JPH0242379A - 位置検出ビーム電流モニター - Google Patents
位置検出ビーム電流モニターInfo
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- JPH0242379A JPH0242379A JP63192666A JP19266688A JPH0242379A JP H0242379 A JPH0242379 A JP H0242379A JP 63192666 A JP63192666 A JP 63192666A JP 19266688 A JP19266688 A JP 19266688A JP H0242379 A JPH0242379 A JP H0242379A
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Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、導電性真空ダクト中を通過する荷電粒子ビ
ームの位置およびその電流量を測定する位置検出ビーム
電流モニターに関するものである。
ームの位置およびその電流量を測定する位置検出ビーム
電流モニターに関するものである。
第２図は例えば刊行物（ＯＨＯ’８６高エネルギー加速
器セミナーｌｌ−３０，１９８６年８月）に示された壁
を流モニターと位置モニターとを一体化した壁電流位會
モニターであり、図において（ＩＡ）。
器セミナーｌｌ−３０，１９８６年８月）に示された壁
を流モニターと位置モニターとを一体化した壁電流位會
モニターであり、図において（ＩＡ）。
（ＩＢ）はそれぞれ円筒形の第１および第２の導電性真
空ダク） 、（２）は第１および第２の導電性真空ダク
） （ＩＡ）、（ＩＢ）間に接続された抵抗体であり、
円周方向に等間隔で４箇所配置されている。
空ダク） 、（２）は第１および第２の導電性真空ダク
） （ＩＡ）、（ＩＢ）間に接続された抵抗体であり、
円周方向に等間隔で４箇所配置されている。
（３）は第１の導電性真空ダクト（ＩＡ）と第２の導電
性真空ダク） （ＩＢ）との接続部の周囲に設けられた
低周波信号をカットするための磁性体リングとしてのフ
ェライトリング、（４）はフェライトリング（３）を被
って設けられた電磁シールド用の金属容器であり、第１
および第２の導電性真空ダクト（ＩＡ）。
性真空ダク） （ＩＢ）との接続部の周囲に設けられた
低周波信号をカットするための磁性体リングとしてのフ
ェライトリング、（４）はフェライトリング（３）を被
って設けられた電磁シールド用の金属容器であり、第１
および第２の導電性真空ダクト（ＩＡ）。
（ＩＡ）に、外皮線が第２の導電性真空ダクト（ＩＢ）
にそれぞれ接続された同軸ケーブルで、金＠容器（４）
とは真空洩れのないように取り付けられている。
にそれぞれ接続された同軸ケーブルで、金＠容器（４）
とは真空洩れのないように取り付けられている。
次に上記構成の微電流位置モニターの動作について説明
する。第１および第２の導電性真空ダク） （ＩＡ）、
（ＩＢ）中を荷電粒子ビームが通過する流が流れる。こ
の微電流は抵抗体（２）と金属容器（４）との２方向に
別れて流れるが、荷電粒子ビームからの信号に相当する
高周波の電流成分はフェライトリング（３）があるため
に金属容器（４）側には流れにくくなり抵抗体（２）に
のみ流れる。この抵抗体（２）の両端の電位差を同軸ケ
ーブル（５）により外部モニター（例えばオシロスコー
プ）に取り出すことにより荷電粒子ビームのふるまいを
知ることができる。
する。第１および第２の導電性真空ダク） （ＩＡ）、
（ＩＢ）中を荷電粒子ビームが通過する流が流れる。こ
の微電流は抵抗体（２）と金属容器（４）との２方向に
別れて流れるが、荷電粒子ビームからの信号に相当する
高周波の電流成分はフェライトリング（３）があるため
に金属容器（４）側には流れにくくなり抵抗体（２）に
のみ流れる。この抵抗体（２）の両端の電位差を同軸ケ
ーブル（５）により外部モニター（例えばオシロスコー
プ）に取り出すことにより荷電粒子ビームのふるまいを
知ることができる。
また、抵抗体（２）に流れる電流は荷電粒子ビームの通
過位置が近づけば近づく程、大きくなるので、４箇所に
配量しである抵抗体（２）の出力電圧の大きさを比べる
ことにより荷電粒子ビームの第１．第２の導電性真空グ
ク） （ＩＡ）、（ＩＢ）内の通過位置も知ることがで
きる。
過位置が近づけば近づく程、大きくなるので、４箇所に
配量しである抵抗体（２）の出力電圧の大きさを比べる
ことにより荷電粒子ビームの第１．第２の導電性真空グ
ク） （ＩＡ）、（ＩＢ）内の通過位置も知ることがで
きる。
第３図は、例えば“加速器のビームモニターとデータ処
理、大阪太字産業科学研究所附属放射線実験所研究会（
■）、Ｐ７．（１９８４年１２月）”Ｋ示されたビーム
を流モニターの側断面図であり、図において（６）はフ
ェライトリング％（７）はフェライトリング（６）に巻
回され絶縁被覆の施しである巻線であり、フェライトリ
ング（６）と巻線（７）とでトロイダルコイルが構成さ
れている。（８）はこのトロイダルコイルを収納しかつ
支持している支持容器、（８ａ）は支持容器（８）に形
成され荷電粒子ビームの作る電場の影曽を妨げ荷電粒子
ビームの作る磁場を取り入れる透き間、（９）は巻線（
７）に接線され巻線（７）で誘起された電流を支持容器
（８）外に導出する導線、（１０）は導線（９）に接続
され真空容器（１１）外に前記電流を導出する電流端子
である。
理、大阪太字産業科学研究所附属放射線実験所研究会（
■）、Ｐ７．（１９８４年１２月）”Ｋ示されたビーム
を流モニターの側断面図であり、図において（６）はフ
ェライトリング％（７）はフェライトリング（６）に巻
回され絶縁被覆の施しである巻線であり、フェライトリ
ング（６）と巻線（７）とでトロイダルコイルが構成さ
れている。（８）はこのトロイダルコイルを収納しかつ
支持している支持容器、（８ａ）は支持容器（８）に形
成され荷電粒子ビームの作る電場の影曽を妨げ荷電粒子
ビームの作る磁場を取り入れる透き間、（９）は巻線（
７）に接線され巻線（７）で誘起された電流を支持容器
（８）外に導出する導線、（１０）は導線（９）に接続
され真空容器（１１）外に前記電流を導出する電流端子
である。
従来のビームを流モニターは上記のように構成され、荷
電粒子ビームがトロイダルコイルの中心を通過する際、
荷電粒子ビームはその進行方向を軸として同心円状に磁
場を形成し、その磁場は支持容器（８）の透き間（８ａ
）を通りトロイダルコイルに沿って磁場を作る。この磁
場は荷電粒子ビーム通過の前後で時間的に変化し、トロ
イダルコイルの巻ｉ （７） Ｋ １［、流を誘起させ
、この電流が導線（９）、電流端子（１０）を介して真
空容器（１１）外に電気信号として取り出される。そし
て、荷電粒子ビームの電流量と巻線（力に誘起される電
流量とは比例関係にあり、電流端子（１ｏ）を流れる電
流量をオシロスコープで定量することにより荷電粒子ビ
ームの電流量を知ることができる。
電粒子ビームがトロイダルコイルの中心を通過する際、
荷電粒子ビームはその進行方向を軸として同心円状に磁
場を形成し、その磁場は支持容器（８）の透き間（８ａ
）を通りトロイダルコイルに沿って磁場を作る。この磁
場は荷電粒子ビーム通過の前後で時間的に変化し、トロ
イダルコイルの巻ｉ （７） Ｋ １［、流を誘起させ
、この電流が導線（９）、電流端子（１０）を介して真
空容器（１１）外に電気信号として取り出される。そし
て、荷電粒子ビームの電流量と巻線（力に誘起される電
流量とは比例関係にあり、電流端子（１ｏ）を流れる電
流量をオシロスコープで定量することにより荷電粒子ビ
ームの電流量を知ることができる。
従来においては、加速器本体に入射時の電流値の測定の
ためにビーム電流モニターを１台取付け、また、荷電粒
子の加速、蓄積時の電流値測定および位置測定に壁電流
位看モニターを１台取付け、計２台の計測器を加速器本
体に取付けなければならず、加速器が大型化するという
問題点があった。
ためにビーム電流モニターを１台取付け、また、荷電粒
子の加速、蓄積時の電流値測定および位置測定に壁電流
位看モニターを１台取付け、計２台の計測器を加速器本
体に取付けなければならず、加速器が大型化するという
問題点があった。
また、モニターを２台用意しなげればならず、モニター
に関するコストが高くなるという問題点もあった。
に関するコストが高くなるという問題点もあった。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、加速器のよりコンパクト化が図れるととも
に、モニターに関する費用が削減できる位置検出ビーム
を流モニターを得ることを目的とする。
れたもので、加速器のよりコンパクト化が図れるととも
に、モニターに関する費用が削減できる位置検出ビーム
を流モニターを得ることを目的とする。
この発明に係る位置検出ビーム電流モニターは、第１の
導電性真空ダクトと第２の導電性真空ダクトとの間に介
在した絶縁真空夕゛クトと、前記第１の導電性真全ダク
トと前記第２の導電性真空ダクトとの間を接続した複数
個の抵抗体と、前記第１の導電性真空ダクトおよび前記
第２の導電性真空ダクト中を通過する荷電粒子ビームに
より前記抵抗体の両端に生じた電位差を検出する第１の
電位差検出手段と、前記絶縁性タフトの周囲に設けられ
た磁性体リングと、この磁性体リングに巻回された巻線
と、前記荷電粒子が前記第１の導電性真空ダクトおよび
前記第２の導電性真空ダクト中を通過するとぎに前記巻
線の両端に誘起される電位差を検出する第２の電位差検
出手段とを備えたものである。
導電性真空ダクトと第２の導電性真空ダクトとの間に介
在した絶縁真空夕゛クトと、前記第１の導電性真全ダク
トと前記第２の導電性真空ダクトとの間を接続した複数
個の抵抗体と、前記第１の導電性真空ダクトおよび前記
第２の導電性真空ダクト中を通過する荷電粒子ビームに
より前記抵抗体の両端に生じた電位差を検出する第１の
電位差検出手段と、前記絶縁性タフトの周囲に設けられ
た磁性体リングと、この磁性体リングに巻回された巻線
と、前記荷電粒子が前記第１の導電性真空ダクトおよび
前記第２の導電性真空ダクト中を通過するとぎに前記巻
線の両端に誘起される電位差を検出する第２の電位差検
出手段とを備えたものである。
この発明においては、微電流位置モニターの低周波遮断
用の磁性体リングに巻線を巻き、ビーム電流モニターの
機能を付加したことにより、モニター数が削減され、ひ
いては加速器自体がコンパクト化される。
用の磁性体リングに巻線を巻き、ビーム電流モニターの
機能を付加したことにより、モニター数が削減され、ひ
いては加速器自体がコンパクト化される。
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例を示す断面図であり、図に
おいて、（１２）は第１の導電性真空ダクト（ＩＡ）と
第２の導電性真空ダクト（ＩＢ）との間に介在する例え
ばセラミックス製の絶縁真空ダクト、（１３）は絶縁真
空ダクト（１２）の内面に蒸着手段により、コーティン
グされた抵抗体、（１４）は一端が抵抗体（１３）Ｋ接
続され他端が金属容器（４）に取付けられた第１の電流
端子（１５）に接続されたピックアッププローブ、（１
６）はフェライトリング（３）に巻回され絶縁被覆の施
しである巻線、（１７）は巻１（１６）と接続された第
２の電流端子である。
おいて、（１２）は第１の導電性真空ダクト（ＩＡ）と
第２の導電性真空ダクト（ＩＢ）との間に介在する例え
ばセラミックス製の絶縁真空ダクト、（１３）は絶縁真
空ダクト（１２）の内面に蒸着手段により、コーティン
グされた抵抗体、（１４）は一端が抵抗体（１３）Ｋ接
続され他端が金属容器（４）に取付けられた第１の電流
端子（１５）に接続されたピックアッププローブ、（１
６）はフェライトリング（３）に巻回され絶縁被覆の施
しである巻線、（１７）は巻１（１６）と接続された第
２の電流端子である。
次に、上記構成の動作について説明する。導電性真空ダ
ク） （ＩＡ）、（ＩＢ）および絶縁真空ダクト（１２
）中を荷電粒子ビームが通過すると、それに伴って、逆
電荷が導電性真空ダクト（ＩＡ）、（ＩＢ）に流れる。
ク） （ＩＡ）、（ＩＢ）および絶縁真空ダクト（１２
）中を荷電粒子ビームが通過すると、それに伴って、逆
電荷が導電性真空ダクト（ＩＡ）、（ＩＢ）に流れる。
この電流は抵抗体（１３）、金属容器（４）の２方向に
別れて流れるが、荷電粒子ビームがパルス的に通過する
と、その繰り返し周期が大きくなる程フェライトリング
（３）の効果のため、金属容器（４）に流れる電流は減
少し抵抗体（１３）にのみ流れるようになる。この抵抗
体（１３）の両端の電位差を第１の電位差検出手段であ
るピックアッププローブ（１４）、第１の電流端子（１
５）から取り出すことにより、高周波電流値を測ること
ができる。
別れて流れるが、荷電粒子ビームがパルス的に通過する
と、その繰り返し周期が大きくなる程フェライトリング
（３）の効果のため、金属容器（４）に流れる電流は減
少し抵抗体（１３）にのみ流れるようになる。この抵抗
体（１３）の両端の電位差を第１の電位差検出手段であ
るピックアッププローブ（１４）、第１の電流端子（１
５）から取り出すことにより、高周波電流値を測ること
ができる。
また、各々の抵抗体（１３）に生じる電位差から荷電粒
子ビームが導電性真空ダクト（ＩＡ）、（ＩＢ）および
絶縁真空ダク） （１２）のどの位置を通過したかを知
ることができる。
子ビームが導電性真空ダクト（ＩＡ）、（ＩＢ）および
絶縁真空ダク） （１２）のどの位置を通過したかを知
ることができる。
さらに、荷電粒子ビームの通過する繰り返し周期が遅い
時、荷電粒子ビームがその進行方向同心円状に生じる磁
場をフェライトリング（３）で受け、巻線（１６）に電
流が誘起され、巻線（１６）の両端の電位差を第２の電
位差検出手段である第２の電流端子（１７）で取り出す
ことにより、低周波の電流値を測ることができる。
時、荷電粒子ビームがその進行方向同心円状に生じる磁
場をフェライトリング（３）で受け、巻線（１６）に電
流が誘起され、巻線（１６）の両端の電位差を第２の電
位差検出手段である第２の電流端子（１７）で取り出す
ことにより、低周波の電流値を測ることができる。
なお、上記実施例では抵抗体（１３）を絶縁真空ダク）
（１２）の内面に蒸着したが、既成の抵抗器を絶縁真
空ダク） （ＩＡ）、（ＩＢ）の内部あるいは外部に取
り付けてもよい。また、磁性体リングとしてフェライト
リング（３）を用いたが、その他にアモルファス等を用
いてもよい。
（１２）の内面に蒸着したが、既成の抵抗器を絶縁真
空ダク） （ＩＡ）、（ＩＢ）の内部あるいは外部に取
り付けてもよい。また、磁性体リングとしてフェライト
リング（３）を用いたが、その他にアモルファス等を用
いてもよい。
以上説明したように、この発明の位置検出ビーム電流モ
ニターは、微電流位置モニターの低周波遮断用の磁性体
リングに巻線を巻回し、ビーム電流モニターの機能を付
加したことにより、高周波。
ニターは、微電流位置モニターの低周波遮断用の磁性体
リングに巻線を巻回し、ビーム電流モニターの機能を付
加したことにより、高周波。
低周波成分の荷電粒子ビーム電流量と荷電粒子ビーム電
流の真空タ゛クト内での位置とを検出でき、またモニタ
ー数が削減され、モニターに関するコストが低減される
とともに加速器自体がコンパクト化される。
流の真空タ゛クト内での位置とを検出でき、またモニタ
ー数が削減され、モニターに関するコストが低減される
とともに加速器自体がコンパクト化される。
第１図はこの発明の一実施例を示す断面図、第２図は従
来の壁を流位置モニターの一例を示す断面図、第３図は
従来のビーム電流モニターの一例を示す断面図である。 （ＩＡ）・・第１の導電性真空ダクト、（ＩＢ）・争第
２の導電性真空ダクト、（３）・拳フェライトリング、
（４）・・金輌容器、（１２）・・絶縁真空ダクト、（
１３”ｌ−＠抵抗体、（１４）ＩＩ拳ピック７ツ７’プ
ローグ、（１５）拳・第１の電流端子、（１６）・嗜巻
線、（１７）・・第２の電流端子。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 Ｐ／ｆ）１図 １Ａ 沖口つ４ｖ住耳２ψり”クト ＋Ｂ ： Ｉｖ１２＊ ｌｔａ’！’！夕’？）藺＃
！’）！夕”クト 抵ｔクト ピ・γり７・、アブＯ−デ 序１の電；を鳴子 部２句電；先堝壬 昂２図
来の壁を流位置モニターの一例を示す断面図、第３図は
従来のビーム電流モニターの一例を示す断面図である。 （ＩＡ）・・第１の導電性真空ダクト、（ＩＢ）・争第
２の導電性真空ダクト、（３）・拳フェライトリング、
（４）・・金輌容器、（１２）・・絶縁真空ダクト、（
１３”ｌ−＠抵抗体、（１４）ＩＩ拳ピック７ツ７’プ
ローグ、（１５）拳・第１の電流端子、（１６）・嗜巻
線、（１７）・・第２の電流端子。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 Ｐ／ｆ）１図 １Ａ 沖口つ４ｖ住耳２ψり”クト ＋Ｂ ： Ｉｖ１２＊ ｌｔａ’！’！夕’？）藺＃
！’）！夕”クト 抵ｔクト ピ・γり７・、アブＯ−デ 序１の電；を鳴子 部２句電；先堝壬 昂２図
Claims (1)
- 第１の導電性真空ダクトと第２の導電性真空ダクトとの
間に介在した絶縁真空ダクトと、前記第１の導電性真空
ダクトと前記第２の導電性真空ダクトとの間を接続した
複数個の抵抗体と、前記第１の導電性真空ダクトおよび
前記第２の導電性真空ダクト中を通過する荷電粒子ビー
ムにより前記抵抗体の両端に生じた電位差を検出する第
１の電位差検出手段と、前記絶縁性ダクトの周囲に設け
られた磁性体リングと、この磁性体リングに巻回された
巻線と荷電粒子が前記第１の導電性真空ダクトおよび前
記第２の導電性真空ダクト中を通過するときに前記巻線
の両端に誘起される電位差を検出する第２の電位差検出
手段とを備えたことを特徴とする位置検出ビーム電流モ
ニター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63192666A JPH0242379A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 位置検出ビーム電流モニター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63192666A JPH0242379A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 位置検出ビーム電流モニター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242379A true JPH0242379A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=16295024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63192666A Pending JPH0242379A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 位置検出ビーム電流モニター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242379A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5874176A (en) * | 1994-05-20 | 1999-02-23 | Ube Industries, Ltd. | Resin composite containing polyamide matrix and polyolefine grains dispersed therein |
| US6305691B1 (en) | 1995-04-10 | 2001-10-23 | Nippon Pillar Packing Co., Ltd. | Shaft sealing apparatus |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP63192666A patent/JPH0242379A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5874176A (en) * | 1994-05-20 | 1999-02-23 | Ube Industries, Ltd. | Resin composite containing polyamide matrix and polyolefine grains dispersed therein |
| US6305691B1 (en) | 1995-04-10 | 2001-10-23 | Nippon Pillar Packing Co., Ltd. | Shaft sealing apparatus |
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