JPH0241543B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0241543B2 JPH0241543B2 JP15808079A JP15808079A JPH0241543B2 JP H0241543 B2 JPH0241543 B2 JP H0241543B2 JP 15808079 A JP15808079 A JP 15808079A JP 15808079 A JP15808079 A JP 15808079A JP H0241543 B2 JPH0241543 B2 JP H0241543B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- aminophenoxy
- bis
- phenyl
- acrylonitrile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 56
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims description 22
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 claims description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 10
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 6
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 4
- WWPXOMXUMORZKI-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C WWPXOMXUMORZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- TUZBYYLVVXPEMA-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C TUZBYYLVVXPEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 claims description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 3
- XPJSHOATMHBYMX-UHFFFAOYSA-N 19-oxapentacyclo[18.2.2.18,12.02,7.013,18]pentacosa-1(22),2,4,6,8(25),9,11,13,15,17,20,23-dodecaene Chemical group C12=CC=C(C=C1)C1=C(C=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)O2 XPJSHOATMHBYMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 claims description 2
- IFVTZJHWGZSXFD-UHFFFAOYSA-N biphenylene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C2=C1 IFVTZJHWGZSXFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 claims description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 4-aminophenoxy Chemical group 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical class CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUDNCBUJHBRRME-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dibromophenyl]butan-2-yl]-2,6-dibromophenoxy]aniline Chemical compound C=1C(Br)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(Br)=CC=1C(C)(CC)C(C=C1Br)=CC(Br)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 MUDNCBUJHBRRME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRCIDTOMCOTLFJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dichlorophenyl]propan-2-yl]-2,6-dichlorophenoxy]aniline Chemical compound C=1C(Cl)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C(C=C1Cl)=CC(Cl)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 LRCIDTOMCOTLFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCGUBZDRPKFHQJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]butan-2-yl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C(C)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1C(C)(CC)C(C=C1C)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 UCGUBZDRPKFHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3-methylphenyl]propan-2-yl]-2-methylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAUSGUYYKKTJTC-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]methyl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound C=1C(C)=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(C)=CC=1CC(C=C1C)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 NAUSGUYYKKTJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920009204 Methacrylate-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWNGFHNQODFIEX-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound C=CC=C.COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 WWNGFHNQODFIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZEWVJWONYBVFL-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C NZEWVJWONYBVFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスチレン系樹脂に、特定のジアミンか
ら得られる芳香族ポリエーテルアミドを配合して
なる成形加工性、耐衝撃性及び耐熱性にすぐれた
樹脂組成物に関する。
スチレン系樹脂はプラスチツクに通常用いられ
ている成形加工方法でいずれも優れた成形加工性
を示しているが、耐熱性という点では不充分であ
り、用途に限界を生じている。
一方、特開昭52−23198号により提案された、
エーテル結合を含有する特定のジアミンから得ら
れる芳香族ポリエーテルアミドは引張り強度、曲
げ強度、衝撃強度などの機械的性質、熱変形温度
や熱分解温度のごとき熱的性質、耐アーク、誘電
率及び誘電損失などの電気的性質、耐摩耗性、難
燃性及び寸法安定性などにすぐれているが、反
面、各種の成形加工方法において、一般に成形加
工性が悪いという弱点を有する。
本発明者らは、スチレン系樹脂及び芳香族ポリ
エーテルアミドの上記の弱点を改良するべく鋭意
検討の結果、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は
スチレン系樹脂に、一般式
で示されるくり返し単位を有する芳香族ポリエー
テルアミド(但し、式()中、R1〜R4は水素、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、塩素または
臭素を示し、互いに同じであつても異なつていて
もよい。R5及びR6は水素、メチル基、エチル基、
トリフルオロメチル基またはトリクロロメチル基
であり、互いに同じであつても異なつていてもよ
い。Arはp−フエニレン、m−フエニレン、ジ
フエニレンエーテル、ジフエニレン、ナフチレン
基を示す。)を配合してなる樹脂組成物を提供す
る。
本発明の樹脂組成物はスチレン系樹脂3〜95重
量%と芳香族ポリエーテルアミド97〜5重量%か
らなるものであり、芳香族ポリエーテルアミド含
有量が5重量%以下では優れた耐熱性の改良は認
められず、また芳香族ポリエーテルアミド含有量
が97重量%以上(スチレン系樹脂が3重量%未
満)では組成物の成形加工性が損なわれる。
さらに好ましいのは、スチレン系樹脂20〜80重
量%と芳香族ポリエーテルアミド80〜20重量%と
からなる樹脂組成物であり、成形加工性、耐衝撃
性、耐熱性の面でバランスを有する。
本発明におけるスチレン系樹脂とは、ポリスチ
レン、スチレンブタジエンブロツク共重合樹脂、
AS樹脂(アクリロニトリル−スチレン共重合樹
脂)、耐衝撃性ポリスチレン(ブタジエン−スチ
レン共重合樹脂、アクリル酸ブチル−スチレン共
重合樹脂、EPDMゴム−スチレン共重合樹脂)、
ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−ス
チレン共重合樹脂)、MBS樹脂(メタクリル酸メ
チル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂)、AAS
樹脂(アクリロニトリル−アクリル酸ブチル−ス
チレン共重合樹脂)MAS樹脂(メタクリル酸メ
チル−アクリル酸ブチル−スチレン共重合樹脂)、
AES樹脂(アクリロニトリル−EPDMゴム−ス
チレン共重合樹脂)などである。
本発明において用いられる芳香族ポリエーテル
アミドは、芳香族ジカルボン酸あるいはその機能
誘導体と一般式()
(式中、R1〜R4は水素、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、塩素または臭素を示し、互いに同
じであつても異つていてもよい。R5及びR6は水
素、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基
またはトリクロロメチル基であり、互いに同じで
あつても異なつていてもよい。)
で示されるエーテル結合を有するジアミンを溶液
重合、溶融重合あるいは特開昭52−23198号など
芳香族ポリアミドを製造する公知の方法により反
応させて得られる。
前記一般式()で表わされるエーテル結合を
有するジアミン類の具体例を挙げると、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
プロパン、2,2−ビス〔3−メチル−4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、2,
2−ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−
ブロモ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
プロパン、2,2−ビス〔3−エチル−4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、2,
2−ビス〔3−プロピル−4−(4−アミノフエ
ノキシ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔3
−イソプロピル−4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−ブチル
−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロ
パン、2,2−ビス〔3−sec−ブチル−4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、2,
2−ビス〔3−メトキシ−4−(4−アミノフエ
ノキシ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔3
−エトキシ−4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕プロパン、2,2−ビス〔3,5−ジメチ
ル−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プ
ロパン、2,2−ビス〔3,5−ジクロロ−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、
2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、2,2−
ビス〔3,5−ジメトキシ−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス
〔3−クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)−5
−メチルフエニル〕プロパン、1,1−ビス〔4
−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、
1,1−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕エタン、1,1−ビス〔3
−クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、1,
1−ビス〔3−エチル−4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕エタン、1,1−ビス〔3−プ
ロピル−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
エタン、1,1−ビス〔3−イソプロピル−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、1,
1−ビス〔3−ブチル−4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕エタン、1,1−ビス〔3−
sec−ブチル−4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕エタン、1,1−ビス〔3−メトキシ−4
−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、
1,1−ビス〔3−エトキシ−4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕エタン、1,1−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕エタン、1,1−ビス〔3,5−
ジクロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕エタン、1,1−ビス〔3,5−ジブロモ−
4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、
1,1−ビス〔3,5−ジメトキシ−4−(4−
アミノフエノキシ)フエニル〕エタン、1,1−
ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル−5−メチルフエニル〕エタン、ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタ
ン、ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕メタン、ビス〔3−クロロ−4
−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタン、
ビス〔3−ブロモ−4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕メタン、ビス〔3−エチル−4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕メタン、ビス
〔3−プロピル−4−(4−アミノフエノキシ)フ
エニル〕メタン、ビス〔3−イソプロピル−4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタン、ビ
ス〔3−ブチル−4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕メタン、ビス〔3−sec−ブチル−4
−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタン、
ビス〔3−メトキシ−4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕メタン、ビス〔3−エトキシ−4
−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタン、
ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフエ
ノキシ)フエニル〕メタン、ビス〔3,5−ジク
ロロ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
メタン、ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル〕メタン、ビス〔3,
5−ジメトキシ−4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕メタン、ビス〔3−クロロ−4−(4
−アミノフエノキシ)−5−メチルフエニル〕メ
タン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2,2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕プロパン、1,1,1,3,3,3−
ヘキサクロロ−2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕プロパン、3,3−ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ペンタ
ン、1,1−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル〕プロパン、1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロ−2,2−ビス〔3,5−ジメチ
ル−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プ
ロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ
−2,2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−
アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、3,3
−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕ペンタン、1,1−ビス
〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕プロパン、1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス〔3,5−ジ
ブロモ−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサクロ
ロ−2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4
−アミノフエノキシ)フエニル〕プロパン、3,
3−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕ペンタン、1,1−ビス
〔3,5−ジブロモ−4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ブタン、2,
2−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル)ブタン、2,2−ビス〔3,5
−ジメチル−4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕ブタン、2,2−ビス〔3,5−ジブロモ
−4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ブタ
ン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−
2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル〕プロパンなどがある。
スチレン系樹脂と芳香族ポリエーテルアミドと
の混合はロール、バンバリーミキサーおよび押出
機など公知の方法で可能である。
また、本発明の樹脂組成物の耐熱性や耐候性を
改良するために熱分解防止剤、酸化防止剤あるい
は紫外線吸収剤を樹脂組成物中に存在させてもよ
い。その他、可塑剤、着色剤、滑剤、難燃剤など
も存在させてよい。
次に、参考例、実施例を用いて本発明をさらに
具体的に説明する。
参考例
芳香族ポリエーテルアミドの製造法
10セパラブルフラスコに、撹拌棒、温度計、
滴下ロートをセツトし、NaOH154.8gを水800ml
に溶解してフラスコに入れる。次に、2,2−ビ
ス−〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕プ
ロパン656gをシクロヘキサノン3.4Kgに溶解し
て、さきのフラスコに注ぎ込み、−2℃まで冷却
する。一方、テレフタル酸ジクロライド164g及
びイソフタル酸ジクロライド164gをシクロヘキ
サノン2.4Kgに溶解する。この酸クロライド溶液
を滴下ロートから注ぎこむが、この際、反応温度
が10℃を超えないようにする。滴下開始から3時
間後、塩化ベンゾイル16.9gをシクロヘキサノン
500gに溶解して加える。更に2時間後、反応液
をメタノールに注ぎ込み、ポリマーを単離する。
実施例
耐衝撃性ポリスチレン(スチレン−アクリル酸
ブチル共重合樹脂)、AAS樹脂(アクリロニトリ
ル−アクリル酸ブチル−スチレン共重合樹脂)
AES樹脂(アクリロニトリル−EPDMゴム−ス
チレン共重合樹脂)の各粉末と前記参考例で得ら
れた芳香族ポリエーテルアミドの粉末の各々の所
定量をスーパーミキサーにて均一混合し、40mmφ
押出機をダイス温度250℃で造粒化した。得られ
た組成物を射出成形により、試験片に作成し、物
性試験を行つた。結果を下記表に示す。
【表】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a resin composition having excellent moldability, impact resistance, and heat resistance, which is obtained by blending a styrene resin with an aromatic polyetheramide obtained from a specific diamine. Although styrenic resins exhibit excellent moldability using the molding methods commonly used for plastics, they are insufficient in terms of heat resistance, which limits their uses. On the other hand, proposed by Japanese Patent Application Laid-open No. 52-23198,
Aromatic polyetheramides obtained from specific diamines containing ether bonds have mechanical properties such as tensile strength, flexural strength, and impact strength, thermal properties such as heat distortion temperature and pyrolysis temperature, arc resistance, dielectric constant, and Although it has excellent electrical properties such as dielectric loss, abrasion resistance, flame retardancy, and dimensional stability, it has the disadvantage of generally poor moldability in various molding methods. The present inventors have arrived at the present invention as a result of intensive studies aimed at improving the above-mentioned weaknesses of styrene resins and aromatic polyetheramides. That is, the present invention provides a styrene resin with the general formula Aromatic polyether amide having a repeating unit represented by (however, in formula (), R 1 to R 4 are hydrogen,
It represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine or bromine, and may be the same or different. R 5 and R 6 are hydrogen, methyl group, ethyl group,
They are a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group, and may be the same or different. Ar represents p-phenylene, m-phenylene, diphenylene ether, diphenylene, or naphthylene group. ) is provided. The resin composition of the present invention is composed of 3 to 95% by weight of a styrene resin and 97 to 5% by weight of an aromatic polyetheramide, and when the aromatic polyetheramide content is 5% by weight or less, it has excellent heat resistance. No improvement was observed, and when the aromatic polyetheramide content exceeds 97% by weight (styrenic resin content is less than 3% by weight), the moldability of the composition is impaired. More preferred is a resin composition comprising 20 to 80% by weight of a styrene resin and 80 to 20% by weight of an aromatic polyetheramide, which has a good balance in terms of moldability, impact resistance, and heat resistance. The styrenic resin in the present invention includes polystyrene, styrene-butadiene block copolymer resin,
AS resin (acrylonitrile-styrene copolymer resin), impact-resistant polystyrene (butadiene-styrene copolymer resin, butyl acrylate-styrene copolymer resin, EPDM rubber-styrene copolymer resin),
ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin), MBS resin (methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer resin), AAS
Resin (acrylonitrile-butyl acrylate-styrene copolymer resin) MAS resin (methyl methacrylate-butyl acrylate-styrene copolymer resin),
AES resin (acrylonitrile-EPDM rubber-styrene copolymer resin), etc. The aromatic polyether amide used in the present invention is composed of aromatic dicarboxylic acid or its functional derivative and the general formula () (In the formula, R 1 to R 4 represent hydrogen, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine or bromine, and may be the same or different from each other. R 5 and R 6 are hydrogen, a methyl group, ethyl group, trifluoromethyl group, or trichloromethyl group, which may be the same or different. It can be obtained by reacting with a known method for producing aromatic polyamides. Specific examples of diamines having an ether bond represented by the general formula () are 2,2-
Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Propane, 2,2-bis[3-methyl-4-(4
-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,
2-bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-
Bromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Propane, 2,2-bis[3-ethyl-4-(4
-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,
2-bis[3-propyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3
-isopropyl-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]propane, 2,2-bis[3-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-sec-butyl-4-(4
-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,
2-bis[3-methoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3
-ethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3,5-dichloro-4 −
(4-aminophenoxy)phenyl]propane,
2,2-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-
Bis[3,5-dimethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)-5
-methylphenyl]propane, 1,1-bis[4
-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane,
1,1-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3
-chloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-bromo-4-
(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,
1-bis[3-ethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-propyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Ethane, 1,1-bis[3-isopropyl-4-
(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,
1-bis[3-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-
sec-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-methoxy-4
-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane,
1,1-bis[3-ethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[ 3,5-
Dichloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3,5-dibromo-
4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane,
1,1-bis[3,5-dimethoxy-4-(4-
aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-
Bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)
Phenyl-5-methylphenyl]ethane, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-chloro-4
-(4-aminophenoxy)phenyl]methane,
Bis[3-bromo-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]methane, bis[3-ethyl-4-(4
-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-propyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-isopropyl-4-
(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-butyl-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]methane, bis[3-sec-butyl-4
-(4-aminophenoxy)phenyl]methane,
Bis[3-methoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-ethoxy-4
-(4-aminophenoxy)phenyl]methane,
Bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, Bis[3,5-dichloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Methane, bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3,
5-dimethoxy-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]methane, bis[3-chloro-4-(4
-aminophenoxy)-5-methylphenyl]methane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)
phenyl]propane, 1,1,1,3,3,3-
Hexachloro-2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 3,3-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]pentane, 1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)
phenyl]propane, 1,1,1,3,3,3-
Hexafluoro-2,2-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,1,1,3,3,3-hexachloro-2,2-bis[3,5- Dimethyl-4-(4-
aminophenoxy)phenyl]propane, 3,3
-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]pentane, 1,1-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,1,1,3 ,3,
3-hexafluoro-2,2-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Propane, 1,1,1,3,3,3-hexachloro-2,2-bis[3,5-dibromo-4-(4
-aminophenoxy)phenyl]propane, 3,
3-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]pentane, 1,1-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[ 4-
(4-aminophenoxy)phenyl]butane, 2,
2-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl)butane, 2,2-bis[3,5
-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]butane, 2,2-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]butane, 1,1,1,3,3,3-hexane Fluoro-
Examples include 2,2-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane. The styrenic resin and aromatic polyetheramide can be mixed using a known method such as a roll, Banbury mixer, or extruder. Furthermore, in order to improve the heat resistance and weather resistance of the resin composition of the present invention, a thermal decomposition inhibitor, an antioxidant, or an ultraviolet absorber may be present in the resin composition. In addition, plasticizers, colorants, lubricants, flame retardants, etc. may also be present. Next, the present invention will be explained in more detail using reference examples and examples. Reference example Production method of aromatic polyether amide 10 In a separable flask, add a stirring bar, a thermometer,
Set the dropping funnel and add 154.8g of NaOH to 800ml of water.
Dissolve it and put it in a flask. Next, 656 g of 2,2-bis-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane is dissolved in 3.4 kg of cyclohexanone, poured into the flask, and cooled to -2°C. Meanwhile, 164 g of terephthalic acid dichloride and 164 g of isophthalic acid dichloride are dissolved in 2.4 kg of cyclohexanone. Pour this acid chloride solution through the dropping funnel, making sure that the reaction temperature does not exceed 10°C. 3 hours after the start of dropping, add 16.9g of benzoyl chloride to cyclohexanone.
Dissolve in 500g and add. After another 2 hours, the reaction solution is poured into methanol to isolate the polymer. Examples Impact-resistant polystyrene (styrene-butyl acrylate copolymer resin), AAS resin (acrylonitrile-butyl acrylate-styrene copolymer resin)
A predetermined amount of each powder of AES resin (acrylonitrile-EPDM rubber-styrene copolymer resin) and aromatic polyetheramide powder obtained in the above reference example were mixed uniformly in a super mixer, and
The extruder was used for granulation at a die temperature of 250°C. The obtained composition was injection molded into test pieces, and physical property tests were conducted. The results are shown in the table below. 【table】
Claims (1)
テルアミド(但し、式()中、R1〜R4は水素、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、塩素または
臭素を示し、互いに同じであつても異なつていて
もよい。R5及びR6は水素、メチル基、エチル基、
トリフルオロメチル基またはトリクロロメチル基
であり、互いに同じであつても異なつていてもよ
い。Arはp−フエニレン、m−フエニレン、ジ
フエニレンエーテル、ジフエニレン、ナフチレン
基を示す。)を配合してなる樹脂組成物。 2 スチレン系樹脂がポリスチレン、耐衝撃性ポ
リスチレン、スチレン−ブタジエンブロツク共重
合樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合樹
脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合樹脂、アクリロニトリル−アクリル酸ブチル
−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−
EPDMゴム−スチレン共重合樹脂からなる群か
ら選ばれたものである特許請求の範囲第1項記載
の樹脂組成物。 3 スチレン系樹脂3〜95重量%と該芳香族ポリ
エーテルアミド97〜5重量%とよりなる特許請求
の範囲第1項記載の樹脂組成物。 4 芳香族ポリエーテルアミドガテレフタル酸及
びイソフタル酸をジカルボン酸成分とし、2,2
−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
プロパンをジアミン成分とするものである特許請
求の範囲第1項または第2項記載の樹脂組成物。 5 スチレン系樹脂がアクリロニトリル−ブタジ
エン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−
アクリル酸ブチル−スチレン共重合樹脂、アクリ
ロニトリル−EPDMゴム−スチレン共重合樹脂
からなる群から選ばれたものである特許請求の範
囲第2項記載の樹脂組成物。 6 アクリロニトリル−アクリル酸ブチル−スチ
レン共重合樹脂に、下記式 〔但し、カルボニル基は互いにパラ又はメタ位で
ベンゼン核に結合している〕 で表わされる繰り返し単位を有する芳香族ポリエ
ーテルアミドを配合してなる特許請求の範囲第3
項又は第5項記載の樹脂組成物。[Claims] 1. General formula for styrenic resin Aromatic polyether amide having a repeating unit represented by (however, in formula (), R 1 to R 4 are hydrogen,
It represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine or bromine, and may be the same or different. R 5 and R 6 are hydrogen, methyl group, ethyl group,
They are a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group, and may be the same or different. Ar represents p-phenylene, m-phenylene, diphenylene ether, diphenylene, or naphthylene group. ). 2 The styrenic resin is polystyrene, impact-resistant polystyrene, styrene-butadiene block copolymer resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin, acrylonitrile-butyl acrylate-styrene copolymer resin, acrylonitrile-
The resin composition according to claim 1, which is selected from the group consisting of EPDM rubber-styrene copolymer resin. 3. The resin composition according to claim 1, comprising 3 to 95% by weight of a styrene resin and 97 to 5% by weight of the aromatic polyetheramide. 4 aromatic polyetheramide gaterephthalic acid and isophthalic acid as dicarboxylic acid components, 2,2
-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]
The resin composition according to claim 1 or 2, which contains propane as a diamine component. 5 Styrenic resin is acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin, acrylonitrile-
The resin composition according to claim 2, which is selected from the group consisting of butyl acrylate-styrene copolymer resin and acrylonitrile-EPDM rubber-styrene copolymer resin. 6 The following formula is added to the acrylonitrile-butyl acrylate-styrene copolymer resin. [However, the carbonyl groups are mutually bonded to the benzene nucleus at the para or meta position.] Claim 3 comprising an aromatic polyether amide having a repeating unit represented by the following:
The resin composition according to item 1 or 5.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15808079A JPS5681361A (en) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15808079A JPS5681361A (en) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5681361A JPS5681361A (en) | 1981-07-03 |
JPH0241543B2 true JPH0241543B2 (en) | 1990-09-18 |
Family
ID=15663851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15808079A Granted JPS5681361A (en) | 1979-12-07 | 1979-12-07 | Resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5681361A (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6060158A (en) * | 1983-09-13 | 1985-04-06 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Polyamide resin composition |
JPS60210660A (en) * | 1984-04-05 | 1985-10-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Impact-resistant polyamide resin composition |
JPS60238360A (en) * | 1984-05-11 | 1985-11-27 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Glass fiber reinforced, impact-resistant polyamide resin composition |
-
1979
- 1979-12-07 JP JP15808079A patent/JPS5681361A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5681361A (en) | 1981-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW575578B (en) | Process for producing phenoxyphosphazene compounds, flame-retardant resin compositions, and moldings of flame-retardant resins | |
TW589346B (en) | Flame retardant thermoplastic resin composition | |
HUE028448T2 (en) | Expansible beads of polyamide | |
JPH08319385A (en) | Polystyrene-based resin composition and its molding | |
JP2010168559A (en) | Polyamide resin composition and molded article comprising the same | |
JP2018058942A (en) | Flame-retardant resin composition and flame-retardant resin molded body | |
JP2010037372A (en) | Polyamide resin composition and molded article comprising the same | |
JPH0241543B2 (en) | ||
JPH0248577B2 (en) | JUSHISOSEIBUTSU | |
JPH0347814A (en) | Imidated copolymer and resin modifier and resin compatibilizing agent produced by using the same | |
JP2012184284A (en) | Polyamide resin composition and molding | |
JPS6217621B2 (en) | ||
JPH02227458A (en) | Injection-moldable blend of poly (ether ketone) and polyamide-imide | |
JPH0251555A (en) | Thermoplastic resin composition | |
JP7014633B2 (en) | Polyamide composition and molded products | |
JP3083210B2 (en) | Polyimide resin composition | |
JPS5836017B2 (en) | Aromatic polyetheramide resin composition | |
JPS59147047A (en) | Aromatic polyether amide resin composition | |
JPS59142248A (en) | Aromatic polyether amide resin composition | |
JPS621421B2 (en) | ||
JPS636112B2 (en) | ||
JPS636111B2 (en) | ||
JP2007154068A (en) | Resin composition for black laser marking and molded article therefrom | |
JPS59142247A (en) | Aromatic polyether amid resin composition | |
JPH01221451A (en) | Resin composition |