JPH0234423B2 - - Google Patents

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JPH0234423B2
JPH0234423B2 JP57194293A JP19429382A JPH0234423B2 JP H0234423 B2 JPH0234423 B2 JP H0234423B2 JP 57194293 A JP57194293 A JP 57194293A JP 19429382 A JP19429382 A JP 19429382A JP H0234423 B2 JPH0234423 B2 JP H0234423B2
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JP
Japan
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magnification
sample
tilt
sample image
display device
Prior art date
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JP57194293A
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Japanese (ja)
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JPS5983335A (en
Inventor
Masahiro Inoe
Tsugio Kurata
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Akashi Seisakusho KK
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Akashi Seisakusho KK
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Publication date
Application filed by Akashi Seisakusho KK filed Critical Akashi Seisakusho KK
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Publication of JPS5983335A publication Critical patent/JPS5983335A/en
Publication of JPH0234423B2 publication Critical patent/JPH0234423B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、走査型電子顕微鏡等に付設される装
置に関し、特にブラウン管(以下;「CRT」とい
う。)上に表示された試料像がCRTの表示座標か
らどれだけ傾斜しているかを検出して表示できる
ようにした、試料像の傾斜増幅表示装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a device attached to a scanning electron microscope, etc., and particularly relates to a device attached to a scanning electron microscope, etc. The present invention relates to a tilt amplification display device for a sample image, which is capable of detecting and displaying whether or not the sample image is tilted.

従来の走査型電子顕微鏡では、第1図に示すよ
うに、電子銃1から放射された電子ビーム(荷電
粒子線)2を集束レンズ3で集束し、この集束さ
れたZ方向に沿う電子ビーム2を偏向コイル4,
5でX方向およびY方向に偏向し、偏向された電
子ビーム2は対物レンズ6で焦点合わせを施され
ながら試料(ICパターン等)7上を走査するよ
うになつている。
In a conventional scanning electron microscope, as shown in FIG. 1, an electron beam (charged particle beam) 2 emitted from an electron gun 1 is focused by a focusing lens 3, and the focused electron beam 2 along the Z direction is focused. the deflection coil 4,
The electron beam 2 is deflected in the X direction and the Y direction at 5, and the deflected electron beam 2 is scanned over a sample (IC pattern, etc.) 7 while being focused by an objective lens 6.

そして、試料7からの2次電子は、2次電子検
出装置Dによつて検出され、試料像が表示装置と
してのCRT8上に映し出される。(第2図参照) 偏向コイル4,5へは、X方向およびY方向へ
電子ビーム2を偏向するための鋸歯状波信号SX,
SYが供給される。
The secondary electrons from the sample 7 are detected by the secondary electron detection device D, and the sample image is displayed on the CRT 8 as a display device. (See Fig. 2) The deflection coils 4 and 5 receive sawtooth wave signals SX and SX for deflecting the electron beam 2 in the X and Y directions.
SY is supplied.

この鋸歯状波信号SX,SYは、X方向鋸歯状波
発生回路9およびY方向鋸歯状波発生回路10か
らの信号VX,VYを倍率可変用アツテネータ1
1,12でそれぞれ倍率調整し、さらに、調整さ
れた信号AX,AYを増幅器(Amp)13,14で
増幅したものから作られる。
These sawtooth wave signals SX, SY are output from the X-direction sawtooth wave generation circuit 9 and the Y-direction sawtooth wave generation circuit 10 by converting the signals VX, VY into a variable magnification attenuator 1.
1 and 12, respectively, and the adjusted signals A X and AY are amplified by amplifiers (Amp) 13 and 14.

このようにして、偏向コイル4、X方向鋸歯状
波発生回路9、倍率可変用アツテネータ11およ
び増幅器13でX方向偏向部材DXが構成されて
いる。
In this way, the deflection coil 4, the X-direction sawtooth wave generating circuit 9, the variable magnification attenuator 11, and the amplifier 13 constitute the X-direction deflection member DX.

同様に偏向コイル5、Y方向鋸歯状波発生回路
10、倍率可変用アツテネータ12および増幅器
14で、Y方向偏向部材DYが構成されている。
Similarly, the deflection coil 5, the Y-direction sawtooth wave generating circuit 10, the variable magnification attenuator 12, and the amplifier 14 constitute the Y-direction deflection member DY.

なお、X方向の倍率MHとY方向の倍率MVとは
倍率連動指令部16によつて連動して変化するよ
うになつていて、同じ倍率Mとなつている。
Note that the magnification M H in the X direction and the magnification M V in the Y direction are changed in conjunction with each other by the magnification interlock command unit 16, and are the same magnification M.

ところで、このような従来の装置では、試料7
を観察する前に、あらかじめ決められた基準とな
る状態に試料7を位置させるようになつている。
By the way, in such a conventional device, sample 7
Before observing the sample 7, the sample 7 is positioned in a predetermined reference state.

すなわち、第2図に示すように、試料7上に付
けられた十字形の基準マークMKの示す座標x,
yとCRT8における表示座標はX,Yとを整合
させることによつて、試料像15の表示座標X,
Yからの傾斜の角度θ1をゼロとするようになつて
いる。(第3図参照) なお、この傾斜の補正は、試料7下面の試料移
動台(図示せず)をZ方向を軸として回転するこ
とによつて行なう。
That is, as shown in FIG. 2, the coordinates x, indicated by the cross-shaped reference mark MK placed on the sample 7,
By matching y with X and Y, the display coordinates of the sample image 15 are
The angle of inclination θ 1 from Y is set to zero. (See FIG. 3) Note that this tilt correction is performed by rotating a sample moving table (not shown) on the lower surface of the sample 7 about the Z direction.

しかしながら、このような従来の走査型電子顕
微鏡における傾斜表示手段では、CRT8に示さ
れる基準マークMKの傾斜が小さい場合には、こ
の傾斜を肉眼では検出することができないという
問題点があり、精度が低い傾斜表示手段となつて
いる。
However, with such a tilt display means in a conventional scanning electron microscope, there is a problem that when the tilt of the reference mark MK shown on the CRT 8 is small, this tilt cannot be detected with the naked eye, and the accuracy is low. It is a low tilt display means.

これに対し、従来の走査型電子顕微鏡における
他の傾斜表示手段では、第4図に示すように、試
料の座標xに沿う基準直線SLによつて整合をと
る場合、まず試料の座標x,yと表示座標X,Y
とをおおまかに一致させた後、試料移動台を移動
して試料7の領域Aを観察し(第5図参照)、つ
ぎに試料移動台をx方向に直線的に移動して、領
域Bを観察する。(第6図参照) そして、この移動に伴つて、直線SLの画像が
CRT8上でY方向に移動すれば、傾斜があるこ
とがわかり、そのX方向移動距離lX、Y方向移動
距離lYおよびCRT8におけるY方向移動距離Lに
よつて傾斜の角度θ2は次式により計算される。
On the other hand, with other tilt display means in conventional scanning electron microscopes, as shown in FIG. and display coordinates X, Y
After roughly matching the values, move the sample moving table to observe area A of sample 7 (see Figure 5), then move the sample moving table linearly in the x direction to observe area B. Observe. (See Figure 6.) Along with this movement, the image of the straight line SL changes.
If you move in the Y direction on the CRT8, you will find that there is a tilt, and the angle of tilt θ 2 can be calculated by the following formula : Calculated by

θ2=tan-1(lY/lX) このとき、tanθ2=1×10-5の傾斜の測定を行
なうためには、倍率Mを1000倍、CRT8上の精
度を1〔mm〕とすると、 tanθ2=lY/lX=(1/M)・L/lX より、X方向移動距離lXは、 lX=(1/M)・L/tanθ2 =(10-3×1)/(1×10-5) =100〔mm〕 となる。すなわち、試料7上の100〔mm〕の間隔を
もつた2点を測定する必要がある。
θ 2 = tan -1 ( l Y / l Then , from tanθ 2 = l Y / l X = (1/M)・L/ l 1)/(1×10 -5 ) = 100 [mm]. That is, it is necessary to measure two points on the sample 7 with an interval of 100 [mm].

このように従来の他の傾斜表示手段では、X方
向に大きく離れた2箇所を観察しなければ傾斜を
検出できず、しかも、十分な検出精度を得られな
いという問題点がある。
As described above, other conventional tilt display means have the problem that tilt cannot be detected unless two locations widely separated in the X direction are observed, and that sufficient detection accuracy cannot be obtained.

また、傾斜の検出を同一視野で行なうことがで
きず、これにより傾斜の検出を短時間のうちに行
なえないという問題点や測定誤差が累積されると
いつた問題点がある。
Further, there are problems in that the inclination cannot be detected in the same field of view, and as a result, the inclination cannot be detected in a short period of time, and that measurement errors are accumulated.

本発明は、これらの問題点を解決しようとする
もので、試料像の傾きを増幅することにより、傾
斜を表示装置の同一視野内において迅速に且つ精
度よく観察し、傾斜を明確に表示することができ
るようにした、試料像の傾斜増幅表示装置を提供
することを目的とする。
The present invention aims to solve these problems, and by amplifying the tilt of the sample image, the tilt can be observed quickly and accurately within the same field of view of a display device, and the tilt can be clearly displayed. It is an object of the present invention to provide a tilt amplification display device for a sample image, which is capable of displaying a sample image.

このため、本発明の試料像の傾斜増幅表示装置
は、荷電粒子線を試料上に走査すべく、同荷電粒
子線をX方向に偏向しうるX方向偏向部材と、Y
方向に偏向しうるY方向偏向部材とをそなえると
ともに、上記試料を表示する表示装置をそなえ、
同表示装置に映し出された試料像の上記表示装置
における表示座標からの傾斜を増幅すべく、上記
のX方向偏向部材およびY方向別向部材の少なく
とも一方の偏向部材に、倍率を増減制御しうる倍
率調整部が付設されたことを特徴としている。
For this reason, the sample image tilt amplification display device of the present invention includes an X-direction deflection member that can deflect the charged particle beam in the X direction, and a Y
a Y-direction deflection member capable of deflecting the sample in the Y-direction, and a display device for displaying the sample;
In order to amplify the tilt of the sample image projected on the display device from the display coordinates on the display device, the magnification of at least one of the X-direction deflection member and the Y-direction deflection member can be controlled to increase or decrease. It is characterized by the addition of a magnification adjustment section.

以下、図面により本発明の一実施例としての試
料像の傾斜増幅表示装置について説明すると、第
7図はその全体構成図、第8図はその表示座標と
試料像の傾斜との関係を示す平面図、第9,1
1,13図はいずれもその走査領域を示す模式
図、第10,12,14図はいずれもその表示装
置における試料像を示す説明図である。なお、第
7〜14図中、第1〜6図と同じ符号はほ同様の
ものを示す。
Hereinafter, a sample image tilt amplification display device as an embodiment of the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 7 is an overall configuration diagram thereof, and FIG. 8 is a plane showing the relationship between the display coordinates and the tilt of the sample image. Figure, No. 9, 1
1 and 13 are schematic diagrams showing the scanning area, and FIGS. 10, 12, and 14 are explanatory diagrams showing sample images on the display device. In addition, in FIGS. 7 to 14, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 6 indicate substantially similar parts.

第7図に示すように、この実施例の場合も、走
査型電子顕微鏡の電子銃1から放射された電子ビ
ーム(荷電粒子線)2を集束レンズ3で集束し、
この集束されたZ方向に沿う電子ビーム2を偏向
コイル4,5でX方向およびY方向に偏向し、偏
向された電子ビーム2は対物レンズ6を介して試
料(ICパターン等)7上を走査するようになつ
ている。
As shown in FIG. 7, in this embodiment as well, an electron beam (charged particle beam) 2 emitted from an electron gun 1 of a scanning electron microscope is focused by a focusing lens 3,
This focused electron beam 2 along the Z direction is deflected in the X and Y directions by deflection coils 4 and 5, and the deflected electron beam 2 is scanned over a sample (IC pattern, etc.) 7 via an objective lens 6. I'm starting to do that.

そして、試料7からの2次電子は、2次電子検
出装置Dによつて検出され、試料像15を表示装
置としてのCRT8上に映し出す。(第8図参照) 偏向コイル4,5へは、X方向およびY方向へ
電子ビーム2を偏向するための鋸歯状波信号SX,
SYが供給される。
The secondary electrons from the sample 7 are detected by a secondary electron detection device D, and a sample image 15 is displayed on a CRT 8 as a display device. (See Fig. 8) Sawtooth wave signals SX and SX for deflecting the electron beam 2 in the X and Y directions are supplied to the deflection coils 4 and 5.
SY is supplied.

この鋸歯状波信号SXは、X方向鋸歯状波発生
回路9からの信号VUを倍率可変用アツテネータ
11で倍率調整し、さらに、調整された信号AX
を増幅器(Amp)13で増幅したものから作ら
れる。
This sawtooth wave signal SX is generated by adjusting the magnification of the signal VU from the X direction sawtooth wave generation circuit 9 with a variable magnification attenuator 11, and further by adjusting the magnification of the signal VU from the X direction sawtooth wave generation circuit 9.
is amplified by an amplifier (Amp) 13.

また、鋸歯状波信号SYは、切換スイツチ17
が第7図のa側のとき、Y方向鋸歯状波発生回路
10からの信号VYを倍率可変用アツテネータ1
2で倍率調整し、さらに、調整された信号AY
増幅器(Amp)14で増幅したものから作られ
る。
In addition, the sawtooth wave signal SY is transmitted through the changeover switch 17.
When is on the side a in FIG.
2, and the adjusted signal A Y is further amplified by an amplifier (Amp) 14.

このとき、X方向の倍率MHとY方向の倍率MV
とは同倍率になつていて、倍率連動指令部16に
よつて、連動して変化する。
At this time, the magnification in the X direction M H and the magnification in the Y direction M V
and have the same magnification, and are changed in conjunction with each other by the magnification interlock command section 16.

切換スイツチ17が第7図のb側のときには、
鋸歯状波信号SYは、Y方向鋸歯状波発生回路1
0からの信号VYをY方向倍率可変用アツテネー
タ18を介して、倍率可変用アツテネータ12で
倍率調整し、さらに、調整された信号AYを増幅
器14で増幅したものから作られる。
When the changeover switch 17 is on the b side in Fig. 7,
The sawtooth wave signal SY is generated by the Y direction sawtooth wave generation circuit 1.
It is produced by adjusting the magnification of the signal VY from 0 through the Y-direction magnification variable attenuator 18 and by the magnification variable attenuator 12, and further amplifying the adjusted signal A Y with the amplifier 14.

このとき、X方向の倍率MHとY方向の倍率MY
とは、Y方向倍率可変用アツテネータ18によつ
て一定の比(MV/MH)にされる。
At this time, the magnification in the X direction M H and the magnification in the Y direction M Y
is set to a constant ratio (M V /M H ) by the Y-direction magnification variable attenuator 18.

このようにして、偏向コイル4、X方向鋸歯状
波発生回路9、倍率可変用アツテネータ11およ
び増幅器13でX方向偏向部材DXが構成されて
いる。
In this way, the deflection coil 4, the X-direction sawtooth wave generating circuit 9, the variable magnification attenuator 11, and the amplifier 13 constitute the X-direction deflection member DX.

同様に偏向コイル5、Y方向鋸歯状波発生回路
10、倍率可変用アツテネータ12、Y方向倍率
可変用アツテネータ18、切換スイツチ17およ
び増幅器14で、Y方向偏向部材DYが構成され
ている。
Similarly, the Y-direction deflection member DY is composed of the deflection coil 5, the Y-direction sawtooth wave generation circuit 10, the variable magnification attenuator 12, the Y-direction variable attenuator 18, the changeover switch 17, and the amplifier 14.

このように鋸歯状波信号SYの倍率を鋸歯状波
信号SXの倍率と異なる値に設定することにより、
X方向の倍率MHとは異なる倍率MVとすることが
できる。
By setting the magnification of the sawtooth wave signal SY to a value different from the magnification of the sawtooth wave signal SX in this way,
The magnification M V in the X direction can be different from the magnification M H in the X direction.

本発明の試料像の傾斜増幅表示装置は上述のご
とく構成されているので、切換スイツチ17をa
側にして、第9図に示すように、試料7を横の長
さh、縦の長さvの範囲にわたつて走査すると
き、X方向の倍率MHとY方向の倍率MVとの倍率
比(MV/MH)は1となる。
Since the sample image tilt amplification display device of the present invention is constructed as described above, the changeover switch 17 is
side, as shown in Figure 9, when scanning the sample 7 over a range of horizontal length h and vertical length v, the magnification M H in the The magnification ratio (M V /M H ) is 1.

このとき、試料7上の十字形の基準マークMK
は、横の長さH、縦の長さVのCRT8上では、
第10図に示すように表示され、試料像15の横
のツ長さLX、縦の長さLY1から傾斜の角度α(=
θ3)は次のようになる。
At this time, the cross-shaped reference mark MK on sample 7
On a CRT8 with horizontal length H and vertical length V,
It is displayed as shown in Fig. 10, and the angle of inclination α (=
θ 3 ) is as follows.

α=θ3=tan-1(LY1/X) なお、X方向の倍率MHは、(H/h)によつて計算
され、Y方向の倍率MVは、(V/v)によつて計算さ
れる。
α=θ 3 = tan -1 (L Y1 / It is calculated as follows.

この倍率比(MV/MH)が1のとき、CRT8上の
精度は前述のごとく1〔mm〕が限界であり、この
精度の限界まで傾斜を補正することができる。
When this magnification ratio (M V /M H ) is 1, the accuracy on the CRT 8 is limited to 1 [mm] as described above, and the tilt can be corrected up to this accuracy limit.

ついで、切換スイツチ17をb側に切り換えて
Y方向倍率可変用アツテネータ18を例えば2倍
にセツトすると、試料7の走査領域Cは第11図
に示すように、Y方向に1/2だけ縮まり、縦の長
さが(v/2)となつて、倍率比(MV/MH)は2となる。
Next, when the changeover switch 17 is switched to the b side and the Y-direction variable magnification attenuator 18 is set to, for example, 2x, the scanning area C of the sample 7 is shrunk by 1/2 in the Y-direction, as shown in FIG. Since the vertical length is (v/2), the magnification ratio (M V /M H ) is 2.

このとき、試料7上の十字形の基準マークMK
は、CRT8上では、第12図に示すように表示
され、試料像15の横の長さLX、縦の長さLY2
らCRT8上の傾斜の角度α′は次のようになる。
At this time, the cross-shaped reference mark MK on sample 7
is displayed on the CRT 8 as shown in FIG. 12, and the angle α' of the inclination on the CRT 8 from the horizontal length L X and vertical length L Y2 of the sample image 15 is as follows.

α′=tan-1(LY2/LX) また、実際の試料7上の傾斜の角度θ3は次のよ
うになる。
α′=tan −1 (L Y2 /L X ) Also, the actual angle of inclination θ 3 on the sample 7 is as follows.

θ3=tan-1{(MH/MV)・LY2/LX} このように、CRT8上におけるY方向の長さ
LY2は2LY1となる。すなわち、試料像15のCRT
8上における表示座標Xからの傾斜を増幅できる
ので、CRT8上のY方向における測定精度が2
倍となる。
θ 3 = tan -1 {(M H /M V )・L Y2 /L X } In this way, the length in the Y direction on the CRT8
L Y2 becomes 2L Y1 . In other words, the CRT of sample image 15
Since the tilt from the display coordinate X on the CRT8 can be amplified, the measurement accuracy in the Y direction on the CRT8 can be increased by 2
It will be doubled.

つぎに、Y方向倍率可変用アツテネータ17を
10倍にセツトすると、試料7の走査領域Cは第1
3図に示すように、さらにY方向に縮まり、縦の
長さが(v/10)となつて、倍率比(MV/MH)10とな
る。
Next, install the attenuator 17 for variable magnification in the Y direction.
When set to 10 times, the scanning area C of sample 7 is
As shown in FIG. 3, it is further shrunk in the Y direction, the vertical length becomes (v/10), and the magnification ratio (M V /M H ) becomes 10.

このとき、試料7上の十字形の基準マークMK
は、CRT8上では第14図に示すように表示さ
れ、試料像15の横の長さLX、縦の長さLY3から
CRT8上の傾斜の角度α″は次のようになる。
At this time, the cross-shaped reference mark MK on sample 7
is displayed on the CRT 8 as shown in Figure 14, and is calculated from the horizontal length L X and vertical length L Y3 of the sample image 15.
The angle of inclination α″ on the CRT 8 is as follows.

α″=tan-1(LY3/LX) また、実際の試料7上の傾斜の角度θ3は次のよ
うになる。
α″=tan −1 (L Y3 /L X ) Furthermore, the actual angle of inclination θ 3 on the sample 7 is as follows.

θ3=tan-1{(MH/MV)・LY3/LX} このように、CRT8上におけるY方向の長さ
LY3は10LY1となる(この場合も試料像15の傾斜
を増幅できる)ので、CRT8上のY方向におけ
る測定精度は10倍となる。
θ 3 = tan -1 {(M H /M V )・L Y3 /L X } In this way, the length in the Y direction on the CRT8
Since L Y3 becomes 10L Y1 (also in this case, the inclination of the sample image 15 can be amplified), the measurement accuracy in the Y direction on the CRT 8 becomes 10 times.

この倍率比(MV/MH)としては、上述の1、2、
10以外にも設定することができ、例えばX方向の
倍率MH=30、Y方向の倍率MV=30000すなわち
倍率比(MV/MH)=1000に設定したとき、CRT8
上のY方向の測定精度が1〔mm〕である場合にお
いて、視野を変えることなく、tanθ3=1×10-5
の傾斜を観察することができる。なお、このとき
CRT8のX方向の長さLXは100〔mm〕となつてい
る。
This magnification ratio (M V /M H ) is 1, 2,
It can be set to values other than 10. For example, when the magnification in the X direction M H = 30 and the magnification in the Y direction M V = 30000, that is, the magnification ratio (M V /M H ) = 1000, the CRT8
When the measurement accuracy in the Y direction above is 1 [mm], tanθ 3 = 1 × 10 -5 without changing the field of view.
It is possible to observe the slope of Furthermore, at this time
The length L X of the CRT8 in the X direction is 100 [mm].

さらに、倍率比(MV/MH)を大きくすることによ
つて、傾斜を精度よく表示し、測定することがで
き、この傾斜の増幅による表に基づいて、試料移
動台を回転させ、傾斜をより精度よく小さくする
ことも可能となる。
Furthermore, by increasing the magnification ratio (M V /M H ), it is possible to accurately display and measure the tilt. It is also possible to reduce the size with higher precision.

また、倍率はX方向およびY方向の一方を大き
くするもののほか、その他方を小さくするものを
用いてもよい。
Furthermore, in addition to increasing the magnification in one of the X direction and the Y direction, it is also possible to use a magnification that decreases the other.

なお、倍率調整部としては、上述のごとくY方
向にY方向倍率可変用アツテネータ18を設けら
れるもののほか、X方向にX方向倍率可変用アツ
テネータを設けられるものを用いてもよく、この
場合はX方向の倍率MHをY方向の倍率MVより大
きくすることができる。
As the magnification adjustment section, in addition to the one provided with the attenuator 18 for varying the magnification in the Y direction as described above, it may also be provided with an attenuator for varying the X direction magnification in the X direction. The magnification M H in the direction can be made larger than the magnification M V in the Y direction.

また、倍率調整部としては、倍率可変用アツテ
ネータ11,12の倍率連動指令部16のX方向
倍率およびY方向倍率の指令値をそれぞれ独立し
て与えるように構成してもよく、この場合、連動
した状態と独立した状態とは切り換えられるよう
に構成する。
Further, the magnification adjustment section may be configured to independently give command values for the X-direction magnification and Y-direction magnification of the magnification interlocking command section 16 of the variable magnification attenuators 11 and 12; The configuration is such that it can be switched between an independent state and an independent state.

以上詳述したように、本発明の試料像の傾斜増
幅表示装置によれば、X方向偏向部材およびY方
向偏向部材の少なくとも一方の偏向部材に、倍率
を増減制御しうる倍率調整部が付設されるという
簡素な構造で、表示装置に映し出された試料像の
表示装置における表示座標からの傾斜を増幅し
て、傾斜の検出精度を高めることができ、特に傾
斜の検出が同一視野で行なえるため、操作が簡便
かつ短時間に行なえる利点があり、さらに傾斜の
検出に伴う誤差も小さくなるのである。
As described in detail above, according to the sample image tilt amplification display device of the present invention, at least one of the X-direction deflection member and the Y-direction deflection member is provided with a magnification adjustment section that can control increase/decrease in magnification. With the simple structure of This has the advantage of being simple and quick to operate, and also reduces errors associated with detecting inclinations.

また、本発明の装置は、傾斜補正手段を結合す
ることによつて、基準マークを検出し、自動的に
傾斜を補正することも可能となるのである。
Further, by combining the device of the present invention with a tilt correction means, it becomes possible to detect the reference mark and automatically correct the tilt.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1〜3図は従来の走査型電子顕微鏡における
傾斜表示装置を示すもので、第1図はその全体構
成図、第2,3図はいずれもその表示装置におけ
る試料像を示す説明図であり、第4〜6図は従来
の他の走査型電子顕微鏡における傾斜表示手段を
示すもので、第4図はその表示座標と傾斜との関
係を示す平面図、第5,6図はいずれもその表示
装置における試料像を示す説明図であり、第7〜
14図は本発明の一実施例としての走査型電子顕
微鏡における試料像の傾斜増幅表示装置を示すも
ので、第7図はその全体構成図、第8図はその表
示座標と試料像の傾斜との関係を示す平面図、第
9,11,13図はいずれもその走査領域を示す
模式図、第10,12,14図はいずれもその表
示装置における試料像を示す説明図である。 1…電子銃、2…電子ビーム(荷電粒子線)、
3…集束レンズ、4,5…偏向コイル、6…対物
レンズ、7…試料、8…表示装置としてのCRT、
9…X方向鋸歯状波発生回路、10…Y方向鋸歯
状波発生回路、11,12…倍率可変用アツテネ
ータ、13,14…増幅器、15…試料像、16
…倍率連動指令部、17…切換スイツチ、18…
倍率調整部としてのY方向倍率可変用アツテネー
タ、C…走査領域、D…2次電子検出装置、DX
…X方向偏向部材、DY…Y方向偏向部材、MK
…基準マーク。
Figures 1 to 3 show a tilting display device in a conventional scanning electron microscope. Figure 1 is a diagram of its overall configuration, and Figures 2 and 3 are explanatory diagrams showing a sample image on the display device. , Figures 4 to 6 show tilt display means in other conventional scanning electron microscopes. Figure 4 is a plan view showing the relationship between the display coordinates and the tilt, and Figures 5 and 6 both show the tilt display means. FIG. 7 is an explanatory diagram showing a sample image on a display device;
Figure 14 shows a sample image tilt amplification display device in a scanning electron microscope as an embodiment of the present invention, Figure 7 is its overall configuration, and Figure 8 shows its display coordinates and sample image tilt. FIGS. 9, 11, and 13 are all schematic diagrams showing the scanning area, and each of FIGS. 10, 12, and 14 is an explanatory diagram showing the sample image on the display device. 1... Electron gun, 2... Electron beam (charged particle beam),
3... Focusing lens, 4, 5... Deflection coil, 6... Objective lens, 7... Sample, 8... CRT as a display device,
9... X direction sawtooth wave generation circuit, 10... Y direction sawtooth wave generation circuit, 11, 12... Attenuator for variable magnification, 13, 14... Amplifier, 15... Sample image, 16
...Magnification interlocking command unit, 17...Selector switch, 18...
Attenuator for variable magnification in the Y direction as a magnification adjustment unit, C...scanning area, D...secondary electron detection device, DX
...X direction deflection member, DY...Y direction deflection member, MK
...Reference mark.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 荷電粒子線を試料上に走査すべく、同荷電粒
子線をX方向に偏向しうるX方向偏向部材と、Y
方向に偏向しうるY方向偏向部材とをそなえると
ともに、上記試料を表示する表示装置をそなえ、
同表示装置に映し出された試料像の上記表示装置
における表示座標からの傾斜を増幅すべく、上記
のX方向偏向部材およびY方向偏向部材の少なく
とも一方の偏向部材に、倍率を増減制御しうる倍
率調整部が付設されたことを特徴とする、試料像
の傾斜増幅表示装置。
1 An X-direction deflection member capable of deflecting the charged particle beam in the X direction in order to scan the charged particle beam on the sample;
a Y-direction deflection member capable of deflecting the sample in the Y-direction, and a display device for displaying the sample;
In order to amplify the tilt of the sample image projected on the display from the display coordinates on the display, at least one of the X-direction deflection member and the Y-direction deflection member is provided with a magnification that can increase or decrease the magnification. A tilt amplification display device for a sample image, characterized in that an adjustment section is attached.
JP19429382A 1982-11-05 1982-11-05 Device for amplifying and displaying slant of sample image Granted JPS5983335A (en)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53108275A (en) * 1977-03-04 1978-09-20 Hitachi Ltd Scanning electronic microscope
JPS5722229A (en) * 1980-07-16 1982-02-05 Canon Inc Simplified film loader for camera

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JPS53108275A (en) * 1977-03-04 1978-09-20 Hitachi Ltd Scanning electronic microscope
JPS5722229A (en) * 1980-07-16 1982-02-05 Canon Inc Simplified film loader for camera

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