JPH0242212B2 - - Google Patents

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JPH0242212B2
JPH0242212B2 JP10423684A JP10423684A JPH0242212B2 JP H0242212 B2 JPH0242212 B2 JP H0242212B2 JP 10423684 A JP10423684 A JP 10423684A JP 10423684 A JP10423684 A JP 10423684A JP H0242212 B2 JPH0242212 B2 JP H0242212B2
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styrylpyridinium
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

発明の背景 本発明は、印刷版(特にスクリーン印刷版)製
造用として優れた適性を有する水性エマルジヨン
型ないし水分散型の感光性樹脂組成物に関する。 印刷版材料、フオトエツチングにおけるフオト
レジストあるいは塗料や印刷インキのビヒクルと
して各種の感光性樹脂組成物が用いられている。
特に、印刷版材料としての感光性樹脂組成物に
は、高感度、高解像性等の基本的要件に加えて、
油性あるいは水性インキの適用下に摩擦あるいは
圧縮等の応力に耐える耐刷性、基材との密着性、
保存安定性なども要求される。 このような用途に用いられる感光性樹脂組成物
には、大別して溶剤現像型、アルカリ水現像型お
よび水現像型のものが知られている。そのほとん
どのものが均質系の感光性組成物であつて、水現
像型のものに一部水性エマルジヨンを使用したも
のが使われている。例えば、部分ケン化ポリ酢酸
ビニル等の高分子の水性エマルジヨンに光架橋剤
として重クロム酸塩やジアゾ樹脂を用いた感光性
樹脂組成物があつて、特にスクリーン印刷版用に
広く使用されている。 しかしながら、このような従来の水性エマルジ
ヨン型感光性樹脂組成物にも問題がある。すなわ
ち、(イ)水性エマルジヨンを構成する基材ポリマー
自体の耐溶剤性が充分でないこと、(ロ)感光性樹脂
組成物の耐溶剤性を低下させないようにするため
に組成物中の部分ケン化ポリ酢酸ビニルの配合量
が多くなつて、耐水性が低下してしまうこと、(ハ)
高分子エマルジヨンの乳化剤として比較的多量の
界面活性剤を使用すること、等の理由により耐水
性および耐溶剤性、したがつて耐刷性、の優れた
硬化膜が得られないという問題点が認められるの
である。 一方、それ自体で光架橋性を有する水溶性の高
感度感光性ポリマーとして部分ケン化酢酸ビニル
重合体鎖にスチリルピリジニウム基を導入したポ
リマーが知られ(特開昭55−23163号、同55−
62905号各公報)、またこの光架橋性ポリマーを重
クロム酸塩、ジアゾ樹脂等の光架橋剤の代りにポ
リ酢酸ビニルの高分子エマルジヨンに添加してな
る水性エマルジヨン型感光性樹脂組成物も知られ
ている(特開昭55−62446号公報)。この型の組成
物は、感度および保存安定性等の点で優れた性質
を有するが、本発明者らの研究によれば、主たる
基材ポリマーとしてのエマルジヨン高分子の使用
と関連して、次のようないくつかの問題点が見出
された。 すたわち、最も代表的な高分子エマルジヨンと
してポリ酢酸ビニルエマルジヨンを用いて得た硬
化物を印刷版として使用した場合は、この版はイ
ンキ中の有機溶剤におかされるなど耐油性が充分
でなく、また有機溶剤に水の混入した状態では版
の侵食が助長されるなど耐水性においても充分で
ない。一方、アクリル酸エステル樹脂系エマルジ
ヨン、エチレン−アクリル酸エステル樹脂エマル
ジヨン、SBRラテツクス、シリコーン樹脂エマ
ルジヨン、塩化ビニル樹脂エマルジヨン、塩化ビ
ニリデン樹脂エマルジヨン等のエマルジヨンを、
スチリルピリジニウム基またはスチリルピリジニ
ウム基を付加した酢酸ビニル重合体ケン化物の水
溶液と混合する過程で、増粘やゲル化、エマルジ
ヨンの分散破壊、粗大粒子の発生等の問題を生じ
がちである。更に、いずれのエマルジヨンを用い
る場合も比較的多量の界面活性剤を使用するた
め、得られた硬化物の耐溶剤性および耐水性は、
この点からも阻害される。 発明の概要 要 旨 本発明は、上述した従来技術の欠点に鑑み、水
分散型ないし水性エマルジヨン型でありながら、
良好な耐溶剤性、耐水性ならびに耐摩耗性を有す
る硬化物を与えることができ、また分散安定性、
感度、解像性も良好な感光性樹脂組成物を提供す
ることを目的とするものである。 すやわち、本発明による感光性樹脂組成物は、
下記の必須成分(1)〜(4)を含む水性分散液からなる
こと、を特徴とするものである。 (1) スチリルピリジニウムまたはスチリルキノリ
ニウム基を付加した酢酸ビニル重合体の水溶性
ケン化物、 (2) 水分散性重合体、 (3) エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物、および (4) 光重合開始剤 (たゞし、成分(1)がスチリルピリジニウム基を付
加した酢酸ビニル重合体の水溶性ケン化物である
場合には、成分(2)がアイオノマー樹脂単独である
ことはない)。 効 果 本発明によれば、それ自体で高感度の光架橋性
を有するスチリルピリジニウム基またはスチリル
キノリニウム基付加ポリマーの水溶液中に、水分
散性重合体および光重合性不飽和化合物を分散さ
せることにより、界面活性剤をほとんど使用しな
いか使用するとしても比較的少ない量で安定な水
性エマルジヨンないし水分散型の感光性樹脂組成
物が得られる。しかも、この組成物の光硬化によ
り、上記三成分の組合せの結果として耐水性およ
び耐溶剤性が優れかつ皮膜特性も優れ、したがつ
てスクリーン印刷版をはじめとする印刷版材とし
て極めて適した硬化物が得られる。 本発明の組成物が上記目的にかなつた優れた特
性を有する理由は必ずしもあきらかでないが、次
のような要因の総和として与えられるものと考え
られる。すなわち、スチリルピリジニウム基また
はスチリルキノリニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体(以下便宜的にしばしば「水溶性光二量化
性ポリマー」と称する)はビニル単量体等の光重
合性化合物に対して乳化作用を有するから、この
水溶性光二量化性ポリマーをマトリツクス兼乳化
剤として使用して、これにより光重合開始剤を含
む光重合性化合物を乳化させれば、安全な水性エ
マルジヨンが得られる。光重合開始剤および光重
合性化合物が水に難溶性ないし不溶性であつて
も、水溶性光二量化性ポリマーの乳化力により水
現像性の感光材料となる。一方、水分散性重合体
はそれ自身が水分散性を有する。従つて、上記成
分の混合で、多量の界面活性剤を使用することな
く安定な本発明の組成物が得られる。しかして、
本発明の組成物は水溶性光二量化性ポリマーの存
在により高感度高解像性を示し、しかもこれは水
分散性高分子の持つ耐水性、耐溶剤性等の優れた
皮膜特性が良好な硬化物の形成に寄与する。ま
た、それだけではなく、光重合性化合物は、硬化
に際して水溶性光二量化性ポリマー中の残存アセ
チル基等を利用してグラフト共重合を起す。この
ようにして、本発明の組成物の硬化物は、良好な
耐水性および耐溶剤性を兼ね備えかつ良好な皮膜
特性をも有するものである。 発明の具体的説明 感光性樹脂組成物 本発明による感光性樹脂組成物は、前記のよう
に必須4成分を含むものである。その詳細は下記
の通りである。なお、以下の記載において組成を
表わす「%」および「部」は、特にこだわらない
限り重量基準とする。 感光性ケン化酢酸ビニル重合体(成分(1)) 本発明の水性エマルジヨン型ないし水分散型感
光性樹脂組成物の連続相は、成分1、すなわち、
スチリルピリジニウム基またはスチリルキノリニ
ウム基を付加したケン化酢酸ビニル重合体(すな
わち、水溶性光二量化性ポリマー)の水溶液から
なる。この重合体は、一般に、酢酸ビニル重合体
に対してケン化およびスチリルピリジニウムない
しキノリニウム基の付加を好ましくはこの順序で
実施することによつて得ることができる。 スチリルピリジニウムないしキノリニウム基を
有しあるいはこの基を上記の好ましい順序で導入
すべき重合体鎖は、ケン化された酢酸ビニル重合
体からなる。ここで「酢酸ビニル重合体」とは、
酢酸ビニルのホモ重合体および共重合体のいずれ
をも意味し、具体的にはポリ酢酸ビニルおよび酢
酸ビニルとこれと共重合可能な単量体との共重合
体ならびにケン化ポリ酢酸ビニルのホルマール化
またはブチラール化等の低級(C1〜C4)アセタ
ール化物およびp−ベンズアルデヒドスルホン酸
塩、β−ブチルアルデヒドスルホン酸塩、o−ベ
ンズアルデヒドスルホン酸塩、2,4−ベンズア
ルデヒドスルホン酸塩等によるアセタール化物を
含むものである。 酢酸ビニル重合体が共重合体である場合の酢酸
ビニルと共重合可能なモノマーとしては、たとえ
ば、エチレン、アクリレート類(メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート等)、アクリルアミ
ド類(アクリルアミド、メタクリルアミド、N−
メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチルア
クリルアミド等)、不飽和カルボン酸類またはそ
の塩(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
フマール酸、イタコン酸、マレイン酸等またはそ
の塩)、カチオン性モノマー類(ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルイミダゾール、ビ
ニルピリジン、ビニルサクシイミド等)などが挙
げられる。 スチリルピリジニウムないしキノリニウム基を
導入すべきケン化酢酸ビニル重合体のケン化度
は、水現像可能でしかも光硬化後に耐溶剤性およ
び耐水性に優れた硬化物を与える組成物とするた
めに、70〜99モル%の範囲であることが好まし
い。ここで、「ケン化度70〜99モル%の部分ケン
化酢酸ビニル重合体」とは、原酢酸ビニル重合体
が酢酸ビニルのホモ重合体であるとしたときにビ
ニルアルコール部分の含量が70〜99モル%である
ということを意味する。すなわち、この部分ケン
化酢酸ビニル重合体は、いいかえれば、ビニルア
ルコール含量が70〜99モル%のビニルアルコール
重合体と同義である。従つてこのケン化度値を与
えるように、酢酸ビニル重合体を構成すべき酢酸
ビニルと共重合可能なモノマー量も制限すべきで
ある。また、上記ケン化度の限定と同様な理由に
より酢酸ビニル重合体の重合度は300〜3000の範
囲のものが好ましく用いられる。 本発明で用いられるスチリルピリジニウム基ま
たまスチリルキノリニウム基付加重合体は、上記
のような酢酸ビニル重合体ケン化物に適当な方法
によつて、好ましくはそこに含まれるアルコール
性水酸基を利用してアセタール化によりスチリル
ピリジニウム基またはスチリルキノリニウム基を
付加させることによつて、得られるものである。
この好ましい方法によつて得られるスチリルピリ
ジニウムないしキノリニウム基は、下式で示され
るものが代表的である。 〔式中、mは0または1、nは1〜6の整数を示
す。Aは
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an aqueous emulsion type or water dispersion type photosensitive resin composition having excellent suitability for producing printing plates (particularly screen printing plates). Various photosensitive resin compositions are used as printing plate materials, photoresists in photoetching, or vehicles for paints and printing inks.
In particular, in addition to basic requirements such as high sensitivity and high resolution, photosensitive resin compositions used as printing plate materials have
Printing durability that can withstand stress such as friction or compression when oil-based or water-based ink is applied, adhesion to the substrate,
Storage stability is also required. Photosensitive resin compositions used for such purposes are broadly classified into solvent-developable, alkaline water-developable, and water-developable types. Most of them are homogeneous photosensitive compositions, and some of them are of water-developable type and some use aqueous emulsion. For example, there are photosensitive resin compositions that use a dichromate or diazo resin as a photocrosslinking agent in an aqueous emulsion of a polymer such as partially saponified polyvinyl acetate, and these are widely used especially for screen printing plates. . However, such conventional aqueous emulsion type photosensitive resin compositions also have problems. In other words, (a) the solvent resistance of the base polymer itself constituting the aqueous emulsion is not sufficient, and (b) partial saponification in the photosensitive resin composition in order to avoid deterioration of the solvent resistance of the photosensitive resin composition. (c) Water resistance decreases as the amount of polyvinyl acetate increases.
Due to the use of a relatively large amount of surfactant as an emulsifier in polymer emulsion, it has been recognized that a cured film with excellent water resistance and solvent resistance, and hence printing durability, cannot be obtained. It will be done. On the other hand, a polymer in which a styrylpyridinium group is introduced into a partially saponified vinyl acetate polymer chain is known as a water-soluble, highly sensitive photosensitive polymer that itself has photo-crosslinking properties (JP-A-55-23163, JP-A-55-23163;
62905), and an aqueous emulsion type photosensitive resin composition in which this photocrosslinkable polymer is added to a polymer emulsion of polyvinyl acetate instead of a photocrosslinking agent such as dichromate or diazo resin is also known. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 1983-62446). This type of composition has excellent properties in terms of sensitivity and storage stability, but according to the research of the present inventors, in connection with the use of an emulsion polymer as the main base polymer, the following Some problems were found, such as: In other words, when a cured product obtained using polyvinyl acetate emulsion, which is the most typical polymer emulsion, is used as a printing plate, the plate may be exposed to organic solvents in the ink, resulting in oil resistance. Furthermore, water resistance is also insufficient, as erosion of the plate is promoted when water is mixed in the organic solvent. On the other hand, emulsions such as acrylic ester resin emulsion, ethylene-acrylic ester resin emulsion, SBR latex, silicone resin emulsion, vinyl chloride resin emulsion, vinylidene chloride resin emulsion,
In the process of mixing with an aqueous solution of a saponified vinyl acetate polymer to which a styrylpyridinium group or a styrylpyridinium group has been added, problems such as thickening, gelation, dispersion of the emulsion, and generation of coarse particles tend to occur. Furthermore, since a relatively large amount of surfactant is used when using any emulsion, the solvent resistance and water resistance of the obtained cured product are
This is also an obstacle. SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, the present invention is a water dispersion type or aqueous emulsion type.
It is possible to provide a cured product with good solvent resistance, water resistance, and abrasion resistance, as well as dispersion stability and
The object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition with good sensitivity and resolution. In other words, the photosensitive resin composition according to the present invention is
It is characterized in that it consists of an aqueous dispersion containing the following essential components (1) to (4). (1) Water-soluble saponified vinyl acetate polymer with added styrylpyridinium or styrylquinolinium groups, (2) Water-dispersible polymer, (3) Photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group, and (4) a photopolymerization initiator (if component (1) is a water-soluble saponified product of vinyl acetate polymer with added styrylpyridinium groups, component (2) is an ionomer resin alone) (No) Effects According to the present invention, a water-dispersible polymer and a photopolymerizable unsaturated compound are dispersed in an aqueous solution of a styrylpyridinium group- or styrylquinolinium-added polymer that itself has highly sensitive photocrosslinkability. As a result, a stable aqueous emulsion or water-dispersed photosensitive resin composition can be obtained using little or a relatively small amount of surfactant. Moreover, by photo-curing this composition, as a result of the combination of the three components mentioned above, it has excellent water resistance and solvent resistance, as well as excellent film properties, making it extremely suitable for printing plate materials such as screen printing plates. You can get things. The reason why the composition of the present invention has excellent properties that meet the above objectives is not necessarily clear, but it is thought to be a sum of the following factors. That is, a vinyl acetate polymer to which a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group has been added (hereinafter often referred to as a "water-soluble photodimerizable polymer" for convenience) is emulsified with a photopolymerizable compound such as a vinyl monomer. Therefore, if this water-soluble photodimerizable polymer is used as a matrix and emulsifier to emulsify a photopolymerizable compound containing a photoinitiator, a safe aqueous emulsion can be obtained. Even if the photopolymerization initiator and photopolymerizable compound are sparingly soluble or insoluble in water, the emulsifying power of the water-soluble photodimerizable polymer provides a water-developable photosensitive material. On the other hand, a water-dispersible polymer itself has water-dispersibility. Therefore, by mixing the above components, a stable composition of the present invention can be obtained without using large amounts of surfactants. However,
The composition of the present invention exhibits high sensitivity and high resolution due to the presence of the water-soluble photodimerizable polymer, and it also has excellent film properties such as water resistance and solvent resistance of the water-dispersible polymer, resulting in good curing. Contributes to the formation of things. In addition, the photopolymerizable compound causes graft copolymerization using residual acetyl groups and the like in the water-soluble photodimerizable polymer upon curing. In this way, the cured product of the composition of the present invention has both good water resistance and solvent resistance, and also has good film properties. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Photosensitive Resin Composition The photosensitive resin composition according to the present invention contains the four essential components as described above. The details are as follows. In the following description, "%" and "part" representing composition are based on weight unless otherwise specified. Photosensitive saponified vinyl acetate polymer (component (1)) The continuous phase of the aqueous emulsion type or water dispersion type photosensitive resin composition of the present invention is component 1, that is,
It consists of an aqueous solution of a saponified vinyl acetate polymer (ie, a water-soluble photodimerizable polymer) to which a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group has been added. This polymer can generally be obtained by saponifying a vinyl acetate polymer and adding styrylpyridinium or quinolinium groups, preferably in this order. The polymer chains which contain styrylpyridinium or quinolinium groups or into which these groups are to be introduced in the preferred order mentioned above consist of saponified vinyl acetate polymers. Here, "vinyl acetate polymer" means:
Refers to both homopolymers and copolymers of vinyl acetate, specifically polyvinyl acetate, copolymers of vinyl acetate and monomers copolymerizable with vinyl acetate, and formal saponified polyvinyl acetate. lower (C 1 - C 4 ) acetals such as oxidation or butyralization, and acetals formed by p-benzaldehyde sulfonate, β-butyraldehyde sulfonate, o-benzaldehyde sulfonate, 2,4-benzaldehyde sulfonate, etc. It contains chemical substances. When the vinyl acetate polymer is a copolymer, monomers copolymerizable with vinyl acetate include, for example, ethylene, acrylates (methyl acrylate, methyl methacrylate, etc.), acrylamides (acrylamide, methacrylamide, N-
methylol acrylamide, N,N-dimethylacrylamide, etc.), unsaturated carboxylic acids or their salts (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, or salts thereof), cationic monomers (dimethylaminoethyl methacrylate, vinylimidazole, vinylpyridine, vinyl succinimide, etc.), and the like. The degree of saponification of the saponified vinyl acetate polymer into which styrylpyridinium or quinolinium groups are to be introduced is set to 70% in order to obtain a composition that is water-developable and gives a cured product with excellent solvent resistance and water resistance after photocuring. It is preferably in the range of ~99 mol%. Here, "partially saponified vinyl acetate polymer with saponification degree of 70 to 99 mol%" means that when the raw vinyl acetate polymer is a homopolymer of vinyl acetate, the content of the vinyl alcohol moiety is 70 to 99 mol%. It means 99 mol%. In other words, this partially saponified vinyl acetate polymer is synonymous with a vinyl alcohol polymer having a vinyl alcohol content of 70 to 99 mol%. Therefore, the amount of monomers copolymerizable with vinyl acetate that constitutes the vinyl acetate polymer should also be limited so as to provide this saponification degree value. Further, for the same reason as the above-mentioned limitation on the degree of saponification, a vinyl acetate polymer having a degree of polymerization in the range of 300 to 3000 is preferably used. The styryl pyridinium group or styryl quinolinium group addition polymer used in the present invention is prepared by applying an appropriate method to the above-mentioned saponified vinyl acetate polymer, preferably utilizing the alcoholic hydroxyl groups contained therein. It is obtained by adding a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group by acetalization.
The styrylpyridinium or quinolinium group obtained by this preferred method is typically represented by the following formula. [In the formula, m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 6. A is

【式】または[expression] or

【式】を示す。たゞし、R1は、水素原 子、アルキル基またはアラルキル基を示す(これ
らはヒドロキシル基、カルバモイル基、エーテル
結合または不飽和結合を含んでもよい)。R2は、
水素原子または低級アルキル基を示す。X-はハ
ロゲンイオン、りん酸イオン、p−トルエンスル
ホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イ
オン、またはこれら陰イオンの混合物を示す〕。 この成分(1)は光エネルギーによつてスチリル基
で二量化すると考えられるところ、スチリルピリ
ジニウムまたはキノリニウム基の導入率は、酢酸
ビニルケン化物単位あたり0.3〜20モル%の割合
が好ましく、特に0.5〜10モル%の割合が好まし
い。導入率が0.3モル%未満では所望の光架橋性
を有する水溶性光重合性ポリマーが得られず、一
方20モル%を超えて導入すると生成物の水溶性が
著しく低下する。このようなスチリルピリジニウ
ムまたはキノリニウム基を付加したポリマーの製
造法は、特開昭55−23163号、特開昭55−62905
号、特開昭55−62405号、特開昭58−49365号各公
報等に記載されている。本発明のエマルジヨン組
成物における連続相は、上記したような水溶性光
二量化性ポリマー(このポリマーそのものは、上
記アセタール化後の反応液を大量のアセトン、ア
ルコール等の貧溶媒に投入することにより単離さ
れる)の水溶液からなるが、上記アセタール化反
応の収率は約80%程度と高いのでその反応液を適
当に濃度調整してそのまま用いることもできる。
また、イオン交換樹脂により、解媒として使用し
た酸を除いて用いることもできる。 成分1の重合体は、複数種を併用してもよい。 水分散性重合体(成分(2)) 本発明組成物の成分(2)は、本組成物分散液で分
散相を形成すると解される水分散性重合体であ
る。ここで「水分散性重合体」とは、基材重合体
に親水性基が結合していて、その基によつて乳化
剤を使用しなくても(あるいは疎水性重合体の乳
化に比べれば少量の乳化剤の使用によつて)水性
エマルジヨンを形成しうる重合体を意味する。親
水性基は基材重合体の重合体鎖内に存在しても、
重合体鎖から垂下していてもよい。親水性基は、
カチオン性、アニオン性、ノニオン性またはこれ
らの組合せ、のいずれであつてもよく、具体的に
は第四アンモニウム基、カルボキシレート基、ホ
スホニウム基、スルホニウム基、スルホナート
基、ホスホナート基、ポリエチレンオキシド基、
その他がある。これらのうちで好ましいのはアニ
オン性の基であり、特にカルボキシレート基およ
びスルホナート基が適当である。 このような水分散性重合体の一具体例として
は、基材重合体がポリウレタン樹脂であるもの、
特にその水性分散液がある。ポリウレタン樹脂の
水性分散液の製造方法はすでに多くのものが開示
されていて、たとえば、ポリウレタンを乳化剤の
存在下に高剪断力下により水中に分散させる方法
(米国特許第3294724号明細書)で得られる水性分
散液があるが、分散状態が不十分だつたりこれに
よりできたフイルムが水に対する抵抗力が弱いと
いう欠点を有している。これらの欠点は、高分子
量のポリウレタン樹脂に少量の親水性基が結合し
た水分散性高分子量ポリウレタン樹脂により改善
される。水分散性高分子量ポリウレタン樹脂を水
に分散させたものは半永久的に安定であり、それ
により形成されたフイルムは高い弾性、高引張強
度および加水分解に対する高抵抗性を示す。本発
明では、分散相を形成する水分散性の重合体の一
つとして、乳化剤を用いず、高分子量ポリウレタ
ン樹脂に結合した親水性基により、水分散性の与
えられたものが使用できる。これらのポリウレタ
ン分散液の製造方法としては、特公昭43−9076
号、特公昭44−27904号、特公昭45−26312号、特
開昭50−2794号、特公昭40−27349号各公報に記
載されたものがあり、またポリエチレンオキシド
エーテルを有するポリウレタン分散体を開示する
ものとして西独公開特許2141805号、同2141807号
公報が、また主鎖中にアミノ基を有していて水に
分散可能なポリウレタンを開示するものとしてJ.
Appl.Polym.Sci.,,2451(1965)などが知られ
ている。類似するもので本発明に利用できるもの
として、ポリウレタン分散液をビニルポリマーで
変成したもの(特開昭50−3159号公報)、ポリウ
レタンアミドの水性の乳化剤の存在しない分散体
(特開昭50−13495号公報)などがある。 本発明の分散液で分散相を形成すると解される
水分散性重合体の他の一具体例として、ポリエス
テル樹脂の分散液がある。たとえば、米国特許第
4052368号、同3779993号、同3639352号および同
3853820号などにあるスルホン化ポリエステルな
どである。 水分散性重合体のさらに他の一具体例は、アイ
オノマー樹脂である。アイオノマー樹脂は、一般
に、α−オレフインとα,β−不飽和カルボン酸
との共重合体を金属イオン、特にNa+、K+また
はZ++、でイオン架橋させたものであつて、製造
方法は特公昭39−6810号、特公昭42−125768号、
特開昭49−31556号、特開昭49−121891号各公報
により知られている。 本発明の組成物を得るには、水分散性重合体は
予め水性分散液として調製しくおくことが好まし
い。分散液中の水分散性重合体(ポリウレタン、
ポリエステル、アイオノマー等)の粒径は、0.01
〜5μ、の範囲が好ましい。 本発明においては、上記した水分散性重合体1
部に対して、水溶性光二量化性ポリマーを0.2〜
10部の割合で使用することが好ましい。0.2部未
満では水溶性光二量化性ポリマーが保護コロイド
として働かないので、均一分散性および水現像性
が劣る。また、10部を超えて使用すると水分散性
重合体の添加の効果が不充分となる。 成分2の重合体も複数種を併用することができ
る。本発明では、成分(1)がスチリルピリジニウム
基を付加した酢酸ビニル重合体の水溶性ケン化物
である場合には、成分(2)としてアイオノマー樹脂
を単用することはない。 光重合性不飽和化合物(成分(3)) 成分3は、光重合性不飽和化合物である。 スチリルピリジニウム基またはスチリルキノリ
ニウム基付加ポリマー水溶液に乳化分散させるベ
き光重合性不飽和化合物としては、アクリロイル
基、メタクリロイル基、アリル基、ビニルエーテ
ル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等
の光活性基を1個以上もつもので水に不溶性ある
いは難溶性のものが好ましく用いられる。特に、
光活性基を2個以上もつものは、耐溶剤性の良い
硬化物を与えるので好ましい。光重合性不飽和化
合物には、通常、ビニルモノマーと称される光重
合性化合物に加えて、重合度が10000以下である
ような光重合性のプレポリマーないしはオリゴマ
ーも含まれる。 このような光重合性不飽和化合物の例として
は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ジブロムネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、2,8−ジプロム
プロピル(メタ)アクリレート、トリアリルイソ
シアヌレート、メトキシエチルビニルエーテル、
第三ブチルビニルエーテル、ラウリル(メタ)ア
クリレート、メトキシエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレー
ト、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル
(メタ)アクリレート、ヘキシルジグリコール
(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジ〜ヘキサエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテル(メタ)アクリレー
ト、2−エチル−ヘキシルグリシジルエーテル
(メタ)アクリレート、フエニルグリシジルエー
テル(メタ)アクリレート、2−メチルオクチル
グリシジルエーテル(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパンポリグリシジルエーテルポリ
(メタ)アクリレート、テレフタル酸ジグリシジ
ルエーテル(メタ)アクリレート、トリレンジイ
ソシアネートと2ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレートとの反応生成物、フエニルイソシアヌ
レートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートとの反応生成物等、あるいはマレイン酸グリ
コールエステル等のエチレン性不飽和基を持つ分
子量が10000以下の不飽和ポリエステル、が挙げ
られる。上記において「(メタ)アクリレート」
は、アクリレートおよびメタクリレートのいずれ
をも意味するものである。 これら光重合性不飽和化合物は、単独でまたは
2種以上併用して、水分散性重合体1部に対して
0.1〜15部の範囲で使用することが好ましい。水
分散性重合体は、複数種のものを併用したとき
は、その全体の固型分を1部とする。光重合性不
飽和化合物の量が0.1部末満では、耐水性が充分
でなく、また15部を超えて使用すると、組成物を
塗布乾燥した皮膜に不飽和化合物の分離析出が生
ずるおそれがある。 光重合開始剤(成分(4)) 本発明の感光性組成物は、上記各成分に加え
て、光重合開始剤(成分(4))を含む。 光重合開始剤としては、上記したような光重合
性不飽和化合物の光重合のために使用するものは
ほとんど使用できる。たとえばベンゾインアルキ
ルエーテル、ミヒラーズケトン、ジターシヤリー
ブチルパーオキサイド、トリブロムアセトフエノ
ン、あるいはターシヤリーブチルアントラキノン
等のアントラキノン誘導体、クロロチオキサント
ン等のチオキサントン誘導体など光照射下にラジ
カルを発生し易い物質が用いられる。これら光重
合開始剤は、光重合性不飽和化合物1部に対して
0.001〜0.15部の範囲で使用(単用または併用)
することが好ましい。 任意成分 本発明の感光性樹脂組成物は、基本的には、上
記成分からなるが、この種の感光性組成物に通常
含まれる添加剤を任意に添加することができる。 このような任意添加剤としては、たとえば、水
分散性重合体1部に対して0.005部以下の乳化安
定剤、光重合性不飽和化合物の溶解補助としての
その1部に対して0.3部以下の有機溶剤、さらに
は熱重合禁止剤、染料、顔料等の着色剤、消泡
剤、可塑剤等が挙げられる。 組成物の調製 上記各成分から本発明の組成物を得るには、通
常、次のような方法がとられる。すなわち、水溶
性光二重化性重合体(成分(1))を所定量の水に溶
解して水溶液とする(前述したようにアセタール
化反応液をそのまま用いてもよい)。別途、水分
散性重合体(成分(2))の水性分散液を用意する。
更に光重合開始剤(成分(4))を、光活性不飽和化
合物(成分(3))あるいはこれと必要に応じて用い
る少量の有機溶剤(特に水溶性のもの)との混合
液に溶解し、更に熱重合禁止剤等の成分を添加し
て得た溶液を用意し、これを上記の水溶性光二量
化性ポリマー水溶液および水分散性重合体の水性
分散液とともに、ニーダー、スクリユー式撹拌機
等で撹拌して乳化させ、更に必要に応じて着色
剤、消泡剤等の任意成分を添加して撹拌、混合す
る。最後に、必要に応じて少量の水に溶解した追
加の光架橋剤を添加して混合する。 安定なエマルジヨンないし水分散液が得られる
限り、本発明組成物中の水の量は臨界的でない
が、水分散性高分子、水溶性光二量化性ポリマー
および光重合性不飽和化合物の合計量1部に対し
て0.25〜19部程度が適当である。 組成物の利用 上記のようにして得られた本発明の感光剤樹脂
組成物は、用途に応じて、アルミニウム等の金属
板、スクリーンメツシユ、紙、木材、合成樹脂
板、半導体基板、その他任意の基材上に、たとえ
ば1〜300μmの乾燥厚さとなるように塗布し、乾
燥して使用される。この感光材料には、紫外線等
からなる活性光を、たとえば紫外線の場合には波
長300〜400mm範囲の照射エネルギー量が10〜
5000mJ/cm2となるように像様照射して照射部を
硬化させた後、非照射部を噴霧水等により除去す
れば、レリーフ画像あるいは画像膜が形成され、
各印刷版、レジスト膜等として利用される。 本発明の感光性樹脂組成物の一つの好ましい利
用態様は、スクリーン版用感光材料としての使用
である。この場合、ポリエステル、ナイロン、ポ
リエチレン等の合成樹脂またはこれら樹脂へのニ
ツケル等の金属蒸着加工物あるいはステンレス等
からなるスクリーンメツシユ上に、本発明の組成
物の塗布および乾燥を繰り返して、厚さ40〜
400μmのスクリーン版を得ればよい。 スクリーン版を得るに際して、本発明の組成物
をポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル
等の剥離性フイルム上に塗布し、乾燥して15〜
100μの塗膜を得ておいて、この塗膜を水あるい
は同様に本発明の感光性樹脂組成物を塗布してお
いたスクリーンメツシユに転写する方法も可能で
ある。この方法は、いわゆる直間法と呼ばれる方
法で、同様の感光剤を繰り返してスクリーンメツ
シユ上に塗布する方法に比べて作業的にも簡単
で、しかも印刷特性の優れた版を製造することが
できる。本発明の感光組成物は、乾燥状態におい
ても保存安定性が良いので、このような直間法に
よる利用に極めて優れた適性を有している。 上述したように本発明によれば、それ自体で高
感度の光架橋性を有する水溶性光二量化性重合体
の水溶液中に、水分散性重合体および光重合性不
飽和化合物を分散させることにより、界面活性剤
を殆んど使用しないか使用するとしても比較的少
い量で安定なエマルジヨンないし水分散型の感光
性樹脂組成物が得られる。しかも、この組成物の
光硬化により、上記三成分の組合せの結果として
耐水性および耐溶剤性が優れ、しかも皮膜特性も
優れ、したがつてスクリーン印刷版をはじめとす
る印刷版材として極めて適した硬化物が得られ
る。 実施例 実施例 1〜6 使用成分 スチリルピリジニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として、クラレ(株)製PVA(商品
名「KL−506」、重合度600、ケン化度76モル%)
にアセタール化反応によりN−メチル−γ−(p
−ホルミルスチリル)ピリジニウム、p−トルエ
ンスルホン酸塩を1.3モル%を付加したポリマー
の15%水溶液(以下「A−1液」とする)をつく
る。 光重合系成分として、ベンジルメチルケタール
(「Irgacure651」チバガイギー社製)3重量部お
よびp−メトキシフエノール(熱重合禁止剤)
0.01重量部をテトラメチロールメタントリアクリ
レート30重量部(新中村化学工業(株)製光重合性不
飽和化合物「A−TMM−3」)、アクリレートオ
リゴマー(東亜合成(株)製「M−8060」15重量部、
ポリエステル系アクリレート(2,2−ビス(4
−アクリロキシジエトキシフエニル)プロパン)
(新中村化学工業(株)製光重合性不飽和化合物「A
−BPE−4」)5重量部を混合した液(以下「B
−1液」とする)を調液する。 水分散性重合体としては、市販されている「デ
スモコールKA−8100」、「デスモコールKA−
8066」(住友バイエルウレタン(株)製ポリウレタン
エマルジヨン)、「ハイドランHW−100」、「ハイ
ドランHW−140」、「ハイドランHW−111」(大
日本インキ化学工業(株)製ポリウレタンエマルジヨ
ン)、「フアインテツクスES−675」(大日本イン
キ化学工業(株)製ポリエステルエマルジヨン)を使
用し、表1に示した重量比で混合する。 実験方法 実施例1の組成比で混合すると粘度の高い懸濁
液となる。粘度が2500〜5000cps/20℃になるよ
うにメチルセロソルブあるいはメタノールを加え
て粘度調整をする。テトロン300メツシユ網を用
いてこの感光液を過し、アルミニウム枠にテト
ロン300メツシユ網を固定した上にステンレス鋼
製バケツトを用いて感光液を塗布し、乾燥させ
る。これをくりかえして、厚さ15μの感光膜を形
成した。この感光膜にポジフイルムを密着し、
4KW超高圧水銀灯から1mの距離で2分間露光し
た。水に2分間浸潰し、更に水でスプレー現像す
ることにより、約100μの解像度のスクリーン版
を得た。同様の実験を実施例2〜6の組成で行な
つて、同じく100μ解像のスクリーンを得た。 比較例 スチリルピリジニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として日本合成(株)製PVA(「GH
−17」、重合度1700、ケン化度88モル%)にアセ
タール化反応によりN−メチル−γ−(p−ホル
ミルスチリル)ピリジニウムp−トルエンスルホ
ン酸塩を1.0モル%付加したポリマーの12%水溶
液260重合部をつくり、これに、酢酸ビニル重合
体エマルジヨン62.4重量部加えよく混合して、感
光液を調合する。アルミニウム枠に固定したテト
ロン網300メツシユのスクリーン上にこの感光液
を実施例1〜6と同様に塗布して、厚さ15μの感
光膜を形成した。これにポジフイルムをあて3分
間露光し、水により現像した。約150μの解像の
スクリーン版を得た。 実施例1〜6の版および比較例の版をアセトン
を用いてウエスにて拭いたところ、実施例1〜6
のものは感光膜がベタベタしてきたり、画像がこ
われることがなかつたのに、比較例のものはベタ
ベタしてきて網点がとんだりしてきた。
[Formula] is shown. However, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group (which may contain a hydroxyl group, a carbamoyl group, an ether bond or an unsaturated bond). R2 is
Indicates a hydrogen atom or a lower alkyl group. X - represents a halogen ion, a phosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, a methylsulfate ion, an ethylsulfate ion, or a mixture of these anions]. This component (1) is thought to dimerize with styryl groups by light energy, and the introduction rate of styrylpyridinium or quinolinium groups is preferably 0.3 to 20 mol%, particularly 0.5 to 10% by mole per saponified vinyl acetate unit. The ratio in mol% is preferred. If the introduction rate is less than 0.3 mol %, a water-soluble photopolymerizable polymer having the desired photocrosslinkability cannot be obtained, while if it is introduced in excess of 20 mol %, the water solubility of the product will decrease significantly. Methods for producing such polymers with added styrylpyridinium or quinolinium groups are disclosed in JP-A-55-23163 and JP-A-55-62905.
No., JP-A-55-62405, and JP-A-58-49365. The continuous phase in the emulsion composition of the present invention is a water-soluble photodimerizable polymer as described above (this polymer itself can be prepared by adding the reaction solution after acetalization to a large amount of a poor solvent such as acetone or alcohol). The yield of the acetalization reaction is as high as about 80%, so the reaction solution can be used as it is after adjusting the concentration appropriately.
In addition, an ion exchange resin can be used without the acid used as a desolator. The polymer of component 1 may be used in combination. Water-dispersible polymer (component (2)) Component (2) of the composition of the present invention is a water-dispersible polymer that is understood to form a dispersed phase in the dispersion of the composition. Here, the term "water-dispersible polymer" means that a hydrophilic group is bonded to the base polymer, and that group allows it to be used without the use of an emulsifier (or in a small amount compared to the emulsification of hydrophobic polymers). means a polymer capable of forming an aqueous emulsion (by the use of an emulsifier). Even if the hydrophilic group is present in the polymer chain of the base polymer,
It may also be pendant from the polymer chain. The hydrophilic group is
It may be cationic, anionic, nonionic, or a combination thereof, and specifically includes quaternary ammonium groups, carboxylate groups, phosphonium groups, sulfonium groups, sulfonate groups, phosphonate groups, polyethylene oxide groups,
There are others. Preferred among these are anionic groups, particularly carboxylate groups and sulfonate groups. Specific examples of such water-dispersible polymers include those in which the base polymer is a polyurethane resin;
In particular, there are aqueous dispersions thereof. Many methods for producing aqueous dispersions of polyurethane resins have already been disclosed, such as a method in which polyurethane is dispersed in water under high shear in the presence of an emulsifier (U.S. Pat. No. 3,294,724). There are aqueous dispersions available, but they have the drawbacks that the dispersion state is insufficient and the resulting films have weak resistance to water. These drawbacks can be improved by water-dispersible high molecular weight polyurethane resins in which a small amount of hydrophilic groups are bonded to high molecular weight polyurethane resins. Dispersions of water-dispersible high molecular weight polyurethane resins in water are semi-permanently stable, and the films formed therefrom exhibit high elasticity, high tensile strength and high resistance to hydrolysis. In the present invention, as one of the water-dispersible polymers forming the dispersed phase, one that is imparted with water-dispersibility by a hydrophilic group bonded to a high molecular weight polyurethane resin can be used without using an emulsifier. The method for manufacturing these polyurethane dispersions is described in Japanese Patent Publication No. 43-9076.
There are those described in Japanese Patent Publication No. 44-27904, Japanese Patent Publication No. 45-26312, Japanese Patent Publication No. 50-2794, and Japanese Patent Publication No. 40-27349. West German Publication Nos. 2141805 and 2141807 disclose polyurethanes that have amino groups in their main chains and are dispersible in water.
Appl. Polym. Sci., 9 , 2451 (1965), etc. are known. Similar products that can be used in the present invention include a polyurethane dispersion modified with a vinyl polymer (JP-A-50-3159) and an aqueous emulsifier-free dispersion of polyurethane amide (JP-A-50-3159). Publication No. 13495). Another specific example of a water-dispersible polymer that is understood to form the dispersed phase in the dispersion of the present invention is a dispersion of polyester resin. For example, U.S. Pat.
No. 4052368, No. 3779993, No. 3639352 and No.
These include sulfonated polyesters such as those listed in No. 3853820. Yet another specific example of a water-dispersible polymer is an ionomer resin. Ionomer resins are generally copolymers of α-olefins and α,β-unsaturated carboxylic acids that are ionically crosslinked with metal ions, particularly Na + , K + or Z ++ , and are produced by is Special Publication No. 39-6810, Special Publication No. 125768-1977,
This method is known from Japanese Patent Application Laid-open No. 49-31556 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-121891. In order to obtain the composition of the present invention, it is preferable to prepare the water-dispersible polymer in advance as an aqueous dispersion. Water-dispersible polymers (polyurethane,
Polyester, ionomer, etc.) particle size is 0.01
A range of ~5μ is preferred. In the present invention, the above water-dispersible polymer 1
water-soluble photodimerizable polymer per part of
Preferably it is used in a proportion of 10 parts. If the amount is less than 0.2 part, the water-soluble photodimerizable polymer will not function as a protective colloid, resulting in poor uniform dispersibility and water developability. Furthermore, if the amount exceeds 10 parts, the effect of adding the water-dispersible polymer will be insufficient. Multiple types of the polymers of component 2 can also be used in combination. In the present invention, when component (1) is a water-soluble saponified product of vinyl acetate polymer to which a styrylpyridinium group has been added, an ionomer resin is not used alone as component (2). Photopolymerizable unsaturated compound (component (3)) Component 3 is a photopolymerizable unsaturated compound. The photopolymerizable unsaturated compound to be emulsified and dispersed in the aqueous solution of the styrylpyridinium- or styrylquinolinium-added polymer includes photoactive groups such as acryloyl group, methacryloyl group, allyl group, vinyl ether group, acrylamide group, and methacrylamide group. Those having one or more of the following and are insoluble or poorly soluble in water are preferably used. especially,
Those having two or more photoactive groups are preferred because they provide cured products with good solvent resistance. The photopolymerizable unsaturated compound includes photopolymerizable prepolymers or oligomers having a degree of polymerization of 10,000 or less, in addition to photopolymerizable compounds usually called vinyl monomers. Examples of such photopolymerizable unsaturated compounds include pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate.
Acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, dibromneopentyl glycol di(meth)acrylate, 2,8-dipromopropyl(meth)acrylate, triallyl isocyanurate, methoxyethyl vinyl ether,
Tertiary butyl vinyl ether, lauryl (meth)acrylate, methoxyethylene glycol (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)
Acrylate, isodecyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, hexyldiglycol (meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, di~hexaethylene glycol di(meth)acrylate, ethylene glycol diacrylate Glycidyl ether (meth)acrylate, 2-ethyl-hexyl glycidyl ether (meth)acrylate, phenyl glycidyl ether (meth)acrylate, 2-methyloctylglycidyl ether (meth)acrylate, trimethylolpropane polyglycidyl ether poly(meth)acrylate , terephthalic acid diglycidyl ether (meth)acrylate, reaction product of tolylene diisocyanate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, reaction product of phenyl isocyanurate and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, etc., or maleic acid. Examples include unsaturated polyesters having an ethylenically unsaturated group and a molecular weight of 10,000 or less, such as acid glycol esters. In the above, "(meth)acrylate"
means both acrylate and methacrylate. These photopolymerizable unsaturated compounds may be used alone or in combination of two or more to form a compound with respect to 1 part of the water-dispersible polymer.
It is preferable to use it in a range of 0.1 to 15 parts. When a plurality of water-dispersible polymers are used together, the total solid content is 1 part. If the amount of the photopolymerizable unsaturated compound is less than 0.1 part, the water resistance will not be sufficient, and if it is used in excess of 15 parts, there is a risk that the unsaturated compound will separate and precipitate on the coated and dried film. . Photopolymerization initiator (component (4)) The photosensitive composition of the present invention contains a photopolymerization initiator (component (4)) in addition to the above-mentioned components. As the photopolymerization initiator, almost all those used for photopolymerization of photopolymerizable unsaturated compounds as described above can be used. For example, substances that easily generate radicals under light irradiation are used, such as benzoin alkyl ether, Michler's ketone, di-tertiary butyl peroxide, tribromoacetophenone, or anthraquinone derivatives such as tertiary-butylanthraquinone, and thioxanthone derivatives such as chlorothioxanthone. . These photopolymerization initiators are
Use in the range of 0.001 to 0.15 parts (single use or combined use)
It is preferable to do so. Optional Components The photosensitive resin composition of the present invention basically consists of the above-mentioned components, but additives that are normally included in this type of photosensitive composition can be optionally added. Examples of such optional additives include, for example, emulsion stabilizers of 0.005 parts or less per 1 part of the water-dispersible polymer, and 0.3 parts or less of emulsion stabilizers per 1 part of photopolymerizable unsaturated compounds as solubilizers. Examples include organic solvents, thermal polymerization inhibitors, colorants such as dyes and pigments, antifoaming agents, and plasticizers. Preparation of Composition The following method is usually used to obtain the composition of the present invention from the above-mentioned components. That is, the water-soluble photoduplexable polymer (component (1)) is dissolved in a predetermined amount of water to form an aqueous solution (as described above, the acetalization reaction solution may be used as it is). Separately, prepare an aqueous dispersion of a water-dispersible polymer (component (2)).
Furthermore, a photopolymerization initiator (component (4)) is dissolved in a photoactive unsaturated compound (component (3)) or a mixture of this and a small amount of an organic solvent (especially a water-soluble one) used as necessary. Further, a solution obtained by adding components such as a thermal polymerization inhibitor is prepared, and this is mixed with the above-mentioned aqueous solution of the water-soluble photodimerizable polymer and aqueous dispersion of the water-dispersible polymer in a kneader, screw type stirrer, etc. The mixture is stirred to emulsify the mixture, and optional components such as a coloring agent and an antifoaming agent are added as necessary, and the mixture is stirred and mixed. Finally, optionally add additional photocrosslinker dissolved in a small amount of water and mix. The amount of water in the composition of the invention is not critical as long as a stable emulsion or aqueous dispersion is obtained, but the total amount of water-dispersible polymer, water-soluble photodimerizable polymer and photopolymerizable unsaturated compound is 1 Approximately 0.25 to 19 parts per part is appropriate. Use of the composition The photosensitive resin composition of the present invention obtained as described above can be applied to metal plates such as aluminum, screen meshes, paper, wood, synthetic resin plates, semiconductor substrates, and other arbitrary materials depending on the purpose. It is applied onto a substrate to a dry thickness of, for example, 1 to 300 μm, dried, and used. This photosensitive material is irradiated with active light such as ultraviolet rays, for example, in the case of ultraviolet rays, the amount of irradiation energy in the wavelength range of 300 to 400 mm is 10 to 400 mm.
After curing the irradiated area by imagewise irradiation at 5000 mJ/cm 2 , a relief image or image film is formed by removing the non-irradiated area with spray water, etc.
Used as various printing plates, resist films, etc. One preferred embodiment of the use of the photosensitive resin composition of the present invention is use as a photosensitive material for screen plates. In this case, the composition of the present invention is repeatedly applied and dried on a screen mesh made of synthetic resin such as polyester, nylon, or polyethylene, or a metal vapor-deposited product such as nickel on these resins, or stainless steel. 40~
All you need to do is get a 400μm screen version. To obtain a screen plate, the composition of the present invention is coated on a removable film such as polyethylene, polyvinyl chloride, polyester, etc., and dried for 15 to 15 minutes.
It is also possible to obtain a coating film of 100 μm and transfer this coating film to a screen mesh coated with water or the photosensitive resin composition of the present invention. This method is called the direct method, and it is easier to work with than the method of repeatedly applying the same photosensitive agent onto a screen mesh, and it also allows the production of plates with excellent printing properties. can. Since the photosensitive composition of the present invention has good storage stability even in a dry state, it has excellent suitability for use in such a direct method. As described above, according to the present invention, by dispersing a water-dispersible polymer and a photopolymerizable unsaturated compound in an aqueous solution of a water-soluble photodimerizable polymer that itself has highly sensitive photocrosslinkability, A stable emulsion or water-dispersed photosensitive resin composition can be obtained using little or even a relatively small amount of surfactant. Furthermore, by photo-curing this composition, as a result of the combination of the three components mentioned above, it has excellent water resistance and solvent resistance, as well as excellent film properties, making it extremely suitable as a printing plate material including screen printing plates. A cured product is obtained. Examples Examples 1 to 6 Ingredients used PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. (trade name "KL-506", degree of polymerization 600, degree of saponification 76 mol%) as a saponified product of vinyl acetate polymer to which styrylpyridinium groups have been added.
N-methyl-γ-(p
A 15% aqueous solution (hereinafter referred to as "Liquid A-1") of a polymer to which 1.3 mol % of -formylstyryl) pyridinium and p-toluenesulfonate is added is prepared. As photopolymerization components, 3 parts by weight of benzyl methyl ketal ("Irgacure651" manufactured by Ciba Geigy) and p-methoxyphenol (thermal polymerization inhibitor)
0.01 part by weight was added to 30 parts by weight of tetramethylolmethane triacrylate (photopolymerizable unsaturated compound "A-TMM-3" manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), acrylate oligomer ("M-8060" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 15 parts by weight,
Polyester acrylate (2,2-bis(4
-acryloxydiethoxyphenyl)propane)
(Photopolymerizable unsaturated compound “A” manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
-BPE-4'') mixed with 5 parts by weight (hereinafter referred to as ``BPE-4'').
-1 solution). Examples of water-dispersible polymers include commercially available “Desmocol KA-8100” and “Desmocol KA-8100”.
8066” (polyurethane emulsion manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), “Hydran HW-100”, “Hydran HW-140”, “Hydran HW-111” (polyurethane emulsion manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.), "Finetex ES-675" (polyester emulsion manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.) is used and mixed at the weight ratio shown in Table 1. Experimental method When mixed at the composition ratio of Example 1, a highly viscous suspension is obtained. Add methyl cellosolve or methanol to adjust the viscosity so that the viscosity is 2,500 to 5,000 cps/20°C. The photosensitive solution is passed through a Tetron 300 mesh screen, and the Tetron 300 mesh screen is fixed to an aluminum frame, and then the photosensitive solution is applied using a stainless steel bucket and dried. This process was repeated to form a photoresist film with a thickness of 15 μm. A positive film is attached to this photosensitive film,
Exposure was carried out for 2 minutes at a distance of 1 m from a 4KW ultra-high pressure mercury lamp. A screen plate with a resolution of approximately 100 μm was obtained by immersing it in water for 2 minutes and spray developing it with water. Similar experiments were conducted using the compositions of Examples 2 to 6, and screens with a resolution of 100μ were also obtained. Comparative example PVA (“GH”) manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd. was
12% aqueous solution of a polymer in which 1.0 mol% of N-methyl-γ-(p-formylstyryl)pyridinium p-toluenesulfonate was added by acetalization reaction to ``-17'', polymerization degree 1700, saponification degree 88 mol%) Make 260 polymerization parts, add 62.4 parts by weight of vinyl acetate polymer emulsion to this, mix well, and prepare a photosensitive solution. This photosensitive solution was applied onto a 300 Tetron mesh screen fixed to an aluminum frame in the same manner as in Examples 1 to 6 to form a photosensitive film with a thickness of 15 μm. A positive film was applied to this, exposed for 3 minutes, and developed with water. A screen version with a resolution of about 150μ was obtained. When the plates of Examples 1 to 6 and the plates of Comparative Example were wiped with a rag using acetone, Examples 1 to 6 were
Although the photoresist film did not become sticky or the image was damaged in the case of the comparative example, it became sticky and the halftone dots were broken.

【表】【table】

【表】 * ◎ 優
○ 良
△ 不良
実施例 7〜12 スチリルピリジニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として、前記「A−1液」を使
用し、光重合系成分として前記「B−1液」を使
用し、水分散性重合体を表2に示すように混合使
用した。 実験は実施例1〜6と同じ方法で行う。表2に
組成と評価を示してある。
[Table] * ◎ Excellent ○ Good △ Bad Examples 7 to 12 The above "Liquid A-1" was used as the saponified product of the vinyl acetate polymer to which styrylpyridinium groups were added, and the above "B-1" was used as the photopolymerization system component. 1 liquid" was used, and water-dispersible polymers were mixed and used as shown in Table 2. The experiment is carried out in the same manner as in Examples 1-6. Table 2 shows the composition and evaluation.

【表】 なお、実施例1〜12で調合した感光液は均一に
分散し、一年間保存しても問題ない。 実施例 13〜18 スチリルピリジニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として、日本合成(株)製PVA
(「GL−05」、重合度500、ケン化度88モル%)に
アセタール化反応によりN−メチル−γ−(p−
ホルミルスチリル)ピリジニウムp−トルエンス
ルホン酸塩を1.3モル%、o−ベンズアルデヒド
スルホン酸ナトリウム1モル%を付加したポリマ
ーの15%水溶液(以下「A−2液」とする)をつ
くる。 光重合系成分として「B−1液」を使用し、水
分散性重合体としては、実施例1〜12に使用した
もののほかに、市販されているもので、「コーポ
レンラテツクスL6000」、「同L−4000」、「同L−
6004」(旭ダウ(株)製アイオノマー分散液)、「ケミ
パールS−100」、「同S−120」(三井石油化学(株)
アイオノマー分散液)、「サーリン2」、「同S2」
(デユポン(株)製アイオノマー分散液)を使用し、
表3に示した重量比で混合する。 実験を実施例1〜12と同様の方法で行なつて、
スクリーン版を得る。 結果は、表3に示した通りである。 実施例 19〜22 スチリルピリジニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として、日本合成(株)製PVA
(「GH−17」、重合度1700、ケン化度88モル%)
にアセタール化反応によりN−メチル−γ−(p
−ホルミルスチリル)ピリジニウムp−トルエン
スルホン酸塩を1.3モル%、o−ベンズアルデヒ
ドスルホン酸ナトリウム0.5モル%付加したポリ
マーの12%水溶液(以下「A−3液」とする)を
つくる。 光重合系成分としては、ベンジルジメチルケタ
ール(「Irgacure651」)2重量部、RTX(日本化
薬(株)製チオキサントン系光重合開始剤)1重量
部、DMBI(日本化薬(株)製光重合増感剤)0.5重量
部、p−メトキシフエノール0.01重量部、アクリ
レートオリゴマー(M−8060」)40重量部、ポリ
エステル系アクリレート(A−BPE−4)30重
量部を混合した液(以下「B−2液」とする)を
調液する。水分散性重合体は、表4に示したもの
を使用する。実験を実施例1〜18と同様の方法で
行なつて、スクリーン版を得る。 結果は、表4に示した通りである。
[Table] The photosensitive solutions prepared in Examples 1 to 12 were uniformly dispersed and could be stored for one year without any problem. Examples 13 to 18 PVA manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd. was used as a saponified product of vinyl acetate polymer with added styrylpyridinium groups.
(GL-05, degree of polymerization 500, degree of saponification 88 mol%) was subjected to acetalization reaction to N-methyl-γ-(p-
A 15% aqueous solution (hereinafter referred to as "Liquid A-2") of a polymer to which 1.3 mol % of (formylstyryl) pyridinium p-toluenesulfonate and 1 mol % of sodium o-benzaldehyde sulfonate were added was prepared. "Liquid B-1" was used as a photopolymerization system component, and as water-dispersible polymers, in addition to those used in Examples 1 to 12, commercially available ones were used, such as "Corpolene Latex L6000", “Same L-4000”, “Same L-
6004” (ionomer dispersion manufactured by Asahi Dow Co., Ltd.), “Chemipearl S-100”, “Chemipearl S-120” (Mitsui Petrochemical Co., Ltd.)
ionomer dispersion), “Surlyn 2”, “Surlyn S2”
(Ionomer dispersion manufactured by Dupont Co., Ltd.) was used,
Mix at the weight ratio shown in Table 3. The experiment was conducted in the same manner as in Examples 1 to 12,
Get the screen version. The results are shown in Table 3. Examples 19-22 PVA manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd. was used as a saponified product of vinyl acetate polymer added with styrylpyridinium groups.
("GH-17", degree of polymerization 1700, degree of saponification 88 mol%)
N-methyl-γ-(p
-Formylstyryl) A 12% aqueous solution (hereinafter referred to as "Liquid A-3") of a polymer to which 1.3 mol% of pyridinium p-toluenesulfonate and 0.5 mol% of sodium o-benzaldehyde sulfonate are added is prepared. The photopolymerization system components include 2 parts by weight of benzyl dimethyl ketal (Irgacure651), 1 part by weight of RTX (thioxanthone photoinitiator manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and DMBI (photopolymerization initiator manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). A liquid (hereinafter referred to as "B- 2 liquid). The water-dispersible polymers shown in Table 4 are used. The experiment is carried out in the same manner as in Examples 1 to 18 to obtain screen plates. The results are shown in Table 4.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 実施例 23〜26 スチリルキノリニウム基を付加した酢酸ビニル
重合体のケン化物として、日本合成(株)製PVA
(「GM−11」、重合度1100)アセタール化反応に
よりN−メチル−γ−(p−ホルミルスチリル)
キノリニウムp−トルエンスルホン酸塩を1.0モ
ル%付加したポリマーの12%水溶液(以下「A−
4液」とする)をつくる。光重合系成分としては
「B−2液」を使用し、水分散性重合体は表5に
示したものを使用する。 実験を実施例1〜22と同様の方法で行なつて、
スクリーン版を得る。 結果は、表5に示した通りである。
[Table] Examples 23 to 26 PVA manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd. as a saponified product of vinyl acetate polymer with added styrylquinolinium groups
(“GM-11”, degree of polymerization 1100) N-methyl-γ-(p-formylstyryl) was formed by acetalization reaction.
A 12% aqueous solution of a polymer to which 1.0 mol% of quinolinium p-toluenesulfonate has been added (hereinafter referred to as “A-
Make 4 liquids). "Liquid B-2" is used as a photopolymerization system component, and those shown in Table 5 are used as water-dispersible polymers. The experiment was carried out in the same manner as in Examples 1 to 22,
Get the screen version. The results are shown in Table 5.

【表】 応用例 1 実施例3で調合した感光液をマツト化したポリ
エステルベース(商品名「DIAMAT」、きもと
(株)製)に厚さ15μに塗布して乾燥し、ポジフイル
ムをあてて4KW超高圧水銀灯1mの距離で2分間
露出した。水道水で全面にかるく水をかけ、スプ
レー水で現像した。その後、染色液(ブロモフエ
ノールブルー液または「ドクターマーチン」(商
品名))にて染色すると、ポリエステルフイルム
上にポジフイルムに対してネガの可視画像が形成
された。 まつたく同様の方法で実施例1、2および実施
例4〜26で得た組成物を用いて、ネガの可視画像
を得た。 応用例 2 実施例13の感光液を表面の平滑な厚さ75μのポ
リエステルフイルムに、試験用バーコーターを用
いて塗布し、温風(40℃)乾燥した。 乾燥後の感光膜の厚さは25μであつた。次に、
テトロン300メツシユ網をスクリーン枠に固定し、
スクリーンを洗浄し、上記のフイルムの感光膜面
とぬれたスクリーンとをしずかにはりあわせた。
その後、感光膜とポリエステルフイルムのついた
スクリーン版を平らな台のうえにおき、ゴムロー
ラまたはスキージでスクリーンと感光膜がよく密
着するように、スクリーンの側からおしつけた。
これを温風(40℃)で30分乾燥後、ポリエステル
フイルムをしずかにはがすと、スクリーンに感光
膜が転写され、しかもポリエステルのあつた面は
平滑な膜となつた。この状態で1ケ月暗所にお
き、ポジフイルムをあてて4KW超高圧水銀灯1m
の距離で2分間露光し、水現像し、100μ解像で
エツチのきれいなスクリーン版を得た。 参考例 上記と同様にポリエステルフイルムに感光液を
塗布乾燥したフイルムをつくり、台の上に感光膜
面を上になるようにおき、その上にテトロン270
メツシユ(着色スクリーン)をおき、台の上にか
りどめする。その上に実施例13の感光液を少量の
せバーコータを使つてスクリーンおよび感光膜が
ぬれるようにする。ドライヤを使い乾燥後、かり
どめをとると、スクリーンに感光膜が固定したも
のができる。また、スクリーンに樹脂加工をほど
こし、伸縮性をおさえたものに、感光液をコーテ
イング乾燥することによりスクリーンと感光膜が
一体となつたスクリーン版がつくれる。 応用例 3 テトロン130メツシユ網に樹脂加工を施してス
クリーンの伸縮を少なくしたものに実施例13の感
光液を塗布機でコートし、スクリーン厚プラス
15μの感光性樹脂加工スクリーンをえた。このス
クリーンを20cm×30cmに切断して6ケ月間黒いビ
ニール袋に入れ、常温で保存した。その後、取り
出してTシヤツ用ワンポイントマークのポジフイ
ルムを使用して製版した。この版を木枠に取り付
け水性インキでTシヤツに印刷したところ、美し
いワンポイントマークが印刷できた。 応用例 4 実施例13の感光液をポリエステルフイルム75μ
にコーテイングマシンで2回塗布して、30μの直
間法フイルムをつくつた。この直間法フイルムを
テトロン270メツシユオレンジ染色したスクリー
ンに水張りし、乾燥後、スクリーン側より同一感
光液をバケツトで往復コートして、乾燥した。で
きた版をPS版としてビニール袋に入れて1ケ年
保存した。のちに取り出して、プリント基板用パ
ターン印刷(線巾100μ)の製版をし、UVインキ
で3000枚の印刷をしたが版の損傷はなかつた。 応用例 5 実施例13の感光液をポリエステルフイルム75μ
にコーテイングマシンで塗布して20μの直間法フ
イルムをつくつた。ポリエステル300メツシユ赤
染色したスクリーンをアルミニウム枠950mm×950
mmに均一に張りつけた。脱脂洗浄したスクリーン
に上記フイルムを水張りしてよく乾燥したのち、
フイルムベースを剥いだ。この面に網版150線の
ポジフイルムを真空密着して製版した。この版で
紙に印刷したところ、スクリーン印刷では今まで
経験したことない鮮明な印刷ができた。参考まで
に、ジアゾ感光液を使つた場合は120線が限度で
ある。
[Table] Application example 1 A polyester base made of matte photosensitive liquid prepared in Example 3 (product name "DIAMAT", Kimoto Co., Ltd.)
Co., Ltd.) to a thickness of 15 μm, dried, covered with positive film, and exposed to a 4KW ultra-high pressure mercury lamp at a distance of 1 m for 2 minutes. I lightly sprinkled the entire surface with tap water and developed it with spray water. Thereafter, when it was stained with a staining solution (bromophenol blue solution or "Dr. Martens" (trade name)), a negative visible image was formed on the polyester film compared to the positive film. Negative visible images were obtained using the compositions obtained in Examples 1 and 2 and Examples 4 to 26 in a similar manner. Application Example 2 The photosensitive solution of Example 13 was applied to a polyester film with a smooth surface and a thickness of 75 μm using a test bar coater, and dried with warm air (40° C.). The thickness of the photoresist film after drying was 25μ. next,
Fix the Tetron 300 mesh net to the screen frame,
The screen was washed, and the photoresist surface of the above film and the wet screen were gently pasted together.
Thereafter, the screen plate with the photosensitive film and polyester film was placed on a flat table, and pressed from the side of the screen using a rubber roller or squeegee so that the screen and the photosensitive film were in good contact.
After drying this with warm air (40°C) for 30 minutes, the polyester film was gently peeled off, and the photoresist film was transferred to the screen, leaving a smooth film on the warm polyester surface. In this state, I left it in a dark place for a month, covered it with positive film, and put it under a 1m 4KW ultra-high pressure mercury lamp.
The film was exposed to light for 2 minutes at a distance of 2 minutes, and developed with water to obtain a screen plate with a 100μ resolution and clear edges. Reference example Apply a photosensitive liquid to a polyester film in the same way as above, dry it, place it on a table with the photosensitive film side facing up, and place Tetron 270 on top of it.
Place a mesh (colored screen) and keep it on the stand. A small amount of the photosensitive solution of Example 13 was placed thereon and a bar coater was used to wet the screen and photosensitive film. After drying using a hairdryer, remove the adhesive to form a photoresist film fixed to the screen. In addition, by applying a resin treatment to the screen to reduce its elasticity and coating it with photosensitive liquid and drying it, a screen plate in which the screen and photosensitive film are integrated can be made. Application example 3 Tetron 130 mesh mesh is treated with resin to reduce screen expansion and contraction, and the photosensitive liquid of Example 13 is coated with a coating machine to increase the screen thickness.
I got a 15μ photosensitive resin processed screen. This screen was cut into 20cm x 30cm pieces and stored in a black plastic bag for 6 months at room temperature. Thereafter, it was taken out and plate-made using a positive film with a one-point mark for T-shirts. When this plate was attached to a wooden frame and printed on a T-shirt using water-based ink, a beautiful one-point mark was printed. Application example 4 The photosensitive solution of Example 13 was applied to a 75μ polyester film.
The film was applied twice using a coating machine to create a 30μ direct film. This direct method film was poured onto a Tetron 270 mesh orange-dyed screen, and after drying, the same photosensitive solution was applied back and forth from the screen side using a bucket and dried. The resulting version was stored as a PS version in a plastic bag for one year. Later, I took it out and made a plate for pattern printing (line width 100μ) for printed circuit boards, and printed 3000 sheets with UV ink, but the plate was not damaged. Application example 5 The photosensitive solution of Example 13 was applied to a 75μ polyester film.
A 20 μm direct film was created by applying the film using a coating machine. 300 polyester mesh red dyed screen aluminum frame 950mm x 950
It was applied evenly to mm. After applying the above film to a degreased and cleaned screen and drying it thoroughly,
I removed the film base. A 150-line halftone positive film was vacuum-adhered to this surface for plate making. When I printed on paper using this version, I was able to get a clear print that I had never experienced before with screen printing. For reference, when using diazo photosensitive liquid, the limit is 120 lines.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記の必須成分(1)〜(4)を含む水性分散液から
なることを特徴とする、感光性樹脂組成物。 (1) スチリルピリジニウムまたはスチリルキノリ
ニウム基を付加した酢酸ビニル重合体の水溶性
ケン化物、 (2) 水分散性重合体、 (3) エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物、および (4) 光重合開始剤 (たゞし、成分(1)がスチリルピリジニウム基を付
加した酢酸ビニル重合体の水溶性ケン化物である
場合には、成分(2)がアイオノマー樹脂単独である
ことはない)。 2 水分散性重合体が、第四アンモニウム基、カ
ルボキシレート基、ホスホニウム基、スルホニウ
ム基、スルホナート基、ホスホナート基またはポ
リエチレンオキシド基、により水分散性の付与さ
れたポリウレタン樹脂またはポリエステル樹脂で
ある、特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3 成分(1)が、ケン化度70〜99モル%で重合度
300〜3000の酢酸ビニル重合体に0.3〜20モル%の
付加率でスチリルピリジニウム基またはスチリル
キノリニウム基を付加したものである、特許請求
の範囲第1項または第2項に記載の組成物。 4 成分(1)が、酢酸ビニル重合体鎖も含めて表示
した下記一般式で表わされるスチリルピリジニウ
ム基またはスチリルキノリニウム基を有するもの
である、特許請求の範囲第1〜3項のいずれか1
項に記載の組成物。 〔式中mは0または1、nは1〜6の整数を示
す。Aは【式】または 【式】(ただし、式中のR1は水素原 子、アルキル基またはアラルキル基を示す(これ
らは、ヒドロキシル基、カルバモイル基、エーテ
ル結合または不飽和結合を含んでもよい)。R2
水素原子または低級アルキル基を示す。X-はハ
ロゲンイオン、りん酸イオン、p−トルエンスル
ホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イ
オン、またはこれら陰イオンの混合物を示す)〕 5 水分散性重合体1重量部に対して、スチリル
ピリジニウム基またはスチリルキノリニウム基を
付加した酢酸ビニル重合体ケン化物を0.2〜10重
量部および光重合性不飽和化合物0.1〜15重合部
含む、特許請求の範囲第1〜4項のいずれか1項
に記載の組成物。
[Scope of Claims] 1. A photosensitive resin composition comprising an aqueous dispersion containing the following essential components (1) to (4). (1) Water-soluble saponified vinyl acetate polymer with added styrylpyridinium or styrylquinolinium groups, (2) Water-dispersible polymer, (3) Photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group, and (4) a photopolymerization initiator (if component (1) is a water-soluble saponified product of vinyl acetate polymer with added styrylpyridinium groups, component (2) is an ionomer resin alone) (No) 2. A patent in which the water-dispersible polymer is a polyurethane resin or polyester resin imparted with water-dispersibility by a quaternary ammonium group, a carboxylate group, a phosphonium group, a sulfonium group, a sulfonate group, a phosphonate group, or a polyethylene oxide group. A composition according to claim 1. 3 Component (1) has a degree of saponification of 70 to 99 mol% and a degree of polymerization
300 to 3000 vinyl acetate polymer with a styrylpyridinium group or styrylquinolinium group added at an addition rate of 0.3 to 20 mol%, the composition according to claim 1 or 2. . 4. Any one of claims 1 to 3, wherein component (1) has a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group represented by the following general formula including a vinyl acetate polymer chain. 1
The composition described in Section. [In the formula, m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 6. A is [Formula] or [Formula] (wherein R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aralkyl group (these may contain a hydroxyl group, a carbamoyl group, an ether bond, or an unsaturated bond). R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. A patent claim containing 0.2 to 10 parts by weight of a saponified vinyl acetate polymer to which a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group has been added and 0.1 to 15 parts of a photopolymerizable unsaturated compound per 1 part by weight of the polyester polymer. The composition according to any one of the ranges 1 to 4.
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