomes unlimited so that the number of picture elements in a lateral (height) direction can be independently increased. The resolution of projected moving images can thereby be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、投写装置(又は投影装置)に関し、特に、液
晶表示装置を内蔵した液晶投写装置に適用して有効な技
術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a projection device (or projection device), and particularly to a technique that is effective when applied to a liquid crystal projection device incorporating a liquid crystal display device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

会議、講演会等のプレゼンテーションにはオーバーへラ
ドプロジェクタ(OHP)、スライドプロジェクタ等の
投写装置が使用されている。この種の投写装置はスクリ
ーンに投写される画像が静止画像である。
2. Description of the Related Art Projection devices such as over-the-air projectors (OHP) and slide projectors are used for presentations at conferences, lectures, and the like. In this type of projection device, the image projected onto the screen is a still image.

最近、投写装置で投写される画像を動画像にする要求が
高まり、その研究開発が盛んに行われている。本発明者
は、アクティブマトリックス方式の2次元カラー液晶表
示装置を内蔵する投写装置(投影装置)の開発を行って
いる。この投写装置は、主に、投写用光源、その光軸上
に順次配置された前記液晶表示装置、投写用光学レンズ
の夫々で構成されている。前記液晶表示装置は動画像を
形成するために備えられている。投写用光学レンズは、
この液晶表示装置の動画像を装置の外部に配置された外
部スクリーンに投写するように構成されている。液晶表
示装置を内蔵するこの投写装置は、動画像を形成する液
晶表示装置のサイズが光軸方向において非常に小さいの
で、小型化及び携帯化できる特徴がある。
2. Description of the Related Art Recently, there has been an increasing demand for images projected by a projection device to be moving images, and research and development on the subject has been actively conducted. The present inventor is developing a projection device (projection device) that incorporates an active matrix two-dimensional color liquid crystal display device. This projection device mainly includes a projection light source, the liquid crystal display device sequentially arranged on its optical axis, and a projection optical lens. The liquid crystal display device is provided for forming moving images. The optical lens for projection is
The device is configured to project moving images on this liquid crystal display device onto an external screen placed outside the device. This projection device with a built-in liquid crystal display device has the feature that it can be made compact and portable because the size of the liquid crystal display device that forms moving images is very small in the optical axis direction.

なお、この種の液晶表示装置を内蔵する投写装置につい
ては、例えばニスアイデイ 87 ダイジェストセクシ
ョン6、第75頁乃至第78頁。
Regarding the projection device incorporating this type of liquid crystal display device, see, for example, Niss I Day 87 Digest Section 6, pages 75 to 78.

1987年(SID 87 DIGEST 5ecsi
on 6.pp75−78.1987)に記載されてい
る。また、この種の投写装置については、ユーロディス
プレイ′87.第115頁及び第116頁、 1987
年(EURODISPLAY’87.ppH5〜116
.1987)に記載されている。
1987 (SID 87 DIGEST 5ecsi
on 6. pp75-78.1987). Regarding this type of projection device, Eurodisplay '87. Pages 115 and 116, 1987
(EURODISPLAY'87.ppH5-116
.. 1987).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明者が開発中の前記投写装置に内蔵される2次元カ
ラー液晶表示装置は、通常のNTSCテレビ信号で投写
される動画像の実用上問題ない程度の解像度を得るため
に、約640X480個の画素(ピクセル)を配列して
いる。現状の加工技術を使用した場合、前記画素間ピッ
チの最小加工寸法は0.06〜0.07[mm]である
ので、画素面(液晶有効表示面)は高さ方向で30 [
mm1.横方向で40[mml、対角方向で50 [m
s]程度のサイズで構成される。液晶表示装置は、前記
画素面の周囲に駆動回路が配置されるので、高さ方向が
約60 [mm]、横方向が約70 [mmlのサイズ
で構成されている。
The two-dimensional color liquid crystal display device built into the projection device currently being developed by the present inventor has approximately 640 x 480 pixels in order to obtain a resolution that is sufficient for practical use of moving images projected using normal NTSC television signals. It arranges pixels. When using the current processing technology, the minimum processing dimension of the pitch between pixels is 0.06 to 0.07 [mm], so the pixel surface (liquid crystal effective display surface) is 30 [mm] in the height direction.
mm1. 40 [mml in the horizontal direction, 50 [mml] in the diagonal direction
s] size. Since a driving circuit is arranged around the pixel surface, the liquid crystal display device has a size of approximately 60 mm in the height direction and approximately 70 mm in the horizontal direction.

このため、投写装置は液晶表示装置の厚さ方向のサイズ
(光軸方向のサイズ)が小さいのである程度の小型化を
図ることができるが、液晶表示装置の高さ方向又は横方
向のサイズが解像度で規定されているので、その方向に
おいて投・耳装置の小型化を図ることができないという
問題点があった。
For this reason, the projection device can be made smaller to a certain extent because the size of the liquid crystal display device in the thickness direction (size in the optical axis direction) is small, but the size of the liquid crystal display device in the height direction or horizontal direction is Therefore, there was a problem in that it was not possible to reduce the size of the ear projection device in that direction.

また、本発明者が開発中の前記投写装置は、小型で携帯
性に優れ、あらゆる場所に持ち運びが自由であるが、場
所によっては外部スクリーン又は白壁等外部スクリーン
に相当するものがない場合がある。このような場合、前
記投写装置は動画像を投写することができないという問
題点があった。
Furthermore, the projection device currently being developed by the present inventor is small and highly portable, and can be carried anywhere. However, depending on the location, there may be no external screen or something equivalent to an external screen such as a white wall. . In such a case, there is a problem in that the projection device cannot project moving images.

また1本発明者が開発中の前記投写装置は、前述のよう
に小型で携帯性に優れ、あらゆる場所に持ち運びが自由
である。ところが、投写装置を携帯した場所によっては
、用意された外部スクリーンがフロントプロジェクショ
ン型の場合とりアブロジェクション型の場合とがある。
Furthermore, the projection device currently being developed by the present inventor is small and has excellent portability as described above, and can be carried anywhere. However, depending on the location where the projection device is carried, the prepared external screen may be a front projection type or an abjection type.

フロントプロジェクション型の外部スクリーンは動画像
を投写方向側から見れるように構成されている。リアプ
ロジェクション型の外部スクリーンは動画像を投写方向
と反対の裏側から、見れるように構成されている。この
ため、用意された外部スクリーンによって、投写装置で
投写される動画像が反転し、動画像が見苦しくなるとい
う問題点があった。
The front projection type external screen is configured so that moving images can be viewed from the projection direction side. The rear projection type external screen is configured so that moving images can be viewed from the back side opposite to the projection direction. For this reason, there is a problem in that the moving image projected by the projection device is reversed by the prepared external screen, making the moving image unsightly.

本発明の目的は、液晶表示装置を内蔵する投写装置にお
いて、前記液晶表示装置の高さ方向(水平走査方向)又
は横方向(垂直走査方向)のサイズを縮小し、小型化を
図ることが可能な技術を提供することにある。
An object of the present invention is to reduce the size of the liquid crystal display device in the height direction (horizontal scanning direction) or horizontal direction (vertical scanning direction) in a projection device incorporating a liquid crystal display device, thereby achieving miniaturization. The aim is to provide the latest technology.

本発明の他の目的は、前記液晶表示装置を内蔵する投写
装置において、投写される動画像の解像度を向上するこ
とが可能な技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of improving the resolution of a projected moving image in a projection device incorporating the liquid crystal display device.

本発明の他の目的は、前記液晶表示装置を内蔵する投写
装置において、製造上の歩留りを向上することが可能な
技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that can improve manufacturing yield in a projection device incorporating the liquid crystal display device.

本発明の他の目的は、液晶表示装置を内蔵する投写装置
において、外部スクリーン又はそれに相当するものがあ
ってもなくても動画像を投写することが可能な技術を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that allows a projection device incorporating a liquid crystal display device to project moving images with or without an external screen or an equivalent device.

本発明の他の目的は、液晶表示装置を内蔵する投写装置
において、投写方法によって動画像が反転することを防
止することが可能な技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that can prevent moving images from being reversed depending on the projection method in a projection device incorporating a liquid crystal display device.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は1本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

(1)液晶投写装置において、投写用光源の光軸上に配
列された水平方向走査型(又は垂直方向走査型)の一次
元液晶表示装置と、前記投写用′光源からの光で投写さ
れる一次元液晶表示装置の1走査分の画像をその走査毎
に段階的に垂直方向(又は水平方向)に走査させる走査
手段とを具備する。
(1) In a liquid crystal projection device, a one-dimensional horizontal scanning type (or vertical scanning type) one-dimensional liquid crystal display device arranged on the optical axis of a projection light source, and a one-dimensional liquid crystal display device that is projected using light from the projection light source. A scanning device is provided that scans an image of one scan of the one-dimensional liquid crystal display device in a vertical direction (or horizontal direction) stepwise for each scan.

(2)前記液晶投写装置において、前記構成の他に、前
記走査手段で走査された動画像を投写する位置に配置さ
れかつその位置から回避することができる可動型スクリ
ーンを具備する。
(2) In addition to the above-described configuration, the liquid crystal projection device includes a movable screen that is placed at a position for projecting a moving image scanned by the scanning means and that can be avoided from that position.

(3)前記液晶投写装置において、前記構成の他に、前
記一次元液晶表示装置のシフトレジスタの走査方向を反
転させる手段を具備する。
(3) In addition to the above configuration, the liquid crystal projection device includes means for reversing the scanning direction of the shift register of the one-dimensional liquid crystal display device.

〔作  用〕[For production]

上述した手段(1)によれば、前記一次元液晶表示装置
の高さ方向(又は横方向)のサイズを縮小したので、液
晶投写装置の小型化を図ることができる。
According to the above-mentioned means (1), since the size of the one-dimensional liquid crystal display device in the height direction (or lateral direction) is reduced, it is possible to downsize the liquid crystal projection device.

また、前記一次元液晶表示装置は垂直方向(又は水平方
向)の画素数の制約がなくなり、横方向(又は高さ方向
)の画素数を独立的に増加することができるので、投写
される動画像の解像度を向上することができる。
In addition, the one-dimensional liquid crystal display device is not limited by the number of pixels in the vertical direction (or horizontal direction), and the number of pixels in the horizontal direction (or height direction) can be increased independently. Image resolution can be improved.

また、前記一次元液晶表示装置は垂直方向(又は水平方
向)の画素数の制約がなくなり、横方向(又は高さ方向
)の画素サイズ、画素間ピッチ等の加工精度を緩和する
ことができるので、一次元液晶表示装置の製造上の歩留
りを向上することができる。
In addition, the one-dimensional liquid crystal display device is free from restrictions on the number of pixels in the vertical direction (or horizontal direction), and processing precision such as horizontal (or height) pixel size and pitch between pixels can be relaxed. , it is possible to improve the manufacturing yield of one-dimensional liquid crystal display devices.

前記手段(2)によれば、前記(1)の効果の他に、前
記可動型スクリーンを投写位置から回避して外部スクリ
ーンに動画像を投写したり、外部スクリーンがない場合
でも可動型スクリーンを投写位置に配置して動画像を投
写することができる。
According to the means (2), in addition to the effect of the above (1), it is possible to avoid the movable screen from the projection position and project a moving image on an external screen, or to project a moving image on an external screen even when there is no external screen. It is possible to project moving images by placing it at a projection position.

前記手段(3)によれば、前記(2)の効果の他に、フ
ロントプロジエクシコン時、リアプロジェクション時の
夫々において、前記一次元液晶表示装置の映像信号線(
又は走査信号線)の走査方向を反転させることができる
ので、スクリーンに投写される動画像の反転を防止する
ことができる。
According to the means (3), in addition to the effect of the above (2), the video signal line (
Since the scanning direction of the scanning signal line (or scanning signal line) can be reversed, it is possible to prevent the moving image projected on the screen from being reversed.

この結果、投写方法による動画像の見苦しさを低減する
ことができる。
As a result, it is possible to reduce the unsightliness of moving images caused by the projection method.

以下、本発明の構成について、一実施例とともに説明す
る。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be explained along with one embodiment.

なお、実施例を説明するための全回において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
Note that throughout the description of the embodiments, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.

〔実施例〕〔Example〕

(実施例■) 本発明の実施例Iである液晶投写装置の構成を第1図(
部分断面斜視図)及び第2図(概略断面図)で示す。
(Example ■) The configuration of a liquid crystal projection device which is Example I of the present invention is shown in Fig. 1 (
2 (schematic cross-sectional view).

第1図及び第2図に示すように、液晶投写装置(液晶投
影装置)1は、本体10に、主に、投写用光源20、一
次元液晶表示装置25、投写用光学レンズ26、ガルバ
ノミラ−(ポリゴンミラー)27B及び可動型スクリー
ン29を備えている。液晶表示装置25、投写用光学レ
ンズ26、ガルバノミラ−27B、可動型スクリーン2
9の夫々は、投写用光源20の光軸上に投写用光源20
の配置された側から順次配置されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a liquid crystal projection device (liquid crystal projection device) 1 mainly includes a main body 10, a projection light source 20, a one-dimensional liquid crystal display device 25, a projection optical lens 26, and a galvano mirror. (polygon mirror) 27B and a movable screen 29. Liquid crystal display device 25, optical projection lens 26, galvanometer mirror 27B, movable screen 2
Each of 9 has a projection light source 20 on the optical axis of the projection light source 20.
They are arranged sequentially from the side where they are placed.

本体10はこの形状に限定されないが方形状で構成され
ている。本体10は、液晶投写装置1のフレームとして
使用されるので、適度な硬度を有しかつ軽量な材料例え
ばアルミニウム合金や硬質樹脂材料で形成されている。
Although the main body 10 is not limited to this shape, it has a rectangular shape. Since the main body 10 is used as a frame of the liquid crystal projection device 1, it is made of a material that has appropriate hardness and is lightweight, such as an aluminum alloy or a hard resin material.

前記投写用光源20は、投写(投影)に必要な光量や波
長を有し、かつ液晶表示装置25に熱による損傷を与え
ないような光源で形成されている。投写用光源20は例
えばハロゲン系ランプで形成されている。この投写用光
源20は、この形状に限定されないが、高さ方向のサイ
ズが小さくかつ一次元液晶表示装置25の走査方向(水
平走査方向)の全域に光を照射できるように、棒状(円
柱形状)で構成されている。第1図に示すように、液晶
表示装置25に対向する方向と反対側において、投写用
光源20の近傍に光反射板21が配置されている。光反
射板21は投写用光源20からの光を効率良く液晶表示
装置25に照射できるように構成されている。光反射板
214よ例えば凹面鏡で形成されている。
The projection light source 20 is formed of a light source that has a light amount and wavelength necessary for projection (projection) and does not damage the liquid crystal display device 25 due to heat. The projection light source 20 is formed of, for example, a halogen lamp. Although not limited to this shape, the projection light source 20 has a rod shape (cylindrical shape) so that the size in the height direction is small and it can irradiate light to the entire area in the scanning direction (horizontal scanning direction) of the one-dimensional liquid crystal display device 25. ). As shown in FIG. 1, a light reflecting plate 21 is arranged near the projection light source 20 on the opposite side to the direction facing the liquid crystal display device 25. As shown in FIG. The light reflecting plate 21 is configured to efficiently irradiate the liquid crystal display device 25 with light from the projection light source 20. The light reflecting plate 214 is formed of, for example, a concave mirror.

投写用光源20と液晶表示装置25との間には、投写用
光源20の光軸上においてその配置された側からシリン
ドリカルレンズ22.赤外線フィルタ23の夫々が順次
配置されている。これらは、基本的にはガラス材料で形
成するが、液晶投写装置1を軽量化するために樹脂材料
で形成してもよい。前記シリンドリカルレンズ22は、
投写用光源20からの光を液晶表示装置25の画素面に
均一に照射でき、しかも高さ方向のサイズを小さくする
ことができる。
Between the projection light source 20 and the liquid crystal display device 25, a cylindrical lens 22. The infrared filters 23 are arranged one after another. These are basically made of a glass material, but may be made of a resin material in order to reduce the weight of the liquid crystal projection device 1. The cylindrical lens 22 is
The light from the projection light source 20 can be uniformly irradiated onto the pixel surface of the liquid crystal display device 25, and the size in the height direction can be reduced.

投写用光源20からの光で投写される液晶表示装置25
の動画像は、投写用光学レンズ26に入射され。
A liquid crystal display device 25 projected with light from a projection light source 20
The moving image is incident on the projection optical lens 26.

ガルバノミラ−27B及び可動型反射鏡28で折り反し
て可動型スクリーン29に投写される。
The image is folded back by the galvanometer mirror 27B and the movable reflecting mirror 28 and projected onto the movable screen 29.

投写用光学レンズ26は、液晶表示装置25の動画像を
投写する際にその動画像の焦点を調整することができる
ように構成されている。つまり、投写用光学レンズ26
の焦点の調整は、それ自体を光軸方向に沿った矢印六方
向に自在に動かすことで行われている。特に、液晶投写
装置1は、後に詳述するが、内蔵された可動型スクリー
ン29、外部に配置された外部スクリーン(30)の夫
々に動画像を鮮明に投写できるように構成されているの
で、投写用光学レンズ26には焦点を調整する機構が必
要となる。また、投写用光学レンズ26には倍率調整用
レンズを付加できるように構成してもよい。
The projection optical lens 26 is configured to be able to adjust the focus of the moving image when projecting the moving image from the liquid crystal display device 25. In other words, the projection optical lens 26
The focal point of the lens is adjusted by freely moving it in six directions along the optical axis. In particular, as will be described in detail later, the liquid crystal projection device 1 is configured so that moving images can be clearly projected onto each of the built-in movable screen 29 and the external screen (30) disposed outside. The projection optical lens 26 requires a mechanism for adjusting the focus. Further, the projection optical lens 26 may be configured so that a magnification adjustment lens can be added thereto.

前記ガルバノミラ−27Bは、液晶表示装置25の動画
像を本体10の内部から外側の一端側に配置された可動
型反射鏡28に向って投写(反射)するように構成され
ている。ガルバノミラ−27Bの一端側はステップモー
タ27Aに連結されており、ガルバノミラ−27Bはス
テップモータ27Aで矢印り方向(又は矢印d方向)に
回転するように構成されている。ガルバノミラ−27B
は、前記一次元液晶表示装置25の1水平走査で形成さ
れる画像を走査毎に段階的に垂直方向に走査する(可動
型反射鏡28の表面上を走査する)ように構成されてい
る。ガルバノミラ−27Bは8面体で構成され、8面体
のうちの1つの反射面は1垂直走査を行い1画面を形成
するように構成されている。8面体のうちの次段の反射
面は1次の1垂直走査を行い、次の1画面を形成するよ
うに構成されている。このガルバノミラ−27Bは、8
面体に限らず、2,4,6゜10、・・・等の多面体又
は1つの反射面を有する単面体であってもよい。実用上
においてはガルバノミラ−27Bは反射面の動作範囲が
少ない゛多面体の方が好ましい。このように、ガルバノ
ミラ−27Bは、液晶投写装置1に水平方向走査型の一
次元液晶表示装置25を組込むので、2次元画像を形成
するために、前記一次元液晶表示装置25の水平方向の
走査で形成された画像を垂直方向に走査できるように構
成されている。
The galvanometer mirror 27B is configured to project (reflect) a moving image on the liquid crystal display device 25 from the inside of the main body 10 toward a movable reflecting mirror 28 disposed at one end on the outside. One end of the galvano mirror 27B is connected to a step motor 27A, and the galvano mirror 27B is configured to rotate in the direction of the arrow (or in the direction of the arrow d) by the step motor 27A. Galvano mirror-27B
is configured to vertically scan an image formed by one horizontal scan of the one-dimensional liquid crystal display device 25 stepwise for each scan (scan the surface of the movable reflecting mirror 28). The galvano mirror 27B is composed of an octahedron, and one reflective surface of the octahedron is configured to perform one vertical scan and form one screen. The next reflecting surface of the octahedron is configured to perform one first-order vertical scan to form the next one screen. This galvano mirror 27B is 8
It is not limited to a face, but may be a 2, 4, 6°, 10, etc. polyhedron or a monohedron having one reflective surface. Practically speaking, it is preferable that the galvanometer mirror 27B be a polyhedron, since the operating range of the reflecting surface is small. In this way, the galvanometer mirror 27B incorporates the horizontal scanning type one-dimensional liquid crystal display device 25 into the liquid crystal projection device 1, so that the one-dimensional liquid crystal display device 25 can be scanned in the horizontal direction in order to form a two-dimensional image. It is configured to be able to scan the image formed in the vertical direction.

可動型反射鏡28は、前記ガルバノミラ−27Bで反射
された画像を本体10の外側の他端側に配置された可動
型スクリーン29等に投写するように構成されている。
The movable reflecting mirror 28 is configured to project the image reflected by the galvano mirror 27B onto a movable screen 29 or the like disposed on the other outer end of the main body 10.

可動型反射鏡28は、第1図及び第2図に示すように、
矢印B方向に可動する反射鏡支持台28Aに回転自在に
支持されている。可動型反射1!28は動画像の投写位
置を調整できるように構成されている。第1図及び第2
図に示すように、液晶投写装置1に内蔵された可動型ス
クリーン29に動画像を投写する場合、可動型反射鏡2
8は矢印B方向に例えば約45度の角度をもって設定さ
れる。また、第3図(概略断面図)に示すように、液晶
投写装置1の収納時や携帯時等、投写を行わない場合、
可動型反射鏡28は本体10の底面と略平行になるよう
に(0度の角度を持って)本体10に収納される。また
、第4図(概略断面図)に示すように、液晶投写袋w1
の可動型スクリーン29側の外部に配置された外部スク
リーン30Aに動画像を投写する場合、前記第1図及び
第2図に示す場合と同様に、可動型反射!t28は矢印
B方向に例えば約45度の角度を持って設定される。ま
た、同第4図に示すように、液晶投写装置1の可動型ス
クリーン29側と反対側の外部に配置された外部スクリ
ーン30Bに動画像を投写する場合、可動型反射鏡28
は矢印B方向に例えば約135度の角度をもって設定さ
れる。この時、可動型反射鏡28は反射鏡支持台28A
に対して回転させることによって前述の角度に設定する
ことができる。
The movable reflecting mirror 28, as shown in FIGS. 1 and 2,
It is rotatably supported by a reflecting mirror support stand 28A that moves in the direction of arrow B. The movable reflector 1!28 is configured so that the projection position of the moving image can be adjusted. Figures 1 and 2
As shown in the figure, when projecting a moving image onto a movable screen 29 built into the liquid crystal projection device 1, a movable reflecting mirror 2
8 is set at an angle of about 45 degrees in the direction of arrow B, for example. In addition, as shown in FIG. 3 (schematic cross-sectional view), when the liquid crystal projection device 1 is not projecting, such as when it is stored or carried,
The movable reflecting mirror 28 is housed in the main body 10 so as to be substantially parallel to the bottom surface of the main body 10 (at an angle of 0 degrees). In addition, as shown in FIG. 4 (schematic sectional view), the liquid crystal projection bag w1
When projecting a moving image onto the external screen 30A placed outside on the side of the movable screen 29, the movable reflection! t28 is set at an angle of about 45 degrees in the direction of arrow B, for example. Further, as shown in FIG. 4, when projecting a moving image onto an external screen 30B disposed outside the liquid crystal projection device 1 on the side opposite to the movable screen 29, the movable reflector 28
is set at an angle of approximately 135 degrees in the direction of arrow B, for example. At this time, the movable reflecting mirror 28 is mounted on the reflecting mirror support stand 28A.
The above-mentioned angle can be set by rotating it relative to the angle.

前記可動型スクリーン29は、前記可動型反射鏡28と
対向する位置である本体10の他端側において、可動型
反射鏡28で動画像を投写する位・置とその位置から回
避できる位置との間つまり第2図に示す矢印C方向に自
在に可動できるように構成されている。可動型スクリー
ン29は、第1図及び第2図に示すように、動画像を投
写する場合、矢印C方向に例えば70〜90度の角度を
もって設定される(動画像の投写位置に設定される)。
The movable screen 29 has a position on the other end side of the main body 10, which is a position facing the movable reflector 28, and a position where the movable reflector 28 projects a moving image and a position that can be avoided from that position. It is constructed so that it can freely move in the direction of arrow C shown in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, when projecting a moving image, the movable screen 29 is set at an angle of, for example, 70 to 90 degrees in the direction of arrow C (it is set at the projection position of the moving image). ).

また、可動型スクリーン29は、第3図及び第4図に示
すように、動画像を投写しない場合、本体1oの底面と
略平行になるように(0度の角度を持って)本体10に
収納されている(動画像の投写位置から回避される)。
Furthermore, as shown in FIGS. 3 and 4, when not projecting a moving image, the movable screen 29 is mounted on the main body 10 so as to be approximately parallel to the bottom surface of the main body 1o (at an angle of 0 degrees). It is stored (avoided from the moving image projection position).

可動型スクリーン29は、投写側(矢印F方向)から動
画像を見る所謂フロントプロジェクション型。
The movable screen 29 is a so-called front projection type in which moving images are viewed from the projection side (direction of arrow F).

投写側と反対側(矢印R方向)から動画像を見る所謂リ
アプロジェクション型のいずれの方式で構成してもよい
。例えば、可動型スクリーン29はフロントプロジェク
ション型で構成し、外部スクリーン30Aはフロントプ
ロジェクション型或はリアプロジェクション型で構成す
る。フロントプロジェクション型の可動型スクリーン2
9は例えば硬質の金属や樹脂で形成し、この可動型スク
リーン29の画像投写面は動画像を鮮明にするために白
色或はそれに類似する塗料や板状の材料が設けられてい
る。また、可動型スクリーン29は画像投写面となる材
料そのもの例えば樹脂で形成してもよい。また、可動型
スクリーン29はリアプロジェクション型で構成し、外
部スクリーン30Aをフロントプロジェクション型或は
リアプロジェクション型で構成してもよい。リアプロジ
ェクション型の可動スクリーン29は少なくとも画像投
写面がり′アプロジェクシゴン可能な材料、例えば光を
散乱させる機能を有するガラス、樹脂或は布で形成され
ている。
It may be constructed using any so-called rear projection type system in which a moving image is viewed from the side opposite to the projection side (in the direction of arrow R). For example, the movable screen 29 is a front projection type, and the external screen 30A is a front projection type or a rear projection type. Front projection movable screen 2
9 is made of, for example, hard metal or resin, and the image projection surface of this movable screen 29 is coated with white or similar paint or a plate-like material in order to make moving images clearer. Furthermore, the movable screen 29 may be made of the same material as the image projection surface, such as resin. Further, the movable screen 29 may be configured as a rear projection type, and the external screen 30A may be configured as a front projection type or a rear projection type. The rear projection type movable screen 29 is made of a material capable of approximating at least the image projection surface, such as glass, resin, or cloth having a light scattering function.

前記液晶投写装置1の本体10の内部には図示しない冷
却用ファン、ファン駆動用トランス13、電源回路14
、テレビ回路15等が内蔵され、本体10の上部開口に
は蓋11が着脱自在に取り付けられている。
Inside the main body 10 of the liquid crystal projection device 1, there are a cooling fan (not shown), a fan drive transformer 13, and a power supply circuit 14.
, a television circuit 15, etc. are built in, and a lid 11 is detachably attached to the upper opening of the main body 10.

前記冷却用ファンは、発熱源となる投写用光源20の近
傍の本体10に取り付けられており、本体10の内部の
熱を外部に放出できるように構成されている。冷却用フ
ァンはファン駆動用トランス13によって駆動されてい
る。
The cooling fan is attached to the main body 10 near the projection light source 20, which is a heat source, and is configured to radiate heat inside the main body 10 to the outside. The cooling fan is driven by a fan drive transformer 13.

電源回路14は、外部の交流電源を直流電源に変換し、
この直流電源をテレビ回路15に供給するように構成さ
れている。テレビ回路15は前記液晶表示装置1t25
、ステップモータ27A及びガルバノミラ−27Bの夫
々を駆動するように構成されている。
The power supply circuit 14 converts external AC power into DC power,
It is configured to supply this DC power to the television circuit 15. The television circuit 15 is connected to the liquid crystal display device 1t25.
, a step motor 27A, and a galvano mirror 27B.

このように、液晶投写装置1において、投写用光源20
からの光で液晶表示装置25の画像を投写する位置に配
置されかつその位置から回避することができる可動型ス
クリーン29を備える(内蔵する)ことにより、前記可
動型スクリーン29を投写位置から回避して外部スクリ
ーン30Aや30Bに動画像を投写したり、外部スクリ
ーン30Aや30Bがない場合でも可動型スクリーン2
9を投写位置に配置して動画像を投写することができる
。この結果、液晶投写装置1は、液晶表示装置25を内
蔵するので小型であり、しかも外部スクリーン30Aや
30B或はそれに相当する白壁等が存在しない場合でも
動画像を投写することができるので、携帯性をより向上
することができる。
In this way, in the liquid crystal projection device 1, the projection light source 20
By providing (built-in) a movable screen 29 that is disposed at a position where the image of the liquid crystal display device 25 is projected using light from and can be avoided from that position, the movable screen 29 can be avoided from the projection position. to project moving images onto the external screen 30A or 30B, or use the movable screen 2 even when there is no external screen 30A or 30B.
9 can be placed at a projection position to project a moving image. As a result, the liquid crystal projection device 1 is small because it has a built-in liquid crystal display device 25, and can project moving images even when there is no external screen 30A or 30B or an equivalent white wall, making it portable. You can further improve your sexual performance.

次に、前記液晶投写装置1に内蔵された一次元液晶表示
装置25の具体的な構造について説明する。
Next, the specific structure of the one-dimensional liquid crystal display device 25 built into the liquid crystal projection device 1 will be explained.

この液晶表示装置25は、単板構造のカラー一次元液晶
表示装置で構成されており、その画素面の一画素を第5
図(要部平面図)で、第5図の■−■切断線で切った断
面を第6図で示す、また、液晶表示装置25の画素面の
全体のレイアウト構成を第7図(等価回路図)で示す。
This liquid crystal display device 25 is composed of a color one-dimensional liquid crystal display device with a single-panel structure, and one pixel on the pixel surface is
Figure 6 shows a cross section taken along the line ■--■ in Figure 5, and Figure 7 shows the overall layout of the pixel surface of the liquid crystal display device 25 (equivalent circuit). Figure).

第5図及び第6図に示すように、液晶表示装置は、下部
透明ガラス基板SUB 1の内側(液晶側)の表面上に
、薄膜トランジスタTPT及び透明画素電極ITOを有
する画素が構成されている。下部透明ガラス基板SUB
 1は例えば1.1 [mm]程度の厚さで構成されて
いる。
As shown in FIGS. 5 and 6, the liquid crystal display device includes a pixel having a thin film transistor TPT and a transparent pixel electrode ITO on the inner surface (liquid crystal side) of a lower transparent glass substrate SUB1. Lower transparent glass substrate SUB
1 has a thickness of about 1.1 [mm], for example.

各画素は、第5図乃至第7図に示すように、1本の走査
信号線(ゲート信号線又は水平信号線)GLと、隣接す
る2本の映像信号線(ドレイン信号線又は垂直信号線)
DLとの交差領域内(夫々の信号線で囲まれた領域内)
に配置されている。走査信号mGLは一次元であるので
列方向に1本延在している。映像信号線DLは行方向に
延在しかつ列方向に複数本配置されている。
As shown in FIGS. 5 to 7, each pixel has one scanning signal line (gate signal line or horizontal signal line) GL and two adjacent video signal lines (drain signal line or vertical signal line). )
Within the intersection area with DL (within the area surrounded by each signal line)
It is located in Since the scanning signal mGL is one-dimensional, one signal extends in the column direction. A plurality of video signal lines DL extend in the row direction and are arranged in the column direction.

各画素の薄膜トランジスタTPTは、画素内において3
つ(複数)に分割され、薄膜トランジスタ(分割薄膜ト
ランジスタ)TFTI、TFT2及びTFT3で構成さ
れている。薄膜トランジスタTPTI〜TFT3の夫々
は、実質的に同一サイズで構成されている。この分割さ
れた薄膜1〜ランジスタTFTI〜TFT3の夫々は、
主に、ゲート電極GT、絶縁膜GI、i型半導体層AS
、一対のソース電極SDI及びドレイン電極SD2で構
成されている。
The thin film transistor TPT of each pixel has three
It is divided into two (plurality) of thin film transistors (divided thin film transistors) TFTI, TFT2, and TFT3. Each of the thin film transistors TPTI to TFT3 has substantially the same size. Each of the divided thin films 1 to transistors TFTI to TFT3 is
Mainly, gate electrode GT, insulating film GI, i-type semiconductor layer AS
, a pair of source electrode SDI and drain electrode SD2.

前記ゲート電極GTは、走査信号線GLから行方向(第
5図において下方向)に突出する丁字形状で構成されて
いる(丁字形状に分岐されている)。
The gate electrode GT has a T-shape (branched into a T-shape) that projects in the row direction (downward in FIG. 5) from the scanning signal line GL.

つまり、ゲート電極GTは映像信号gDLと実質・的に
平行に延在するように構成されている。ゲート電極GT
は、薄膜トランジスタTPTI〜TFT3の夫々の形成
領域まで突出するように構成されている。薄膜トランジ
スタTPTI〜TPT3の夫々のゲート電極GTは、一
体に(共通ゲート電極として)構成されており、走査信
号線GLに接続されている。ゲート電極GTは、薄膜ト
ランジスタTPTの形成領域において段差形状をなるべ
く成長させないように、単層の第1導電膜g1で構成さ
れている。第1導電膜g1は、例えばスパッタで形成さ
れたクロム(Cr)膜を用い、1000[人]程度の膜
厚で形成されている。
In other words, the gate electrode GT is configured to extend substantially parallel to the video signal gDL. Gate electrode GT
are configured to protrude to the formation regions of the thin film transistors TPTI to TFT3, respectively. The gate electrodes GT of each of the thin film transistors TPTI to TPT3 are integrally formed (as a common gate electrode) and connected to the scanning signal line GL. The gate electrode GT is composed of a single-layer first conductive film g1 so as to prevent the growth of a stepped shape as much as possible in the formation region of the thin film transistor TPT. The first conductive film g1 is formed using, for example, a chromium (Cr) film formed by sputtering, and has a thickness of about 1000 [layers].

このゲート電極GTは、第6図に示すように、i型半導
体層ASを完全に覆うように(下方から見て)それより
も大きなサイズで形成されている。
As shown in FIG. 6, the gate electrode GT is formed to have a larger size than the i-type semiconductor layer AS (as viewed from below) so as to completely cover the i-type semiconductor layer AS.

下部透明ガラス基板5UBIの下側(上側でもよい)に
は前述の投写用光源20が取り付けられるので、ゲート
電極GTは投写用光源20からの光を遮蔽してi型半導
体層ASに前記光が照射されないように構成されている
。つまり、ゲート電極GTは、i型半導体層Asに光が
入射したことによる導電現像を低減し、薄膜トランジス
タTPTのオフ特性を向上するように構成されている。
Since the aforementioned projection light source 20 is attached to the lower side (or upper side) of the lower transparent glass substrate 5UBI, the gate electrode GT blocks the light from the projection light source 20 and prevents the light from reaching the i-type semiconductor layer AS. It is configured so that it is not exposed to radiation. In other words, the gate electrode GT is configured to reduce conductive development caused by light incident on the i-type semiconductor layer As, and improve the off-characteristics of the thin film transistor TPT.

前記走査信号線OLは、第1導電膜g1及びその上部に
設けられた第2導電膜g2からなる複合膜で構成されて
いる。この走査信号線GLの第1導電膜g1は、前記ゲ
ート電極GTの第1導電膜g1と同一製造工程で形成さ
れ、かつ一体に構成されている。第2導電膜g2は、例
えば、スパッタで形成されたアルミニウム(A fl 
)膜を用い、2000〜4000[人]程度の膜厚で形
成する。第2導電膜g2は、走査信号・線GLの抵抗値
を低減し、信号伝達速度の高速化(画素の情報の書込特
性)を図ることができるように構成されている。
The scanning signal line OL is composed of a composite film including a first conductive film g1 and a second conductive film g2 provided on the first conductive film g1. The first conductive film g1 of the scanning signal line GL is formed in the same manufacturing process as the first conductive film g1 of the gate electrode GT, and is configured integrally. The second conductive film g2 is made of, for example, aluminum (Afl) formed by sputtering.
) film to a thickness of about 2000 to 4000 [people]. The second conductive film g2 is configured to reduce the resistance value of the scanning signal line GL and increase the signal transmission speed (writing characteristics of pixel information).

また、走査信号線GLは、第1導電膜g1の幅寸法に比
べて第2導電膜g2の幅寸法を小さく構成している。す
なわち、走査信号線OLは、その側壁の段差形状を緩和
することができるので、その上層の絶縁膜G工の表面を
平担化できるように構成されている。
Further, in the scanning signal line GL, the width of the second conductive film g2 is smaller than the width of the first conductive film g1. In other words, the scanning signal line OL is configured so that the step shape of its side wall can be relaxed, so that the surface of the upper layer of the insulating film G can be flattened.

絶縁膜GIは薄膜トランジスタTPTI〜TFT3の夫
々のゲート絶縁膜として使用される。絶縁膜GIはゲー
ト電極GT及び走査信号線GLの上層に形成されている
。絶縁膜GIは、例えばプラズマCVDで形成された窒
化珪素膜を用い、3000[人コ程度の膜厚で形成する
6 i型型半体層Asは複数に分割された薄膜トランジスタ
TPTI〜TFT3の夫々のチャネル形成領域として使
用される。複数に分割された薄膜トランジスタTPTI
〜TFT3の夫々のi型半導体層Asは1画素内におい
て一体或は夫々独立に分離して構成されている。i型半
導体層ASは、アモーファスシリコン膜又は多結晶シリ
コン膜で形成し、例えば1500〜2000[入コ程度
の膜厚で形成する。i型半導体層ASは第5図に示すよ
うに走査信号線GLと映像信号線DLとの交差部(クロ
スオーバ部)の両者間まで延在させて設けられている。
The insulating film GI is used as a gate insulating film of each of the thin film transistors TPTI to TFT3. The insulating film GI is formed on the gate electrode GT and the scanning signal line GL. The insulating film GI is formed using, for example, a silicon nitride film formed by plasma CVD, and is formed to a film thickness of about 3,000 μm. Used as a channel forming region. Thin film transistor TPTI divided into multiple parts
The i-type semiconductor layers As of the TFTs 3 are formed integrally or independently in one pixel. The i-type semiconductor layer AS is formed of an amorphous silicon film or a polycrystalline silicon film, and is formed to have a thickness of, for example, about 1500 to 2000 nm. As shown in FIG. 5, the i-type semiconductor layer AS is provided to extend between the scanning signal line GL and the video signal line DL (crossover section).

この延在させたi型半導体層ASは交差部における走査
信号線GLと映像信号線DLとの短絡を低減するように
構成されている。
This extended i-type semiconductor layer AS is configured to reduce short circuits between the scanning signal line GL and the video signal line DL at the intersection.

画素の複数に分割された薄膜トランジスタTPT1〜T
FT3の夫々のソース電極SDIとドレイン電極SD2
とは、第5図及び第6図に示すように、i型半導体層A
s上に夫々離隔して設けられている。ソース電極SDI
、ドレイン電極SD2の夫々とi型半導体層ASとの間
にはオーミックコンタクト用の導電膜doが設けられて
いる。
Thin film transistors TPT1-T divided into a plurality of pixels
Each source electrode SDI and drain electrode SD2 of FT3
As shown in FIGS. 5 and 6, the i-type semiconductor layer A
s, and are provided spaced apart from each other. Source electrode SDI
A conductive film do for ohmic contact is provided between each of the drain electrodes SD2 and the i-type semiconductor layer AS.

この導電膜doは、例えば不純物としてPをドープした
多結晶シリコン膜で形成され、約400[人]程度の膜
厚で形成されている。この導電膜doはi型半導体層A
Sと同−CVD装置内において堆積することができる。
The conductive film do is formed of, for example, a polycrystalline silicon film doped with P as an impurity, and has a thickness of about 400 [layers]. This conductive film do is an i-type semiconductor layer A.
It can be deposited in the same CVD apparatus as S.

ソース電極SDI、ドレイン電極SD2の夫々は1回路
のバイアス極性が変ると、動作上、ソースとドレインが
入れ替わるように構成されている。つまり、薄膜トラン
ジスタTPTは電界効果型トランジスタFETと同様に
双方向性である。
The source electrode SDI and the drain electrode SD2 are each configured so that when the bias polarity of one circuit changes, the source and drain are interchanged in operation. In other words, the thin film transistor TPT is bidirectional like the field effect transistor FET.

ソース電極SDI、ドレイン電極SD2の夫々は、i型
半導体層AS(導電膜do)に接触する下層側から、第
1導電膜d1、第2導電膜d2、第3導電膜d3を順次
重ね合わせて構成されている。
Each of the source electrode SDI and drain electrode SD2 is formed by sequentially overlapping a first conductive film d1, a second conductive film d2, and a third conductive film d3 from the lower layer side in contact with the i-type semiconductor layer AS (conductive film do). It is configured.

第1導電膜d1は、スパッタで形成したクロム膜を用い
、500〜1000[人]の膜厚(本実施例では、60
0[人]程度の膜厚)で形成する。クロム膜は膜厚を厚
く形成するとストレスが大きくなるので2000[人コ
程度の膜厚を越えない範囲で形成する。クロム膜は導電
膜do(又はi型半導体層AS)との接触が良好である
。クロム膜は後述する第2導電膜d2のアルミニウムが
i型半導体層ASに拡散することを防止する所謂バリア
層を構成する。第1導電膜d1としては、クロム膜の他
に、高融点金属(Mo、Ti、Ta、W)膜、高融点金
属シリサイド(MoSi2.TiSi2.TaSi2.
WSi2)膜の夫々で形成してもよい。
The first conductive film d1 is a chromium film formed by sputtering, and has a film thickness of 500 to 1000 [people] (in this example, 60
The film thickness is approximately 0 [person]. As the chromium film is formed thicker, the stress increases, so the chromium film should be formed to a thickness not exceeding 2000 mm. The chromium film has good contact with the conductive film do (or the i-type semiconductor layer AS). The chromium film constitutes a so-called barrier layer that prevents aluminum of the second conductive film d2, which will be described later, from diffusing into the i-type semiconductor layer AS. In addition to the chromium film, the first conductive film d1 includes a high melting point metal (Mo, Ti, Ta, W) film, a high melting point metal silicide (MoSi2.TiSi2.TaSi2.
It may be formed using each of the WSi2) films.

第2導電膜d2は、スパッタで形成したアルミニウム膜
を用い、3000〜4000[人コの膜厚(本実施例で
は、3000[人]程度の膜厚)で形成する。アルミニ
ウム膜は、クロム膜に比べてストレスが小さく、厚い膜
厚に形成することが可能で、ソース電極SDI、ドレイ
ン電極SD2及び映像信号線DLの抵抗値を低減するよ
うに構成されている。第2導電膜d2は、薄膜トランジ
スタTPTの動作速度の高速化、及び映像信号線DLの
信号伝達速度の高速化を図ることができるように構成さ
れている。また、第2導電膜d2は、アルミニウム膜の
他に、シリコン(Si)や銅(Cu)を添加物として含
有させたアルミニウム膜で形成してもよい。
The second conductive film d2 is formed using an aluminum film formed by sputtering, and has a thickness of 3000 to 4000 mm (in this embodiment, a thickness of about 3000 mm). The aluminum film has less stress than the chromium film, can be formed thicker, and is configured to reduce the resistance values of the source electrode SDI, drain electrode SD2, and video signal line DL. The second conductive film d2 is configured to increase the operating speed of the thin film transistor TPT and the signal transmission speed of the video signal line DL. In addition to the aluminum film, the second conductive film d2 may be formed of an aluminum film containing silicon (Si) or copper (Cu) as an additive.

第3導電膜d3は、スパッタで形成された透明導電膜(
ITO:ネサ膜)を用い、1000〜2000[人]の
膜厚(本実施例では、1200[人]程度の膜厚)で形
成する。この第3導電膜d3は、ソース電極SD1、ド
レイン電極SD2及び映像信号線DLを構成すると共に
、透明画素電極IT○を構成するようになっている。
The third conductive film d3 is a transparent conductive film (
The film is formed using ITO (Nesa film) with a film thickness of 1000 to 2000 [people] (in this example, a film thickness of about 1200 [people]). This third conductive film d3 constitutes the source electrode SD1, drain electrode SD2, and video signal line DL, and also constitutes the transparent pixel electrode IT○.

ソース電極SDIの第1導電膜d1、ドレイン電極SD
2の第1導電膜d1の夫々は、上層の第2導電膜d2及
び第3導電膜d3に比べてチャネル形成領域側を大きい
サイズで構成している。第1導電膜d1は、第1導電膜
d1と第2導電膜d2及び第3導電膜d3との間の製造
工程におけるマスク合せずれが生じても、第2導電膜d
2及び第3導電膜d3に比べて大きいサイズになるよう
に構成されている。また、第1導電膜d1のチャネル形
成領域側は、第2導電膜d2、第3導電膜d3の夫々の
チャネル形成領域側とオンザラインで構成してもよい。
First conductive film d1 of source electrode SDI, drain electrode SD
Each of the second conductive films d1 has a larger size on the channel forming region side than the upper second conductive film d2 and the third conductive film d3. The first conductive film d1 can be used even if mask misalignment occurs in the manufacturing process between the first conductive film d1, the second conductive film d2, and the third conductive film d3.
The conductive film d3 is configured to have a larger size than the second and third conductive films d3. Further, the channel forming region side of the first conductive film d1 may be formed on-the-line with the channel forming region sides of the second conductive film d2 and the third conductive film d3.

ソース電極SDIの第1導電膜d1.ドレイン電極SD
2の第1導電膜d1の夫々は、薄膜トランジスタTPT
のゲート長りを規定するように構成されている。
First conductive film d1 of source electrode SDI. drain electrode SD
Each of the first conductive films d1 of No. 2 is a thin film transistor TPT.
It is configured to define the gate length.

前記ソース電極SDIは前記のように透明画素電極IT
○に接続されている。ソース電極SDIは、i型半導体
層ASの段差形状(第1導電膜g1の膜厚とi型半導体
層ASの膜厚とを加算した膜厚に相当する段差)に沿っ
て構成されて魁)る。
The source electrode SDI is the transparent pixel electrode IT as described above.
Connected to ○. The source electrode SDI is configured along the step shape of the i-type semiconductor layer AS (the step corresponding to the sum of the thickness of the first conductive film g1 and the thickness of the i-type semiconductor layer AS). Ru.

具体的には、ソース電極SDIは、i型半導体層Asの
段差形状に沿って形成された第1導電膜d1と、この第
1導電膜d1の上部にそれに比べて透明画素電極ITO
と接続される側を小さし)サイズで形成した第2導電膜
d2と、この第2導電膜から露出する第1導電膜d1に
接続された第3導電膜d3とで構成されている。ソース
電極SDIの第1導電膜d1は、i型半導体層ASとの
接着性が良好であり、かつ、主に第2導電膜d2力1ら
の拡散物に対するバリア層として構成されてし)る。
Specifically, the source electrode SDI includes a first conductive film d1 formed along the step shape of the i-type semiconductor layer As, and a transparent pixel electrode ITO formed above the first conductive film d1.
The second conductive film d2 is formed to have a smaller size on the side connected to the second conductive film d2, and the third conductive film d3 is connected to the first conductive film d1 exposed from the second conductive film. The first conductive film d1 of the source electrode SDI has good adhesion to the i-type semiconductor layer AS, and is mainly configured as a barrier layer against diffused substances such as the second conductive film d2. .

ソース電極SDIの第2導電膜d2は、第1導電膜d1
のクロム膜がストレスの増大から厚く形成できず、i型
半導体MASの段差形状を乗り越えられないので、この
i型半導体層ASを乗り越えるために構成されている。
The second conductive film d2 of the source electrode SDI is the first conductive film d1
Since the chromium film cannot be formed thickly due to increased stress and cannot overcome the step shape of the i-type semiconductor MAS, the chromium film is configured to overcome the step shape of the i-type semiconductor layer AS.

つまり、第2導電膜d2は厚く形成することでステップ
カバレッジを向上している。第2導電膜d2は、厚く形
成できるので、ソース電極SDIの抵抗値(ドレイン電
極SD2や映像信号線DLについても同様)の低減に大
きく寄与している。第3導電膜d3は、第2導電膜d2
のi型半導体層ASに起因する段差形状を乗り越えるこ
とができないので、第2導電膜d2のサイズを小さくす
ることで露出する第1導電膜d1に接続するように構成
されている。第1導電膜d1と第3導電膜d3とは、接
着性が良好であるばかりか、両者間の接続部の段差形状
が小さいので、確実に接続することができる。
In other words, step coverage is improved by forming the second conductive film d2 thickly. Since the second conductive film d2 can be formed thickly, it greatly contributes to reducing the resistance value of the source electrode SDI (the same applies to the drain electrode SD2 and the video signal line DL). The third conductive film d3 is the second conductive film d2
Since the step shape caused by the i-type semiconductor layer AS cannot be overcome, the second conductive film d2 is configured to be connected to the exposed first conductive film d1 by reducing its size. The first conductive film d1 and the third conductive film d3 not only have good adhesion but also have a small step shape at the connecting portion between them, so that they can be reliably connected.

ドレイン電極SD2は、映像信号線DLと一体に構成さ
れており、同一製造工程で形成されている。ドレイン電
極SD2は、映像信号線DLと交差する列方向に突出し
たL字形状で構成されている。つまり、画素の複数に分
割された薄膜トランジスタTPTI〜TFT3の夫々の
ドレイン電極SD2は、一体に構成され、同一の映像信
号線DLに接続されている。
The drain electrode SD2 is configured integrally with the video signal line DL, and is formed in the same manufacturing process. The drain electrode SD2 has an L-shape that protrudes in the column direction intersecting the video signal line DL. That is, the drain electrodes SD2 of the thin film transistors TPTI to TFT3 divided into a plurality of pixels are integrally configured and connected to the same video signal line DL.

前記透明画素電極ITOは、各画素毎に設けられており
、液晶表示部の画素電極の一方を構成する。透明画素電
極ITOは、画素の複数に分割された薄膜トランジスタ
TPTI〜TFT3の夫々に対応して3つの透明画素電
極(分割透明画紫電tりITO1,IrO2及びI T
 O3ニ分割されている。透明画素電極ITOIは薄膜
トランジスタTFTIのソース電極SDIに接続されて
いる。
The transparent pixel electrode ITO is provided for each pixel and constitutes one of the pixel electrodes of the liquid crystal display section. The transparent pixel electrode ITO has three transparent pixel electrodes (divided transparent pixel electrodes ITO1, IrO2, and IT) corresponding to each of the thin film transistors TPTI to TFT3 divided into a plurality of pixels.
It is divided into O3. The transparent pixel electrode ITOI is connected to the source electrode SDI of the thin film transistor TFTI.

透明画素電極ITO2は薄膜トランジスタTFT2のソ
ース電極SDIに接続されている。透明画素電極ITO
3は薄膜トランジスタTFT3のソース電極SDIに接
続されている。
The transparent pixel electrode ITO2 is connected to the source electrode SDI of the thin film transistor TFT2. Transparent pixel electrode ITO
3 is connected to the source electrode SDI of the thin film transistor TFT3.

透明画素電極ITOI〜ITO3の夫々は、薄膜トラン
ジスタTPTI〜TFT3の夫々と同様に、実質的に同
一サイズで構成されている。透明画素電極ITOI〜I
TO3の夫々は、薄膜トランジスタTPTI〜TFT3
の夫々のi型半導体層ASを一個所に集中的に配置しで
あるので、平面形状がL字形状で構成されている。なお
、透明画素電極ITOI〜IT○3の夫々は、L字形状
に限定されず、薄膜トランジスタTPTI〜TFT3の
夫々を映像信号線DLに沿って離隔して配置し、平面形
状を方形状に構成してもよい。
Each of the transparent pixel electrodes ITOI to ITO3 has substantially the same size as each of the thin film transistors TPTI to TFT3. Transparent pixel electrode ITOI~I
Each of TO3 is a thin film transistor TPTI to TFT3.
Since the respective i-type semiconductor layers AS are arranged in a concentrated manner in one place, the planar shape is L-shaped. Note that each of the transparent pixel electrodes ITOI to IT○3 is not limited to an L-shape, and each of the thin film transistors TPTI to TFT3 may be arranged apart from each other along the video signal line DL to have a rectangular planar shape. You can.

このように、1本の走査信号線OLと隣接する2本の映
像信号線DLとの交差領域内に配置された画素の薄膜ト
ランジスタTPTを複数の薄膜トランジスタTPTI〜
TFT3に分割し、この複数に分割された薄膜トランジ
スタTPT1〜TFT3の夫々に複数に分割した透明画
素電極ITO1〜ITO3の夫々を接続することにより
、画素の分割された一部分(例えば、TFTl)が点欠
陥になるだけで1画素の全体としては点欠陥でなくなる
(T P T 2及びTFT3が点欠陥でない)ので、
画素全体としての点欠陥を低減することができる。
In this way, the thin film transistor TPT of the pixel arranged in the intersection area of one scanning signal line OL and two adjacent video signal lines DL is replaced by a plurality of thin film transistors TPTI~
By dividing the pixel into TFT3 and connecting each of the plurality of divided transparent pixel electrodes ITO1 to ITO3 to each of the plurality of divided thin film transistors TPT1 to TFT3, a divided part of the pixel (for example, TFTl) is free from point defects. As a result, the entire pixel is no longer a point defect (T P T 2 and TFT 3 are not point defects).
Point defects in the entire pixel can be reduced.

つまり、画素において分割された分割画素のうちの1つ
の点欠陥は1画素の全体の面積に比べて小さい(本実施
例の場合、画素の3分の1の面積)ので、前記点欠陥を
見にくくすることができる。また、前記画素において分
割された透明画素電極■TOI〜IT○3の夫々を実質
的に同一サイズで構成することにより、画素内の点欠陥
の面積を均一にすることができる。
In other words, a point defect in one of the divided pixels is small compared to the entire area of one pixel (in the case of this example, the area is one-third of the pixel), so it is difficult to see the point defect. can do. Further, by configuring each of the divided transparent pixel electrodes TOI to IT○3 in the pixel to have substantially the same size, the area of point defects within the pixel can be made uniform.

特に、液晶投写装置1は、液晶表示装置25の動画像を
投写用光学レンズ26.ガルバノミラ−27B及び可動
用反射鏡28を通して拡大して投写するので、画素面に
配列された各画素が拡大され、点欠陥が非常に目立つ。
In particular, the liquid crystal projection device 1 displays moving images on the liquid crystal display device 25 through a projection optical lens 26. Since the image is magnified and projected through the galvanometer mirror 27B and the movable reflecting mirror 28, each pixel arranged on the pixel plane is magnified, making point defects very noticeable.

したがって、液晶投写装置1に前述のような各画素が複
数に分割された液晶表示装置25を組込むことにより、
画素の一部に点欠陥が生じても画素の大部分を点灯させ
ることができるので、投写される拡大された動画像にお
いて点欠陥を見にくくすることができる。
Therefore, by incorporating the liquid crystal display device 25 in which each pixel is divided into a plurality of parts as described above into the liquid crystal projection device 1,
Even if a point defect occurs in a part of the pixel, most of the pixels can be turned on, so that the point defect can be made difficult to see in the enlarged moving image that is projected.

前記薄膜トランジスタTPT及び透明画素電極ITO上
には第6図に示すように保護膜PSVIが設けられてい
る。保護膜PSVIは、主に、薄膜トランジスタTPT
を湿気等から保護するために形成されており、透明性が
高くしがも耐湿性の良いものを使用する。保護膜PSV
Iは、例えば、プラズマCVDで形成した酸化珪素膜や
窒化珪素膜で形成されており、8000[人]程度の膜
厚で形成する。
A protective film PSVI is provided over the thin film transistor TPT and the transparent pixel electrode ITO, as shown in FIG. The protective film PSVI is mainly used for thin film transistor TPT.
The material is formed to protect the material from moisture, etc., so use one that is highly transparent and has good moisture resistance. Protective film PSV
I is formed of, for example, a silicon oxide film or a silicon nitride film formed by plasma CVD, and is formed to have a thickness of about 8000 [layers].

薄膜トランジスタTFT上の保護膜PSVIの上部には
外部光がチャネル形成領域として使用されるi型半導体
層ASに入射されないように遮蔽膜LSが設けられてい
る。第5図に示すように、遮蔽膜LSは点線で囲まれた
領域内に構成されている。遮蔽膜LSは、光に対する遮
蔽性が高い例えばスパッタで形成したアルミニウム膜や
クロム膜等で形成されており、1000[人]程度の膜
厚で形成する。
A shielding film LS is provided above the protective film PSVI on the thin film transistor TFT to prevent external light from entering the i-type semiconductor layer AS used as a channel formation region. As shown in FIG. 5, the shielding film LS is configured within a region surrounded by a dotted line. The shielding film LS is formed of, for example, an aluminum film or a chromium film formed by sputtering, which has a high shielding property against light, and is formed to have a thickness of about 1000 [layers].

薄膜トランジスタTPTは、ゲート電極GTに正のバイ
アスを印加するとソース−ドレイン間のチャネル抵抗が
小さくなり、バイアスを零にするとチャネル抵抗は大き
くなるように構成されている。つまり、薄膜トランジス
タTPTは透明画素電極IT○に印加される電圧を制御
するように構成されている。
The thin film transistor TPT is configured such that when a positive bias is applied to the gate electrode GT, the channel resistance between the source and drain becomes small, and when the bias is reduced to zero, the channel resistance becomes large. In other words, the thin film transistor TPT is configured to control the voltage applied to the transparent pixel electrode IT○.

液晶LCは、下部透明ガラス基板SUB 1と上部透明
ガラス基板5UB2との間に形成された空間内に、液晶
分子の向きを設定する下部配向膜○RII及び上部配向
膜0RI2に規定され、封入されている。
The liquid crystal LC is defined and enclosed by a lower alignment film ○RII and an upper alignment film 0RI2 that set the orientation of liquid crystal molecules in a space formed between a lower transparent glass substrate SUB1 and an upper transparent glass substrate 5UB2. ing.

下部配向膜0RIIは下部透明ガラス基板5UBl側の
保護膜PSVIの上部に形成される。
The lower alignment film 0RII is formed on the protective film PSVI on the lower transparent glass substrate 5UBl side.

上部透明ガラス基板5UB2の内側(液晶側)の表面に
は、カラーフィルタFIL、保護膜PSV2、共通透明
画素電極(COM)ITO及び前記上部配向膜0RI2
が順次積層して設けられている。
On the inner surface (liquid crystal side) of the upper transparent glass substrate 5UB2, a color filter FIL, a protective film PSV2, a common transparent pixel electrode (COM) ITO, and the upper alignment film 0RI2 are disposed.
are sequentially stacked.

前記共通透明画素電極IT○は、下部透明ガラス基板5
UBI側に画素毎に設けられた透明画素電極ITOに対
向し、隣接する他の共通透明画素電極IT○と一体に構
成されている。この共通透明画素電極ITOには、コモ
ン電圧Vcomが印加されるように構成されている。コ
モン電圧Vcomは、映像信号線DLに印加されるロウ
レベルの駆動電圧V d minとハイレベルの駆動電
圧V d maxとの中間電位である。
The common transparent pixel electrode IT○ is connected to the lower transparent glass substrate 5.
It faces the transparent pixel electrode ITO provided for each pixel on the UBI side and is configured integrally with another adjacent common transparent pixel electrode IT○. A common voltage Vcom is applied to this common transparent pixel electrode ITO. The common voltage Vcom is an intermediate potential between the low-level drive voltage V d min and the high-level drive voltage V d max applied to the video signal line DL.

カラーフィルタFILは、アクリル樹脂等の樹脂材料で
形成される染色基材に染料を着色して構成されている。
The color filter FIL is configured by coloring a dyed base material made of a resin material such as acrylic resin with a dye.

カラーフィルタFILは、第8図(画素面の平面図)に
示すように、画素に対向する位置に各画素毎に構成され
、各画素毎に染め分けられている。つまり、カラーフィ
ルタFILは、画素と同様に、1本の走査信号線GLと
隣接する2本の映像信号線DLとの交差領域内に構成さ
れている。各画素は、カラーフィルタFILの個々の所
定色フィルタ内において、前述のように複数に分割され
ている。
As shown in FIG. 8 (a plan view of the pixel surface), the color filter FIL is arranged for each pixel at a position facing the pixel, and is colored differently for each pixel. That is, like the pixels, the color filter FIL is configured within the intersection area of one scanning signal line GL and two adjacent video signal lines DL. Each pixel is divided into a plurality of parts as described above within each predetermined color filter of the color filter FIL.

カラーフィルタFILは次のように形成することができ
る。まず、上部透明ガラス基板5UB2の表面に染色基
材を形成し、フォトリソグラフィ技術で赤色フィルタ形
成領域以外の染色基材を除去する。この後、染色基材を
赤色染料で染め、固着処理を施し、赤色フィルタRを形
成する。次に。
Color filter FIL can be formed as follows. First, a dyed base material is formed on the surface of the upper transparent glass substrate 5UB2, and the dyed base material other than the red filter forming area is removed using photolithography technology. Thereafter, the dyed base material is dyed with a red dye and subjected to a fixing treatment to form a red filter R. next.

同様な工程を施すことによって、緑色フィルタG、青色
フィルタBを順次形成する。
A green filter G and a blue filter B are sequentially formed by performing similar steps.

保護膜PSV2は、前記カラーフィルタFILを異なる
色に染め分けた染料が液晶LCに漏れることを防止する
ために設けられている。保護膜PS■2は1例えば、ア
クリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料で形成され
ている。
The protective film PSV2 is provided to prevent the dyes used to dye the color filter FIL into different colors from leaking into the liquid crystal LC. The protective film PS2 is made of a transparent resin material such as acrylic resin or epoxy resin.

この液晶表示装置25は、下部透明ガラス基板5UBI
側、上部透明ガラス基板5UB2側の夫々の層を別々に
形成し、その後、上下透明ガラス基板5UBI及び5U
B2を重ね合せ、両者間に液晶LCを封入することによ
って組み立てられる。
This liquid crystal display device 25 has a lower transparent glass substrate 5UBI.
The layers on the side and the upper transparent glass substrate 5UB2 side are formed separately, and then the upper and lower transparent glass substrates 5UBI and 5U are formed separately.
It is assembled by overlapping B2 and sealing liquid crystal LC between them.

前記液晶表示装置25の画素面(液晶表示部)の各画素
は、第7図及び第8図に示すように、走査信号線GLが
延在する方向と同一列方向に複数配置され1画素列を構
成している。つまり、液晶表示装置25は1列方向(水
平方向)に画素が配列された一次元で構成されている。
As shown in FIGS. 7 and 8, each pixel on the pixel surface (liquid crystal display section) of the liquid crystal display device 25 is arranged in plurality in the same column direction as the direction in which the scanning signal line GL extends, and is arranged in one pixel column. It consists of In other words, the liquid crystal display device 25 has a one-dimensional structure in which pixels are arranged in one column (horizontal direction).

前記第7図に示すXiG、Xi+IG、・・・は緑色フ
ィルタGが形成される画素に接続された映像信号線DL
である。XiB、Xi+IB、・・・は青色フィルタB
が形成される画素に接続された映像信号線DLである。
XiG, Xi+IG, . . . shown in FIG. 7 are video signal lines DL connected to the pixels in which the green filter G is formed.
It is. XiB, Xi+IB,... is blue filter B
This is a video signal line DL connected to a pixel in which a pixel is formed.

Xi+IR,Xi+2R,・・・は赤色フィルタRが形
成される画素に接続された映像信号線DLである。これ
らの映像信号線DLは、映像信号駆動回路HDに接続さ
れ、この映像信号駆動回路HDで駆動(選択)されてい
る。映像信号駆動回路HDは、前記第1図に示す液晶投
写装置1に内蔵されたテレビ回路15からのビデオ信号
v1゜to及び水平同期信号H□。が入力された水平方
向シフトレジスタH8Rの走査に同期して映像信号線D
Lを列方向に順次駆動するように構成されている。
Xi+IR, Xi+2R, . . . are video signal lines DL connected to pixels in which red filters R are formed. These video signal lines DL are connected to a video signal drive circuit HD and are driven (selected) by this video signal drive circuit HD. The video signal drive circuit HD receives the video signal v1°to and the horizontal synchronizing signal H□ from the television circuit 15 built into the liquid crystal projection device 1 shown in FIG. is input to the video signal line D in synchronization with the scanning of the horizontal shift register H8R.
It is configured to sequentially drive L in the column direction.

同第7図に示す走査信号線GLは、各画素の夫々を同時
に選択するように構成されている。走査信号線GLは走
査信号線駆動回路VDに接続されている。走査信号線駆
動回路VDは、テレビ回路15からの垂直同期信号V。
The scanning signal line GL shown in FIG. 7 is configured to simultaneously select each pixel. The scanning signal line GL is connected to a scanning signal line drive circuit VD. The scanning signal line drive circuit VD receives the vertical synchronization signal V from the television circuit 15.

。が入力され、走査信号線GLを駆動するように構成さ
れている。走査信号線駆動回路VDは、映像信号駆動回
路HDでの映像信号線DLの1水平走査毎に(又は常時
)走査信号線GLを駆動するように構成されている。
. is input to drive the scanning signal line GL. The scanning signal line drive circuit VD is configured to drive the scanning signal line GL every horizontal scan of the video signal line DL in the video signal drive circuit HD (or always).

前記テレビ回路15からの垂直同期信号vfz−0は分
周回路15Aにも入力される。分周回路15Aはステッ
プモータ27Aを介在させてガルバノミラ−27Bの回
転を制御するように構成されている。つまり、分周回路
15Aはガルバノミラ−27Bが有する反射面数に応じ
てステップモータ27Aの回転する角度を制御するよう
に構成されている。例えば、分周回路15Aは、ガルバ
ノミラ−27Bを8面体で構成した場合、1画面を形成
するために8分の1回転するようにステップモータ27
Aを制御するように構成されている。
The vertical synchronizing signal vfz-0 from the television circuit 15 is also input to the frequency dividing circuit 15A. The frequency dividing circuit 15A is configured to control the rotation of the galvano mirror 27B with a step motor 27A interposed therebetween. In other words, the frequency dividing circuit 15A is configured to control the rotation angle of the step motor 27A according to the number of reflective surfaces that the galvano mirror 27B has. For example, when the galvanometer mirror 27B is configured as an octahedron, the frequency dividing circuit 15A rotates the step motor 27 so that it rotates 1/8 to form one screen.
It is configured to control A.

前記テレビ回路15から水平方向シフトレジスタH8R
に入力するビデオ信号V、。6゜は、ビデオ信号切換ス
イッチvSWを介在させて水平方向シフトレジスタH5
Rの一端(右側)又は他端(左側)に入力するように構
成されている。つまり、水平方向シフトレジスタH8R
は双方向型で構成されている。ビデオ信号切換スイッチ
vSWはフリップフロップ回路FFを介在させてマイク
ロスイッチMSWにより制御されている。マイクロスイ
ッチMSWは、手動にて又は可動型スクリーン29等の
動作に連動して自動的に制御されている。
From the television circuit 15 to the horizontal shift register H8R
A video signal V, which is input to. 6° is the horizontal shift register H5 with the video signal changeover switch vSW interposed.
It is configured to be input to one end (right side) or the other end (left side) of R. In other words, horizontal shift register H8R
is structured in a bidirectional manner. The video signal changeover switch vSW is controlled by a microswitch MSW with a flip-flop circuit FF interposed therebetween. The microswitch MSW is controlled manually or automatically in conjunction with the operation of the movable screen 29 or the like.

例えば、液晶投写装置1の可動型スクリーン29をフロ
ントプロジェクション型で構成し、この可動型スクリー
ン29に液晶表示装置25の動画像を投写する場合、ビ
デオ信号V□。5oを水平方向シフトレジスタH8Hの
一端側に入力する。この水平方向シフトレジスタH3R
は、左側から右側に向って映像信号駆動回路HDを介し
て映像信号線DLを駆動し、可動型スクリーン29に所
定の動画像を投写することができる。一方、この液晶投
写装置1でリアプロジェクション型の外部スクリーン3
0Aに液晶表示装置25の動画像を投写する場合、動画
像の左右が反転するので、マイクロスイッチMSWの投
入によってビデオ信号切換スイッチvSWを作動させ、
ビデオ信号v1゜6゜を水平方向シフトレジスタH5R
の他端側に入力する。この水平方向シフトレジスタH8
Rは、右側から左側に向って映像信号駆動回路HDを介
して映像信号線DLを駆動し、可動型スクリーン29に
投写した動画像と左右が一致した動画像を外部スクリー
ン30Aに投写することができる。
For example, when the movable screen 29 of the liquid crystal projection device 1 is configured as a front projection type and a moving image of the liquid crystal display device 25 is projected onto the movable screen 29, the video signal V□. 5o is input to one end of the horizontal shift register H8H. This horizontal shift register H3R
can project a predetermined moving image onto the movable screen 29 by driving the video signal line DL from the left side to the right side via the video signal drive circuit HD. On the other hand, this liquid crystal projection device 1 has a rear projection type external screen 3.
When projecting a moving image from the liquid crystal display device 25 on 0A, the left and right sides of the moving image are reversed, so the video signal changeover switch vSW is activated by turning on the microswitch MSW.
The video signal v1゜6゜ is transferred to the horizontal shift register H5R.
input to the other end. This horizontal shift register H8
R drives the video signal line DL from the right side to the left side via the video signal drive circuit HD, and can project a moving image whose left and right sides match the moving image projected on the movable screen 29 onto the external screen 30A. can.

また、液晶投写装置1の液晶表示装置25で投写される
動画像が上下に反転する場合は、例えばステップモータ
27Aの回転方向を反転させ、ガルバノミラ−27Bを
反転させて垂直走査方向を変換することによって、動画
像の上下の反転を防止することができる。前述のステッ
プモータ27Aの回転方向を反転させるには前述のよう
に切換スイッチを備えればよい。
Furthermore, if the moving image projected on the liquid crystal display device 25 of the liquid crystal projection device 1 is reversed vertically, the vertical scanning direction can be changed by, for example, reversing the rotational direction of the step motor 27A and reversing the galvano mirror 27B. This makes it possible to prevent the moving image from being flipped vertically. To reverse the rotational direction of the step motor 27A, a changeover switch may be provided as described above.

このように、液晶投写装置1において、投写用光源20
の光軸上に配列された水平方向走査型の一次元液晶表示
装置25と、前記投写用光源20からの光で投写される
一次元液晶表示装置の1水平走査分の画像をその走査毎
に段階的に垂直方向に走査させる走査手段(主に、分周
回路15A、ステップモータ27A及びガルバノミラ−
27B)とを具備することにより、垂直方向に画像を配
列しない分、一次元液晶表示装置25の高さ方向のサイ
ズを縮小することができるので、小型化を図ることがで
きる。
In this way, in the liquid crystal projection device 1, the projection light source 20
A one-dimensional liquid crystal display device 25 of a horizontal scanning type arranged on the optical axis of Scanning means for scanning vertically in stages (mainly frequency dividing circuit 15A, step motor 27A, and galvano mirror)
27B), the size of the one-dimensional liquid crystal display device 25 in the height direction can be reduced by not arranging the images in the vertical direction, so that the size can be reduced.

また、前記一次元液晶表示装置25は垂直方向の画素数
の制約がなくなり、水平走査方向の画素数を増加するこ
とができるので、投写される動画像の解像度を向上する
ことができる。
Furthermore, since the one-dimensional liquid crystal display device 25 is not limited by the number of pixels in the vertical direction and can increase the number of pixels in the horizontal scanning direction, the resolution of the projected moving image can be improved.

また、前記一次元液晶表示装置25は垂直方向の画素数
の制約がなくなり、水平走査方向の画素サイズ、画素間
ピッチ等の加工精度を緩和することができるので、一次
元液晶表示装置25の製造上の歩留りを向上することが
できる。
In addition, the one-dimensional liquid crystal display device 25 is not limited by the number of pixels in the vertical direction, and processing accuracy such as the pixel size in the horizontal scanning direction and the pitch between pixels can be relaxed, so that the one-dimensional liquid crystal display device 25 can be manufactured. The above yield can be improved.

また、前記液晶投写装置1に内蔵される液晶表示装置2
5の水平方向シフトレジスタH8Rの走査方向を反転さ
せる手段を設ける(双方向型にする)ことにより、フロ
ントプロジェクション時、リアプロジェクション時の夫
々において、液晶表示装置25の映像信号線DLの走査
方向を反転させることができるので、スクリーンに投写
される動画像の反転を防止することができる。
Further, a liquid crystal display device 2 built in the liquid crystal projection device 1
By providing a means for reversing the scanning direction of the horizontal shift register H8R No. 5 (making it bidirectional), the scanning direction of the video signal line DL of the liquid crystal display device 25 can be changed during front projection and rear projection. Since the moving image can be reversed, it is possible to prevent the moving image projected on the screen from being reversed.

前記第6図の中央部は液晶表示装置25の一画素部分の
断面を示しているが、左側は透明ガラス基板5UBI及
び5UB2の左側縁部分で外部引出配線の存在する部分
の断面を示している。右側は、透明ガラス基板SUB 
1及び5UB2の右側縁部分で外部引出配線の存在しな
い部分の断面を示している。
The central part of FIG. 6 shows a cross section of one pixel portion of the liquid crystal display device 25, while the left side shows a cross section of the left edge portion of the transparent glass substrates 5UBI and 5UB2 where external lead wiring is present. . On the right is a transparent glass substrate SUB
1 and 5UB2, a cross section of the right edge portion where no external lead wiring is present is shown.

第6図の左側、右側の夫々に示すシール材SLは、液晶
LCを封止するように構成されており、液晶封入口(図
示していない)を除く透明ガラス基板SUB 1及び5
UB2の縁周囲全体に沿って形成されている。シール材
SLは例えばエポキシ樹脂で形成されている。
The sealing materials SL shown on the left and right sides of FIG. 6 are configured to seal the liquid crystal LC, and are attached to the transparent glass substrates SUB 1 and 5 excluding the liquid crystal sealing opening (not shown).
It is formed along the entire edge of UB2. The sealing material SL is made of, for example, epoxy resin.

前記上部透明ガラス基板5UB2側の共通透明画素電極
ITOは、少なくとも一個所において。
The common transparent pixel electrode ITO on the upper transparent glass substrate 5UB2 side is at least at one location.

銀ペースト材SILによって、下部透明ガラス基板5U
BI側に形成された外部引出配線に接続されている。こ
の外部引出配線は、前述したゲート電極GT、ソース電
極SDI、ドレイン電極SD2の夫々と同一製造工程で
形成される。
The lower transparent glass substrate 5U is made of silver paste material SIL.
It is connected to the external lead wiring formed on the BI side. This external lead wiring is formed in the same manufacturing process as each of the gate electrode GT, source electrode SDI, and drain electrode SD2 described above.

前記配向膜0RII及び○RI2、透明画素電極ITO
1共通透明画素電極ITO1保護膜PSv1及びPSV
2、絶縁膜GIの夫々の層は、シール材SLの内側に形
成される。偏光板POLは、下部透明ガラス基板SUB
 1、上部透明ガラス基板5UB2の夫々の外側の表面
に形成されている。
The alignment films 0RII and ○RI2, transparent pixel electrode ITO
1 common transparent pixel electrode ITO 1 protective film PSv1 and PSV
2. Each layer of the insulating film GI is formed inside the sealing material SL. The polarizing plate POL has a lower transparent glass substrate SUB
1. Formed on each outer surface of the upper transparent glass substrate 5UB2.

(実施例■) 本実施例■は、前記液晶投写装置の垂直方向の走査を光
偏向器で行った、本発明の第2実施例である。
(Embodiment 2) This embodiment 2 is a second embodiment of the present invention in which scanning of the liquid crystal projection device in the vertical direction was performed by an optical deflector.

本発明の実施例■である液晶投写装置の構成を第9図(
概略断面図)で示す。
FIG. 9 shows the configuration of a liquid crystal projection device which is Embodiment ① of the present invention.
Schematic sectional view).

第9図に示すように、液晶投写装置1は、一次元液晶表
示装置25と投写用光学レンズ26との間に光偏向器3
1が設けられている。光偏向器31は、電圧の印加で光
の屈折率を変化させるように構成されており、一次元液
晶表示装置25の水平方向の走査で形成された画像を垂
直方向に走査するように構成されている。
As shown in FIG. 9, the liquid crystal projection device 1 includes an optical deflector 3 between a one-dimensional liquid crystal display device 25 and a projection optical lens 26.
1 is provided. The optical deflector 31 is configured to change the refractive index of light by applying a voltage, and is configured to vertically scan an image formed by horizontal scanning of the one-dimensional liquid crystal display device 25. ing.

投写用光学レンズ26と可動型反射鏡28との間には固
定型反射鏡27が設けられている。固定型反射鏡27は
、一次元液晶表示装置25及び光偏向器31で形成され
た動画像を可動型反射鏡28を介して可動型スクリーン
29、外部スクリーン30A、30B等に投写するよう
に構成されている。
A fixed reflecting mirror 27 is provided between the projection optical lens 26 and the movable reflecting mirror 28. The fixed reflecting mirror 27 is configured to project the moving image formed by the one-dimensional liquid crystal display device 25 and the optical deflector 31 onto the movable screen 29, external screens 30A, 30B, etc. via the movable reflecting mirror 28. has been done.

この一次元液晶表示袋[25及び光偏向器31を内蔵す
る液晶投写装置1は、前記実施例Iと略同様の効果を奏
することができる6 また、前述のステップモータ27A及びガルバノミラ−
27Bで構成される垂直走査手段は回転に伴う機械的振
動が存在するが、前記光偏向器31で構成される垂直走
査手段はそれが実質的に発生しないので、この光偏向器
31を内蔵する液晶投写装置1は機械的振動に起因する
故障が少ない等の効果を得ることができる。
The liquid crystal projection device 1 incorporating the one-dimensional liquid crystal display bag [25] and the optical deflector 31 can achieve substantially the same effects as in the embodiment I.
27B has mechanical vibrations due to rotation, but the vertical scanning means consisting of the optical deflector 31 does not substantially generate such vibrations, so the optical deflector 31 is built in. The liquid crystal projection device 1 can obtain effects such as fewer failures caused by mechanical vibrations.

以上、本発明者によってなされた発明を前記実施例に基
づき具体的に説明したが1本発明は前記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において
、種々変更できる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on the above embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.

例えば、液晶投写装置は駆動周波数が高い水平方向走査
型の一次元液晶表示装置で構成したが、本発明は垂直方
向走査型の一次元液晶表示装置及び水平方向走査手段を
内蔵する液晶投写装置を構成してもよい。
For example, the liquid crystal projection device is constructed of a horizontal scanning type one-dimensional liquid crystal display device with a high driving frequency, but the present invention includes a vertical scanning type one-dimensional liquid crystal display device and a liquid crystal projection device incorporating a horizontal scanning means. may be configured.

また、本発明は、前記一次元液晶表示装置の水平方向に
配列された各画素毎に設けられた薄膜トランジスタTP
Tを廃止し、一次元液晶表示装置を所謂単純マトリック
ス型で構成してもよい。この場合、液晶表示装置の製造
プロセスにおいて、薄膜トランジスタTPTに相当する
分、製造上の歩留りを向上することができる。
Further, the present invention provides a thin film transistor TP provided for each pixel arranged in the horizontal direction of the one-dimensional liquid crystal display device.
The one-dimensional liquid crystal display device may be configured as a so-called simple matrix type by eliminating T. In this case, in the manufacturing process of the liquid crystal display device, the manufacturing yield can be improved by the amount corresponding to the thin film transistor TPT.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示された発明のうち1代表的なものの効
果を簡単に説明すれば1次のとおりである。
A brief explanation of the effects of one representative invention among the inventions disclosed in this application is as follows.

液晶投写装置において、液晶表示装置のサイズを縮小し
、小型化を図ることができる。
In the liquid crystal projection device, the size of the liquid crystal display device can be reduced and miniaturization can be achieved.

また、前記液晶投写装置において、前記効果の他に、外
部スクリーン又はそれに相当するものがない場合でも動
画像を投写することができる。
Furthermore, in addition to the above effects, the liquid crystal projection device can project moving images even when there is no external screen or equivalent.

また、前記液晶投写装置において、前記効果の他に、フ
ロントプロジェクション、リアプロジェクシ目ン等の投
写方法による画像の反転を防止することができる。
In addition to the above effects, the liquid crystal projection device can prevent image inversion caused by front projection, rear projection, or other projection methods.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の実施例!である液晶投写装置の部分
断面斜視図、 第2図乃至第4図は、前記液晶投写装置の概略断面図。 第5図は、前記液晶投写装置に内蔵された液晶表示装置
の画素面の一画素を示す要部平面図、第6図は、前記第
5図に示すVI−VI切断線で切った断面図。 第7図は、前記液晶表示装置の画素面の等価回路図、 第8図は、前記液晶表示装置の画素面の平面図、第9図
は1本発明の実施例■である液晶投写装置の概略断面図
である。 図中、1・・・液晶投写装置、14・・・電源回路、1
5・・・テレビ回路、15A・・・分周回路、20・・
・投写用光源、22・・・シリンドリカルレンズ、23
・・・赤外線フィルタ。 25・・・一次元液晶表示装置、26・・・投写用光学
レンズ、27A・・・ステップモータ、27B・・・ガ
ルバノミラ−27・・・固定型反射鏡、28・・・可動
型反射鏡、29・・・可動型スクリーン、30A、30
B・・・外部スクリーン、31・・・光偏向器、H8R
・・・シフトレジスタ、HD・・・映像信号駆動回路、
VD・・・走査信号線駆動回路、VSW・・・ビデオ信
号切換スイッチ、MSW・・・マイクロスイッチ、GL
・・・走査信号線、DL・・・映像信号線、GT・・・
ゲート電極、AS・・・i型半導体層、SD・・・ソー
ス電極又はド、レイン電極、TPT・・・薄膜トランジ
スタ、ITO・・・透明画素電極である。
Figure 1 is an example of the present invention! FIG. 2 to FIG. 4 are schematic cross-sectional views of the liquid crystal projection device. FIG. 5 is a plan view of a main part showing one pixel on the pixel surface of the liquid crystal display device built into the liquid crystal projection device, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI shown in FIG. 5. . FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the pixel surface of the liquid crystal display device, FIG. 8 is a plan view of the pixel surface of the liquid crystal display device, and FIG. It is a schematic sectional view. In the figure, 1...Liquid crystal projection device, 14...Power supply circuit, 1
5...TV circuit, 15A...divider circuit, 20...
・Projection light source, 22... Cylindrical lens, 23
...Infrared filter. 25... One-dimensional liquid crystal display device, 26... Optical lens for projection, 27A... Step motor, 27B... Galvano mirror 27... Fixed reflector, 28... Movable reflector, 29...Movable screen, 30A, 30
B...External screen, 31...Light deflector, H8R
...shift register, HD...video signal drive circuit,
VD...Scanning signal line drive circuit, VSW...Video signal changeover switch, MSW...Micro switch, GL
...Scanning signal line, DL...Video signal line, GT...
Gate electrode, AS...i-type semiconductor layer, SD...source electrode or drain electrode, TPT...thin film transistor, ITO...transparent pixel electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、投写用光源と、該投写用光源の光軸上に配列された
水平方向走査型又は垂直方向走査型の一次元液晶表示装
置と、前記投写用光源からの光で投写される一次元液晶
表示装置の1走査分の画像をその走査毎に段階的に垂直
方向又は水平方向に走査させる走査手段とを備えたこと
を特徴とする液晶投写装置。 2、前記一次元液晶表示装置の1走査分の画像をその走
査毎に段階的に垂直方向又は水平方向に走査させる走査
手段は、前記一次元液晶表示装置の走査に同期して制御
されるステップモータ及びそれで駆動されるガルバノミ
ラーで構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の液晶投写装置。 3、前記一次元液晶表示装置の1走査分の画像をその走
査毎に段階的に垂直方向又は水平方向に走査させる走査
手段は、前記一次元液晶表示装置の走査に同期して制御
される光偏向器で構成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の液晶投写装置。 4、投写用光源と、該投写用光源の光軸上に配列された
水平方向走査型又は垂直方向走査型の一次元液晶表示装
置と、前記投写用光源からの光で投写される一次元液晶
表示装置の1走査分の画像をその走査毎に段階的に垂直
方向又は水平方向に走査させる走査手段と、該走査され
た動画像を投写する位置に配置されかつその位置から回
避することができる可動型スクリーンとを備えたことを
特徴とする液晶投写装置。 5、前記一次元液晶表示装置は、シフトレジスタの走査
方向を反転させる手段を備えていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項又は第4項に記載の液晶投写装置。
[Claims] 1. A projection light source, a horizontal scanning type or vertical scanning type one-dimensional liquid crystal display device arranged on the optical axis of the projection light source, and a light emitted from the projection light source. 1. A liquid crystal projection device comprising: scanning means for scanning one scanning image of a one-dimensional liquid crystal display device to be projected in a vertical or horizontal direction stepwise for each scanning. 2. The scanning means for scanning one scan of the image of the one-dimensional liquid crystal display device in the vertical or horizontal direction stepwise for each scan is controlled in synchronization with the scanning of the one-dimensional liquid crystal display device. 2. The liquid crystal projection device according to claim 1, comprising a motor and a galvanometer mirror driven by the motor. 3. The scanning means for scanning an image of one scan of the one-dimensional liquid crystal display device in a vertical or horizontal direction stepwise for each scan includes a light beam controlled in synchronization with the scanning of the one-dimensional liquid crystal display device. 2. The liquid crystal projection device according to claim 1, wherein the liquid crystal projection device comprises a deflector. 4. A projection light source, a horizontal scanning type or vertical scanning type one-dimensional liquid crystal display device arranged on the optical axis of the projection light source, and a one-dimensional liquid crystal display device projected by the light from the projection light source. a scanning means for scanning one scanning image of a display device stepwise in the vertical or horizontal direction for each scanning; and a scanning means arranged at a position to project the scanned moving image and capable of being avoided from that position. A liquid crystal projection device characterized by comprising a movable screen. 5. The liquid crystal projection device according to claim 1 or 4, wherein the one-dimensional liquid crystal display device includes means for reversing the scanning direction of the shift register.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7717571B2 (en) 2005-11-15 2010-05-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Projector/projection type switchable display apparatus

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