JPH0235696A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH0235696A
JPH0235696A JP63186076A JP18607688A JPH0235696A JP H0235696 A JPH0235696 A JP H0235696A JP 63186076 A JP63186076 A JP 63186076A JP 18607688 A JP18607688 A JP 18607688A JP H0235696 A JPH0235696 A JP H0235696A
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circuit
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signal
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Yasuhiro Nakamura
靖宏 中村
Kazuto Izawa
伊澤 和人
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Abstract

PURPOSE:To realize a high voltage detecting operation with high reliability by controlling the validity/invalidity of the operation of a high voltage detection circuit by the output of a decoder circuit which decodes the levels of plural input signals supplied to another external terminal at the time of supplying a high voltage from a specific external terminal. CONSTITUTION:The validity/invalidity of the operation of the high voltage detection circuit VH which receives the high voltage over a source voltage supplied from the specific external terminal A9 is controlled by the output of the decoder circuit XADB.DCR to decode the levels of the plural input signals supplied from another external terminals A and X at the time of supplying the high voltage from the specific external terminal A9. Thereby, since it is possible to nullify the operation of the high voltage detection circuit by the output of the decoder circuit XADB.DCR which receives the level of another input signal even when overshoot assumed as the high voltage is generated at the specific external terminal A9, the high voltage detecting operation with high reliability can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、電源電圧以上の高電圧信号の入力を検出する高電圧
検出回路を備えたEPROM (イレーザブル&プログ
ラマブルーリード・オンリー・メモリに利用して有効な
技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and for example, an EPROM (erasable & Programmers Concerning effective technology for use in blue-read-only memory.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

EPROMでは、シリコンシグネチャ読み出しモードを
設定するために、特定のアドレス端子を3値レベルの入
力として、電源電圧以上に設定さり高電圧の入力を検出
すると自動的に製品コードや書き込み条件等のデータを
出力するようにしているものがある。このようなシリコ
ンシグネチャ(silicon signature)
に関しては、例えば■オーム社昭和60年12月25日
発行rマイクロコンピュータハンドブック」頁265が
ある。
In EPROM, in order to set the silicon signature read mode, a specific address terminal is set as a ternary level input and set to a voltage higher than the power supply voltage, and when a high voltage input is detected, data such as the product code and write conditions are automatically read. There is something that I am trying to output. Silicon signature like this
For example, see page 265 of ``Microcomputer Handbook'' published by Ohmsha on December 25, 1985.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記高電圧検出回路、は、その入力端子に供給される入
力信号が通常のロウレベルからハイレベルに変化すると
きに発生するオーバーシュート’cK電圧と判定してし
まうという誤動作を起こす虞れがある。高電圧検出回路
が上記のような誤動作を起こすと、EPROMが通常の
読み出しモードにあるにもかかわらずシリコンシグネチ
ャ読み出しモードになってしまい、上記書き込み条件等
のデータが誤って出力されてしまう。
The above-mentioned high voltage detection circuit may malfunction in that it may determine that it is an overshoot 'cK voltage that occurs when the input signal supplied to its input terminal changes from a normal low level to a high level. When the high voltage detection circuit malfunctions as described above, the EPROM enters the silicon signature read mode even though it is in the normal read mode, and data such as the write conditions are erroneously output.

この発明の目的は、動作の信頼性の向上を図った高電圧
検出回路を持つ半導体集積回路装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a high voltage detection circuit with improved operational reliability.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

C課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
Means for Solving Problem C] A brief summary of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、特定の外部端子から供給される電源電圧以上
の高電圧を受ける高電圧検出回路の動作の有効/無効を
、上記特定の外部端子から高電圧を供給するときの他の
外部端子から供給される複数の入力信号レベルを解読す
るデコーダ回路の出力により制御する。
In other words, the operation of the high voltage detection circuit that receives a high voltage higher than the power supply voltage supplied from a specific external terminal is enabled/disabled when the high voltage is supplied from another external terminal when the high voltage is supplied from the specific external terminal. control by the output of a decoder circuit that decodes multiple input signal levels.

(作 用) 上記した手段によれば、特定の外部端子に高電圧とみな
されるようなオバーシュートが生しても、他の入力信号
のレベルを受けるデコーダ回路の出力によりその動作を
無効にすることができるから、信頼性の高い高電圧検出
動作を実現できるものとなる。
(Function) According to the above-described means, even if an overshoot that is considered to be a high voltage occurs at a specific external terminal, its operation is nullified by the output of the decoder circuit that receives the level of other input signals. Therefore, a highly reliable high voltage detection operation can be realized.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明が適用されたEPROM装置の一
実施例の回路図が示されている。同図の各回路素子は、
公知の集積回路の製造技術によって、特に制限されない
が、1個の単結晶シリコンのような半導体基板上におい
て形成される。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of an EPROM device to which the present invention is applied. Each circuit element in the same figure is
It is formed using known integrated circuit manufacturing techniques on a semiconductor substrate, such as, but not limited to, a single crystal silicon substrate.

この実施例のEPROM装置は、特に制限されないが、
8つのデータ入出力端子を持つようにされ、8ビツト構
成のデータの書き込み及び読み出しが可能のようにされ
る。EPROM装置は、+5ボルトのような電源電圧と
、十数ボルトのような高いレベルの書き込み電圧Vpl
)とによって動作される。EPROM装置は、通常の読
み出し動作において+5Vのような電源電圧Vccによ
って動作される。EPROM装置は、アドレス入力端子
を介して供給される外部アドレス信号、及び制御端子C
E、○E、PGMを介して供給されるチップイネーブル
信号、出力イネーブル信号、プログラム信号によってそ
の動作が制御される。
Although the EPROM device of this embodiment is not particularly limited,
It has eight data input/output terminals, allowing writing and reading of 8-bit data. EPROM devices require a power supply voltage such as +5 volts and a high level write voltage Vpl such as tens of volts.
) and operated by. EPROM devices are operated with a power supply voltage Vcc, such as +5V, during normal read operations. The EPROM device receives an external address signal supplied through an address input terminal, and a control terminal C.
Its operation is controlled by a chip enable signal, an output enable signal, and a program signal supplied via E, ○E, and PGM.

この実施例では、上記のように8ビツト構成のデータ書
き込み/読み出しを行うため、8組のメモリアレイM−
ARY (X8)とデータ入カバソファDIB(X8)
及びデータ出カバソファDOB(X8)が設けられる。
In this embodiment, in order to write/read data in an 8-bit configuration as described above, eight sets of memory arrays M-
ARY (X8) and data input cover sofa DIB (X8)
and a data output cover sofa DOB (X8).

同図では、そのうちの1つのメモリアレイM−ARYと
、データ入力回路DrB及びデータ出力回路DOBが代
表として例示的に示されている。
In the figure, one of the memory arrays M-ARY, a data input circuit DrB, and a data output circuit DOB are exemplarily shown.

メモリアレイM−ARYは、コントロールゲートと、フ
ローティングゲートとを備えた複数からなるスタックド
・ゲートトランジスタ(不揮発性メモリ素子・・MOS
 F ETQ 1〜Q6)と、ワード線Wl、W2及び
データHD1.D2〜Dnとにより構成されている。メ
モリアレイM−ARYにおいて、同じ行に配置された上
記スタックド・ゲートトランジスタQ1〜Q3  (Q
4〜Q6)のコントロールゲートは、それぞれ対応する
ワードvAW1.W2に接続され、同じ列に配置された
FAMOS )ランジスタQ1.Q4、Q2.Q5及び
Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応するデータ線D
1、D2〜Dnに接続されている。
The memory array M-ARY consists of a plurality of stacked gate transistors (non-volatile memory elements...MOS) each having a control gate and a floating gate.
FETQ1 to Q6), word lines Wl, W2 and data HD1. It is composed of D2 to Dn. In the memory array M-ARY, the stacked gate transistors Q1 to Q3 (Q
4 to Q6) control gates respectively correspond to the corresponding word vAW1. FAMOS) transistor Q1. connected to W2 and placed in the same column. Q4, Q2. Q5 and Q3. The drain of Q6 is connected to the corresponding data line D.
1, connected to D2 to Dn.

上記スタックド・ゲートトランジスタ(メモリセル)の
共通ソース線C8は、特に制限されないが、書込み信号
weを受けるデイプレフジョン型MOSFETQIOを
介して接地されている。このMOSFETQI Oは、
次の理由によって設けられている。
The common source line C8 of the stacked gate transistor (memory cell) is grounded via a depletion MOSFET QIO that receives the write signal we, although not particularly limited thereto. This MOSFETQIO is
This is established for the following reasons.

すなわち、メモリセル、例えばメモリセルQ1にデータ
を書き込む場合には、ワード線Wlに書き込みレベルの
高電圧が与えられ、データwADlに書き込むべきデー
タに従った高電圧もしくははrOVの低電圧が与えられ
る。この場合、選択データ線DIに結合された非選択と
されるべきメモリセルQ2のようなメモリセルのフロー
ティングゲートは、それとデータIDIとの間に生ずる
静電結合によって、データ線D1が高電位にされると、
それに応じてその電位が不所望に上昇されてしまう。
That is, when writing data to a memory cell, for example, memory cell Q1, a high voltage at the write level is applied to the word line Wl, and a high voltage according to the data to be written or a low voltage of rOV is applied to the data wADl. . In this case, the floating gate of a memory cell such as the memory cell Q2 that is to be unselected and is coupled to the selected data line DI is connected to the data line D1 at a high potential due to the capacitive coupling that occurs between it and the data IDI. When it is done,
The potential is accordingly increased undesirably.

その結果、非選択であることによってオフ状態に維持さ
れるべきメモリセルQ2のようなメモリセルが不所望に
R通してしまう。すなわち、非選択であるべきメモリセ
ルにリーク電流が流れてしまう。これに応じて選択され
るべきメモリセルQlに流れるべき書き込み電流が減少
されてしまう。
As a result, memory cells such as memory cell Q2, which should be maintained in an off state by being unselected, undesirably pass through R. In other words, leakage current flows into memory cells that should be unselected. Correspondingly, the write current that should flow through the selected memory cell Ql is reduced.

図示のMO5FETQIOは、書き込み時の上記内部制
御信号weのロウレベルによってそのコンダクタンスが
比較的小さくされる。これにより、書き込み時に流され
る書き込み電流によって生ずる共通ソース線CSの電位
は、MOS F ETQ 1Oのコンダクタンスが比較
的小さくされることによって比較的高い電位にされる。
The conductance of the illustrated MO5FET QIO is made relatively small by the low level of the internal control signal we during writing. As a result, the potential of the common source line CS caused by the write current flowing during writing is made relatively high by making the conductance of the MOS FETQ 1O relatively small.

この共通ソース線C8の電位が比較的高くされるとスタ
ンド・ゲートトランジスタは、基板効果によってそのし
きい値電圧は比較的高くされる。
When the potential of this common source line C8 is made relatively high, the threshold voltage of the stand gate transistor is made relatively high due to the substrate effect.

このように、非選択とされるべきスタックド・ゲートト
ランジスタの実効的なしきい値電圧が高くされる結果と
してその非選択とされるべきスタックド・ゲートトラン
ジスタに流れるリーク電流を小さくできる。これによっ
て、書き込み高電圧によって形成された書き込み電流が
効率よく選択されたスタックド・ゲートトランジスタに
供給されるので、効率的な書き込み動作を行うことがで
きる。なお、読み出し動作時には、上記制御信号weの
ハイレベルによってMOSFETQI Oのコンダクタ
ンスは、比較的大きくされる。これにより、フローティ
ングゲートの電荷注入をしないことにより低しいき値電
圧にされる論理“1″書き込みのスタックド・ゲートト
ランジスタに流れる電流を大きくできるから、その読み
出し速度を速(することができる。
In this way, as a result of increasing the effective threshold voltage of the stacked gate transistor to be unselected, the leakage current flowing through the stacked gate transistor to be unselected can be reduced. As a result, the write current generated by the high write voltage is efficiently supplied to the selected stacked gate transistor, so that an efficient write operation can be performed. Note that during the read operation, the conductance of MOSFET QIO is made relatively large due to the high level of the control signal we. This makes it possible to increase the current flowing through the stacked gate transistor for logic "1" writing, which is set to a low threshold voltage by not injecting charge into the floating gate, thereby increasing the read speed.

この実施例のEPROM装置は、図示しない外部端子を
介して供給されるX、 Yアドレス信号AX、AYを受
けるアドレスバッファXADB、YADBを含む。アド
レスバッファXADB、YADBによって形成された相
補アドレス信号は、アドレスデコーダXDCR,YDC
Rに供給される。
The EPROM device of this embodiment includes address buffers XADB and YADB that receive X and Y address signals AX and AY supplied via external terminals (not shown). Complementary address signals formed by address buffers XADB and YADB are sent to address decoders XDCR and YDC.
Supplied to R.

同図においては、上記XアドレスバッファXADBとX
アドレスデコーダXDCRを合わせて回路ブロックXA
DB −DCRとして示し、上記XアドレスバッファY
ADBとYアドレスデコーダYDCRを合わせて回路ブ
ロックYADB −DCRとして示している。
In the figure, the X address buffer XADB and
Circuit block XA with address decoder XDCR
DB-DCR, and the above X address buffer Y
ADB and the Y address decoder YDCR are collectively shown as a circuit block YADB-DCR.

特に制限されないが、上記アドレスバッファXADBと
YADBは、制御回路C0NTによって形成されるチッ
プ選択信号ceによって活性化されることによって、外
部端子からのアドレス信号を取り込み、外部端子から供
給されたアドレス信号と同相の内部アドレス信号と逆相
のアドレス信号とからなる相補アドレス信号を形成する
Although not particularly limited, the address buffers XADB and YADB are activated by the chip selection signal ce generated by the control circuit C0NT, take in address signals from external terminals, and combine them with the address signals supplied from the external terminals. A complementary address signal consisting of an internal address signal of the same phase and an address signal of opposite phase is formed.

XアドレスデコーダXDCRば、それに供給される相補
アドレス信号に従い、メモリアレイメモリアレイM−A
RY (図示しない他のメモリアレイに対しても同様)
のワード線に供給されるべき選択信号を形成する。Xア
ドレスデコーダXDCRは、特に制限されないが、+5
vの電源電圧によって動作される。それ故に、アドレス
デコーダXDCRは、5ボルト系の選択信号を形成する
The X address decoder XDCR selects the memory array memory array M-A according to the complementary address signal supplied thereto.
RY (same for other memory arrays not shown)
form a selection signal to be supplied to the word line of the word line. Although the X address decoder XDCR is not particularly limited, +5
It is operated with a power supply voltage of v. Therefore, the address decoder XDCR forms a 5-volt selection signal.

これに対して、メモリアレイM−ARYによって必要と
される選択信号のレベルは、読み出し動作において、例
えばはY’ 5 Vのハイレベルとはソ′OVのロウレ
ベルであり、書き込み動作の時においてほり書き込み電
圧Vl)PレベルのハイレベルとはV OVのロウレベ
ルである。XアドレスデコーダXDCRから出力される
5■系の選択信号に応答してメモリアレイM−ARYの
ワード線をそれぞれ必要とされるレベルにさせるために
、XアドレスデコーダXDCRの出力端子とメモリアレ
イの各ワード線との間にデイプレフジョン型MOSFE
TQIIないしQ12が設けられており、また、各ワー
ド線と書き込み電圧端子Vl)+1との間には書き込み
高電圧負荷回路XRが設けられている。書き込み高電圧
負荷回路XRは、その詳細を図示しないが、端子Vpf
1と各ワード線との間にそれぞれ設けられた高抵抗ポリ
シリコン層からなるような複数の高抵抗素子からなる。
On the other hand, the level of the selection signal required by the memory array M-ARY is, for example, a high level of Y' 5 V in a read operation and a low level of S'OV in a write operation. The high level of the write voltage Vl)P level is the low level of VOV. In order to make the word lines of the memory array M-ARY reach the required levels in response to the 5-system selection signals output from the X address decoder XDCR, the output terminals of the X address decoder XDCR and each memory array A dip fusion type MOSFE is connected between the word line and the word line.
TQII to Q12 are provided, and a write high voltage load circuit XR is provided between each word line and the write voltage terminal Vl)+1. Although the details of the write high voltage load circuit XR are not shown, the terminal Vpf
1 and each word line, each consisting of a high resistance polysilicon layer.

上記デイブレ・ノション型MOSFETQI 1ないし
Q12は、そのゲートに制御回路C0NTから出力され
る5■系の内部書き込み制御信号weが供給される。
The gates of the dabre-notion type MOSFETs QI1 to Q12 are supplied with a 5-system internal write control signal we output from the control circuit C0NT.

読み出し動作なら、内部書き込み制御信号weはは\゛
5■のハイレベルにされる。この場合、MOSFETQ
I 1ないしQ12のすべては、XアドレスデコーダX
DCRから出力される5V系の選択信号に対してオン状
態にされる。それ故に、XアドレスデコーダXDCRの
出力がそのまま各ワード線に伝達される。
In the case of a read operation, the internal write control signal we is set to a high level of \゛5■. In this case, MOSFETQ
All of I1 to Q12 are X address decoder
It is turned on in response to a 5V selection signal output from the DCR. Therefore, the output of the X address decoder XDCR is directly transmitted to each word line.

書き込み動作なら、内部書き込み制御信号W1は、はソ
0■のロウレベルにされる。この場合、例えば、Xアド
レスデコーダXDCRから出力される信号のうち、ワー
ド線Wlに対応される信号がは!゛5Vのハイレベル(
選択レベル)なら、MOSFETQI 1は、そのゲー
トに加わる電圧がそのソースに加わる電圧に対して相対
的に負レベルにされるので自動的にオフ状態にされる。
In the case of a write operation, the internal write control signal W1 is set to a low level of so00. In this case, for example, among the signals output from the X address decoder XDCR, the signal corresponding to the word line Wl is !゛5V high level (
(select level), MOSFET QI 1 is automatically turned off because the voltage applied to its gate is brought to a negative level relative to the voltage applied to its source.

これに応じて、ワード線W1は、高電圧負荷回路XRに
よってはソ゛書き込み電圧Vl)pのレベルのハイレベ
ルにされる。これに対し、例えば、Xアドレスデコーダ
XDCRのワード線W2に対応される信号かはy’ o
 vOロウレベルなら、MOSFETQ12はオン状態
のままにされる。それ故に、ワード線W2は、アドレス
デコーダXDCRによってはx’ o vのロウレベル
にされる。
In response, the word line W1 is set to the high level of the write voltage Vl)p by the high voltage load circuit XR. On the other hand, for example, whether the signal corresponds to the word line W2 of the X address decoder XDCR is y' o
If vO is at low level, MOSFET Q12 is kept on. Therefore, the word line W2 is set to the low level of x' ov by the address decoder XDCR.

第1図においては、メモリアレイM−ARYに対して共
通データIcDが設けられている。メモリアレイM−A
RYのデータ線とそのメモリアレイに対応される共通デ
ータ線CDとの間には、カラムスイッチ回路を構成する
MOSFETQ7〜Q9が設けられている。
In FIG. 1, common data IcD is provided for memory array M-ARY. Memory array M-A
MOSFETs Q7 to Q9 forming a column switch circuit are provided between the RY data line and the common data line CD corresponding to the memory array.

YアドレスデコーダYDCRは、それに供給される相補
アドレス信号に従い、メモリアレイM〜ARYのデータ
線を選択するための選択信号を形成する。Yアドレスデ
コーダYDCRは、XアドレスデコーダXDCRと同様
に5v系の電源電圧によって動作される。Yアドレスデ
コーダYDCRから出力される選択信号は、カラムスイ
ッチ回路の制jHのために利用される。ここで、カラム
スイッチ回路は、書き込み動作において、書き込み電圧
レベルの書き込み信号を伝送できる能力が必要とされる
。カラムスイッチMOSFETをにオンオフさせること
ができるようにするため、YアドレスデコーダYDCR
の出力端子とカラムスイッチMOS F ETのゲート
、すなわち、カラム選択線との間には、デイプレッショ
ン型MOSFETQ13〜Q15が配置されている。こ
れらMOSFETQ13ないしQ15のゲートには、前
記MO5FETQI 1ないしQ12と同様に、内部書
き込み制御信号weが供給される。カラム選択線のそれ
ぞれと、特に制限されないが、上記高電圧端子Vpl)
との間には、書き込み高電圧負荷回路YRが設けられて
いる。
Y address decoder YDCR forms a selection signal for selecting a data line of memory arrays M to ARY according to a complementary address signal supplied thereto. The Y address decoder YDCR is operated by a 5V power supply voltage similarly to the X address decoder XDCR. The selection signal output from the Y address decoder YDCR is used to control the column switch circuit jH. Here, the column switch circuit is required to have the ability to transmit a write signal at a write voltage level in a write operation. In order to turn on and off the column switch MOSFET, the Y address decoder YDCR is
Depletion type MOSFETs Q13 to Q15 are arranged between the output terminal of the column switch MOS FET and the gate of the column switch MOS FET, that is, the column selection line. The internal write control signal we is supplied to the gates of these MOSFETs Q13 to Q15, similarly to the MOSFETs QI1 to Q12. each of the column selection lines and, although not limited to, the high voltage terminal Vpl)
A write high voltage load circuit YR is provided between the two.

上記共通データ線CDは、外部端子I10から入力され
る書き込み信号を受けるデータ入力回路DIBの出力端
子に結合されている。データ入力回路DrBにおける出
力回路は、高電圧Vl)pのレベルにレベル変換された
書き込み信号によって制御される書き込みMOS F 
ETを介して書き込み電圧vppを送出する。この出力
回路は、書き込みパルスweがはゾ5■のようなハイレ
ベル(読み出し動作)なら、その出力インピーダンスが
高インピーダンス状態となるようにされる。
The common data line CD is coupled to an output terminal of a data input circuit DIB that receives a write signal input from an external terminal I10. The output circuit in the data input circuit DrB is a write MOS F controlled by a write signal level-converted to the level of a high voltage Vl)p.
A write voltage vpp is sent out via ET. This output circuit is configured such that its output impedance is in a high impedance state when the write pulse we is at a high level (read operation) as shown in FIG.

データ出力回路DOBの入力端子は、共通データ線CD
に結合される。データ出力回路DOBは、センスアンプ
と、その出力を受ける出力バッファから構成される。セ
ンスアンプは、特に制限されないが、共通データ線CD
にバイアス電流を供給するためのバイアス回路を持つ。
The input terminal of the data output circuit DOB is the common data line CD
is combined with The data output circuit DOB is comprised of a sense amplifier and an output buffer that receives its output. Although the sense amplifier is not particularly limited, the common data line CD
It has a bias circuit to supply bias current to.

バイアス回路は、その動作状態においてバイアス電流を
出力する。
The bias circuit outputs a bias current in its operating state.

バイアス回路は、適当なレベル検出機能を持つようにさ
れる。これによって、データ出力回路D0Bの入力レベ
ルが所定電位以下の時にバイアス電流が形成され、入力
レベルが所定電位に達するとバイアス電流が実質的にO
になるようにされる。
The bias circuit is provided with appropriate level detection functionality. As a result, a bias current is formed when the input level of the data output circuit D0B is below a predetermined potential, and when the input level reaches the predetermined potential, the bias current becomes substantially zero.
be made to become.

選択されたメモリセルは、予めそれに書き込まれたデー
タに従って読み出し時のワード線選択レベルに対して高
いしきい値電圧(論理“0”)か又は低いしきい値電圧
(論理“l”)を持つ。
The selected memory cell has a high threshold voltage (logic "0") or a low threshold voltage (logic "1") with respect to the word line selection level during reading according to the data written therein in advance. .

メモリアレイM−ARY内の選択されたメモリセルが高
いしきい値電圧をもっている場合、共通データ線CDと
回路の接地点との間に直流電流通路が形成されない。こ
の場合、共通データ線CDは、センスアンプからの電流
供給によって比較的ハイレベルにされる。センスアンプ
におけるバイアス回路からのバイアス電流の供給は、共
通データkW CDが所定電位に達すると実質的に停止
される。それ故に、共通データ線のハイレベルは、比較
的低い電位に制限される。
If the selected memory cell in the memory array M-ARY has a high threshold voltage, no direct current path is formed between the common data line CD and the circuit ground. In this case, the common data line CD is brought to a relatively high level by current supply from the sense amplifier. The supply of bias current from the bias circuit in the sense amplifier is substantially stopped when the common data kW CD reaches a predetermined potential. Therefore, the high level of the common data line is limited to a relatively low potential.

これに対して、メモリアレイM−ARY内の選択された
メモリセルが低いしきい値電圧をもっている場合、共通
データ線CDと回路の接地点との間にカラムスイッチM
OSFET、データ線、選択されたメモリセル及びMO
5FETQIOを介する直流電流経路が形成される。そ
れ故に、共通データ線CDは、バイアス回路から供給さ
れるバイアス電流にかかわらずにロウレベルにされる。
On the other hand, if the selected memory cell in the memory array M-ARY has a low threshold voltage, the column switch M
OSFET, data line, selected memory cell and MO
A direct current path is formed through the 5FET QIO. Therefore, the common data line CD is brought to a low level regardless of the bias current supplied from the bias circuit.

このようなバイアス回路による共通データ線CDのハイ
レベルとロウレベルとの振幅制限は、次の利点をもたら
す。すなわち、共通データ線CD等に信号変化速度を制
限する浮遊容量等の容量が存在するにかかわらずに、読
み出しの高速化を図ることができる。言い換えると、複
数のメモリセルからのデータを次々に読み出すような場
合において共通データ線CDの一方のレベルが他方のレ
ベルへ変化させられるまでの時間を短くすることができ
る。
Limiting the amplitude of the high level and low level of the common data line CD by such a bias circuit brings about the following advantages. That is, even if there is a capacitance such as a stray capacitance that limits the signal change speed in the common data line CD, etc., it is possible to increase the speed of reading. In other words, when reading data from a plurality of memory cells one after another, the time required for one level of the common data line CD to change to the other level can be shortened.

データ出力回路DOBにおける出カバソファは、その動
作が読み出し制御信号oeによって制御されるように構
成される。出力バッファは、制御信号oeがは一’5V
のようなハイレベルなら、センスアンプから供給される
信号と対応するレベルのデータ信号を外部端子T/○に
出力する。これに対し、出カバソファは、制御信号oe
がはソOVのロウレベルなら、高出力インピーダンス状
態となるようにされる。これによって、出力バッファは
、書き込み動作時にデータ入出力端子I10に供給され
る書き込みデータ信号のレベルを制限しないようにされ
る。
The output sofa in the data output circuit DOB is configured such that its operation is controlled by the read control signal oe. The output buffer has a control signal OE of 1'5V.
If the signal is at a high level such as , a data signal of a level corresponding to the signal supplied from the sense amplifier is output to the external terminal T/○. On the other hand, the output sofa uses the control signal oe
If the voltage is at the low level of SOOV, a high output impedance state is established. This prevents the output buffer from limiting the level of the write data signal supplied to the data input/output terminal I10 during a write operation.

制御回路C0NTは、電源電圧Vccによって動作状態
にされ、外部端子から供給される書き込み高電圧Vρρ
、チップイネーブル信号CE、出力イネーブル信号OE
及びプログラム信号PGMに応じて各種の制御信号を形
成する。
The control circuit C0NT is activated by the power supply voltage Vcc and receives a write high voltage Vρρ supplied from an external terminal.
, chip enable signal CE, output enable signal OE
and generates various control signals according to the program signal PGM.

この実施例では、シリコンシグネチャ機能を設けるため
、特に制限されないが、メモリアレイMARYが利用さ
れる。すなわち、同図に点線で示したようにワード線W
Oに結合されたメモリセルQl’ 〜Q3’ を用いて
、シリコンシグネチャ等のように自動書き込み動作のた
めの条件設定を行う。このため、上記ワード線WOに結
合されるメモリセルを同図のようにスタックド・ゲート
トランジスタを用いた場合には、点線で示す部分に対し
て遮光性のマスク等を設けて消去不能にするか、又はメ
モリセルをマスクROMで構成する。
In this embodiment, a memory array MARY is used, although not particularly limited, to provide a silicon signature function. That is, as shown by the dotted line in the figure, the word line W
Using the memory cells Ql' to Q3' coupled to O, conditions for an automatic write operation such as a silicon signature are set. For this reason, if a stacked gate transistor is used as the memory cell connected to the word line WO as shown in the figure, it is necessary to provide a light-shielding mask or the like to the portion shown by the dotted line to make it non-erasable. , or the memory cell is configured with a mask ROM.

すなわち、トランジスタQl’ ないしQ3’ は、ス
タックド・ゲートトランジスタに代えてそのゲート絶縁
膜の膜厚の制御や、ワード線又はデータ線との接続を選
択的に行うこと等により、ワード線WOの選択レベルに
対して実質的にオン状態又はオフ状態にするものである
。消去用窓がないパッケージを用いる等により、その消
去機能を不能にしたlタイムプログラム構成のEPRO
Mでは上記ワード線WOのスタックド・ゲートトランジ
スタをそのまま用いることができる。
In other words, the transistors Ql' to Q3' are replaced with stacked gate transistors by controlling the thickness of the gate insulating film, selectively connecting to the word line or data line, etc., so that the word line WO can be selected. The level is substantially turned on or off. EPRO with a l-time program configuration whose erasing function is disabled by using a package without an erasing window, etc.
In M, the stacked gate transistor of the word line WO can be used as is.

上記のようなメモリアレイM−ARYを利用する構成で
は、1本のワード線分に相当する比較的多いビット数か
らなるデータの記憶が可能になるから、製品ロフト番号
等のように品質管理等に有用な各種1−夕も格納させる
ことができる。なお、上記シリコンシグネチャは、上記
のようなメモリアレイM−ARYを利用する構成に代え
、データ出力回路DOBの入力部にROMを設ける構成
としてもよい。
In the configuration using the memory array M-ARY as described above, it is possible to store data consisting of a relatively large number of bits corresponding to one word line, so it is possible to store data consisting of a relatively large number of bits corresponding to one word line, so it is possible to store data such as quality control such as product loft number etc. Various useful information can also be stored. Note that the silicon signature may have a configuration in which a ROM is provided at the input section of the data output circuit DOB instead of the configuration using the memory array M-ARY as described above.

上記ワード線WOの選択は、高電圧検出回路■Hにより
行われる。高電圧検出回路VHは、特に制限されないが
、アドレス端子A9に供給される約10Vのような高い
電圧を検出する。この実施例では、上記高電圧検出回路
VHの動作の信頼性を高(するために、言い換えるなら
ば、アドレス端子A9におけるオーバーシュートを高電
圧とみなすような誤動作を防止するために、他のアドレ
ス信号が利用される。すなわち、高電圧検出回路V H
は、後述するように他のアドレス信号を受けるデコーダ
回路の出力信号によりその動作制御が行われる。
The selection of the word line WO is performed by the high voltage detection circuit (2)H. The high voltage detection circuit VH detects a high voltage such as about 10V supplied to the address terminal A9, although this is not particularly limited. In this embodiment, in order to increase the reliability of the operation of the high voltage detection circuit VH (in other words, in order to prevent malfunctions in which overshoot at address terminal A9 is regarded as high voltage), other address The signal is utilized, i.e. the high voltage detection circuit V H
As will be described later, its operation is controlled by an output signal from a decoder circuit that receives other address signals.

第2図には、上記高電圧検出回路とその動作制御を行う
デコーダ回路の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the high voltage detection circuit and a decoder circuit for controlling its operation.

シリコンシグネチャ読み出しモードのとき、上記アドレ
ス端子A9を除いた他のアドレス信号AO〜Aiは、全
てロウレベルに設定するものとする。そして、データ出
力図!DOBを動作させるために、出力イネーブル信号
OEがロウレベルであること、チップイネーブル信号C
Bがロウレベルである。このことに着目して、上記他の
条件を高電圧検出回路VHの動作条件とする。すなわち
、高電圧供給用のアドレス端子A9に対応したアドレス
バッファADB 9を除く他のアドレスバッファADB
OないしADB iの反転出力信号aO〜aiと、制御
入力バッファCEB、OEBの非反転出力信号ce及び
oeは、ナンド(NAND)ゲート回路G工に供給され
る。これにより、上記ナントゲート回路Glの全入力信
号がハイレベル(論理“1″)とき、言い換えるならば
、制御信号CEとOEがロウレベルで、アドレス信号A
O〜At(アドレス信号A9を除く)がロウレベルのと
き、ナントゲート回路G1の出力信号がロウレベルにさ
れる。
In the silicon signature read mode, all address signals AO to Ai other than the address terminal A9 are set to low level. And data output diagram! In order to operate DOB, the output enable signal OE must be at low level, and the chip enable signal C
B is a low level. Focusing on this, the other conditions mentioned above are set as the operating conditions of the high voltage detection circuit VH. That is, address buffer ADB corresponding to address terminal A9 for high voltage supply, and other address buffers ADB except 9.
The inverted output signals aO to Ai of O to ADB i and the non-inverted output signals ce and oe of the control input buffers CEB and OEB are supplied to a NAND gate circuit G. As a result, when all the input signals of the Nant gate circuit Gl are at a high level (logic "1"), in other words, when the control signals CE and OE are at a low level, the address signal A
When O to At (excluding address signal A9) are at low level, the output signal of Nant gate circuit G1 is set to low level.

上記ナントゲート回路G1の出力信号は、Pチャンネル
型のスイッチMO5FETQI 6のゲートに供給され
る。このスイッチMOSFETQI6は、上記アドレス
端子A9の電圧をNチャンネルMOSFETQI 7と
Q18からなる分圧回路に伝える。すなわち、Nチャン
ネルMOSFETQ17は、エンハンスメント型とされ
、そのゲートとドレインとが結合されることによって、
一種の可変抵抗素子として作用する。MOS F ET
Q18はデイプレフジョン型とされ、そのゲートとソー
スに接地電位が与えられることによって、定電流負荷と
して作用する。上記MOSFETQI7とQ18は、端
子A9の電圧を受ける分圧回路として作用する。上記M
OSFETQI 7とQ18のコンダクタンス比は、端
子A9の電圧が約5■のようなハイレベルのとき、その
分圧電圧がインバータ回路N1のロジックスレッショル
ド電圧より低くなり、端子A9の電圧が約10Vのよう
に高くされたとき上記分圧電圧がインバータ回路Nlの
ロジックスレッショルド電圧より高くなるように設定さ
れる。なお、パワースイッチとしてのPチャンネルMO
SFETQI 6は、それがオン状態にされたときのコ
ンダクタンスが、MO5FETQ17に比べて十分大き
く設定されることによって、分圧電圧がMOSFETQ
17とQ18のコンダクタンス比のみで設定されるもの
である。
The output signal of the Nant gate circuit G1 is supplied to the gate of a P-channel type switch MO5FETQI6. This switch MOSFET QI6 transmits the voltage at the address terminal A9 to a voltage dividing circuit made up of N-channel MOSFETs QI7 and Q18. That is, the N-channel MOSFET Q17 is an enhancement type, and its gate and drain are coupled, so that
It acts as a type of variable resistance element. MOSFET
Q18 is of a dip reflex type, and acts as a constant current load by applying a ground potential to its gate and source. The MOSFETs QI7 and Q18 act as a voltage dividing circuit that receives the voltage at the terminal A9. Above M
The conductance ratio of OSFET QI7 and Q18 is such that when the voltage at terminal A9 is at a high level such as approximately 5V, the divided voltage becomes lower than the logic threshold voltage of inverter circuit N1, and the voltage at terminal A9 is approximately 10V. The divided voltage is set so as to be higher than the logic threshold voltage of the inverter circuit Nl when the voltage is increased. In addition, P channel MO as a power switch
The conductance of SFETQI6 when it is turned on is set to be sufficiently larger than that of MOSFETQ17, so that the divided voltage is equal to that of MOSFETQ17.
It is set only by the conductance ratio of Q17 and Q18.

上記インバータ回路N1の出力信号NSは、それがロウ
レベルにより上記Xアドレス信号を受けるXアドレスデ
コーダ回路XDCRに供給され、その選択動作を強制的
に無効にする。
The output signal NS of the inverter circuit N1 is supplied to the X address decoder circuit XDCR which receives the X address signal at a low level, and forcibly invalidates the selection operation thereof.

上記インバータ回路N1の出力信号を受けるインバータ
回路N2は、ワード線WOの選択信号を形成する。これ
によって、上記ナントゲート回路G1の出力信号がロウ
レベルであるとき、すなわち、アドレス信号A9を除く
他のアドレス信号AO〜Atが全てロウレベルであり、
及び制御信号CEとOEがロウレベルであるとき、端子
A9の電圧を約10vのような高電圧に設定すると、通
常の書き込み/読み出しに用いられるワード線WOに代
えてワード線WOが選択され、シリコンシグネチャ情報
が自動的に読み出されてデータ出力回路DOBから出力
される。
The inverter circuit N2 receiving the output signal of the inverter circuit N1 forms a selection signal for the word line WO. As a result, when the output signal of the Nant gate circuit G1 is at a low level, that is, all address signals AO to At except for the address signal A9 are at a low level.
When the control signals CE and OE are at low level, if the voltage of terminal A9 is set to a high voltage such as about 10V, the word line WO is selected instead of the word line WO used for normal writing/reading, and the silicon The signature information is automatically read out and output from the data output circuit DOB.

この構成においては、単にアドレス信号A9に高電圧検
出回路VHにおいて高電圧とみなされるようなオーバー
シュートが発生したとしても、他のアドレス信号AO〜
Aiのいずれか1つでもハイレベルのものがあれば、ナ
ントゲート回路G1の出力信号がハイレベルになってP
チャンネルMO5FETQI 6をオフ状態にする。こ
れによって、上記オーバーシュートの入力が無効にされ
るから、誤ってシリコンシグネチャ読み出しが行われる
ことがない。
In this configuration, even if an overshoot occurs in the address signal A9 that is considered to be a high voltage in the high voltage detection circuit VH, other address signals AO to
If any one of Ai is at high level, the output signal of Nant gate circuit G1 becomes high level and P
Channel MO5FETQI 6 is turned off. This invalidates the above-mentioned overshoot input, thereby preventing erroneous silicon signature reading.

この実施例において、上記第1図に示したようなワード
線WOは、上記のようなシリコンシグネチャに利用され
るものに代え、前記のような1タイムプログラム構成の
EFROMの書き込み試験領域として用いる構成として
もよい。すなわち、X系の1つのアドレス端子に前記の
ような高電圧検出回路VHを設けて3値入力構成とし、
そこに上記のような高電圧を供給することによって、ワ
−t”線woを選択するようにする。この構成では、Y
系のアドレス信号はワード線WOに結合される任意のメ
モリセルへの書き込み/読み出しを可能にするため任意
に変化させる必要がある。そこで、第2図に示したデコ
ーダ回路G1には、他のX系のアドレス信号を供給する
ものとする。また、制御信号OEは、書き込み時にハイ
レベルにされ、読み出し時にロウレベルにされるから、
チンプ選択信号ceのみを上記デコーダ回路G1の入力
に供給すればよい。
In this embodiment, the word line WO as shown in FIG. 1 is used as a write test area of the EFROM with the one-time program configuration as described above, instead of being used for the silicon signature as described above. You can also use it as That is, one address terminal of the X system is provided with a high voltage detection circuit VH as described above to form a three-value input configuration,
By supplying the above-mentioned high voltage thereto, the word line wo is selected. In this configuration, the Y
The system address signal needs to be changed arbitrarily to enable writing/reading to/from any memory cell coupled to the word line WO. Therefore, it is assumed that another X-system address signal is supplied to the decoder circuit G1 shown in FIG. Furthermore, since the control signal OE is set to high level during writing and set to low level during reading,
It is sufficient to supply only the chimp selection signal ce to the input of the decoder circuit G1.

第3図には、上記EFROMに用いられるレベル変換回
路の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of a level conversion circuit used in the EFROM.

この実施例のレベル変換回路は、0MO5(相補型MO
3)構成のEFROMに向けられいてる。
The level conversion circuit of this embodiment is 0MO5 (complementary type MO
3) It is directed to the EFROM of the configuration.

すなわち、書き込み動作のためにワード線に高電圧の選
択レベルを供給するために、前記第1図のようなデイプ
レッション型MOS F ETを用いる構成に代え、次
のような0MO3構成のレベル変換回路を用いる。Pチ
ャンネル型負荷MO5FETQ20とNチャンネル型の
駆動MOSFETQ22、Q23等は、アドレスデコー
ダ回路を構成する。この実施例では、駆動MOSFET
Q22と負荷MOSFETQ20の間に、カットMOS
FETQ21を設けている。カットMOS F ETQ
21は、そのゲートに電源電圧Vccが定常的に供給さ
れる。
That is, in order to supply a high voltage selection level to the word line for a write operation, instead of the configuration using a depletion type MOS FET as shown in FIG. Use. The P-channel type load MO5FET Q20 and the N-channel type drive MOSFETs Q22, Q23, etc. constitute an address decoder circuit. In this example, the drive MOSFET
Between Q22 and load MOSFET Q20, cut MOS
FETQ21 is provided. Cut MOS FETQ
21, the power supply voltage Vcc is constantly supplied to its gate.

レベル変換回路は、高電圧vppを動作電圧として動作
するPチャンネルMO5FETQ24とNチャンネルM
OSFETQ25からなるCMOSインバータ回路を基
本構成とする。このCMOSインバータ回路(Q24.
Q25)は、上記アドレスデコーダ回路の出力信号を受
け、ワードhiw1の選択信号を形成する。動作電圧V
l)pに対して電#電圧VCCのような比較的低いレベ
ルによりPチャンネルMOSFETQ24をオフ状態に
するため、上記CMOSインバータ回路(Q24.Q2
5)の人力と高電圧Vp1)との間には、Pチャンネル
MO5FETQ26が設けられる。このPチャンネルM
OSFETQ26のゲートには、上記CM OSインハ
゛−夕回路(Q24.Q25)の出力信号(ワード線W
l)が供給される。
The level conversion circuit consists of a P-channel MO5FETQ24 that operates with a high voltage vpp as an operating voltage, and an N-channel MO5FETQ24 that operates with a high voltage vpp as an operating voltage.
The basic configuration is a CMOS inverter circuit consisting of OSFETQ25. This CMOS inverter circuit (Q24.
Q25) receives the output signal of the address decoder circuit and forms a selection signal for word hiw1. Operating voltage V
l) The CMOS inverter circuit (Q24.Q2
5) A P-channel MO5FETQ26 is provided between the human power and the high voltage Vp1). This P channel M
The gate of OSFETQ26 is connected to the output signal (word line W
l) is supplied.

アドレスデコーダ回路の出力信号が回路の接地電位のよ
うなロウレベルのとき、NチャンネルMOSFETQ2
5はオフ状態に、PチャンネルMOSFETQ24がオ
ン状態になり、ワード線W1は高電圧vppのようなハ
イレベルにされる。これに対して、アドレスデコーダ回
路の出力信号が回路が電源電圧Vccのようなハイレベ
ルのとき、NチャンネルMOSFETQ25はオン状態
になり、ワードIWIを回路の接地電位に近いロウレベ
ルにする。このロウレベルの信号を受けてPチャンネル
MOSFETQ26がオン状態になるので、CMOSイ
ンバータ回路(Q24.Q25)入力レベルは、上記電
源電圧Vccより高くなりNチャンネルMOSFETQ
25のコンダクタンスを太き(、PチャンネルMOSF
ETQ24のコンダクタンスを小さくするような帰還が
かかり、PチャンネルMOSFETQ26のオン状態に
よってPチャンネルMO3FBTQ24は完全にオフ状
態なる。このとき、カットMOSFETQ21は、上記
PチャンネルMOSFETQ26のオン状態によってド
レインとソースが逆転してオフ状態になり、高電圧Vp
ρから電源電圧Vccに向かって直流電流が流れるのを
防止できる。
When the output signal of the address decoder circuit is at a low level such as the ground potential of the circuit, the N-channel MOSFET Q2
5 is turned off, the P-channel MOSFET Q24 is turned on, and the word line W1 is set to a high level such as the high voltage vpp. On the other hand, when the output signal of the address decoder circuit is at a high level such as the power supply voltage Vcc of the circuit, the N-channel MOSFET Q25 is turned on and the word IWI is set at a low level close to the ground potential of the circuit. In response to this low-level signal, P-channel MOSFET Q26 turns on, so the input level of the CMOS inverter circuit (Q24, Q25) becomes higher than the power supply voltage Vcc, and N-channel MOSFET Q26 turns on.
25 conductance thicker (, P channel MOSF
Feedback is applied to reduce the conductance of ETQ24, and due to the on state of P channel MOSFETQ26, P channel MO3FBTQ24 is completely turned off. At this time, the drain and source of the cut MOSFET Q21 are reversed and the cut MOSFET Q21 is turned off due to the on state of the P-channel MOSFET Q26, and the high voltage Vp
Direct current can be prevented from flowing from ρ toward the power supply voltage Vcc.

第4図には、上記レベル変換回路の他の一実施例の回路
図が示されでいる。
FIG. 4 shows a circuit diagram of another embodiment of the level conversion circuit.

この実施例では、上記カッI−MOSFETQ33が、
アドレスデコーダ回路の出力とレベル変換回路を構成す
るCMOSインバータ回路(Q34゜Q35)の入力と
の間に設けられる。この構成では、アドレスデコーダ回
路の出力信号を抵抗素子として作用するカットMOSF
ETQ33を介してレベル変換回路に伝える構成を採る
ため、第3図の実施例回路の方が高速動作にすることが
できるものである。
In this example, the above-mentioned I-MOSFETQ33 is
It is provided between the output of the address decoder circuit and the input of the CMOS inverter circuit (Q34°Q35) constituting the level conversion circuit. In this configuration, the output signal of the address decoder circuit is connected to the cut MOSFET which acts as a resistance element.
Since the signal is transmitted to the level conversion circuit via the ETQ33, the circuit of the embodiment shown in FIG. 3 can operate at higher speed.

第5図には、上記高電圧検出回路VHの他の一実施例の
回路図が示されている。
FIG. 5 shows a circuit diagram of another embodiment of the high voltage detection circuit VH.

この実施例では、電源電圧Vccが動作電圧として用い
られ、前記同様なナントゲート回路G1の出力信号によ
ってスイッチ制御されるPチャンネルMOSFETQI
 6とインバータ構成のNチャンネルMOSFETQ1
7とQ19が直列に設けられる。上記MOSFETQI
 7は、そのゲートとドレインが共通接続されることに
よって、負荷抵抗として作用し、NチャンネルMO5F
ETQ19のゲートに端子A9の電圧が供給される。こ
の構成では、端子A9から直流電流が流れ込まないから
高入力インピーダンスにすることができる。
In this embodiment, the power supply voltage Vcc is used as the operating voltage, and the P-channel MOSFET QI is switch-controlled by the output signal of the Nant gate circuit G1 similar to the above.
6 and inverter configuration N-channel MOSFETQ1
7 and Q19 are provided in series. Above MOSFETQI
7 acts as a load resistance by having its gate and drain commonly connected, and the N-channel MO5F
The voltage of terminal A9 is supplied to the gate of ETQ19. With this configuration, a high input impedance can be achieved because no direct current flows from the terminal A9.

MOSFETQI 9は、上記端子A9から供給される
電圧に従ってそのコンダクタンスが太き(される。それ
故、MOSFETQI 7とQ19のコンダクタンス比
は、前記第2図の場合とは逆に端子A9に供給される電
圧が約5Vのような比較的低い電位のとき、出力電圧が
インバータ回路N1のロジックスレッショルド電圧より
高く、端子A9に供給される電圧が約10Vのような高
電圧のとき、出力電圧がインバータ回路N1のロジック
スレッショルド電圧より低くなるようにされる。
The conductance of MOSFET QI 9 increases according to the voltage supplied from terminal A9.Therefore, the conductance ratio of MOSFET QI 7 and Q19 is opposite to that in the case of FIG. When the voltage is at a relatively low potential such as approximately 5V, the output voltage is higher than the logic threshold voltage of the inverter circuit N1, and when the voltage supplied to terminal A9 is a high voltage such as approximately 10V, the output voltage is higher than the logic threshold voltage of the inverter circuit N1. It is made to be lower than the logic threshold voltage of N1.

また、この構成では、信号のレベルが逆になるから、イ
ンバータ回路N3を追加して、インバータ回路N2から
Xアドレスデコーダ回路の動作を無効にする信号NSを
出力し、インバータ回路N3からワード線WOの選択信
号を出力する。
Also, in this configuration, since the signal levels are reversed, an inverter circuit N3 is added, a signal NS for disabling the operation of the X address decoder circuit is output from the inverter circuit N2, and a signal NS is output from the inverter circuit N3 to the word line WO. Outputs the selection signal.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)特定の外部端子から供給される電源電圧以上の高
電圧を受ける高電圧検出回路の動作の有効/無効を、上
記特定の外部端子から高電圧を供給するときの他の外部
端子から供給される複数の入力信号レベルを解読するデ
コーダ回路の出力により制御することにより、上記特定
の外部端子に高電圧とみなされるようなオバーシュート
が生じても、他の入力信号のレベルを受けるデコーダ回
路の出力によりその動作を無効にすることができるから
、信頼性の高い筋電圧検出動作を実現できるという効果
が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. In other words, (1) The operation of the high voltage detection circuit that receives a high voltage higher than the power supply voltage supplied from a specific external terminal can be enabled/disabled by other external terminals when high voltage is supplied from the specific external terminal. By controlling the output of a decoder circuit that decodes the levels of multiple input signals supplied from Since the output of the decoder circuit can invalidate the operation, it is possible to realize a highly reliable muscle voltage detection operation.

(2)上記(11により、高い信頼性でのシリコンシグ
ネチャ読み出し/通常読み出しが実現できるという効果
が得られる。
(2) According to (11) above, it is possible to realize silicon signature read/normal read with high reliability.

(3)3値レベルを入力する端子以外の他の端子からの
入力信号をデコード信号によりスイッチ制御されるMO
S F ETを高電圧検出用の分圧回路に挿入すること
によって、無駄な電流消費を抑えることができるという
効果が得られる。
(3) MO whose switch is controlled by a decode signal for input signals from other terminals other than the terminal that inputs the ternary level
By inserting the S FET into a voltage dividing circuit for high voltage detection, it is possible to suppress wasteful current consumption.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、高電圧検出回
路の実質的な動作の有効/無効を制御する回路は、高電
圧検出回路の出力部にゲート回路を設けて、そのゲート
回路を前記のようなデコーダ回路により制御する構成と
してもよい。高電圧検出回路は、ダイオード形態にされ
た複数のMOS F ETを直列に接続して、特定の端
子から供給される高電圧をレベルシフトとしてロジック
スレッショルド電圧を基準電圧ととして電圧比較動作を
行うインバータ回路等の電圧比較回路に供給する構成と
してもよい。このように高電圧検出回路の具体的構成は
、種々の実施例形態を採ることができるものである。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples (although it is possible to make various changes without departing from the gist of the invention). For example, a circuit that controls the effective/disabled operation of a high voltage detection circuit is provided with a gate circuit at the output section of the high voltage detection circuit, and the gate circuit is connected to the decoder circuit as described above. The high voltage detection circuit may have a configuration in which a plurality of MOSFETs in the form of diodes are connected in series, and the high voltage supplied from a specific terminal is level-shifted, and the logic threshold voltage is used as the reference voltage. The high voltage detection circuit may be configured to be supplied to a voltage comparison circuit such as an inverter circuit that performs a voltage comparison operation.As described above, the specific configuration of the high voltage detection circuit can take various embodiments.

また、高電圧検出回路の動作の有効/無効を制御するデ
コーダ回路に供給される入力信号は、その高電圧検出回
路に高電圧を供給するときの動作モードのとき固定的な
レベルにされるものであれば何であってもよい。
In addition, the input signal supplied to the decoder circuit that controls the enable/disable of the operation of the high voltage detection circuit is set to a fixed level in the operation mode when high voltage is supplied to the high voltage detection circuit. It can be anything.

以上本発明者によってなされた発明をその背景となった
利用分野であるEPROM装置に適用した場合について
説明したが、それに限定されるものではなく、例えば上
記のように電源電圧以上の高電圧を含む3値入力回路を
備えた各種半導体集積回路装置に広く利用できる。
Although the invention made by the present inventor is applied to an EPROM device, which is the background field of application, it is not limited to this, and includes, for example, high voltages higher than the power supply voltage as described above. It can be widely used in various semiconductor integrated circuit devices equipped with three-value input circuits.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうちの代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、特定の外部端子から供給される電源電圧
以上の高電圧を受ける高電圧検出回路の動作の有効/無
効を、上記特定の外部端子から高電圧を供給するときの
他の外部端子から供給される複数の人力信号レベルを解
読するデコーダ回路の出力により制御することにより、
上記特定の外部端子に高電圧とみなされるようなオバー
シュートが生じても、他の入力信号のレベルを受けるデ
コーダ回路の出力によりその動作を無効にすることがで
きるから、信頼性の高い高電圧検出動作を実現できる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, the operation of the high voltage detection circuit that receives a high voltage higher than the power supply voltage supplied from a specific external terminal is enabled/disabled when the high voltage is supplied from another external terminal when the high voltage is supplied from the specific external terminal. By controlling the output of a decoder circuit that decodes multiple human input signal levels,
Even if an overshoot that is considered to be a high voltage occurs at the specific external terminal mentioned above, the operation can be nullified by the output of the decoder circuit that receives the level of other input signals, so it is possible to use a highly reliable high voltage. Detection operation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明が適用されたEPROM装置の一実
施例を示す内部構成ブロック図、第2図は、高電圧検出
回路及びその動作を制御するデコーダ回路の一実施例を
示す回路図、第3図は、レベル変換回路の一実施例を示
す回路図、 第4図は、レベル変換回路の他の一実施例を示す回路図
、 第5図は、高電圧検出回路及びその動作を制御するデコ
ーダ回路の他の一実施例を示す回路図である。 XADB・DCR・・Xアドレスバフフトデコーダ、Y
ADB −DCR・・Yアドレスバッファ・デコーダ、
M−ARY・・メモリアレイ、DOB・・データ出力回
路、DIB・・データ入力回路、C0NT・・制御回路
、XR,YR・・高電圧負荷回路、VH・・高電圧検出
回路・G1゜・ナントゲート回路(デコーダ回路) 、
CEB。 OEB・・制御バッファ、ADBO〜ADB i ・・
アドレスバッファ 第1図
FIG. 1 is an internal configuration block diagram showing an embodiment of an EPROM device to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of a high voltage detection circuit and a decoder circuit that controls its operation. Fig. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of the level conversion circuit, Fig. 4 is a circuit diagram showing another embodiment of the level conversion circuit, and Fig. 5 is a high voltage detection circuit and its operation control. FIG. 3 is a circuit diagram showing another embodiment of a decoder circuit for performing the following steps. XADB・DCR・・X address buffer decoder, Y
ADB-DCR...Y address buffer decoder,
M-ARY...Memory array, DOB...Data output circuit, DIB...Data input circuit, C0NT...Control circuit, XR, YR...High voltage load circuit, VH...High voltage detection circuit, G1°, Nantes Gate circuit (decoder circuit),
C.E.B. OEB...Control buffer, ADBO~ADB i...
Address buffer diagram 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、特定の外部端子から供給される電源電圧以上の高電
圧を受ける高電圧検出回路と、上記特定の外部端子から
高電圧を供給するときの他の外部端子から供給される複
数の入力信号レベルを解読して上記高電圧検出回路の実
質的な動作の有効/無効を制御するデコーダ回路とを含
むことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記半導体集積回路装置は、不揮発性記憶装置であ
り、特定の外部端子は特定のアドレス端子であり、デコ
ーダ回路は残りのアドレス信号と制御信号とを受けるも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
半導体集積回路装置。 3、上記高電圧検出回路は、上記デコーダ回路の出力信
号によって制御されるスイッチMOSFETによって動
作電流が流れるようにされるものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体集積回路
装置。
[Claims] 1. A high voltage detection circuit that receives a high voltage higher than the power supply voltage supplied from a specific external terminal, and a high voltage detection circuit that receives a high voltage higher than the power supply voltage supplied from a specific external terminal, and a a decoder circuit that decodes a plurality of input signal levels to control effective/ineffective operation of the high voltage detection circuit. 2. A patent characterized in that the semiconductor integrated circuit device is a nonvolatile memory device, the specific external terminal is a specific address terminal, and the decoder circuit receives the remaining address signals and control signals. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1. 3. The high voltage detection circuit according to claim 1 or 2, wherein an operating current is caused to flow through a switch MOSFET controlled by an output signal of the decoder circuit. Semiconductor integrated circuit device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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