JPH0239155A - Colored pattern forming method - Google Patents
Colored pattern forming methodInfo
- Publication number
- JPH0239155A JPH0239155A JP63188328A JP18832888A JPH0239155A JP H0239155 A JPH0239155 A JP H0239155A JP 63188328 A JP63188328 A JP 63188328A JP 18832888 A JP18832888 A JP 18832888A JP H0239155 A JPH0239155 A JP H0239155A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- radiation
- black
- dyeable
- copolymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 35
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 14
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 2
- PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropiophenone Chemical compound CC(N)C(=O)C1=CC=CC=C1 PUAQLLVFLMYYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XMEQKUYDQRWRMT-MDWZMJQESA-N [4-[(e)-3-phenylprop-2-enoyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 XMEQKUYDQRWRMT-MDWZMJQESA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 3
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 3
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HQGPZXPTJWUDQR-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-5-methylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC1CCC(=O)N1C=C HQGPZXPTJWUDQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJHHAPASNNVTSN-KPKJPENVSA-N 4'-Methoxychalcone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 KJHHAPASNNVTSN-KPKJPENVSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000002744 anti-aggregatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(=C)C(=O)NCCC[N+](C)(C)C UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARKQRZXCXIMZHG-UHFFFAOYSA-N 1-azido-4-[(4-azidophenyl)methyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 ARKQRZXCXIMZHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLGAYGHFBSTWCA-UHFFFAOYSA-N 10-phenylsulfanylacridin-9-one Chemical compound C1(=CC=CC=C1)SN1C=2C=CC=CC2C(C2=CC=CC=C12)=O PLGAYGHFBSTWCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUACIFFMSHZUKZ-UHFFFAOYSA-O 3-Acrylamidopropyl trimethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)CCCNC(=O)C=C RUACIFFMSHZUKZ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KPOGJSBCLMUNRG-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC1=CC=C(C=C1)C=CC(=O)C1=CC=C(C=C1)OC Chemical compound C(C=C)(=O)OC1=CC=C(C=C1)C=CC(=O)C1=CC=C(C=C1)OC KPOGJSBCLMUNRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- QNSQTJHTVQSWFR-UHFFFAOYSA-N [(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound [N-]=[N+]=NC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 QNSQTJHTVQSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIUWKIIUUNWJHU-UHFFFAOYSA-N [4-(3-oxo-3-phenylprop-1-enyl)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 DIUWKIIUUNWJHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIHKERNVVWJNPC-UHFFFAOYSA-N [4-(3-oxo-3-phenylprop-1-enyl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C=C)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 PIHKERNVVWJNPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUWHQBKPGAWGMH-UHFFFAOYSA-N [4-(3-phenylprop-2-enoyl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 OUWHQBKPGAWGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEQGYMDJSXOTL-UHFFFAOYSA-N [4-[3-(4-methoxyphenyl)prop-2-enoyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 UAEQGYMDJSXOTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFVNHPGQMIHEPO-UHFFFAOYSA-M [4-[6-(4-methoxyphenyl)-4-(4-pentoxyphenyl)thiopyran-2-ylidene]cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]-methyloxidanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.C1=CC(OCCCCC)=CC=C1C1=CC(C=2C=CC(OC)=CC=2)=[S+]C(C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 OFVNHPGQMIHEPO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XHPWRTXYJFNZAW-UHFFFAOYSA-N [[4-[2-(4-diazonioimino-2-sulfocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)ethylidene]-3-sulfocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]hydrazinylidene]azanide Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1S(O)(=O)=O XHPWRTXYJFNZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N bis(4-azidophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000001046 green dye Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- SONHXMAHPHADTF-UHFFFAOYSA-M sodium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [Na+].CC(=C)C([O-])=O SONHXMAHPHADTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCISDWJIHKTDEV-UHFFFAOYSA-N triethyl(2-prop-2-enoyloxyethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CCOC(=O)C=C VCISDWJIHKTDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMOZMAYJFFKLW-UHFFFAOYSA-N triethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CCOC(=O)C(C)=C OHMOZMAYJFFKLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIVUXLSPQTESC-UHFFFAOYSA-O triethyl-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propyl]azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CCCNC(=O)C(C)=C OKIVUXLSPQTESC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NEVLVJUGUZQROA-UHFFFAOYSA-O triethyl-[3-(prop-2-enoylamino)propyl]azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CCCNC(=O)C=C NEVLVJUGUZQROA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIUAMYPYEUQVEM-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-prop-2-enoyloxyethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CCOC(=O)C=C AIUAMYPYEUQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZGFBJMPSHGTRQ-UHFFFAOYSA-M trimethyl(2-prop-2-enoyloxyethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(=O)C=C FZGFBJMPSHGTRQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- USFMMZYROHDWPJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azanium Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)C USFMMZYROHDWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHXZLALVWBDKH-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)C RRHXZLALVWBDKH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZTGWJFIMGVKSN-UHFFFAOYSA-O trimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propyl]azanium Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCC[N+](C)(C)C VZTGWJFIMGVKSN-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、着色パターンの形成方法に関し、特に各種カ
ラー撮像素子およびカラー液晶デイスプレー用の色分解
フィルターのブラックストライプの形成に好適な着色パ
ターンの形成方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for forming a colored pattern, and in particular to a colored pattern suitable for forming black stripes on color separation filters for various color image sensors and color liquid crystal displays. The present invention relates to a method of forming.
近年、カラー液晶デイスプレーの表示品位が大幅に向上
し、小型カラーテレビが商品化されているが、従来のブ
ラウン管(cRT)に匹敵する表示品位を得るためには
、より色再現性や表示コントラストの優れたものが要求
されている。In recent years, the display quality of color LCD displays has improved significantly and compact color TVs have been commercialized, but in order to achieve display quality comparable to that of conventional cathode ray tubes (CRTs), better color reproducibility and display contrast are needed. Excellent products are required.
この表示品位をより向上させる手段として、色分解フィ
ルターの各表示画素以外の部分を黒1色のパターンで覆
いブラックストライプを形成し、光の漏れを防止するこ
とにより、表示コントラストを向上させる方法が知られ
ている。As a means to further improve this display quality, there is a method to improve the display contrast by covering the part of the color separation filter other than each display pixel with a pattern of one color black to form a black stripe and preventing light leakage. Are known.
このブランクスドライブの形成方法としては、色分解フ
ィルターの異なる色、例えば赤、青、緑を重ね合わせる
ことによって、黒く見えることを応用したブラックスト
ライプの形成方法が知られているが、位置合わせが困難
であったり、色分解フィルター表面の凹凸が激しくなっ
たりして必ずしも満足できる表示性能を得ることができ
ない。A known method for forming this blank drive is to form black stripes by overlapping different colors of color separation filters, such as red, blue, and green, so that they appear black, but alignment is difficult. Otherwise, the surface of the color separation filter may become extremely uneven, making it impossible to obtain a satisfactory display performance.
また、色分解フィルターの量産化などを考え、可染性材
料からなるパターンを黒色で染色し、フラックストライ
ブを形成することが試みられているが、可染性パターン
形成材料として従来使用されているゼラチン、カゼイン
などでは、薄膜(1μm程度)で光線透過率の小さいブ
ラックストライブが作製できないという問題を有してい
る。In addition, in consideration of mass production of color separation filters, attempts have been made to dye patterns made of dyeable material black to form flux stripes, but this method is not suitable for conventional dyeable pattern forming materials. Gelatin, casein, and the like have a problem in that black stripes with a thin film (about 1 μm) and low light transmittance cannot be produced.
(発明が解決しようとする課題〕
本発明は、前記従来の技術的課題を背景になされたもの
で、薄膜で染色性に優れ、特に黒色の場合には光線透過
率が非常に小さく、かつ解像度の優れたブラックストラ
イプとして好適な着色パターンの形成方法を提供するこ
とを目的とする。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention was made against the background of the above-mentioned conventional technical problems. An object of the present invention is to provide a method for forming a colored pattern suitable as an excellent black stripe.
本発明は、(a)ビニルラクタム類(以下「(a)成分
」ということがある) 、(b) 4級アミンの構造を
有しかつ重合可能な不飽和結合を有する単量体(以下「
(b)成分」ということがある)、および(c)(メタ
)アクリル酸エステル(以下「(c)成分」ということ
がある)との共重合体(以下、単に「共重合体」という
)を含有してなる可染性感放射線性樹脂を、基板に塗布
し、放射線を照射し、現像してパターンを形成させたの
ち、金属錯塩を有するアゾ系酸性染料で染色する着色パ
ターンの形成方法を提供するものである。The present invention provides (a) vinyl lactams (hereinafter sometimes referred to as "component (a)"), (b) monomers having a quaternary amine structure and a polymerizable unsaturated bond (hereinafter referred to as "component (a)").
(hereinafter simply referred to as "copolymer") with (c) (meth)acrylic acid ester (hereinafter referred to as "component (c)") A method of forming a colored pattern is provided in which a dyeable radiation-sensitive resin containing a dye is applied to a substrate, irradiated with radiation, developed to form a pattern, and then dyed with an azo acid dye containing a metal complex salt. This is what we provide.
本発明の共重合体に使用されるfal成分としては、例
えば下記−機成(I)または(II)で表される化合物
が挙げられる。Examples of the fal component used in the copolymer of the present invention include compounds represented by the following structure (I) or (II).
HC=CH2
/
(式中、R1、R7は、それぞれ同一でも異なっていて
もよく、水素原子またはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基などの炭素数1〜5のアルキ
ル基を表す。)
前記(a)成分の具体例としては、N−ビニル−2ピロ
リドン、N−ビニル−5−メチル−2−ピロリドン、N
−ビニル−2−ピペリドンなどのN−ビニルラクタム類
を挙げることができる。HC=CH2 / (wherein, R1 and R7 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, or pentyl group. ) Specific examples of component (a) include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-5-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-5-methyl-2-pyrrolidone, and
N-vinyl lactams such as -vinyl-2-piperidone can be mentioned.
この(al成分のうち、特にN−ビニル−2−ピロリド
ンが好ましい。Among these (al components), N-vinyl-2-pyrrolidone is particularly preferred.
また、(bl成分としては、例えば下記−機成(III
)で表される化合物を挙げることができる。In addition, as the (bl component, for example, the following - structure (III
) can be mentioned.
/
\
I2
・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ (III)(式中、R8
は水素原子またはメチル基、R9は2価の有機基、R”
〜R13はそれぞれ同一でも異なっていてもよ(、水素
原子または1価の有機基、Zは酸素原子またはイミノ基
、X−はアンモニウム塩を形成しうるアニオン種を表す
。)−機成(1)において、R9としては、例えばメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソ
ブチレン基、フェニレン基、キシリレン基などの2価の
脂肪族基、脂環族基および芳香族基を、またRIG〜R
′2としては、水素原子のほか、メチル基、エチル基、
プロピル基、フェニル基、ベンジル基などの1価の炭化
水素基を挙げることができる。/ \ I2 ・ ・ ・ ・ ・ ・ (III) (in the formula, R8
is a hydrogen atom or a methyl group, R9 is a divalent organic group, R''
~R13 may be the same or different (, hydrogen atom or monovalent organic group, Z is an oxygen atom or imino group, X- represents an anion species capable of forming an ammonium salt) - Organization (1 ), R9 may be a divalent aliphatic group, an alicyclic group, or an aromatic group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, an isobutylene group, a phenylene group, or a xylylene group; R
'2 is not only a hydrogen atom, but also a methyl group, an ethyl group,
Monovalent hydrocarbon groups such as propyl, phenyl, and benzyl groups can be mentioned.
また、−機成(III)において、X−とじては、例え
ば塩素イオン、スルホン酸イオンなどの無機アニオン種
、カルボニウムイオン、スルホニウムイオンなどの有機
アニオン種を挙げることができる。Furthermore, in composition (III), examples of X- include inorganic anion species such as chlorine ion and sulfonate ion, and organic anion species such as carbonium ion and sulfonium ion.
これらの−機成(I[I)で表されるfbl成分の具体
例としては、2−メタクリロイルオキシエチルトリメチ
ルアンモニウム、2−アクリロイルオキシエチルトリメ
チルアンモニウム、2−メタクリロイルオキシエチルト
リエチルアンモニウム、2アクリロイルオキシエチルト
リエチルアンモニウム、3−(N−メタクリロイル)ア
ミノプロピルトリメチルアンモニウム、3−(N−アク
リロイル)アミノプロピルトリメチルアンモニウム、3
(N−メタクリロイル)アミノプロピルトリエチルアン
モニウム、3−(N−アクリロイル)アミノプロピルト
リエチルアンモニウムなどと、無機アニオン種または有
機アニオン種の組み合わせから得られる化合物;2−メ
タクリ口イルオキシエチルジエチルアンモニオアセテー
ト、2−アクリロイルオキシエチルジエチルアンモニオ
アセテート、3−(N−メタクリロイル)アミノプロピ
ルジメチルアンモニオアセテート、3−(N−メタクリ
ロイル)アミノプロピルジエチルアンモニオアセテート
、3−(N−アクリロイル)アミノプロピルジエチルア
ンモニオアセテート、2−メタクリロイルオキシエチル
ジエチルアンモニオスルフェート、3−(N−メタクリ
ロイル)アミノプロピルジエチルアンモニオスルフェー
トなどと、無機アニオン種または有機アニオン種の組み
合わせから得られる化合物を挙げることができる。Specific examples of the fbl component represented by the structure (I[I) include 2-methacryloyloxyethyltrimethylammonium, 2-acryloyloxyethyltrimethylammonium, 2-methacryloyloxyethyltriethylammonium, 2-acryloyloxyethyl Triethylammonium, 3-(N-methacryloyl)aminopropyltrimethylammonium, 3-(N-acryloyl)aminopropyltrimethylammonium, 3
A compound obtained from a combination of (N-methacryloyl)aminopropyltriethylammonium, 3-(N-acryloyl)aminopropyltriethylammonium, etc., and an inorganic or organic anion species; 2-methacryloyloxyethyldiethylammonioacetate, 2-Acryloyloxyethyldiethylammonioacetate, 3-(N-methacryloyl)aminopropyldimethylammonioacetate, 3-(N-methacryloyl)aminopropyldiethylammonioacetate, 3-(N-acryloyl)aminopropyldiethylammonioacetate Examples include compounds obtained from a combination of acetate, 2-methacryloyloxyethyldiethylammoniosulfate, 3-(N-methacryloyl)aminopropyldiethylammoniosulfate, and an inorganic or organic anion species.
これらのうち、染料の分散性、溶液の安定性、重合体の
塗膜形成性、現像性などの点で、2−アクリロイルオキ
シエチルトリメチルアンモニウムクロリド、2−メタク
リロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド
、3−(N−アクリロイル)アミノプロピルトリメチル
アンモニウムクロリド、3−(N−メタクリロイル)ア
ミノプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、2−メ
タクリロイルオキシエチルジエチルアンモニオアセテー
ト、3−(N−アクリロイル)アミノプロピルジエチル
アンモニオアセテートなどが特に好ましい。Among these, 2-acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, 2-methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, 3-( Particularly preferred are N-acryloyl)aminopropyltrimethylammonium chloride, 3-(N-methacryloyl)aminopropyltrimethylammonium chloride, 2-methacryloyloxyethyldiethylammonioacetate, 3-(N-acryloyl)aminopropyldiethylammonioacetate, and the like. .
これらの(bl成分は、1種単独で使用することも、ま
たは2種以上を併用することもできる。These (bl components) can be used alone or in combination of two or more.
さらに、(c1成分は、本発明で使用される可染性感放
射線性樹脂を用いてパターンを形成する際に使用する現
像液に対する共重合体の溶解度を制御する目的で使用さ
れるものである。Furthermore, the (c1 component) is used for the purpose of controlling the solubility of the copolymer in the developer used when forming a pattern using the dyeable radiation-sensitive resin used in the present invention.
この(c)成分としては、下記−機成(IV)で表され
る化合物を例示することができる。As this component (c), compounds represented by the following structure (IV) can be exemplified.
I3
(式中、RI3は水素原子またはメチル基、RI4は炭
素数1〜8の有機基を表す。)
この(c)成分を構成する前記−機成(rV)中のRI
4である炭素数1〜8の有機基は、例えばメチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、フェニル基、2−
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、ヒドロキシブチル基などであり、好ましくは
直鎖状アルキル基である。I3 (In the formula, RI3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and RI4 represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms.) RI in the above-mentioned structure (rV) constituting component (c)
The organic group having 1 to 8 carbon atoms which is 4 is, for example, a methyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a phenyl group, a 2-
Examples include ethylhexyl group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, hydroxybutyl group, and preferably a linear alkyl group.
tC)成分の具体例としては、アクリル酸メチル、メタ
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸フェニル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、ア
クリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキ
シプロピル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、
アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタクリル酸−2
−ヒドロキシブチルなどを挙げることができる。Specific examples of tC) components include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, and methacrylic acid. Hydroxyethyl, hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate,
2-hydroxybutyl acrylate, 2-methacrylate
-Hydroxybutyl and the like.
これらの(c)成分は、1種単独で使用することも、ま
たは2種以上を併用することもできる。These (c) components can be used alone or in combination of two or more.
本発明の共重合体に使用される(a)成分、(b)成分
および(c1成分の共重合割合は、通常、(al成分が
30〜94モル%、好ましくは60〜80モル%、(b
l成分が5〜60モル%、好ましくは10〜30モル%
、(c)成分が1〜50モル%、好ましくは5〜30モ
ル%である。The copolymerization ratio of component (a), component (b), and component (c1) used in the copolymer of the present invention is usually (al component: 30 to 94 mol%, preferably 60 to 80 mol%, ( b
l component is 5 to 60 mol%, preferably 10 to 30 mol%
, component (c) is 1 to 50 mol%, preferably 5 to 30 mol%.
(al成分が30モル%未満ではパターン形成時の解像
性が低下したり、膜荒れが生じることがあり、一方95
モル%を超えると(′b)成分の割合が少なくなり染色
性が低下することがある。(If the Al content is less than 30 mol%, resolution during pattern formation may decrease or film roughness may occur;
If it exceeds mol %, the proportion of component ('b) may decrease and the dyeability may deteriorate.
また、(bl成分が5モル%未満では染色性が低(、膜
厚が1μm前後での光線透過率を小さくすることが困難
であり、一方60モル%を超えると(al成分および(
c1成分のモル比が少なくなり、パターン形成時の解像
性が低下したり、膜荒れが生じる場合がある。In addition, if the BL component is less than 5 mol%, the dyeability is low (and it is difficult to reduce the light transmittance at a film thickness of around 1 μm, while if it exceeds 60 mol%, the Al component and (
The molar ratio of the c1 component decreases, and resolution during pattern formation may decrease or film roughness may occur.
さらに、(c)成分が1モル%未満では、パターン形成
時の解像性が低下することがあり、一方50モル%を超
えると膜荒れが生じやすくなる。Furthermore, if component (c) is less than 1 mol %, resolution during pattern formation may decrease, while if it exceeds 50 mol %, film roughness is likely to occur.
なお、前記共重合体自体に感放射線性を付与するために
、放射線感応性単量体、例えば4′−メタクリロイロキ
シカルコン、4′−アクリロイロキシカルコン、4−メ
タクリロイロキシカルコン、4−アクリロイロキシカル
コン、4′−メタクリロイコキシ−4−メトキシカルコ
ン、4′−アクソロイロキシ−4−メトキシ男ルコン、
4−メタクリロイワキシー4′−メトキシカルコン、4
−アクリロイロキシ−4′−メトキシカルコン、4′−
メタクリロイコキシ−4−ニトロカルコン、4′−アク
リロイロキシ−4′−ニトロカルコンなどのカルコン誘
導体を共重合することもできる。In addition, in order to impart radiation sensitivity to the copolymer itself, a radiation-sensitive monomer such as 4'-methacryloyloxychalcone, 4'-acryloyloxychalcone, 4-methacryloyloxychalcone, 4- Acryloyloxychalcone, 4'-methacryloyloxy-4-methoxychalcone, 4'-axoloyloxy-4-methoxyalcone,
4-methacryloyl waxy 4'-methoxychalcone, 4
-acryloyloxy-4'-methoxychalcone, 4'-
Chalcone derivatives such as methacryloyloxy-4-nitrochalcone and 4'-acryloyloxy-4'-nitrochalcone can also be copolymerized.
これらのうち、共重合体の可視光線領域での透明性およ
び感放射線性の点で4′−メタクリロイロキシカルコン
、4′−メタクリロイコキシ−4−メトキシカルコンが
好ましい。Among these, 4'-methacryloyloxychalcone and 4'-methacryloyloxychalcone are preferred from the viewpoint of transparency in the visible light region and radiation sensitivity of the copolymer.
この放射線感応性単量体の共重合体中における共重合割
合は、通常、2〜60モル%、好ましくは10〜40モ
ル%である。The copolymerization ratio of this radiation-sensitive monomer in the copolymer is usually 2 to 60 mol%, preferably 10 to 40 mol%.
なお、本発明で使用される共重合体の分子量は、特に制
限されるものではないが、通常、ポリスチレン換算重量
平均分子量が、5,000〜1.000,000、好ま
しくは10.000〜500.000である。The molecular weight of the copolymer used in the present invention is not particularly limited, but usually has a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 5,000 to 1.000,000, preferably 10.000 to 500. It is .000.
また、前記共重合体の重合形態は特に制限されず、ラン
ダム共重合体、ブロック共重合体などのいずれでもよく
、また重合方法も溶液重合、乳化重合などのいずれでも
よいが、好ましくは溶液重合である。Further, the polymerization form of the copolymer is not particularly limited, and may be either a random copolymer, a block copolymer, etc., and the polymerization method may be either solution polymerization, emulsion polymerization, etc., but solution polymerization is preferable. It is.
この溶液重合では、共重合体を溶解しうる溶媒にfa)
〜(c)成分、さらに必要に応じて放射線感応性単量体
を混合し、溶解させ、重合開始剤を用いて重合する。In this solution polymerization, fa) is added to a solvent that can dissolve the copolymer.
Components (c) and, if necessary, a radiation-sensitive monomer are mixed, dissolved, and polymerized using a polymerization initiator.
この重合に用いられる溶媒は、共重合体を溶解しうる溶
媒であれば特に制限はなく、具体的には水;メタノール
、エタノールなどのアルコール系溶媒;メトキシエタノ
ール、エトキシエタノールなどのセロソルブ系溶媒;エ
チレングリコール、ジエチレングリコールなどのジオー
ル系溶媒;エチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテートなど
のエステル系溶媒;N−メチルピロリドン、NN−ジメ
チルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、T−ブチロラクトンなどの非プロ
トン性極性溶媒を挙げることができ、これらは1種単独
であるいは2種以上を組み合わせて用いることもできる
。The solvent used in this polymerization is not particularly limited as long as it can dissolve the copolymer; specifically, water; alcohol solvents such as methanol and ethanol; cellosolve solvents such as methoxyethanol and ethoxyethanol; Diol solvents such as ethylene glycol and diethylene glycol; Ester solvents such as ethylene glycol methyl ether acetate and ethylene glycol ethyl ether acetate; N-methylpyrrolidone, NN-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, T-butyrolactone These can be used alone or in combination of two or more.
溶媒は、単量体に対する重量比で、通常、溶媒/単量体
が1/1〜10/1、好ましくは2/1〜4/1である
。The weight ratio of the solvent to the monomer is usually 1/1 to 10/1, preferably 2/1 to 4/1.
なお、これらの溶媒は、本発明で用いられる可染性感放
射線性樹脂を溶液とする際の溶媒としても使用される。Note that these solvents are also used as a solvent when the dyeable radiation-sensitive resin used in the present invention is made into a solution.
重合開始剤としては、ラジカル、アニオン、またはカチ
オンを発生させる化合物を用いることができ、例えばク
メンヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシ
ド、ナトリウムナフタレン、トリクロロ酢酸、トリフロ
ロホウ素、アゾビスイソブチロニトリルなどを挙げるこ
とができる。As the polymerization initiator, compounds that generate radicals, anions, or cations can be used, such as cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, sodium naphthalene, trichloroacetic acid, trifluoroboron, azobisisobutyronitrile, etc. can be mentioned.
この重合開始剤の使用量によって、共重合体の分子量を
調整することができ、その使用量は、通常、共重合する
単量体の総量100重量部に対して0.01〜5重量部
である。The molecular weight of the copolymer can be adjusted depending on the amount of the polymerization initiator used, and the amount used is usually 0.01 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers to be copolymerized. be.
また、重合温度は、通常、0〜200℃、好ましくは5
0〜100°Cである。In addition, the polymerization temperature is usually 0 to 200°C, preferably 5°C.
It is 0-100°C.
さらに、共重合体の分子量を調整する目的で、重合系に
連鎖移動剤または重合禁止剤を添加することもできる。Furthermore, a chain transfer agent or a polymerization inhibitor may be added to the polymerization system for the purpose of adjusting the molecular weight of the copolymer.
本発明に使用される可染性感放射線性樹脂は、このよう
にして得られた共重合体の重合溶液をそのまま、または
)農縮し、さらには希釈して使用することができ、また
共重合体を分離し、再溶解して用いることもできる。The dyeable radiation-sensitive resin used in the present invention can be used as it is, or by agro-condensing and diluting the copolymer solution obtained in this way. It is also possible to separate the combined product and redissolve it for use.
本発明では、前記共重合体が感放射線性を付与されてい
ない場合、共重合体に感放射線性を付与するために感放
射線架橋剤が加えられるが、この感放射線架橋剤として
は、例えばビスアジド化合物などを挙げることができる
。In the present invention, when the copolymer is not imparted with radiation sensitivity, a radiation-sensitive cross-linking agent is added to impart radiation-sensitivity to the copolymer. Examples of this radiation-sensitive cross-linking agent include bisazide. Examples include compounds.
前記ビスアジド化合物としては、例えば4,4′−ジア
ジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸、4.4′−
ジアジドヘンザルアセトフェノン−2スルホン酸、4.
4′−ジアジドスチルヘンα−カルボン酸およびこれら
のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などの水
溶性ビスアジド化合物;p−フェニレンビスアジド、4
,4′−ジアジドベンゾフェノン、4,4′−ジアジド
スチルヘン、4.4′−ジアジドジフェニルメタン、4
.4′−ジアジドベンザルアセトフェノン、2.6−ビ
ス−(4′−アジドベンザル)シクロヘキサノン、2,
6−ビス−(4′−アジドヘンザル)−4−メチルシク
ロヘキサノンなどの?由?容性ビスアジド化合物を挙げ
ることができる。Examples of the bisazide compound include 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid, 4,4'-
Diazidohenzalacetophenone-2 sulfonic acid, 4.
Water-soluble bisazide compounds such as 4'-diazidostilhene α-carboxylic acid and their sodium salts, potassium salts, and ammonium salts; p-phenylenebisazide, 4
, 4'-diazidobenzophenone, 4,4'-diazidostilhene, 4,4'-diazidodiphenylmethane, 4
.. 4'-Diazidobenzalacetophenone, 2.6-bis-(4'-azidobenzal)cyclohexanone, 2,
such as 6-bis-(4'-azidohenzal)-4-methylcyclohexanone? Why? Mention may be made of soluble bisazide compounds.
感放射線架橋剤の添加量は、可染性感放射線性樹脂が耐
溶剤性および接着性を有する塗膜となる範囲で任意に使
用できるが、通常、前記共重合体100重量部に対して
、0.5〜20重量部、好ましくは1〜15重量部であ
り、0.5重量部未満では放射線架橋が生じ難く、一方
20重量部を超えて使用すると放射線により分解した生
成物どうしの反応が起こり、さらに塗膜にした場合の安
定性が不充分になることがある。The amount of the radiation-sensitive crosslinking agent to be added can be arbitrarily determined so long as the dyeable radiation-sensitive resin forms a coating film having solvent resistance and adhesive properties, but usually 0 to 100 parts by weight of the copolymer. .5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight; if it is less than 0.5 parts by weight, radiation crosslinking is difficult to occur, while if it is used in excess of 20 parts by weight, reactions between products decomposed by radiation occur. Furthermore, when formed into a coating film, the stability may be insufficient.
なお、前記放射線感応性単量体を共重合した共重合体の
場合も、怒放射線架橋剤を併用することもできる。In addition, in the case of a copolymer obtained by copolymerizing the radiation-sensitive monomer, an angry radiation crosslinking agent can also be used in combination.
また、本発明に使用される可染性感放射線性樹脂には、
該樹脂の粘度の調整、塗工性の改善、塗膜の基板に対す
る密着性改善、塗膜の平坦化性改善、現像特性の改善な
どを目的として、その他の添加物を配合することができ
る。In addition, the dyeable radiation-sensitive resin used in the present invention includes:
Other additives may be added for the purpose of adjusting the viscosity of the resin, improving the coating properties, improving the adhesion of the coating film to the substrate, improving the flatness of the coating film, improving the development characteristics, etc.
ここで、その他の添加物としては、充填剤、前記以外の
高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、
紫外線吸収剤、凝集防止剤、増感剤などを挙げることが
できる。Here, other additives include fillers, polymer compounds other than those mentioned above, surfactants, adhesion promoters, antioxidants,
Examples include ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, and sensitizers.
これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナな
どの充填剤;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフ
ロロアルキルアクリレートなどの高分子化合物;ノニオ
ン系、カチオン系、またはアニオン系界面活性剤;ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2
アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルト
リメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、2
− (3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシ
ラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランなどの密着促進剤;2
,2−チオビス(4−メチル6−t−ブチルフェノール
)、2..6−ジーtブチルフエノールなどの酸化防止
剤12−(3t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキ
シヘンシフエノンなどの紫外線吸収剤;ポリアクリル酸
ナトリウム、ポリメタクリル酸ナトリウムなどの凝集防
止剤;2−ジベンゾイルメチレン3−メチル−β−ナフ
トチアゾリン、N−フェニルチオアクリドン、4−(4
−アミロキシフェニル)−2,6−ビス(4−メトキシ
フェニル)チアピリリウム過塩素酸などの増感剤を挙げ
ることができる。Specific examples of these additives include fillers such as glass and alumina; polyvinyl alcohol, polyacrylic acid,
Polymer compounds such as polyethylene glycol monoalkyl ether and polyfluoroalkyl acrylate; Nonionic, cationic, or anionic surfactants; Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N- (2
aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2
- Adhesion promotion of (3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Agent; 2
, 2-thiobis(4-methyl 6-t-butylphenol), 2. .. Antioxidants such as 6-di-t-butylphenol; UV absorbers such as 12-(3t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole and alkoxyhensiphenon; sodium polyacrylate, Anti-aggregation agents such as sodium methacrylate; 2-dibenzoylmethylene 3-methyl-β-naphthothiazoline, N-phenylthioacridone, 4-(4
-amyloxyphenyl)-2,6-bis(4-methoxyphenyl)thiapyrylium perchlorate.
このようにして得られる可染性感放射線性樹脂溶液の粘
度は、共重合体の分子量、使用する溶媒などにより異な
るが、通常、20〜aoocps(25°C)、好まし
くは50〜200cps (25℃)になるように調整
される。The viscosity of the dyeable radiation-sensitive resin solution obtained in this way varies depending on the molecular weight of the copolymer, the solvent used, etc., but is usually 20 to aoocps (at 25°C), preferably 50 to 200 cps (at 25°C). ).
なお、この際の可染性感放射線性樹脂溶液の固形分濃度
は、通常、5〜20重量%程度である。In addition, the solid content concentration of the dyeable radiation-sensitive resin solution at this time is usually about 5 to 20% by weight.
次に、本発明では、このようにして得られる可染性感放
射線性樹脂を用いて、基板上に、例えばスピンコーター
法、ロールコータ−法、スクリーン印刷法、スプレー法
などで任意の厚さ、例えば乾燥膜厚で1〜2μmとなる
ように塗膜を形成し、例えば70〜150°Cで10〜
30分程度乾燥する。Next, in the present invention, the dyeable radiation-sensitive resin thus obtained is used to coat a substrate with an arbitrary thickness by, for example, a spin coater method, a roll coater method, a screen printing method, a spray method, etc. For example, a coating film is formed to have a dry film thickness of 1 to 2 μm, and for example, a coating film is formed at 70 to 150°C for 10 to
Dry for about 30 minutes.
ここで、本発明で使用される可染性感放射線性樹脂の塗
膜が形成される基板としては、例えば液晶表示素子など
に用いられるソーダガラス、パイレックスガラス、石英
ガラスおよびこれらのガラスに透明導電膜を付着させた
ものや、固体撮像素子などに用いられる光電変換素子基
板、例えばシリコン基板などが挙げられる。Here, the substrate on which the dyeable radiation-sensitive resin coating film used in the present invention is formed includes, for example, soda glass, Pyrex glass, quartz glass used in liquid crystal display elements, and transparent conductive films on these glasses. For example, a photoelectric conversion element substrate used in a solid-state image sensor, such as a silicon substrate, may be used.
次に、パターンマスクを介して塗膜に、例えば10〜1
,0OOITIJ/−の紫外線を照射し、次いで現像液
で現像する。Next, for example, 10 to 1
, 0OOITIJ/-, and then developed with a developer.
ここで、現像液としては、例えば水;メタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール、ブタノール
、イソブタノール、エチレングリコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどのアルコール系溶媒を挙げる
ことができる。Here, examples of the developer include water; methanol, ethanol, propatool, isoproptool, butanol, isobutanol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, Examples include alcohol solvents such as diethylene glycol monoethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether.
前記現像は、デイフプ、スプレーなどの方法により、そ
れぞれ1〜5分程度行う。これらの工程ののち、塗膜を
充分乾燥させるために、通常、100〜180℃で15
〜60分程度乾燥を行う。The development is carried out for about 1 to 5 minutes each by a method such as depupping or spraying. After these steps, it is usually heated at 100 to 180°C for 15 minutes to dry the coating sufficiently.
Dry for about 60 minutes.
次いで、このようにして形成されたパターンの染色を行
うために用いられる染料は、アゾ系の酸性染料でかつ金
属錯塩を有するものであり、例えば緑色染料、青色染料
、赤色染料、黒色染料などを挙げることができる。これ
らのうち、特に黒色染料は、薄膜で充分な遮光ができ、
ブラックストライプの形成に好適である。Next, the dye used to dye the pattern formed in this way is an azo acid dye containing a metal complex salt, such as green dye, blue dye, red dye, black dye, etc. can be mentioned. Among these, black dye in particular can provide sufficient light shielding with a thin film.
Suitable for forming black stripes.
このアゾ系酸性黒色染料としては、例えばラナシンブラ
・ツクBRL (三菱化成側製)、カヤカランブラック
2RL (日本化薬特製)、ブランク181 (日本化
薬■製)、ブラック205 (日本化薬■製)などが挙
げられるが、特に銅錯塩系染料の前記ブラック181お
よびブラック205が耐熱性の点で好ましい。Examples of the azo acidic black dye include Lanasinbra Tsuku BRL (manufactured by Mitsubishi Kasei), Kayakaran Black 2RL (specially manufactured by Nippon Kayaku), Blank 181 (manufactured by Nippon Kayaku), and Black 205 (manufactured by Nippon Kayaku). ), but the copper complex dyes Black 181 and Black 205 are particularly preferred in terms of heat resistance.
アゾ系酸性黒色染料のうちでも、その構造中に前述のよ
うに金属錯塩を有しないものでは、染色性が低いため、
薄膜において充分な遮光が困難である。Among azo acidic black dyes, those that do not have metal complex salts in their structure have low dyeing properties, so
It is difficult to sufficiently block light with thin films.
このアゾ系酸性黒色染料を用いる染色は、例えば該染料
の0・01〜10重量%、好ましくは0.1〜2重量%
の水溶液に、前述のようにして形成されたパターンを有
する基板を、5〜95℃、好ましくは40〜80℃で、
1〜30分間程度浸清し、水洗後、乾燥することにより
行うことができる。Dyeing using this azo acidic black dye is carried out, for example, from 0.01 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 2% by weight of the dye.
The substrate having the pattern formed as described above is placed in an aqueous solution of 5 to 95°C, preferably 40 to 80°C.
This can be done by soaking for about 1 to 30 minutes, washing with water, and then drying.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこ
れらによって制限されるものではない。Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
なお、実施例中、部および%は、特に断らない限り重M
基準である。In the examples, parts and percentages refer to weight M unless otherwise specified.
It is a standard.
実施例I
N−ビニル−2−ピロリドン60部、2−メタ/) I
J ロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリ
ド20部およびメタクリル酸メチル2o部よりなる共重
合体10部に、4,4′−ジアジドスチルベン−2,2
′−ジスルホン酸ナトリウム0.5部およびメチルセロ
ソルブ89.5部を混合し、溶解させ、可染性感放射線
性樹脂溶液を作製した。Example I 60 parts of N-vinyl-2-pyrrolidone, 2-meta/) I
J To 10 parts of a copolymer consisting of 20 parts of loyloxyethyltrimethylammonium chloride and 20 parts of methyl methacrylate, 4,4'-diazidostilbene-2,2
0.5 parts of sodium '-disulfonate and 89.5 parts of methyl cellosolve were mixed and dissolved to prepare a dyeable radiation-sensitive resin solution.
この可染性感放射線性樹脂溶液を、ガラス板にスピンコ
ーターを用いて乾燥膜厚がlIJmになるように塗布し
、これを140℃で30分間乾燥したのち、所定のパタ
ーンを有するマスクを介して40 m J / ciの
紫外線を照射し、超純水に1分間浸漬して現像を行い、
所定のパターンを得た。This dyeable radiation-sensitive resin solution was applied to a glass plate using a spin coater so that the dry film thickness was 1IJm, and after drying at 140°C for 30 minutes, it was applied through a mask with a predetermined pattern. The film was developed by irradiating it with 40 mJ/ci ultraviolet light and immersing it in ultrapure water for 1 minute.
Obtained a predetermined pattern.
このガラス板を180℃で30分間乾燥したのち、ブラ
ック181 (日本化薬■製、アゾ系酸性黒色染料)の
0.5%水溶液で70℃で10分間染色することにより
、黒色のパターンを有するガラス板が得られた。This glass plate was dried at 180°C for 30 minutes, and then dyed with a 0.5% aqueous solution of Black 181 (manufactured by Nippon Kayaku ■, azo acidic black dye) at 70°C for 10 minutes to form a black pattern. A glass plate was obtained.
得られた黒色パターンの膜厚は1.2μmであり、黒色
パターンの400〜700nmの光線透過率はすべて1
%以下であった。The film thickness of the obtained black pattern was 1.2 μm, and the light transmittance of the black pattern from 400 to 700 nm was all 1.
% or less.
また、黒色パターンの膜荒れやパターンの崩れは全くな
く、瘉めて優れたパターン形状を有していた。Furthermore, there was no film roughness or pattern collapse of the black pattern, and the pattern had an excellent shape.
比較例1
実施例1の可染性感放射線性樹脂の代わりに、ゼラチン
と重クロム酸アンモニウムとを溶解させた溶液を用いて
、実施例1と同様に乾燥膜厚が1μmになるようにガラ
ス板に塗布し、乾燥し、次いで露光< 100 m J
/ ctAの紫外vA)L、現像(超純水、1分間浸
漬)し、乾燥(150“C130分間)し、実施例1と
同一条件で染色を行い、黒色パターンを得た。Comparative Example 1 A solution of gelatin and ammonium dichromate was used instead of the dyeable radiation-sensitive resin of Example 1, and a glass plate was coated in the same manner as in Example 1 so that the dry film thickness was 1 μm. , dried and then exposed to < 100 m J
/ctA ultraviolet vA)L, developed (immersed in ultrapure water for 1 minute), dried (150"C for 130 minutes), and dyed under the same conditions as in Example 1 to obtain a black pattern.
得られた黒色パターンの膜厚は1.1μmであり、黒色
パターンの400〜700nmの光線透過率は、20〜
70%であった。The film thickness of the obtained black pattern was 1.1 μm, and the light transmittance of the black pattern in the range of 400 to 700 nm was 20 to 700 nm.
It was 70%.
比較例2
実施例1の可染性感放射線性樹脂の代わりに、カゼイン
と重クロム酸アンモニウムとを溶解させた溶液を用いて
、比較例1と同様の方法で黒色パターンを得た。Comparative Example 2 A black pattern was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, using a solution in which casein and ammonium dichromate were dissolved instead of the dyeable radiation-sensitive resin of Example 1.
得られた黒色パターンの膜厚は1.1μmであり、黒色
パターンの400〜700nmの光線透過率は、20〜
70%であった。The film thickness of the obtained black pattern was 1.1 μm, and the light transmittance of the black pattern in the range of 400 to 700 nm was 20 to 700 nm.
It was 70%.
実施例2
実施例1において、ブラック181の代わりにブランク
205 (日本化薬■製、アゾ系酸性黒色染料)を用い
た以外は、実施例1と同様にして黒色パターンを得た。Example 2 A black pattern was obtained in the same manner as in Example 1, except that Blank 205 (manufactured by Nippon Kayaku ■, azo acidic black dye) was used instead of Black 181.
得られた黒色パターンの膜厚は1.2μmであり、黒色
パターンの400〜700 nmの光線透過率は1%以
下であった。The film thickness of the obtained black pattern was 1.2 μm, and the light transmittance of the black pattern in the wavelength range of 400 to 700 nm was 1% or less.
実施例3
N−ビニル−2−ピロリドン50部、3−(N−メタク
リロイル)アミノプロピルトリメチルアンモニウムクロ
リド30部およびアクリル酸エチル20部よりなる共重
合体10部に、4,4′ジアジドカルコン0.5部およ
びエチルセロソルブ89.5部を混合し、溶解させ、可
染性感放射線性樹脂溶液を作製した。Example 3 To 10 parts of a copolymer consisting of 50 parts of N-vinyl-2-pyrrolidone, 30 parts of 3-(N-methacryloyl)aminopropyltrimethylammonium chloride, and 20 parts of ethyl acrylate, 0 parts of 4,4'diazide chalcone was added. .5 parts and 89.5 parts of ethyl cellosolve were mixed and dissolved to prepare a dyeable radiation-sensitive resin solution.
この可染性感放射線性樹脂溶液を用いて、実施例1と同
様の操作により黒色パターンを得た。Using this dyeable radiation-sensitive resin solution, a black pattern was obtained in the same manner as in Example 1.
得られた黒色パターンの膜厚は1、lumであり、黒色
パターンの400〜700nmの光線透過率は、1%以
下であった。The thickness of the obtained black pattern was 1.0 lum, and the light transmittance of the black pattern from 400 to 700 nm was 1% or less.
本発明は、可染性材料からなるパターンを染色して着色
パターンを形成するにもかかわらず、膜厚が1μm前後
でも高い染色性を有しており、従来のゼラチン、カゼイ
ンなどの可染性感光性材料では不可能であった色分解用
フィルターの品質向上が図れ、特に黒色で染色すること
によって遮光性に優れたブラックストライプを形成する
ことが可能となる。Although the present invention forms a colored pattern by dyeing a pattern made of a dyeable material, it has high dyeability even when the film thickness is around 1 μm, and it has a high dyeability compared to conventional dyeable materials such as gelatin and casein. It is possible to improve the quality of color separation filters, which was not possible with optical materials, and in particular, by dyeing them black, it becomes possible to form black stripes with excellent light-shielding properties.
特許出願人 日本合成ゴム株式会社 代理人 弁理士 白 井 重 隆Patent applicant: Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Agent: Patent attorney Takashi Shirai
Claims (1)
造を有しかつ重合可能な不飽和結合を有する単量体、お
よび(c)(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体を
含有してなる可染性感放射線性樹脂を、基板に塗布し、
放射線を照射し、現像してパターンを形成させたのち、
金属錯塩を有するアゾ系酸性染料で染色する着色パター
ンの形成方法。(1) A copolymer with (a) vinyl lactams, (b) a monomer having a quaternary amine structure and a polymerizable unsaturated bond, and (c) a (meth)acrylic acid ester. Applying the dyeable radiation-sensitive resin containing the dye to the substrate,
After irradiating with radiation and developing to form a pattern,
A method for forming a colored pattern by dyeing with an azo acid dye containing a metal complex salt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63188328A JPH0239155A (en) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | Colored pattern forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63188328A JPH0239155A (en) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | Colored pattern forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0239155A true JPH0239155A (en) | 1990-02-08 |
Family
ID=16221686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63188328A Pending JPH0239155A (en) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | Colored pattern forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0239155A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5488429A (en) * | 1992-01-13 | 1996-01-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Video signal processor for detecting flesh tones in am image |
US5638136A (en) * | 1992-01-13 | 1997-06-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for detecting flesh tones in an image |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61292640A (en) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Colored resin formed body |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP63188328A patent/JPH0239155A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61292640A (en) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Colored resin formed body |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5488429A (en) * | 1992-01-13 | 1996-01-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Video signal processor for detecting flesh tones in am image |
US5561474A (en) * | 1992-01-13 | 1996-10-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Superimposing circuit performing superimposing based on a color saturation level determined from color difference signals |
US5638136A (en) * | 1992-01-13 | 1997-06-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for detecting flesh tones in an image |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6788331B2 (en) | Color curable resin composition, color filter and display device | |
CN108508519A (en) | Optical film and its manufacturing method | |
JPH07140654A (en) | Radiation-sensitive composition | |
KR101989193B1 (en) | A colored curable resin composition | |
CN106892855B (en) | Novel compound, colored dispersion liquid, colored curable resin composition, color filter, and display device | |
KR102128122B1 (en) | Photosensitive resin composition | |
KR20170099782A (en) | colored curable resin composition comprising the dye solution, color filters, and liquid crystal display devices | |
JP2016038483A (en) | Photosensitive resin composition | |
JPH01200353A (en) | Radiation sensitive coloring resin composition | |
TWI778975B (en) | Coloring composition | |
JP6192898B2 (en) | Curable resin composition | |
JPH0239155A (en) | Colored pattern forming method | |
JP3852516B2 (en) | Polymer composition for color filter, color filter and liquid crystal display device | |
JPH09291238A (en) | Blue ink composition for color filter and production of color filter with the same | |
JP2666402B2 (en) | Color filter | |
EP4219631A1 (en) | Coloring composition | |
JPH04204656A (en) | Negative type photosensitive composition and formation of color filter using same | |
JP5696389B2 (en) | Dyes and coloring compositions | |
WO2021005997A1 (en) | Composition containing coloring agent | |
KR20160115303A (en) | Colored photosensitive resin composition and color filter manufactured by the same | |
JPS62138802A (en) | Production of color filter | |
JPH09291240A (en) | Green ink composition for color filter and production of color filter with the same | |
KR102510303B1 (en) | A colored photo sensitive resin composition, a color filter comprising the same, and an image display devide comprising the color filter | |
JPH09292516A (en) | Production of color filter | |
CN112567295B (en) | Colored curable resin composition, color filter and display device |