JPH0241359U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0241359U JPH0241359U JP11879688U JP11879688U JPH0241359U JP H0241359 U JPH0241359 U JP H0241359U JP 11879688 U JP11879688 U JP 11879688U JP 11879688 U JP11879688 U JP 11879688U JP H0241359 U JPH0241359 U JP H0241359U
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- JP
- Japan
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- charged particle
- particle beam
- beam device
- slit
- support mechanism
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
Description
第１図は本考案の一実施例として示した電子ビ
ーム描画装置の整形スリツトの支持機構の概略図
、第２図は面積可変型電子ビーム描画装置の概略
図、第３図は電子ビーム描画装置の従来の整形ス
リツトの支持機構の概略図である。 ３０：スリツト、３０Ｈ：孔、３１′：上ホル
ダ、３２′：下ホルダ、３３：スクリユ、３４：
鏡筒、３５：上カバー、３５Ｈ：孔、３６：スク
リユ、３７：下カバー、３７Ｈ：孔、３８：スク
リユ。
ーム描画装置の整形スリツトの支持機構の概略図
、第２図は面積可変型電子ビーム描画装置の概略
図、第３図は電子ビーム描画装置の従来の整形ス
リツトの支持機構の概略図である。 ３０：スリツト、３０Ｈ：孔、３１′：上ホル
ダ、３２′：下ホルダ、３３：スクリユ、３４：
鏡筒、３５：上カバー、３５Ｈ：孔、３６：スク
リユ、３７：下カバー、３７Ｈ：孔、３８：スク
リユ。
Claims (1)
- 荷電粒子ビーム装置の光軸上に、中心部に開け
られた孔が位置する様にスリツトをホールドした
荷電粒子ビーム装置のスリツト支持機構に於いて
、夫々中心部に孔を持ち、上記スリツトを各々空
間を於いて光軸方向から挾むカバーを設けた荷電
粒子ビーム装置のスリツト支持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879688U JPH0241359U (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879688U JPH0241359U (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0241359U true JPH0241359U (ja) | 1990-03-22 |
Family
ID=31363457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11879688U Pending JPH0241359U (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0241359U (ja) |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP11879688U patent/JPH0241359U/ja active Pending
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