JPH02295991A - Preparation of gallium alkyl compound - Google Patents
Preparation of gallium alkyl compoundInfo
- Publication number
- JPH02295991A JPH02295991A JP10549990A JP10549990A JPH02295991A JP H02295991 A JPH02295991 A JP H02295991A JP 10549990 A JP10549990 A JP 10549990A JP 10549990 A JP10549990 A JP 10549990A JP H02295991 A JPH02295991 A JP H02295991A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gallium
- alkyl
- halide
- halogenide
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- -1 gallium alkyl compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 7
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 abstract description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 abstract description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 abstract 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 abstract 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 abstract 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910000807 Ga alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005267 GaCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、請求項1に記載の方法でガリウム−一−二ノ アルキル化合物を製造する方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention provides a method according to claim 1 for producing gallium-1-2-2- The present invention relates to a method for producing an alkyl compound.
[従来の技術]
ガリウムアルキル化合物殊に、小さいアルキル基を有す
るものは、III/V−半導体殊に砒化ガリウム及び燐
化ガリウムからの■/v−半導体(これは電気−及び太
陽−工業での需要が増している)の製造時に重要である
。必要な純度及び量でこのガリウムアルキル化合物を製
造することは、従来は著るしい困難に遭遇した。[Prior Art] Gallium alkyl compounds, especially those with small alkyl groups, are used in III/V semiconductors, especially III/V semiconductors from gallium arsenide and gallium phosphide, which are used in the electrical and solar industries. is important during the production of products (of which demand is increasing). Significant difficulties have heretofore been encountered in producing this gallium alkyl compound in the required purity and quantity.
ガリウムハロゲン化合物はグリニアル反応試薬によりア
ルキル化することができるが、溶剤としてもっばら使用
可能なエーテルが、生じるガリウムトリアルキルと安定
な付加生成物を形成することに重大な欠点がある。こ付
加生成物の分離は、著るしく困難であり、大抵は、所望
のガリウムアルキルの部分的熱分解及び相応する不純化
を伴う。グリニアル反応の変法即ち、(場合によっては
金属ドーピングされた)マグネシウム−ガリウム−合金
とハロゲン化アルキルとの反応でも、同様な問題が生じ
る。アルキルリチウム−もしくはアルキルナトリウム−
化合物を用いるアルキル化も、小さいアルキル基の場合
には、この欠点のある並存する溶剤の存在においてのみ
実施できる。Gallium halogen compounds can be alkylated with Grignard reaction reagents, but a significant drawback is that the ethers that are most commonly used as solvents form stable addition products with the resulting gallium trialkyl. Separation of this addition product is extremely difficult and usually involves partial thermal decomposition of the desired gallium alkyl and corresponding impurity. Similar problems arise with a variant of the Grignard reaction, namely the reaction of (possibly metal-doped) magnesium-gallium alloys with alkyl halides. Alkyl lithium or alkyl sodium
Alkylation with compounds can also be carried out in the case of small alkyl groups only in the presence of a concomitant solvent, which has this disadvantage.
液状金属アルキルの使用は、後の溶剤除去の困難をさけ
るが、ハロゲン化ガリウムとトリアルキルアルミニウム
との反応の際には、このアルキル化剤の化学量論的に過
剰の量の使用のよってのみ、3個のアルキル基の1個の
みの使用下に、高い収率を得ることができる。ガリウム
上へのアルキル基移行のためのジアルキル水銀の反応は
、自体、HgCl2−触媒のもとでも極めてゆっくり行
なわれるが、ジアルキル水銀化合物の著るしい毒性は、
広い用途を禁する。最後に、ガリウムハロゲン化合物の
アルキル化のために使用可能なジアルキル錫化合物は、
出発物質として入手困難である。The use of a liquid metal alkyl avoids the difficulties of subsequent solvent removal, but only by the use of a stoichiometric excess of this alkylating agent during the reaction of the gallium halide with the trialkylaluminium. , high yields can be obtained using only one of the three alkyl groups. Although the reaction of dialkylmercury for the transfer of alkyl groups onto gallium is itself very slow even under HgCl2-catalysis, the marked toxicity of dialkylmercury compounds is
Prohibits wide use. Finally, the dialkyltin compounds that can be used for the alkylation of gallium halides are:
Difficult to obtain as a starting material.
ナトリウムの存在下でのアルキルハロゲニドと金属ハロ
ゲニドとの同時反応の公知のヴルツー合成(Wurtz
−5ynthese)は、各々2個のアルキル基が反応
して高級炭化水素になり、不純化をもたらすだけでなく
、特に使用ガリウムハロゲニドが還元されてガリウム金
属になるので、ガリウムアルキル化合物の製造のために
は特に不適合である。同じことが、ナトリウム以外のハ
ロゲン受容金属例えば周期律表第I〜III族の金属(
これらは、既に有機溶剤中及び溶剤としての塩融液中で
検出された)を用いるヴルツ煩似反応にも当てはまる。The well-known Wurtz synthesis of the simultaneous reaction of alkyl halides and metal halides in the presence of sodium
-5ynthese), each two alkyl groups react to form a higher hydrocarbon, which not only leads to impurity, but also particularly in the production of gallium alkyl compounds, since the gallium halide used is reduced to gallium metal. It is particularly unsuitable for this purpose. The same applies to halogen-accepting metals other than sodium, such as metals of groups I to III of the periodic table (
These also apply to the Wurz-like reaction, which has already been detected in organic solvents and in salt melts as solvent.
更に、後者は、高級アルキルハロゲニドの副反応に基づ
き、低い陽性元素のメチル化のI;めのみに限られて残
っている。相応する技術水準は西ドイツ特許(DE−P
S)第1239689号、東ドイツ特許(Do−ps)
第231568号及び英国特許(GB−O5)第212
3423号明細書に記載されている。Moreover, the latter remains limited to the methylation of low positive elements, based on side reactions of higher alkyl halides. The corresponding state of the art is the West German patent (DE-P)
S) No. 1239689, East German Patent (Do-ps)
No. 231568 and British Patent (GB-O5) No. 212
It is described in the specification of No. 3423.
[発明が解決しようとする課題]
本発明の課題は、現代の半導体製造にとって重要なガリ
ウムアルキル化合物殊にその易揮発性に基づきCVD−
法に有利な短鎖状ガリウムアルキル化合物を、安価で入
手容易な前駆物から簡単な方法で、高純度で、かつ多量
に製造することである。[Problem to be Solved by the Invention] The problem to be solved by the present invention is to solve the problem of using CVD-based gallium alkyl compounds, which are important for modern semiconductor manufacturing, especially due to their easy volatility.
An object of the present invention is to produce a short-chain gallium alkyl compound, which is advantageous in a process, in a large quantity and with high purity by a simple method from inexpensive and easily available precursors.
E問題点を解決するための手段]
この課題は、請求項1の上位概念で考慮されている技術
水準から出発して、本発明により、請求項1の特徴部分
に記載の特徴を用いて解決される。Means for Solving Problem E] This problem is solved by the present invention, starting from the state of the art considered in the generic concept of claim 1, and using the features described in the characterizing part of claim 1. be done.
本発明の有利な態様は、請求項2から11に記載されて
いる。Advantageous aspects of the invention are set out in claims 2 to 11.
既に記載のように、入手困難なアルミニウムトリアルキ
ルは、ガリウムハロゲニドと、3個のアルキル基の1個
のみの移行のもとに反応する。副生成物として生じるジ
アルキルアルミニウムハロゲニドは、ガリウム−ハロゲ
ン−結合上に更にアルキル化作用を示さず、このことは
アルキルアルミニウムハロゲニドにはなお充分に僅かに
期待された。意外にも、前記の補助塩基(Hilfsb
asa) 例えばアルカリ金属−及びアルカリ土類金
属ハロゲン化物を添加する際にアルキルアルミニウムジ
クロリドは、アルキル基が定量的にハロゲン原子と交換
してガリウム上へ移行できることが明らかになった。更
に、むしろ、ジアルキルアルミニウムハロケニド及びア
ルミニウムトリアルキル並びにそれらの混合物も、アル
キルアルミニウムジクロリド(例えば工業的に入手可能
ないわゆるアルキルアルミニウムセスキクロリドR3A
l2C13)と共に、同じ反応条件下で、場合によって
は、変換及びこれに伴うこの化合物の蒸気圧低下の目的
でアルミニウムーロゲンドの添加のもとに使用すること
ができる。成分の混合物が液状で存在する温度で操作す
るのが有利である。As already mentioned, hard-to-obtain aluminum trialkyls react with gallium halides with transfer of only one of the three alkyl groups. The dialkylaluminum halogenides which form as by-products exhibit no further alkylating effect on the gallium-halogen bond, which was still quite weakly expected for alkylaluminum halides. Surprisingly, the aforementioned auxiliary base (Hilfsb
It has been found that, for example, when adding alkali metal and alkaline earth metal halides to alkylaluminum dichlorides, the alkyl groups can be quantitatively transferred onto the gallium in exchange for halogen atoms. Furthermore, rather, dialkylaluminum halogenides and aluminum trialkyls and mixtures thereof may also be used in combination with alkylaluminum dichlorides, such as the commercially available so-called alkylaluminum sesquichloride R3A.
12C13) under the same reaction conditions, optionally with the addition of aluminum rogendo for the purpose of conversion and concomitant reduction of the vapor pressure of this compound. It is advantageous to operate at a temperature at which the mixture of components is in liquid form.
例えばアルキルアルミニウムセスキクロリドの使用は、
その工業的入手性と並んで、小さいアルキル基を有する
この代表物が、通常条件からあまり極端にはずれずに液
状であり、従って、本発明方法におけるその取扱い、配
量、撹拌等が非常に簡単である特別な利点を有し、この
ことは、反応成分の自己発火性に基づき、重要である。For example, the use of alkylaluminum sesquichloride
Along with its industrial availability, this representative with small alkyl groups is liquid without too extreme deviations from the usual conditions, and therefore its handling, dosing, stirring, etc. in the process of the invention is very simple. This has the particular advantage of being pyrophoric, which is important due to the autoignition properties of the reaction components.
補助塩基のうち塩化物は、その大工業的な入手容易性に
より、最も安価であり、このことは、交換試薬塩化アル
ミニウムにもあてはまるので、本発明方法では、塩化物
又はその混合物を用いて操作するのが有利である。補助
塩基塩化ナトリウムを成分ジアルキルアルミニウムクロ
リドもしくはアルキルアルミニウムジクロリド又はそれ
らの混合物及び三塩化ガリウムに添加するだけで、トリ
アルキルガリウムもしくはジアルキルガリウムクロリド
の高収率に作用する。Of the auxiliary bases, chloride is the cheapest due to its industrial availability, and this also applies to the exchange reagent aluminum chloride, so the process of the invention operates with chloride or mixtures thereof. It is advantageous to do so. The simple addition of the auxiliary base sodium chloride to the components dialkyl aluminum chloride or alkyl aluminum dichloride or mixtures thereof and gallium trichloride affects high yields of trialkyl gallium or dialkyl gallium chloride.
補助塩基としての塩化カリウムを付加的に混入すると、
所定の反応温度が充分に反応混合物の液体範囲であるか
ぎり、更に収率は上昇する従来公知の方法に比べた本発
明の方法の更に特別な利点は、次のとおりである:
完全に溶剤なしで操作するから、分離の問題も不純化も
起こらない。これにより、全反応成分の量に対する空時
収率が極めて高いことも明らかである。Additional incorporation of potassium chloride as an auxiliary base results in
As long as the given reaction temperature is well within the liquid range of the reaction mixture, the yield is further increased.Further particular advantages of the process of the invention compared to previously known processes are: Completely solvent-free Since it is operated with 100 ml, there are no separation problems or contamination. It is also clear that the space-time yield relative to the amount of total reaction components is extremely high.
合成生成物は、前分離と同時に蒸気状で吸引され(でき
る)、副生成物の混合物は液状で反応器から放出でき、
それから、技術水準による再循環法で、場合によっては
再びアルミニウムをアルキルアルミニウムジロリドの製
造のために回収することができる。補助塩基の適正な配
量の際に全ての不所望の付随金属が反応生成物と共に存
在し、従って、ついでに更に精製が行なわれるので、使
用すべき三塩化ガリウムの製造のために使用されるガリ
ウムが低い純度(製造工程からの主要汚染物はアルミニ
ウムである)であってもよいことは特別な利点である。The synthesis products can be drawn off in vapor form simultaneously with the pre-separation, and the by-product mixture can be discharged from the reactor in liquid form.
The aluminum can then optionally be recovered again for the production of alkyl aluminum diloride using recycling processes according to the state of the art. The gallium used for the preparation of the gallium trichloride to be used, since upon proper dosing of the auxiliary base all undesired incidental metals are present with the reaction products and therefore further purification is then carried out. It is a particular advantage that it may be of low purity (the main contaminant from the manufacturing process is aluminum).
更に、有価生成物ガリウム(完全に定量的な反応ではな
いので、この反応の後になおガリウム化合物が副産物混
合物中に含有されている)はアルミニウム金属(粉末、
屑片、棒、顆粒)の単なる添加により容易に沈殿させ、
回収することができる。最後に装置損傷の場合には、反
応混合物を液状で取り出し、室温まで冷却することによ
り固体凝集物に変じ、これによって有機溶剤中での合成
時に可能であるよりは無害に廃棄処理できる。Furthermore, the valuable product gallium (gallium compounds are still contained in the by-product mixture after this reaction, since it is not a completely quantitative reaction) is converted into aluminum metal (powder,
easily precipitated by the simple addition of debris (chips, rods, granules);
It can be recovered. Finally, in case of equipment damage, the reaction mixture is removed in liquid form and converted by cooling to room temperature into a solid agglomerate, which can be disposed of more harmlessly than is possible during synthesis in organic solvents.
最終生成物の特有の重要な汚染物は、本発明方法では、
(アルキル)−アルミニウムーハロゲン−化合物である
が、これは、公知のように、弗化ナトリウムの添加によ
り、半導体製造にとって重要なガリウムトリアルキルの
必須の最終精製の際に、精留により問題なく除くことが
できる。The specific and important contaminants of the final product are:
(alkyl)-aluminum-halogen compounds, which, as is known, can be purified by rectification during the essential final purification of gallium trialkyl, which is important for semiconductor manufacturing, by the addition of sodium fluoride. Can be removed.
[実施例] 次の実施例により本発明の方法を詳説する。[Example] The following examples illustrate the method of the invention.
例1
Me3Al2C12250g、AlCl31349、N
aC1128g及びKCl67gからの混合物を不活性
ガス下で、完全に液化するまで、温度急上昇及び過熱を
避けながら、徐々に加温する。110〜120℃で、G
aCl3176 gを添加し、撹拌下に0.5〜2 時
間かかって350℃まで加熱する。この際、Me3Ga
49g(42,7%)及びMe2GaC1759(5
5,5%)が留出する。ガリウム変換率は98.2%で
ある。Example 1 Me3Al2C12250g, AlCl31349, N
A mixture of 1128 g aC and 67 g KCl is gradually warmed under inert gas until complete liquefaction, avoiding temperature spikes and overheating. At 110-120℃, G
Add 3176 g of aCl and heat to 350° C. for 0.5-2 hours while stirring. At this time, Me3Ga
49g (42,7%) and Me2GaC1759 (5
5.5%) is distilled out. The gallium conversion rate is 98.2%.
例2
Me3Al2(j13205 g、AlCl31349
、NNaC11289KG167からの混合物を完全
に液化するまで加熱する。110〜120℃でMe2G
aC14069を添加し、撹拌下に更に350°Cまで
加熱する。この際、ガリウム変換率97.5%でMe3
Ga l 669(48,2%)及びMe2GaC12
00g(49,3%)が得られる。Example 2 Me3Al2 (j13205 g, AlCl31349
, NNaC11289KG167 is heated until completely liquefied. Me2G at 110-120℃
Add aC14069 and heat further to 350°C while stirring. At this time, Me3 with a gallium conversion rate of 97.5%
Gal 669 (48,2%) and Me2GaC12
00 g (49,3%) is obtained.
例3
Me3Al2C132059、AlCl31349、N
aC11289及びKCl67gからの混合物を完全に
液化するまで加熱する。110〜120℃でMs2Ga
C1202gを添加し、200℃まで加熱する。この際
既に、生成物の1部分が移行するこの温度でGaCl3
176 gを加え、最後に更に350℃まで加熱する。Example 3 Me3Al2C132059, AlCl31349, N
A mixture of aC11289 and 67 g of KCl is heated until completely liquefied. Ms2Ga at 110-120℃
Add 1202 g of C and heat to 200°C. Already at this temperature, at which part of the product migrates, GaCl3
Add 176 g and finally heat further to 350°C.
合計して、定量的ガリウム変換率で、Me3Ga 11
49及びMe2GaC1201gが得られる。In total, with quantitative gallium conversion, Me3Ga 11
49 and 1201 g of Me2GaC are obtained.
例4
CaCl3240 g及びMe3Al3C132809
からの混合物に、NaC1l 14g及びKCl62g
を添加し、混合物を350℃まで加熱する。この際、ガ
リウム変換率96.1%でMe3Ga409及びMe2
GaC1130g(70,5%)が得られる。Example 4 CaCl3240 g and Me3Al3C132809
14 g of NaCl and 62 g of KCl to the mixture from
and heat the mixture to 350°C. At this time, Me3Ga409 and Me2 with a gallium conversion rate of 96.1%
1130 g (70.5%) of GaC are obtained.
例5
Et3Al3C132479、AlCl3 134 g
及びKCl224gからの混合物を完全に液化するまで
加熱する。185〜195℃で、GaCl31769を
添加し、350℃まで加熱する。この際、ガリウム変換
率79.2%でEt3Ga 15.8g(10。Example 5 Et3Al3C132479, AlCl3 134 g
and 224 g of KCl are heated until completely liquefied. At 185-195°C, add GaCl31769 and heat to 350°C. At this time, 15.8 g (10.0 g) of Et3Ga was used at a gallium conversion rate of 79.2%.
1%)及びEt2GaC1113g(69,1%)が得
られる。1%) and 1113 g (69.1%) of Et2GaC are obtained.
例6
EL3Al2C131219、AlCl3659及びK
Cl1099からの混合物を完全に液化するまで加熱す
る。185〜195℃で、Et2GaC1239gを添
加し、350℃まで加熱する。この際、ガリウム変換率
97.3%で、Et3Ga l l Og(47,9%
)及びEt2GaC11189(49,4%)が得られ
る。Example 6 EL3Al2C131219, AlCl3659 and K
Heat the mixture from Cl1099 until completely liquefied. At 185-195°C, add 1239 g of Et2GaC and heat to 350°C. At this time, the gallium conversion rate was 97.3%, and Et3Ga l l Og (47.9%
) and Et2GaC11189 (49.4%) are obtained.
例7
Et3Al l I 49 、AlCl3 1339
及びCaCl3176gからの混合物にKCl149g
を加え、この混合物を350℃まで加熱する。この際、
ガリウム変換率93%で、Et3Ga 33g(21%
)及びEt2GaC1118g(72%)が得られる。Example 7 Et3Al l I 49 , AlCl3 1339
and 149 g of KCl in a mixture of 3176 g of CaCl.
and heat the mixture to 350°C. On this occasion,
With a gallium conversion rate of 93%, 33g of Et3Ga (21%
) and 1118 g (72%) of Et2GaC are obtained.
Claims (1)
基としての金属ハロゲン化物の存在で、ガリウムハロゲ
ン化合物をアルキルアルミニウムハロゲニドと反応させ
ることを特徴とする、ガリウムアルキル化合物の製法。 2、ガリウムハロゲン化合物として、三ハロゲン化ガリ
ウム、アルキルガリウムジハロゲニド又はジアルキルガ
リウムハロゲニドを使用する、請求項1記載の方法。 3、アルキルアルミニウムハロゲニドとして、ジアルキ
ルアルミニウムハロゲニド、アルキルアルミニウムジハ
ロゲニド又はアルキルアルミニウムとジアルキルアルミ
ニウムハロゲニド又はいわゆるセスキハロゲニド(R_
3Al_2X_3)とからの混合物を使用する、請求項
1記載の方法。 4、アルキルアルミニウムハロゲニドの代りに、トリア
ルキルアルミニウムを、ハロゲン化アルミニウムの添加
のもとに使用する、請求項3記載の方法。 5、補助塩基として、周期律表第 I 〜III族の金属のハ
ロゲン化物を使用する、請求項1記載の方法。 6、補助塩基として塩化ナトリウム及び/又は塩化カリ
ウムを使用する、請求項1記載の方法。 7、反応を70〜450℃の温度で実施例する、請求項
1から6までのいずれか1項記載の方法。 8、反応を、反応混合物の液体領域で、反応混合物及び
/又は生成物の著るしい熱分解が起こるまでの温度で実
施する、請求項1記載の方法。[Claims] 1. A process for producing a gallium alkyl compound, characterized in that a gallium halide compound is reacted with an alkyl aluminum halide in the presence of a metal halide as an auxiliary base to produce the gallium alkyl compound. . 2. The method according to claim 1, wherein gallium trihalide, alkylgallium dihalide, or dialkylgallium halide is used as the gallium halide compound. 3. As the alkyl aluminum halide, dialkyl aluminum halide, alkyl aluminum dihalogenide, alkyl aluminum and dialkyl aluminum halide, or so-called sesquihalogenide (R_
2. The method as claimed in claim 1, wherein a mixture of 3Al_2X_3) is used. 4. The process as claimed in claim 3, wherein instead of the alkyl aluminum halide, a trialkyl aluminum is used with the addition of an aluminum halide. 5. The method according to claim 1, wherein a halide of a metal from groups I to III of the periodic table is used as the auxiliary base. 6. The method according to claim 1, wherein sodium chloride and/or potassium chloride are used as auxiliary bases. 7. The process according to any one of claims 1 to 6, wherein the reaction is carried out at a temperature of 70 to 450<0>C. 8. Process according to claim 1, characterized in that the reaction is carried out in the liquid region of the reaction mixture at a temperature up to which significant thermal decomposition of the reaction mixture and/or product occurs.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3914045.8 | 1989-04-28 | ||
DE3914045 | 1989-04-28 | ||
DE19904005726 DE4005726A1 (en) | 1989-04-28 | 1990-02-23 | Gallium alkyl cpds. prodn. - by reaction of gallium halide cpds. with alkyl-aluminium halide(s) in presence of metal halide(s) as auxiliary bases |
DE4005726.7 | 1990-02-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02295991A true JPH02295991A (en) | 1990-12-06 |
Family
ID=25880387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10549990A Pending JPH02295991A (en) | 1989-04-28 | 1990-04-23 | Preparation of gallium alkyl compound |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02295991A (en) |
DE (1) | DE4005726A1 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010195690A (en) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Ube Ind Ltd | High-purity trialkyl gallium, and method of producing the same |
JP2014534256A (en) * | 2011-11-28 | 2014-12-18 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Method for preparing trialkylgallium compound |
JP2015505558A (en) * | 2012-02-01 | 2015-02-23 | ケムチュア コーポレイション | Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds |
JP2017512827A (en) * | 2014-03-14 | 2017-05-25 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Preparation and use of trialkylgallium compounds |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455364A (en) * | 1993-12-14 | 1995-10-03 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Process for removing an impurity in organometallic compound |
DE102012013941A1 (en) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Umicore Ag & Co. Kg | Preparing trialkylmetal compounds comprises reaction of metal trichloride with alkylaluminum sesquichloride in the presence of alkali metal halide as auxiliary base, heating the reaction mixture, and separating trialkylmetal compound |
KR102228897B1 (en) | 2017-10-31 | 2021-03-17 | 누리온 케미칼즈 인터내셔널 비.브이. | Methods of storage and/or transport of gallium chloride |
-
1990
- 1990-02-23 DE DE19904005726 patent/DE4005726A1/en not_active Withdrawn
- 1990-04-23 JP JP10549990A patent/JPH02295991A/en active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010195690A (en) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Ube Ind Ltd | High-purity trialkyl gallium, and method of producing the same |
JP2014534256A (en) * | 2011-11-28 | 2014-12-18 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Method for preparing trialkylgallium compound |
JP2015504439A (en) * | 2011-11-28 | 2015-02-12 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Process for preparing trialkyl compounds of Group IIIA metals |
JP2017105848A (en) * | 2011-11-28 | 2017-06-15 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia |
US9695201B2 (en) | 2011-11-28 | 2017-07-04 | Umicore Ag & Co. Kg | Process for preparing trialkyl compounds of metals of group IIIA |
JP2017132788A (en) * | 2011-11-28 | 2017-08-03 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Manufacturing method of trialkylgallium compound |
JP2020019825A (en) * | 2011-11-28 | 2020-02-06 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia |
JP2021169529A (en) * | 2011-11-28 | 2021-10-28 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Process for preparing trialkyl compounds of metals of group iiia |
JP2015505558A (en) * | 2012-02-01 | 2015-02-23 | ケムチュア コーポレイション | Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds |
JP2017512827A (en) * | 2014-03-14 | 2017-05-25 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Preparation and use of trialkylgallium compounds |
US10428089B2 (en) | 2014-03-14 | 2019-10-01 | Umicore Ag & Co. Kg | Method for producing trialkylgallium compounds and the use thereof |
JP2020037592A (en) * | 2014-03-14 | 2020-03-12 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトUmicore AG & Co.KG | Manufacturing of trialkylgallium compound and application thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4005726A1 (en) | 1990-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6679527B2 (en) | Method for preparing trialkylgallium compound | |
US8642497B2 (en) | Processes for the preparation of tetrakis(Faryl)borate salts | |
JPH02295991A (en) | Preparation of gallium alkyl compound | |
JP4054997B2 (en) | Method for producing high purity alkyl gallium | |
JP5972999B2 (en) | Preparation of trialkylgallium compounds or trialkylindium compounds | |
US5043462A (en) | Process for the production of gallium-alkyl compounds | |
JP4482305B2 (en) | Method for producing trichloroborazine compound and method for producing alkylborazine compound | |
JPH06166691A (en) | Production of germanium dihalide-ether adduct | |
TWI672309B (en) | Preparation of trialkylgallium compounds and use thereof | |
TWI699446B (en) | Process for preparing alkyl-indium compounds and the use thereof | |
US3646092A (en) | Process for the recovery of trimethylfluorosilane from a mixture of silicontetrachloride trimethylchlorosilane and hydrocarbons boiling at the same range | |
JP2561482B2 (en) | Method for producing trialkylarsenic compound | |
JPH04273884A (en) | Preparation of trimethylaluminum | |
TWI782987B (en) | Method for producing trialkylindium, method for producing semiconductor containing indium and/or coating containing indium | |
RU2782752C2 (en) | Production of trialkylindium compounds in presence of carboxylates | |
JP3661825B2 (en) | Method for producing organic indium compound | |
JP3748688B2 (en) | Method for producing tetrakis [tris (dimethylamino) phosphoranylideneamino] phosphonium chloride | |
GB779873A (en) | The manufacture of aluminium hydrocarbons | |
JP3909781B2 (en) | Method for producing organic indium compound | |
JPS63195108A (en) | Production of disilicon hexafluoride | |
JP2000510139A (en) | Method for synthesizing hydrocarbon compounds containing fluorine on at least one carbon of the alkyl chain |