JPH02295991A - Preparation of gallium alkyl compound - Google Patents

Preparation of gallium alkyl compound

Info

Publication number
JPH02295991A
JPH02295991A JP10549990A JP10549990A JPH02295991A JP H02295991 A JPH02295991 A JP H02295991A JP 10549990 A JP10549990 A JP 10549990A JP 10549990 A JP10549990 A JP 10549990A JP H02295991 A JPH02295991 A JP H02295991A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gallium
alkyl
halide
halogenide
aluminum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10549990A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Wolfgang Sundermeyer
ヴオルフガング・ズンダーマイヤー
Thomas Cymniak
トーマス・キムニアク
Manfred Eschwey
マンフレート・エシユヴエイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Messer Griesheim GmbH
Original Assignee
Messer Griesheim GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Messer Griesheim GmbH filed Critical Messer Griesheim GmbH
Publication of JPH02295991A publication Critical patent/JPH02295991A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a high purity compound useful for the production of semiconductors inexpensively and simply by reacting a gallium halogenide with an alkyl aluminum halogenide in the presence of a metal halogenide.
CONSTITUTION: A gallium halogenide (example: an alkyl gallium dihalogenide etc.), is reacted with an alkyl aluminium halogenide (example: a dialkyl aluminum halogenide, etc.), in the presence of a metal halogenide as an auxiliary base (example: sodium chloride, etc.), at a temperature which causes the pyrolysis of the reaction product (70-450°C) in the liquid area of the reaction mixture to obtain the objective compound. Pollutants existing in the final product are removed in the final purification by additing sodium fluoride.
COPYRIGHT: (C)1990,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、請求項1に記載の方法でガリウム−一−二ノ アルキル化合物を製造する方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention provides a method according to claim 1 for producing gallium-1-2-2- The present invention relates to a method for producing an alkyl compound.

[従来の技術] ガリウムアルキル化合物殊に、小さいアルキル基を有す
るものは、III/V−半導体殊に砒化ガリウム及び燐
化ガリウムからの■/v−半導体(これは電気−及び太
陽−工業での需要が増している)の製造時に重要である
。必要な純度及び量でこのガリウムアルキル化合物を製
造することは、従来は著るしい困難に遭遇した。
[Prior Art] Gallium alkyl compounds, especially those with small alkyl groups, are used in III/V semiconductors, especially III/V semiconductors from gallium arsenide and gallium phosphide, which are used in the electrical and solar industries. is important during the production of products (of which demand is increasing). Significant difficulties have heretofore been encountered in producing this gallium alkyl compound in the required purity and quantity.

ガリウムハロゲン化合物はグリニアル反応試薬によりア
ルキル化することができるが、溶剤としてもっばら使用
可能なエーテルが、生じるガリウムトリアルキルと安定
な付加生成物を形成することに重大な欠点がある。こ付
加生成物の分離は、著るしく困難であり、大抵は、所望
のガリウムアルキルの部分的熱分解及び相応する不純化
を伴う。グリニアル反応の変法即ち、(場合によっては
金属ドーピングされた)マグネシウム−ガリウム−合金
とハロゲン化アルキルとの反応でも、同様な問題が生じ
る。アルキルリチウム−もしくはアルキルナトリウム−
化合物を用いるアルキル化も、小さいアルキル基の場合
には、この欠点のある並存する溶剤の存在においてのみ
実施できる。
Gallium halogen compounds can be alkylated with Grignard reaction reagents, but a significant drawback is that the ethers that are most commonly used as solvents form stable addition products with the resulting gallium trialkyl. Separation of this addition product is extremely difficult and usually involves partial thermal decomposition of the desired gallium alkyl and corresponding impurity. Similar problems arise with a variant of the Grignard reaction, namely the reaction of (possibly metal-doped) magnesium-gallium alloys with alkyl halides. Alkyl lithium or alkyl sodium
Alkylation with compounds can also be carried out in the case of small alkyl groups only in the presence of a concomitant solvent, which has this disadvantage.

液状金属アルキルの使用は、後の溶剤除去の困難をさけ
るが、ハロゲン化ガリウムとトリアルキルアルミニウム
との反応の際には、このアルキル化剤の化学量論的に過
剰の量の使用のよってのみ、3個のアルキル基の1個の
みの使用下に、高い収率を得ることができる。ガリウム
上へのアルキル基移行のためのジアルキル水銀の反応は
、自体、HgCl2−触媒のもとでも極めてゆっくり行
なわれるが、ジアルキル水銀化合物の著るしい毒性は、
広い用途を禁する。最後に、ガリウムハロゲン化合物の
アルキル化のために使用可能なジアルキル錫化合物は、
出発物質として入手困難である。
The use of a liquid metal alkyl avoids the difficulties of subsequent solvent removal, but only by the use of a stoichiometric excess of this alkylating agent during the reaction of the gallium halide with the trialkylaluminium. , high yields can be obtained using only one of the three alkyl groups. Although the reaction of dialkylmercury for the transfer of alkyl groups onto gallium is itself very slow even under HgCl2-catalysis, the marked toxicity of dialkylmercury compounds is
Prohibits wide use. Finally, the dialkyltin compounds that can be used for the alkylation of gallium halides are:
Difficult to obtain as a starting material.

ナトリウムの存在下でのアルキルハロゲニドと金属ハロ
ゲニドとの同時反応の公知のヴルツー合成(Wurtz
−5ynthese)は、各々2個のアルキル基が反応
して高級炭化水素になり、不純化をもたらすだけでなく
、特に使用ガリウムハロゲニドが還元されてガリウム金
属になるので、ガリウムアルキル化合物の製造のために
は特に不適合である。同じことが、ナトリウム以外のハ
ロゲン受容金属例えば周期律表第I〜III族の金属(
これらは、既に有機溶剤中及び溶剤としての塩融液中で
検出された)を用いるヴルツ煩似反応にも当てはまる。
The well-known Wurtz synthesis of the simultaneous reaction of alkyl halides and metal halides in the presence of sodium
-5ynthese), each two alkyl groups react to form a higher hydrocarbon, which not only leads to impurity, but also particularly in the production of gallium alkyl compounds, since the gallium halide used is reduced to gallium metal. It is particularly unsuitable for this purpose. The same applies to halogen-accepting metals other than sodium, such as metals of groups I to III of the periodic table (
These also apply to the Wurz-like reaction, which has already been detected in organic solvents and in salt melts as solvent.

更に、後者は、高級アルキルハロゲニドの副反応に基づ
き、低い陽性元素のメチル化のI;めのみに限られて残
っている。相応する技術水準は西ドイツ特許(DE−P
S)第1239689号、東ドイツ特許(Do−ps)
第231568号及び英国特許(GB−O5)第212
3423号明細書に記載されている。
Moreover, the latter remains limited to the methylation of low positive elements, based on side reactions of higher alkyl halides. The corresponding state of the art is the West German patent (DE-P)
S) No. 1239689, East German Patent (Do-ps)
No. 231568 and British Patent (GB-O5) No. 212
It is described in the specification of No. 3423.

[発明が解決しようとする課題] 本発明の課題は、現代の半導体製造にとって重要なガリ
ウムアルキル化合物殊にその易揮発性に基づきCVD−
法に有利な短鎖状ガリウムアルキル化合物を、安価で入
手容易な前駆物から簡単な方法で、高純度で、かつ多量
に製造することである。
[Problem to be Solved by the Invention] The problem to be solved by the present invention is to solve the problem of using CVD-based gallium alkyl compounds, which are important for modern semiconductor manufacturing, especially due to their easy volatility.
An object of the present invention is to produce a short-chain gallium alkyl compound, which is advantageous in a process, in a large quantity and with high purity by a simple method from inexpensive and easily available precursors.

E問題点を解決するための手段] この課題は、請求項1の上位概念で考慮されている技術
水準から出発して、本発明により、請求項1の特徴部分
に記載の特徴を用いて解決される。
Means for Solving Problem E] This problem is solved by the present invention, starting from the state of the art considered in the generic concept of claim 1, and using the features described in the characterizing part of claim 1. be done.

本発明の有利な態様は、請求項2から11に記載されて
いる。
Advantageous aspects of the invention are set out in claims 2 to 11.

既に記載のように、入手困難なアルミニウムトリアルキ
ルは、ガリウムハロゲニドと、3個のアルキル基の1個
のみの移行のもとに反応する。副生成物として生じるジ
アルキルアルミニウムハロゲニドは、ガリウム−ハロゲ
ン−結合上に更にアルキル化作用を示さず、このことは
アルキルアルミニウムハロゲニドにはなお充分に僅かに
期待された。意外にも、前記の補助塩基(Hilfsb
asa)  例えばアルカリ金属−及びアルカリ土類金
属ハロゲン化物を添加する際にアルキルアルミニウムジ
クロリドは、アルキル基が定量的にハロゲン原子と交換
してガリウム上へ移行できることが明らかになった。更
に、むしろ、ジアルキルアルミニウムハロケニド及びア
ルミニウムトリアルキル並びにそれらの混合物も、アル
キルアルミニウムジクロリド(例えば工業的に入手可能
ないわゆるアルキルアルミニウムセスキクロリドR3A
l2C13)と共に、同じ反応条件下で、場合によって
は、変換及びこれに伴うこの化合物の蒸気圧低下の目的
でアルミニウムーロゲンドの添加のもとに使用すること
ができる。成分の混合物が液状で存在する温度で操作す
るのが有利である。
As already mentioned, hard-to-obtain aluminum trialkyls react with gallium halides with transfer of only one of the three alkyl groups. The dialkylaluminum halogenides which form as by-products exhibit no further alkylating effect on the gallium-halogen bond, which was still quite weakly expected for alkylaluminum halides. Surprisingly, the aforementioned auxiliary base (Hilfsb
It has been found that, for example, when adding alkali metal and alkaline earth metal halides to alkylaluminum dichlorides, the alkyl groups can be quantitatively transferred onto the gallium in exchange for halogen atoms. Furthermore, rather, dialkylaluminum halogenides and aluminum trialkyls and mixtures thereof may also be used in combination with alkylaluminum dichlorides, such as the commercially available so-called alkylaluminum sesquichloride R3A.
12C13) under the same reaction conditions, optionally with the addition of aluminum rogendo for the purpose of conversion and concomitant reduction of the vapor pressure of this compound. It is advantageous to operate at a temperature at which the mixture of components is in liquid form.

例えばアルキルアルミニウムセスキクロリドの使用は、
その工業的入手性と並んで、小さいアルキル基を有する
この代表物が、通常条件からあまり極端にはずれずに液
状であり、従って、本発明方法におけるその取扱い、配
量、撹拌等が非常に簡単である特別な利点を有し、この
ことは、反応成分の自己発火性に基づき、重要である。
For example, the use of alkylaluminum sesquichloride
Along with its industrial availability, this representative with small alkyl groups is liquid without too extreme deviations from the usual conditions, and therefore its handling, dosing, stirring, etc. in the process of the invention is very simple. This has the particular advantage of being pyrophoric, which is important due to the autoignition properties of the reaction components.

補助塩基のうち塩化物は、その大工業的な入手容易性に
より、最も安価であり、このことは、交換試薬塩化アル
ミニウムにもあてはまるので、本発明方法では、塩化物
又はその混合物を用いて操作するのが有利である。補助
塩基塩化ナトリウムを成分ジアルキルアルミニウムクロ
リドもしくはアルキルアルミニウムジクロリド又はそれ
らの混合物及び三塩化ガリウムに添加するだけで、トリ
アルキルガリウムもしくはジアルキルガリウムクロリド
の高収率に作用する。
Of the auxiliary bases, chloride is the cheapest due to its industrial availability, and this also applies to the exchange reagent aluminum chloride, so the process of the invention operates with chloride or mixtures thereof. It is advantageous to do so. The simple addition of the auxiliary base sodium chloride to the components dialkyl aluminum chloride or alkyl aluminum dichloride or mixtures thereof and gallium trichloride affects high yields of trialkyl gallium or dialkyl gallium chloride.

補助塩基としての塩化カリウムを付加的に混入すると、
所定の反応温度が充分に反応混合物の液体範囲であるか
ぎり、更に収率は上昇する従来公知の方法に比べた本発
明の方法の更に特別な利点は、次のとおりである: 完全に溶剤なしで操作するから、分離の問題も不純化も
起こらない。これにより、全反応成分の量に対する空時
収率が極めて高いことも明らかである。
Additional incorporation of potassium chloride as an auxiliary base results in
As long as the given reaction temperature is well within the liquid range of the reaction mixture, the yield is further increased.Further particular advantages of the process of the invention compared to previously known processes are: Completely solvent-free Since it is operated with 100 ml, there are no separation problems or contamination. It is also clear that the space-time yield relative to the amount of total reaction components is extremely high.

合成生成物は、前分離と同時に蒸気状で吸引され(でき
る)、副生成物の混合物は液状で反応器から放出でき、
それから、技術水準による再循環法で、場合によっては
再びアルミニウムをアルキルアルミニウムジロリドの製
造のために回収することができる。補助塩基の適正な配
量の際に全ての不所望の付随金属が反応生成物と共に存
在し、従って、ついでに更に精製が行なわれるので、使
用すべき三塩化ガリウムの製造のために使用されるガリ
ウムが低い純度(製造工程からの主要汚染物はアルミニ
ウムである)であってもよいことは特別な利点である。
The synthesis products can be drawn off in vapor form simultaneously with the pre-separation, and the by-product mixture can be discharged from the reactor in liquid form.
The aluminum can then optionally be recovered again for the production of alkyl aluminum diloride using recycling processes according to the state of the art. The gallium used for the preparation of the gallium trichloride to be used, since upon proper dosing of the auxiliary base all undesired incidental metals are present with the reaction products and therefore further purification is then carried out. It is a particular advantage that it may be of low purity (the main contaminant from the manufacturing process is aluminum).

更に、有価生成物ガリウム(完全に定量的な反応ではな
いので、この反応の後になおガリウム化合物が副産物混
合物中に含有されている)はアルミニウム金属(粉末、
屑片、棒、顆粒)の単なる添加により容易に沈殿させ、
回収することができる。最後に装置損傷の場合には、反
応混合物を液状で取り出し、室温まで冷却することによ
り固体凝集物に変じ、これによって有機溶剤中での合成
時に可能であるよりは無害に廃棄処理できる。
Furthermore, the valuable product gallium (gallium compounds are still contained in the by-product mixture after this reaction, since it is not a completely quantitative reaction) is converted into aluminum metal (powder,
easily precipitated by the simple addition of debris (chips, rods, granules);
It can be recovered. Finally, in case of equipment damage, the reaction mixture is removed in liquid form and converted by cooling to room temperature into a solid agglomerate, which can be disposed of more harmlessly than is possible during synthesis in organic solvents.

最終生成物の特有の重要な汚染物は、本発明方法では、
(アルキル)−アルミニウムーハロゲン−化合物である
が、これは、公知のように、弗化ナトリウムの添加によ
り、半導体製造にとって重要なガリウムトリアルキルの
必須の最終精製の際に、精留により問題なく除くことが
できる。
The specific and important contaminants of the final product are:
(alkyl)-aluminum-halogen compounds, which, as is known, can be purified by rectification during the essential final purification of gallium trialkyl, which is important for semiconductor manufacturing, by the addition of sodium fluoride. Can be removed.

[実施例] 次の実施例により本発明の方法を詳説する。[Example] The following examples illustrate the method of the invention.

例1 Me3Al2C12250g、AlCl31349、N
aC1128g及びKCl67gからの混合物を不活性
ガス下で、完全に液化するまで、温度急上昇及び過熱を
避けながら、徐々に加温する。110〜120℃で、G
aCl3176 gを添加し、撹拌下に0.5〜2 時
間かかって350℃まで加熱する。この際、Me3Ga
 49g(42,7%)及びMe2GaC1759(5
5,5%)が留出する。ガリウム変換率は98.2%で
ある。
Example 1 Me3Al2C12250g, AlCl31349, N
A mixture of 1128 g aC and 67 g KCl is gradually warmed under inert gas until complete liquefaction, avoiding temperature spikes and overheating. At 110-120℃, G
Add 3176 g of aCl and heat to 350° C. for 0.5-2 hours while stirring. At this time, Me3Ga
49g (42,7%) and Me2GaC1759 (5
5.5%) is distilled out. The gallium conversion rate is 98.2%.

例2 Me3Al2(j13205 g、AlCl31349
 、NNaC11289KG167からの混合物を完全
に液化するまで加熱する。110〜120℃でMe2G
aC14069を添加し、撹拌下に更に350°Cまで
加熱する。この際、ガリウム変換率97.5%でMe3
Ga l 669(48,2%)及びMe2GaC12
00g(49,3%)が得られる。
Example 2 Me3Al2 (j13205 g, AlCl31349
, NNaC11289KG167 is heated until completely liquefied. Me2G at 110-120℃
Add aC14069 and heat further to 350°C while stirring. At this time, Me3 with a gallium conversion rate of 97.5%
Gal 669 (48,2%) and Me2GaC12
00 g (49,3%) is obtained.

例3 Me3Al2C132059、AlCl31349、N
aC11289及びKCl67gからの混合物を完全に
液化するまで加熱する。110〜120℃でMs2Ga
C1202gを添加し、200℃まで加熱する。この際
既に、生成物の1部分が移行するこの温度でGaCl3
176 gを加え、最後に更に350℃まで加熱する。
Example 3 Me3Al2C132059, AlCl31349, N
A mixture of aC11289 and 67 g of KCl is heated until completely liquefied. Ms2Ga at 110-120℃
Add 1202 g of C and heat to 200°C. Already at this temperature, at which part of the product migrates, GaCl3
Add 176 g and finally heat further to 350°C.

合計して、定量的ガリウム変換率で、Me3Ga 11
49及びMe2GaC1201gが得られる。
In total, with quantitative gallium conversion, Me3Ga 11
49 and 1201 g of Me2GaC are obtained.

例4 CaCl3240 g及びMe3Al3C132809
からの混合物に、NaC1l 14g及びKCl62g
を添加し、混合物を350℃まで加熱する。この際、ガ
リウム変換率96.1%でMe3Ga409及びMe2
GaC1130g(70,5%)が得られる。
Example 4 CaCl3240 g and Me3Al3C132809
14 g of NaCl and 62 g of KCl to the mixture from
and heat the mixture to 350°C. At this time, Me3Ga409 and Me2 with a gallium conversion rate of 96.1%
1130 g (70.5%) of GaC are obtained.

例5 Et3Al3C132479、AlCl3 134 g
及びKCl224gからの混合物を完全に液化するまで
加熱する。185〜195℃で、GaCl31769を
添加し、350℃まで加熱する。この際、ガリウム変換
率79.2%でEt3Ga 15.8g(10。
Example 5 Et3Al3C132479, AlCl3 134 g
and 224 g of KCl are heated until completely liquefied. At 185-195°C, add GaCl31769 and heat to 350°C. At this time, 15.8 g (10.0 g) of Et3Ga was used at a gallium conversion rate of 79.2%.

1%)及びEt2GaC1113g(69,1%)が得
られる。
1%) and 1113 g (69.1%) of Et2GaC are obtained.

例6 EL3Al2C131219、AlCl3659及びK
Cl1099からの混合物を完全に液化するまで加熱す
る。185〜195℃で、Et2GaC1239gを添
加し、350℃まで加熱する。この際、ガリウム変換率
97.3%で、Et3Ga l l Og(47,9%
)及びEt2GaC11189(49,4%)が得られ
る。
Example 6 EL3Al2C131219, AlCl3659 and K
Heat the mixture from Cl1099 until completely liquefied. At 185-195°C, add 1239 g of Et2GaC and heat to 350°C. At this time, the gallium conversion rate was 97.3%, and Et3Ga l l Og (47.9%
) and Et2GaC11189 (49.4%) are obtained.

例7 Et3Al  l I 49 、AlCl3 1339
及びCaCl3176gからの混合物にKCl149g
を加え、この混合物を350℃まで加熱する。この際、
ガリウム変換率93%で、Et3Ga 33g(21%
)及びEt2GaC1118g(72%)が得られる。
Example 7 Et3Al l I 49 , AlCl3 1339
and 149 g of KCl in a mixture of 3176 g of CaCl.
and heat the mixture to 350°C. On this occasion,
With a gallium conversion rate of 93%, 33g of Et3Ga (21%
) and 1118 g (72%) of Et2GaC are obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ガリウムアルキル化合物を製造するために、補助塩
基としての金属ハロゲン化物の存在で、ガリウムハロゲ
ン化合物をアルキルアルミニウムハロゲニドと反応させ
ることを特徴とする、ガリウムアルキル化合物の製法。 2、ガリウムハロゲン化合物として、三ハロゲン化ガリ
ウム、アルキルガリウムジハロゲニド又はジアルキルガ
リウムハロゲニドを使用する、請求項1記載の方法。 3、アルキルアルミニウムハロゲニドとして、ジアルキ
ルアルミニウムハロゲニド、アルキルアルミニウムジハ
ロゲニド又はアルキルアルミニウムとジアルキルアルミ
ニウムハロゲニド又はいわゆるセスキハロゲニド(R_
3Al_2X_3)とからの混合物を使用する、請求項
1記載の方法。 4、アルキルアルミニウムハロゲニドの代りに、トリア
ルキルアルミニウムを、ハロゲン化アルミニウムの添加
のもとに使用する、請求項3記載の方法。 5、補助塩基として、周期律表第 I 〜III族の金属のハ
ロゲン化物を使用する、請求項1記載の方法。 6、補助塩基として塩化ナトリウム及び/又は塩化カリ
ウムを使用する、請求項1記載の方法。 7、反応を70〜450℃の温度で実施例する、請求項
1から6までのいずれか1項記載の方法。 8、反応を、反応混合物の液体領域で、反応混合物及び
/又は生成物の著るしい熱分解が起こるまでの温度で実
施する、請求項1記載の方法。
[Claims] 1. A process for producing a gallium alkyl compound, characterized in that a gallium halide compound is reacted with an alkyl aluminum halide in the presence of a metal halide as an auxiliary base to produce the gallium alkyl compound. . 2. The method according to claim 1, wherein gallium trihalide, alkylgallium dihalide, or dialkylgallium halide is used as the gallium halide compound. 3. As the alkyl aluminum halide, dialkyl aluminum halide, alkyl aluminum dihalogenide, alkyl aluminum and dialkyl aluminum halide, or so-called sesquihalogenide (R_
2. The method as claimed in claim 1, wherein a mixture of 3Al_2X_3) is used. 4. The process as claimed in claim 3, wherein instead of the alkyl aluminum halide, a trialkyl aluminum is used with the addition of an aluminum halide. 5. The method according to claim 1, wherein a halide of a metal from groups I to III of the periodic table is used as the auxiliary base. 6. The method according to claim 1, wherein sodium chloride and/or potassium chloride are used as auxiliary bases. 7. The process according to any one of claims 1 to 6, wherein the reaction is carried out at a temperature of 70 to 450<0>C. 8. Process according to claim 1, characterized in that the reaction is carried out in the liquid region of the reaction mixture at a temperature up to which significant thermal decomposition of the reaction mixture and/or product occurs.
JP10549990A 1989-04-28 1990-04-23 Preparation of gallium alkyl compound Pending JPH02295991A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3914045.8 1989-04-28
DE3914045 1989-04-28
DE19904005726 DE4005726A1 (en) 1989-04-28 1990-02-23 Gallium alkyl cpds. prodn. - by reaction of gallium halide cpds. with alkyl-aluminium halide(s) in presence of metal halide(s) as auxiliary bases
DE4005726.7 1990-02-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02295991A true JPH02295991A (en) 1990-12-06

Family

ID=25880387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10549990A Pending JPH02295991A (en) 1989-04-28 1990-04-23 Preparation of gallium alkyl compound

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH02295991A (en)
DE (1) DE4005726A1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010195690A (en) * 2009-02-23 2010-09-09 Ube Ind Ltd High-purity trialkyl gallium, and method of producing the same
JP2014534256A (en) * 2011-11-28 2014-12-18 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Method for preparing trialkylgallium compound
JP2015505558A (en) * 2012-02-01 2015-02-23 ケムチュア コーポレイション Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds
JP2017512827A (en) * 2014-03-14 2017-05-25 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Preparation and use of trialkylgallium compounds

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5455364A (en) * 1993-12-14 1995-10-03 Sumitomo Chemical Company, Ltd. Process for removing an impurity in organometallic compound
DE102012013941A1 (en) 2012-07-16 2014-01-16 Umicore Ag & Co. Kg Preparing trialkylmetal compounds comprises reaction of metal trichloride with alkylaluminum sesquichloride in the presence of alkali metal halide as auxiliary base, heating the reaction mixture, and separating trialkylmetal compound
KR102228897B1 (en) 2017-10-31 2021-03-17 누리온 케미칼즈 인터내셔널 비.브이. Methods of storage and/or transport of gallium chloride

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010195690A (en) * 2009-02-23 2010-09-09 Ube Ind Ltd High-purity trialkyl gallium, and method of producing the same
JP2014534256A (en) * 2011-11-28 2014-12-18 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Method for preparing trialkylgallium compound
JP2015504439A (en) * 2011-11-28 2015-02-12 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Process for preparing trialkyl compounds of Group IIIA metals
JP2017105848A (en) * 2011-11-28 2017-06-15 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia
US9695201B2 (en) 2011-11-28 2017-07-04 Umicore Ag & Co. Kg Process for preparing trialkyl compounds of metals of group IIIA
JP2017132788A (en) * 2011-11-28 2017-08-03 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Manufacturing method of trialkylgallium compound
JP2020019825A (en) * 2011-11-28 2020-02-06 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia
JP2021169529A (en) * 2011-11-28 2021-10-28 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia
JP2015505558A (en) * 2012-02-01 2015-02-23 ケムチュア コーポレイション Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds
JP2017512827A (en) * 2014-03-14 2017-05-25 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Preparation and use of trialkylgallium compounds
US10428089B2 (en) 2014-03-14 2019-10-01 Umicore Ag & Co. Kg Method for producing trialkylgallium compounds and the use thereof
JP2020037592A (en) * 2014-03-14 2020-03-12 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG Manufacturing of trialkylgallium compound and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
DE4005726A1 (en) 1990-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6679527B2 (en) Method for preparing trialkylgallium compound
US8642497B2 (en) Processes for the preparation of tetrakis(Faryl)borate salts
JPH02295991A (en) Preparation of gallium alkyl compound
JP4054997B2 (en) Method for producing high purity alkyl gallium
JP5972999B2 (en) Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds
US5043462A (en) Process for the production of gallium-alkyl compounds
JP4482305B2 (en) Method for producing trichloroborazine compound and method for producing alkylborazine compound
JPH06166691A (en) Production of germanium dihalide-ether adduct
TWI672309B (en) Preparation of trialkylgallium compounds and use thereof
TWI699446B (en) Process for preparing alkyl-indium compounds and the use thereof
US3646092A (en) Process for the recovery of trimethylfluorosilane from a mixture of silicontetrachloride trimethylchlorosilane and hydrocarbons boiling at the same range
JP2561482B2 (en) Method for producing trialkylarsenic compound
JPH04273884A (en) Preparation of trimethylaluminum
TWI782987B (en) Method for producing trialkylindium, method for producing semiconductor containing indium and/or coating containing indium
RU2782752C2 (en) Production of trialkylindium compounds in presence of carboxylates
JP3661825B2 (en) Method for producing organic indium compound
JP3748688B2 (en) Method for producing tetrakis [tris (dimethylamino) phosphoranylideneamino] phosphonium chloride
GB779873A (en) The manufacture of aluminium hydrocarbons
JP3909781B2 (en) Method for producing organic indium compound
JPS63195108A (en) Production of disilicon hexafluoride
JP2000510139A (en) Method for synthesizing hydrocarbon compounds containing fluorine on at least one carbon of the alkyl chain