JPH0238481A - Absorbent composition for absorption refrigerator - Google Patents

Absorbent composition for absorption refrigerator

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JPH0238481A
JPH0238481A JP63188195A JP18819588A JPH0238481A JP H0238481 A JPH0238481 A JP H0238481A JP 63188195 A JP63188195 A JP 63188195A JP 18819588 A JP18819588 A JP 18819588A JP H0238481 A JPH0238481 A JP H0238481A
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JP
Japan
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absorbent
compound
group
refrigerant
stabilizer
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Application number
JP63188195A
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Japanese (ja)
Inventor
Norio Takahashi
則雄 高橋
Takeshi Hihara
健 日原
Yoshinobu Nakamura
好伸 中村
Toshimichi Shimizu
清水 敏通
Akashi Ueno
上野 証
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Toho Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Toho Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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    • Y02B30/62Absorption based systems

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  • Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an absorbent which does not deteriorate even when subjected to high-temperature conditions for a long time and has excellent safety by simultaneously adding both a stabilizer effective for the refrigerant and a stabilizer effective for the absorbent to a specified absorbent. CONSTITUTION:A stabilizer for an absorbent comprising at least eight of a group 1 comprising at least one compound having at least one imino group and/or a group of formula II or/and a phenolic OH group in the molecule (e.g., phenothiazine) and a group 2 comprising at least one member selected from among a tribasic phosphite compound, a phosphate compound, an epoxy compound, a metal salt of a carboxylic acid and a basic lead salt (e.g., triethyl phosphite) and a stabilizer for a refrigerant comprising a five-membered or six-membered cyclic ether compound, an alcohol, a metal perchlorate, a nitro compound and an oxide are simultaneously added to an absorbent of a polyethylene glycol dialkyl ether of formula I (wherein R1 and R2 are each a 1-4C alkyl, and n is 2-20), e.g., polyethylene glycol dimethyl ether.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明による吸収剤組成物(以下組成物と呼ぶ)は、吸
収式冷凍機及びヒートポンプに有用な吸収冷媒組成物に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The absorbent composition (hereinafter referred to as composition) according to the present invention relates to an absorption refrigerant composition useful in absorption refrigerators and heat pumps.

[従来の技術] 一般的に、例えば、吸収冷凍機は第1図に示した様な吸
収冷媒組成物の入った閉鎖回路系であって、発生器、凝
縮器、蒸発器及び吸収器から構成される。蒸発器では、
液化した冷媒を蒸発させることにより、外部から熱を奪
い冷凍する。更に、蒸発器で気化した冷媒蒸気は、吸収
器に送られ、二二で、冷媒濃度の低い吸収液と接触し、
この液に吸収される。
[Prior Art] Generally, for example, an absorption refrigerator is a closed circuit system containing an absorption refrigerant composition as shown in FIG. 1, and is composed of a generator, a condenser, an evaporator, and an absorber. be done. In the evaporator,
By evaporating the liquefied refrigerant, it removes heat from the outside and freezes it. Furthermore, the refrigerant vapor vaporized in the evaporator is sent to the absorber, where it comes into contact with an absorption liquid with a low refrigerant concentration,
It is absorbed into this liquid.

冷媒を吸収して、冷媒濃度の高くなった吸収液は、発生
器に送られる。発生器内は、例えば100°C程度に加
熱されており、冷媒濃度の高い吸収液はここで冷媒蒸気
を放出する。吸収液より放出され気化した冷媒蒸気は、
更に凝縮器に送られ、ここで例えば、60℃以下に冷却
され、凝縮し、液化冷媒となる。この液化冷媒は減圧弁
を通って、再び蒸発器へ送り込まれ、ここで蒸発して外
部から熱を奪い、冷凍する。
The absorption liquid that has absorbed the refrigerant and has a high refrigerant concentration is sent to the generator. The inside of the generator is heated to, for example, about 100° C., and the absorption liquid with a high refrigerant concentration releases refrigerant vapor here. The refrigerant vapor released from the absorption liquid is
It is further sent to a condenser, where it is cooled to, for example, 60° C. or lower, condensed, and becomes a liquefied refrigerant. This liquefied refrigerant passes through the pressure reducing valve and is sent to the evaporator again, where it evaporates, removes heat from the outside, and freezes.

一方、発生器で冷媒蒸気を放出した吸収液は、冷媒濃度
の低い吸収液となって吸収器に戻り、再び冷媒蒸気と接
触し、冷媒を吸収する。
On the other hand, the absorption liquid that has released refrigerant vapor in the generator returns to the absorber as an absorption liquid with a low refrigerant concentration, contacts the refrigerant vapor again, and absorbs the refrigerant.

このように、吸収式冷凍機は、サイクル工程を、連続的
に、かつ長期間動作し、しかも各工程の作用と条件から
理解される通り、冷媒と吸収液とはいずれも加熱と冷却
を繰り返えす過酷な条件で使用されるものである。
In this way, absorption chillers operate cycle processes continuously and over long periods of time, and as can be understood from the actions and conditions of each process, both the refrigerant and the absorption liquid are repeatedly heated and cooled. It is used under harsh conditions.

即ち、冷凍機の効率を高めるための最大のポイントは、
発生器での冷媒放出温度を可能な限り高温にし、吸収液
からの冷媒放出量を多くすることである。
In other words, the biggest point to increase the efficiency of refrigerators is:
The objective is to make the refrigerant discharge temperature in the generator as high as possible and increase the amount of refrigerant discharged from the absorption liquid.

その為、長期間、高温条件下にあっても劣化しない、安
全性に優れた冷媒と吸収液の出現が強く要請されて来た
のである。
Therefore, there has been a strong demand for refrigerants and absorption liquids that are highly safe and do not deteriorate even under high-temperature conditions for long periods of time.

[発明が解決しようとする問題点] 一般的に、冷媒特にフッ化炭化水素と吸収剤特にポリエ
チレチレングリコールジアルキルエーテルの熱劣化のメ
カニズムとして、例えば、次のようなメカニズムが提案
されている。
[Problems to be Solved by the Invention] In general, the following mechanism has been proposed as a mechanism for thermal deterioration of refrigerants, particularly fluorinated hydrocarbons, and absorbents, particularly polyethylene glycol dialkyl ether.

(1)フッ化炭化水素の劣化 (例えばモノクロロジフルオロメタン及びテトラフルオ
ロエタンの場合) 発生器の中で、加熱されると、金属材質の表面に形成さ
れた(例えばFe2O,、)の影響で、フッ化炭化水素
は劣化し、ハロゲン化金属(例えばFe2CD、3、F
 e F3)、塩化水素或いはフッ化水素を生成する。
(1) Deterioration of fluorinated hydrocarbons (for example, in the case of monochlorodifluoromethane and tetrafluoroethane) When heated in the generator, due to the influence of (for example, Fe2O, etc.) formed on the surface of the metal material, Fluorinated hydrocarbons degrade and form metal halides (e.g. Fe2CD,3,F
e F3), produces hydrogen chloride or hydrogen fluoride.

例えば このようなフッ化炭化水素の劣化は冷媒能力の低下をも
たらすだけでなく、劣化生成物の影響で装置の金属材質
は腐食する。
For example, such deterioration of fluorinated hydrocarbons not only causes a decrease in refrigerant capacity, but also causes corrosion of the metal materials of the device due to the influence of the deterioration products.

また、更には劣化生成物の影響で吸収剤も劣化し吸収能
力が低下する。
Furthermore, the absorbent also deteriorates due to the influence of the deterioration products, resulting in a decrease in absorption capacity.

(例えば、テトラエチレングリコールジメチルエーテル
の場合) テトラエチレングリコールジメチルエーテルは、ハロゲ
ン化金属(例えばFeCQ3、F e F、)、塩化水
素、フッ化水素の影響で分解劣化し、アルデヒドや酸を
生成する。例えば下記のような反応が考えられる。
(For example, in the case of tetraethylene glycol dimethyl ether) Tetraethylene glycol dimethyl ether decomposes and deteriorates under the influence of metal halides (for example, FeCQ3, FeF,), hydrogen chloride, and hydrogen fluoride, producing aldehydes and acids. For example, the following reactions can be considered.

・CH,O(C,H4O)、CH。・CH, O (C, H4O), CH.

更に →CH,CHO+CH,C0OH+(etc、)このよ
うなテトラエチレングリコールジメチルエーテルの劣化
生成物はいずれもフッ化炭化水素の溶解ノブに乏しいた
め、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが劣化
すると本来の冷凍能力を維持することができない。
Furthermore, → CH, CHO + CH, COOH + (etc,) All of these degradation products of tetraethylene glycol dimethyl ether are poor in the dissolution knob of fluorinated hydrocarbons, so when tetraethylene glycol dimethyl ether deteriorates, it maintains its original refrigerating ability. I can't.

以上のような分解劣化のメカニズムからも判るとおり、
フッ化炭化水素とポリエチレングリコールジアルキルエ
ーテルの組合せによる吸収冷凍機用組成物の安定性は、
冷媒と吸収剤の両者の安定性の上に成り立っているもの
である。
As can be seen from the mechanism of decomposition and deterioration described above,
The stability of the composition for absorption refrigerators based on the combination of fluorinated hydrocarbon and polyethylene glycol dialkyl ether is as follows:
It is based on the stability of both the refrigerant and the absorbent.

従って、それぞれの分解劣化のメカニズムから判断し、
分解抑制するための合理的な安定剤の選択が重要である
のは勿論のこと、冷媒と吸収剤のそれぞれの分解抑制に
効果的な安定剤を併用することこそ、肝要なことである
Therefore, judging from the mechanism of each decomposition and deterioration,
It goes without saying that it is important to select a rational stabilizer to inhibit decomposition, but it is also important to use stabilizers that are effective in inhibiting the decomposition of both the refrigerant and the absorbent.

一方、従来の吸収冷媒組成物としての冷媒と吸収剤の組
み合せとして例えば、特開昭60−4O185号公報、
特開昭60−4O186号公報、及び特開昭60−4O
187号公報には、それぞれ冷媒としてフッ化炭化水素
、吸収剤としてポリエチレングリコールジメチルエーテ
ル、特にジエチレングリコールジメチルエーテル、l・
ジエチレングリコールジメチルエーテル、あるいは、テ
トラエチレングリコールジメチルエーテルが開示されて
いる。
On the other hand, as a combination of a refrigerant and an absorbent as a conventional absorption refrigerant composition, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-4O185,
JP-A-60-4O186 and JP-A-60-4O
No. 187 discloses fluorinated hydrocarbons as refrigerants, polyethylene glycol dimethyl ether as absorbents, especially diethylene glycol dimethyl ether, l.
Diethylene glycol dimethyl ether or tetraethylene glycol dimethyl ether is disclosed.

更に、又、特開昭57−124664号公報、特開昭5
8−61171号公報、特開昭58−201878号公
報及び特開昭60−108490号公報には冷媒として
、フッ化炭化水素、吸収剤としてポリエチレングリコー
ルジメチルエーテルを用いた吸収冷媒組成物の安定性を
付与するための安定剤が開示されている。
Furthermore, JP-A-57-124664, JP-A-5
No. 8-61171, JP-A-58-201878, and JP-A-60-108490 describe the stability of absorption refrigerant compositions using fluorinated hydrocarbons as refrigerants and polyethylene glycol dimethyl ether as absorbents. A stabilizer for application is disclosed.

例えば、特開昭57−124664号公報によれば、安
定剤として、亜リン酸エステル、エポキシ化合物及び有
機スズ化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種か
らなるものが開示されている。
For example, JP-A-57-124664 discloses a stabilizer consisting of at least one member selected from the group consisting of phosphites, epoxy compounds, and organic tin compounds.

更に、例えば特開昭58−61171号公報によれば、
フッ化炭化水素とポリエチレングリコールジメチルエー
テルからなる吸収冷媒組成物の安定剤としてホスフェー
ト化合物が開示されている。
Furthermore, for example, according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-61171,
Phosphate compounds are disclosed as stabilizers for absorption refrigerant compositions consisting of fluorinated hydrocarbons and polyethylene glycol dimethyl ether.

更に、例えば特開昭58−201.878号公報によれ
ば、安定剤として、カルボン酸金属塩及び塩基性並塩か
らなる群より選ばれたもの、更に、塩基性ホスファイト
及びエポキシ化合物からなる群より選ばれたものが開示
されている。
Further, for example, according to JP-A No. 58-201.878, the stabilizer is selected from the group consisting of carboxylic acid metal salts and basic salts, and furthermore, basic phosphites and epoxy compounds. Those selected from the group are disclosed.

更に例えば、特開昭60−108490号公報によれば
、安定剤として亜リン酸エステル類が開示されている。
Further, for example, JP-A-60-108490 discloses phosphorous esters as stabilizers.

然るに、フッ化炭化水素とポリエチレングリコールシア
キルエーテルをそれぞれ冷媒及び吸収剤として使う吸収
冷凍機用組成物は、他の組成物と比較すると優れた物理
化学的性質を持っているにも拘わらず、末だに充分な熱
安定性を具備したものが出現していないのが現状である
However, although compositions for absorption refrigerators that use fluorinated hydrocarbons and polyethylene glycol cyakyl ether as refrigerants and absorbents, respectively, have superior physicochemical properties compared to other compositions, At present, no material with sufficient thermal stability has yet appeared.

[問題点を解決するための手段] 本発明は、吸収式冷凍機及びヒートポンプに使用した場
合、熱履歴や酸性物質による分解劣化及び装置材質への
腐食性がなく、更に冷媒及び吸収剤相互の溶解性が良く
、結晶を析出せず、装置の持つ最大の能力を発揮するに
充分な高温安定性の高い吸収冷凍機用吸収剤組成物を提
供することにある。
[Means for Solving the Problems] When the present invention is used in absorption refrigerators and heat pumps, there is no thermal history, no decomposition deterioration due to acidic substances, no corrosiveness to equipment materials, and furthermore, there is no mutual interaction between refrigerant and absorbent. The object of the present invention is to provide an absorbent composition for an absorption refrigerator that has good solubility, does not precipitate crystals, and has high high temperature stability sufficient to exert the maximum capacity of the device.

本発明に関する組成物は次の(A)、(B)及び(C)
から構成される。
The compositions related to the present invention include the following (A), (B) and (C).
It consists of

(A)  ・ 吸収剤 化学式R8○(C2H,O)n R21(R1、R2・
炭素数1〜4のアルキル基、n:2〜20の整数)即ち
、・CH,O(C,H4O)nCH3・CH,○(C2
H4O)nC2H1 ・CH,0(C2H4O) n C2H?−CH,○(
C,H,○)nC4Hs −C2H,○(C2H4O) n C2Ha・C,H6
0(C,H,0)nC3H?−C2H,O(C,H4O
) n C4Hs−C,H,○(C2H4O)nC3H
+−C3H,○(C2H,0)n C41−1゜・C4
H,○(C2H4O)n C,H。
(A) ・ Absorbent chemical formula R8○(C2H,O)n R21(R1, R2・
an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n: an integer of 2 to 20), i.e., ・CH,O(C,H4O)nCH3・CH,○(C2
H4O)nC2H1 ・CH,0(C2H4O) n C2H? -CH,○(
C,H,○)nC4Hs -C2H,○(C2H4O) n C2Ha・C,H6
0(C,H,0)nC3H? -C2H,O(C,H4O
) n C4Hs-C,H,○(C2H4O)nC3H
+-C3H,○(C2H,0)n C41-1°・C4
H,○(C2H4O)n C,H.

で表わされる同族体化合物の単一同族体又は2種以上の
同族体の混合物である。
It is a single homolog or a mixture of two or more homologs of the homolog compound represented by.

勿論、単一同族体中の各化合物の組成は限定されない。Of course, the composition of each compound within a single homolog is not limited.

特に好ましいものは、CJ(,0(C2H4O)nC[
(。
Particularly preferred is CJ(,0(C2H4O)nC[
(.

で表わされるポリエチレングリコールジメチェテルであ
る。
It is polyethylene glycol dimethether represented by

これらポリエチレングリコールジアルキルエーテルは組
成物巾約70〜99.7(重量%)を占めることができ
るが、特に好ましくは約85〜98゜9(重量%)であ
る。
These polyethylene glycol dialkyl ethers can account for about 70 to 99.7 (wt.%) of the composition, but are particularly preferably about 85 to 98.9 (wt.%).

(B):吸収剤用安定剤 吸収剤(ポリエチレングリコールジアルキルエテル)の
熱安定性を高めるための安定剤で、次の二つのグループ
で区分される各グループのli(独又は混合。
(B): Stabilizer for absorbent A stabilizer for increasing the thermal stability of absorbent (polyethylene glycol dialkyl ether), classified into the following two groups (li of each group (single or mixed).

第一グループニ ーNH−基、又は(及び)−C−S−基、又は(及び)
フェノール性○ト(を分子中に少なくとも1個持つ化合
物の1種、又は2種以」二の混合物、。
1st group NH- group, or (and) -C-S- group, or (and)
One type of compound, or a mixture of two or more types, of compounds having at least one phenolic compound in the molecule.

第二グループ 三塩基性ホスファイト化合物、ホスフェート化合物、エ
ポキシ化合物、カルボン酸金属塩及び塩基性鉛塩の1種
又は2種以上の混合物 で表わされる2つのグループの単独又は混合。
Group 2 Two groups represented by one or a mixture of two or more of tribasic phosphite compounds, phosphate compounds, epoxy compounds, carboxylic acid metal salts, and basic lead salts, either alone or in combination.

第一グループに属する化合物としては、例えば、・フェ
ノチアジン及びその誘導体 ・2,6−シタシャリ−ブチルー4−メチルフェノール ・2,2′−メチレンビス(6−ターシャリ−ブチル−
4−メチルフェノール) ・4,4゛−ブチリデンビス(6−ターシャリ−ブチル
−m−クレゾール) ・1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−フェノール)シク
ロヘキサン ・スチレン化フェノール ・4,4°−チオビス(6−ターシャリ−ブチル−3−
メチルフェノール) ・ジラウリル−3,3”−チオジプロピオネート・2−
メルカプト−ベンズイミダゾールニッケルジブチルジチ
オカーバメート ・N 、N’−ジセカンダリーブチルーP−フェニレン
ジアミン ・ジフェニルグアニジン ・P、P”−ジオクチルジフェニルアミン・ノニルジフ
ェニルアミン ・N−1,3−ジメチルブチル−N“−フェニルP−フ
ェニレンジアミン ・N−イソプロピル−N−フェニル−P−フェニレンジ
アミン ・N、N’−ジフェニル−P−フェニレンジアミン・N
、No−ジアリル−P−フェニレンジアミン・6−ニト
キシー2.2.4−1−リスチル−1,2ジハイドロキ
ノリン及び重合物 ・フェノチアジン 特に好ましい化合物としては、次の化合物を挙げること
ができる。
Examples of compounds belonging to the first group include: -phenothiazine and its derivatives -2,6-t-butyl-4-methylphenol -2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-
4-methylphenol) ・4,4゛-butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol) ・1,1-bis-(4-hydroxy-phenol)cyclohexane ・Styrenated phenol ・4,4°-thiobis( 6-tert-butyl-3-
methylphenol) ・Dilauryl-3,3”-thiodipropionate ・2-
Mercapto-benzimidazole nickel dibutyl dithiocarbamate/N,N'-dise-butyl-P-phenylenediamine/diphenylguanidine/P,P"-dioctyldiphenylamine/nonyldiphenylamine/N-1,3-dimethylbutyl-N"-phenyl P-phenylenediamine/N-isopropyl-N-phenyl-P-phenylenediamine/N,N'-diphenyl-P-phenylenediamine/N
, No-diallyl-P-phenylenediamine/6-nitoxy 2.2.4-1-listyl-1,2 dihydroquinoline and polymer/phenothiazine Particularly preferred compounds include the following compounds.

・フェノチアジン ・N−イソプロピル−N−フェニル−P−フェニレンジ
アミン ・N 、N’−ジフェニル−P−フェニレンジアミン・
N−1,3−ジメチルブチル−No−フェニルP−フェ
ニレンジアミン ・N、N’−ジアリル−P−フェニレンジアミン・N、
N“−ジセカンダリーブチルーP−フェニレンジアミン 第ニゲループに属する化合物としては例えば次の化合物
を挙げることができる。
・Phenothiazine ・N-isopropyl-N-phenyl-P-phenylenediamine ・N,N'-diphenyl-P-phenylenediamine ・
N-1,3-dimethylbutyl-No-phenyl P-phenylenediamine/N, N'-diallyl-P-phenylenediamine/N,
Examples of compounds belonging to the N"-dise-butyl-P-phenylenediamine group include the following compounds.

・三塩基性ホスファイト化合物 化学式 %式% [但しR,、R2,R3はそれぞれ独立にアルキル基。・Tribasic phosphite compound Chemical formula %formula% [However, R,, R2, and R3 are each independently an alkyl group.

アルケニル基、アリール基、アラルキル基を示す]で表
わされる化合物。
A compound represented by an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group.

例えば、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファ
イト、トリステアリルホスファイト、トリデシルホスフ
ァイト、トリラウリルホスファイト、トリフェニルホス
ファイトなどである。
Examples include triethyl phosphite, tributyl phosphite, tristearyl phosphite, tridecyl phosphite, trilauryl phosphite, triphenyl phosphite, and the like.

・ホスフェート化合物 化学式 %式% [但しR,、R2、R3はそれぞれ独立にアルキル基、
アルケニル基、フェニル基を示す。コ 例えば、トリオクチルホスフェ−1・、トリブチルホス
フェート、ジエチルホスフェート、ジイソプロピルホス
フェートである。
・Phosphate compound chemical formula % Formula % [However, R, , R2, R3 are each independently an alkyl group,
Indicates an alkenyl group and a phenyl group. For example, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, diethyl phosphate, diisopropyl phosphate.

・エポキシ化合物 ■エポキシ化脂肪酸エステル 例えば、エポキシステアリン酸メチル、エポキシステア
リン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキ
システアリン酸シクロヘキシル、エポキシステアリン酸
ベンジル、エポキシステアリン酸ヘキシル ■エポキシ化油 例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポ
キシ化綿実油 ■グリシジルエーテル 例えば、フェニルグリシジルエーテル、アルキルフェニ
ルグリシジルエーテルエピクロルヒドリンビスフェノー
ル縮合物 ・カルボン酸金属塩 例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、又はリシノール酸
の金属(K、Na、Ca、Ba、□Zn、Cd、Sn、
Sr、Pb等)塩。
・Epoxy compound ■ Epoxidized fatty acid ester For example, methyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate, butyl epoxy stearate, cyclohexyl epoxy stearate, benzyl epoxy stearate, hexyl epoxy stearate ■ Epoxidized oil For example, epoxidized soybean oil, Epoxidized linseed oil, epoxidized cottonseed oil Glycidyl ether For example, phenyl glycidyl ether, alkylphenyl glycidyl ether Epichlorohydrin Bisphenol condensate/carboxylic acid metal salt For example, stearic acid, lauric acid, or ricinoleic acid metal (K, Na, Ca, Ba, □Zn, Cd, Sn,
Sr, Pb, etc.) salts.

・塩基性鉛塩 例えば、塩基性炭酸鉛[2PbCO,・pb(○H)2
]、塩基性硫酸鉛[3Pb○・pbso、・I−I 2
0コ、塩基性面リン酸鉛[2PbO−PbHPO3・1
/2H20コ、二塩基性フタル酸鉛[2PbO−Pb(
C8H4O4)] これら二つのグループに属する化合物の単独又は2種以
上の混合物を用いることができる。
・Basic lead salts such as basic lead carbonate [2PbCO, .pb(○H)2
], basic lead sulfate [3Pb○・pbso,・I-I 2
0, basic surface lead phosphate [2PbO-PbHPO3・1
/2H20co, dibasic lead phthalate [2PbO-Pb(
C8H4O4)] Compounds belonging to these two groups can be used alone or in a mixture of two or more.

又、これら安定剤は、組成物の中の約0.05〜10(
重量%)を占めることが出来るが、更に好ましくは約0
.1〜5(重量%)である。
In addition, these stabilizers may be present in the composition in an amount of about 0.05 to 10 (
% by weight), but more preferably about 0
.. 1 to 5 (wt%).

(C):冷媒用安定剤 冷媒(フッ化炭化水素系冷媒)の熱安定性を高め、更に
は腐食防止効果を高めるための安定剤である次の化合物
。5員環又は6員環の環状エーテル化合物、アルコール
類、過塩基価金属塩、ニトロ化合物及びオキサイド類の
単独又は2種以上の混合物。具体的には以下のような化
合物を挙げることができる。
(C): Refrigerant stabilizer The following compound is a stabilizer for increasing the thermal stability of refrigerants (fluorinated hydrocarbon refrigerants) and further enhancing the corrosion prevention effect. 5-membered or 6-membered cyclic ether compounds, alcohols, overbased metal salts, nitro compounds, and oxides alone or in mixtures of two or more. Specifically, the following compounds can be mentioned.

・5員環又は6員環の環状エーテル化合物例えば、1,
4−ジオサン、1.3−ジオサン、4−メチル−1,3
−ジオサン、2,4−ジメチル1.3−ジオキサン、1
.3−ジオキソラン、2−メチル−1,3−ジオキソラ
ン、2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン ・アルコール類 例えば、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール、オクタツール、アセチレンアルコル ・過塩基価金属塩 例えば、カルシウムカルボキシレート、カルシウムスル
ホネート、カルシウムフイネートサルチレート、カルシ
ウムスルホネート、バリウムカルボキシレート、バリウ
ムスルホネート、バリウムフイネートサルチレート、バ
リウムスルホネート、マグネシウムカルボキシレート、
マグネシウムスルホネート、マグネシウムフィネートサ
ルチレート、マグネシウムフオスホネート ニトロ化合物 例えばニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、
ニトロベンゼン ・オキサイド類 例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、
ブチレンオキサイド これら化合物の単独又は2種以上の混合物を安定剤(C
)として用いることができる。又これら安定剤は組成物
の中の約0.2〜20(重量%)を占めることが出来る
が、更に好ましくは約1〜10(重量%)である。
- 5-membered ring or 6-membered ring cyclic ether compound, for example, 1,
4-diosan, 1,3-diosan, 4-methyl-1,3
-diosan, 2,4-dimethyl 1,3-dioxane, 1
.. 3-dioxolane, 2-methyl-1,3-dioxolane, 2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, alcohols such as methanol, ethanol, propatool, butanol, octatool, acetylene alcohol/overbased metal salts For example, calcium carboxylate, calcium sulfonate, calcium finate salicylate, calcium sulfonate, barium carboxylate, barium sulfonate, barium finate salicylate, barium sulfonate, magnesium carboxylate,
Magnesium sulfonate, magnesium finate salicylate, magnesium phosphonate nitro compounds such as nitromethane, nitroethane, nitropropane,
Nitrobenzene oxides such as ethylene oxide, propylene oxide,
Butylene oxide A stabilizer (C
) can be used as These stabilizers can account for about 0.2 to 20 (wt%) of the composition, more preferably about 1 to 10 (wt%).

尚、本発明に関する組成物を用いる吸収式冷凍機又はヒ
ートポンプに使われる冷媒としては例えば・モノクロロ
ジフルオロメタン ・ジクロロモノフルオロメタン ・トリフルオロメタン ・モノクロロトリフルオロメタン ・ジフルオロメタン ・テトラフルオロメタン ・モノクロロテトラフルオロメタン ・モノクロロジフルオロメタン ・ジクロロトリフルオロメタン のような所謂フッ化炭化水素系の化合物の単独又は混合
物で、吸収サイクルの動作条件によって冷媒として選択
することのできる物質を利用することができる。又、本
発明の組成物100部に対し、一般に冷媒を約5〜70
部を使うことにより、吸収式冷凍機用の冷媒・吸収剤組
成物を構成することができる。
Examples of refrigerants used in absorption refrigerators or heat pumps using the composition of the present invention include: monochlorodifluoromethane, dichloromonofluoromethane, trifluoromethane, monochlorotrifluoromethane, difluoromethane, tetrafluoromethane, monochlorotetrafluoromethane - So-called fluorinated hydrocarbon compounds such as monochlorodifluoromethane and dichlorotrifluoromethane can be used alone or in mixtures, which can be selected as a refrigerant depending on the operating conditions of the absorption cycle. Generally, about 5 to 70 parts of refrigerant is added to 100 parts of the composition of the present invention.
A refrigerant/absorbent composition for an absorption refrigerator can be constructed by using the above.

[実施例コ 次に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例により制限されるものではない。
[Example] Next, the present invention will be explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 冷媒(例えば、モノクロロジフルオロメタン)及び吸収
剤(例えばポリエチレングリコールジメチルエーテル)
に対する各種安定剤(B及びC)の効果を評価するため
、次のような吸収冷凍機用組成物を作成した。
Example 1 Refrigerant (e.g. monochlorodifluoromethane) and absorbent (e.g. polyethylene glycol dimethyl ether)
In order to evaluate the effects of various stabilizers (B and C) on the following compositions for absorption refrigerators were prepared.

評価用組成物 (重量部) モノクロロジフルオロメタン 、30 (又はテトラフルオロエタン) ・ポリエチレングリコールジメチルエーテル・・安定剤
(B)             2.0・安定剤(C
)             3.0この評価用組成物
をステンレス製(SUS−316L)オートクレーブに
入れ、更に鉄片、銅片、及びアルミニウム片を入れて2
00 ’C±5°Cに保ち、30日間の加熱試験の後冷
媒及び吸収剤の安定性を試験した。
Composition for evaluation (parts by weight) Monochlorodifluoromethane, 30 (or tetrafluoroethane) - Polyethylene glycol dimethyl ether - Stabilizer (B) 2.0 - Stabilizer (C
) 3.0 This evaluation composition was placed in a stainless steel (SUS-316L) autoclave, and iron pieces, copper pieces, and aluminum pieces were also placed there.
The stability of the refrigerant and absorbent was tested after a 30-day heating test at 00'C ± 5°C.

■冷媒の安定性 (a)モノクロロジフルオロメタンの場合:試験後の組
成物の塩素イオン((1)量を測定。
■ Stability of refrigerant (a) In the case of monochlorodifluoromethane: Measure the amount of chlorine ions ((1)) in the composition after the test.

(b)テトラフルオロエタンの場合、試験後のフッ素イ
オン(F−)量を測定。
(b) In the case of tetrafluoroethane, measure the amount of fluorine ions (F-) after the test.

■吸収剤の安定性:加熱試験後の吸収剤の組成をガスク
ロマトグラフにより解析し、分解生成物量を測定。
■Absorbent stability: The composition of the absorbent after the heating test was analyzed using gas chromatography, and the amount of decomposition products was measured.

■金属片への影響:加熱試験後の金属片を肉眼で観察。■Effect on metal pieces: Visually observe metal pieces after heating test.

尚、試験に供したポリエチレングリコールジメチルエー
テル[OH,○(C,H,O)nCH,]の組成は以下
の通りであった。
The composition of the polyethylene glycol dimethyl ether [OH, (C, H, O) nCH,] used in the test was as follows.

n     分子同族体(重量%) 2  ・・・・・ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・ ・・・・・・    0.63 ・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 19.04
 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・ 29.05 ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・ 24.16 ・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・ 15.07  ・・・・・・・・・・・・・・・
−・・・・・・・・・・・・・・    8.08 ・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・  3.69  ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・    0.7又、
「安定性の試験結果」は第1表に示した。
n Molecular homolog (wt%) 2 ・・・・・・ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・ ・・・・・・ 0.63 ・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 19.04
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・ 29.05 ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 24.16 ・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・ 15.07 ・・・・・・・・・・・・・・・
−・・・・・・・・・・・・・・・ 8.08 ・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・ 3.69 ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・ 0.7 again,
"Stability test results" are shown in Table 1.

[発明の効果] 第1表の実施例及び比較例の結果から明らかなように、
本発明にもとづく安定剤(B及びC)は、冷媒及び吸収
剤の安定化剤として、顕著な効果のあることが判明した
[Effect of the invention] As is clear from the results of Examples and Comparative Examples in Table 1,
It has been found that the stabilizers (B and C) according to the invention have a significant effect as stabilizers for refrigerants and absorbents.

本図は吸収式冷凍機及びヒートポンプの冷媒及び吸収液
のフローの概要を概念的に示したものである。
This figure conceptually shows the outline of the flow of refrigerant and absorption liquid in an absorption refrigerator and a heat pump.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 以下に示すAの吸収剤とB、Cの安定剤から成ることを
特徴とする吸収冷凍機用の冷媒吸収剤組成物。 A:吸収剤 一般式R_1O(C_2H_4O)nR_2で示される
ポリエチレングリコールジアルキルエーテル。 [但しR_1、R_2は炭素数1〜4のアルキル基、n
は2〜20の正数] B:吸収剤用安定剤 第一グループ: −NH−基、又は(及び)▲数式、化学式、表等があり
ます▼、又は (及び)フェノール性OHを分子中に少なく共1個持つ
化合物の1種、又は2種以上の混合物。 第二グループ: 三塩基性ホスファイト化合物、ホスフェート化合物、エ
ポキシ化合物、カルボン酸金属塩及び塩基性鉛塩の1種
又は2種以上の混合物 で表わされる2つのグループの単独又は混合。 C:冷媒用安定剤 5員環又は6員環の環状エーテル化合物、アルコール類
、過塩基価金属塩、ニトロ化合物及びオキサイド類の単
独又は2種以上の混合物。
[Scope of Claims] A refrigerant absorbent composition for an absorption refrigerator, comprising an absorbent A and stabilizers B and C shown below. A: Absorbent polyethylene glycol dialkyl ether represented by the general formula R_1O(C_2H_4O)nR_2. [However, R_1 and R_2 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, n
is a positive number from 2 to 20] B: Absorbent stabilizer 1st group: -NH- group, or (and) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, or (and) phenolic OH in the molecule One type of compound having at least one compound, or a mixture of two or more types. Second group: Two groups represented by one or a mixture of two or more of tribasic phosphite compounds, phosphate compounds, epoxy compounds, carboxylic acid metal salts, and basic lead salts, either alone or in combination. C: Refrigerant stabilizer A 5- or 6-membered cyclic ether compound, alcohol, overbased metal salt, nitro compound, and oxide, either alone or in a mixture of two or more.
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