JPH02291547A - High-contrast silver halide photographic sensitive material - Google Patents

High-contrast silver halide photographic sensitive material

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JPH02291547A
JPH02291547A JP10980589A JP10980589A JPH02291547A JP H02291547 A JPH02291547 A JP H02291547A JP 10980589 A JP10980589 A JP 10980589A JP 10980589 A JP10980589 A JP 10980589A JP H02291547 A JPH02291547 A JP H02291547A
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JP
Japan
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group
silver halide
denotes
formula
groups
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Application number
JP10980589A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Ogasawara
小笠原 明
Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a high contrast and excellent dot quality and less fogging and to attain a high sensitivity even in rapid processing by confining pAg to <=9.0 after the end of a desalting stage and incorporating specific compds. into emulsion layers. CONSTITUTION:Particles having substantially no twin plane are formed before the formation of the particles and physical maturation and the pAg is confined to <=9.0 after the end of the desalting stage; in addition, the emulsion layers contain at least one kind of the compds. expressed by formulas I to III. In the formula I, R1 and R2 denote an aryl group or heterocyclic group; R denotes an org. bond group; n denotes 0 to 6; m denotes 0 or 1. In the formula II, R21 denotes an alicyclic group, arom. group, or heterocylic group; R22 denotes a hydrogen atom, alkoxy group. etc.; P1 and P2 denote a hydrogen atom, acyl group or sulfinic acid group. In the formula III, Ar denotes an aryl group contg. at least one of a diffusion resistant group or silver halide adsorption accelerating group; R31 denotes a substd. alkyl group. Hard-contrast images are rapidly and stably obtd. in this way and the high-sensitivity, high contrast, less fogging and good dot quality are obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、特に高コン
トラストなハロゲン化銀写真感光材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and particularly to a high-contrast silver halide photographic light-sensitive material.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、写真製版工程では文字や網分解された写真像ま
た超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラ
ストの高い写真画像が用いられている。このための或る
種のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラス
トの高い写真画像が形成できることが知られている。
In general, high-contrast photographic images are used in the photolithography process to form characters and halftone-resolved photographic images, and in the ultra-precision photolithography process to form fine line images. It is known that certain types of silver halide photographic materials for this purpose can form photographic images with extremely high contrast.

従来、例えば平均粒子径が0.2μmで粒子分布が狭く
粒子の形も揃っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光材
料を亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン
現像液で処理することにより高いコントラスト、高鮮鋭
度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは微細線
画像を得る方法が行なわれている。
Conventionally, for example, a photosensitive material made of a silver chlorobromide emulsion with an average grain size of 0.2 μm, a narrow grain distribution, a uniform grain shape, and a high silver chloride content (at least 50 mol %) was processed using sulfite ions. A method of obtaining an image with high contrast, high sharpness, and high resolution, such as a halftone dot image or a fine line image, is carried out by processing with an alkaline hydroquinone developer having a low concentration.

この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。
This type of silver halide photosensitive material is known as a lithium-type photosensitive material.

写真製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
The photolithography process involves converting a continuous-tone original into a halftone image, that is, converting the continuous-tone density changes of the original into a set of halftone dots with an area proportional to the density. There is.

このために上記リス型感光材料を使用して、交線スクリ
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
ない、ついで現像処理を行なうことによって、網点像を
形成させるのである。
For this purpose, a halftone dot image is formed by using the above-mentioned lithium-type photosensitive material and photographing an original through an intersection screen or contact screen, followed by development processing.

このために、微粒子でかつ粒子サイズおよび粒子の形の
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点像形成等においてリス型現像液で現像した場
合より劣る。
For this purpose, a silver halide photographic light-sensitive material containing a silver halide emulsion with fine grains and uniform grain size and grain shape is used. When processed with a commercially available developer, the halftone image formation, etc., is inferior to when developed with a Lith type developer.

そのため、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現像主薬と
してハイドロキノン単薬であるリス型現像液と呼ばれる
現像液で処理される。しかしながら、リス型現像液は自
動酸化を受けやすいことがら保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際においても、現像品質を一定に保つ制御方
法が極力求められており、この現像液の保恒性を改良す
るために多大の努力がなされて来ている。
Therefore, it is processed with a developer called a Lith type developer, which has an extremely low sulfite ion concentration and uses hydroquinone as a single developing agent. However, Lith-type developer is susceptible to auto-oxidation and has extremely poor storage stability.
There is a strong demand for a control method that keeps development quality constant even during continuous use, and great efforts have been made to improve the retention of this developer.

その改良する方法として、上記リス型現像液の保恒性を
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版
用自動現像機等で一般的に広く採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有している。
As a method to improve this, in order to maintain the stability of the above-mentioned Lith-type developer, there is a replenisher (processing fatigue replenisher) that compensates for the deterioration in activity due to development processing, and a replenisher (processing fatigue replenisher) that compensates for the oxidative deterioration over time. A so-called two-liquid separation replenishment system, in which the replenisher (replenishment due to fatigue over time) and the replenisher (replenishment due to aging) are replenished using separate replenishers, is generally widely adopted in automatic developing machines for photolithography and the like. However, the above method has the disadvantage that it is necessary to control the replenishment balance of the two liquids, which complicates the equipment and operation.

また、リス型現像は現像によって画像が現われる迄の時
間(誘導期)が長いため、迅速に画像を得ることが出来
ない。
In addition, in the Lith type development, it takes a long time (induction period) until an image appears due to development, and therefore an image cannot be obtained quickly.

一方、上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コ
ントラストの画像を得る方法が知られている。例えば米
国特許第2,419.975号、特開昭51−1662
3号及び特開昭51−20921号等に見られるように
、ハロゲン化銀感光材料中にヒドラジン化合物を含有せ
しめるものである。これらの方法によれば、現像液中に
亜硫酸イオン濃度を高く保つことができ、保恒性を高め
た状態で処理することが出来る。しかしながら、これら
の方法はいづれも硬調な画像を得るにはかなり高い現像
液のpHが必要であり、迅速にかつ高感度で画像を得る
技術としては現像液の安定性に問題がある。また、現像
液のpHが高いため力ブリが発生し易く、このカブリを
抑えるために種々の有機抑制剤を高濃度に含有させる結
果感度が犠牲になるという欠点がある。
On the other hand, there is a known method for quickly obtaining high-contrast images without using the above-mentioned Lith type developer. For example, U.S. Pat.
As seen in No. 3 and JP-A-51-20921, a hydrazine compound is contained in a silver halide photosensitive material. According to these methods, it is possible to maintain a high sulfite ion concentration in the developer, and it is possible to process with improved preservability. However, all of these methods require a fairly high pH of the developer to obtain a high-contrast image, and there is a problem in the stability of the developer as a technique for obtaining images quickly and with high sensitivity. Furthermore, since the pH of the developing solution is high, it is easy to cause fogging, and in order to suppress this fogging, various organic inhibitors are contained in high concentrations, resulting in a disadvantage that sensitivity is sacrificed.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

そこで本発明の第1の目的は、硬調な画像を迅速に安定
して得られる画像形成方法を提供することである。
Therefore, a first object of the present invention is to provide an image forming method that can quickly and stably obtain a high-contrast image.

本発明の第2の目的は、硬調な画像を感度損失が少なく
高感度で安定して得られる画像形成を提供することであ
る。
A second object of the present invention is to provide image formation in which a high-contrast image can be stably obtained with high sensitivity and little loss of sensitivity.

本発明の第3の目的は、硬調でカブリの少ない画像を与
える画像形成方法を提供することである。
A third object of the present invention is to provide an image forming method that provides images with high contrast and less fog.

本発明の第4の目的は、硬調で良好な網点品質を与える
画像形成方法を提供することである。
A fourth object of the present invention is to provide an image forming method that provides high contrast and good halftone dot quality.

本発明のその他の目的は本明細書の以下の記述によって
明らか′になるであろう。
Other objects of the invention will become apparent from the following description of the specification.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の上記目的は、支持体上に、少なくとも1層のハ
ロゲン化銀写真乳剤層を有するノ・ロゲン化銀写真感光
材料において、粒子形成、物理熟成時までは実質的に双
晶面を持たない粒子を形成し、脱塩工程終了後に、l)
Agを9.0以下にし、かつ該乳剤層が下記一般式[1
]、[2]、[3]で表される化合物の少なくとも1種
を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
により達成される。
The above object of the present invention is to provide a silver halide photographic material having at least one silver halide photographic emulsion layer on a support, which substantially has twin planes until grain formation and physical ripening. l) after the end of the desalination process, forming no particles;
Ag is 9.0 or less, and the emulsion layer has the following general formula [1
], [2], and [3].

一般式[1〕 口環基を、R22は水素原子、置換してもよいアルコキ
シ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリール
オキシ基を表し、P,及びP,は水素原子、アシル基、
またはスルフィン酸基を表す。)一般弐[3] I Ar  NHNH  C  R31 (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、Ri+は置換
アルキル基を表す。) 以下本発明の具体的構成について、更に詳細に(式中、
R0及びR,はアリール基またはへテロ環基を表し、R
は有機結合基を表し、nはθ〜6、mは0またはlを表
し、nが2以上のときは、各Rは同じであっても、異な
っていてもよい。)一般式[2] (式中、R!lは脂肪族基、芳香族基またはヘテ以下一
般式[N .[2] .[3]について具体的に説明す
る。
General formula [1] R22 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkoxy group, a heterocyclic oxy group, an amino group, or an aryloxy group, and P and P represent a hydrogen atom, an acyl group,
Or represents a sulfinic acid group. ) General 2 [3] I Ar NHNH C R31 (In the formula, Ar represents an aryl group containing at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group, and Ri+ represents a substituted alkyl group.) More details regarding the specific configuration (in the formula,
R0 and R represent an aryl group or a heterocyclic group, and R
represents an organic bonding group, n represents θ to 6, m represents 0 or l, and when n is 2 or more, each R may be the same or different. ) General formula [2] (wherein R!l is an aliphatic group, an aromatic group, or a hetether) The following general formula [N.[2].[3] will be specifically explained.

一般式[1] 式中、R,及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはθ〜6、mは0
またはlを表わす。
General formula [1] In the formula, R and R2 represent an aryl group or a heterocyclic group, R represents a divalent organic group, n is θ ~ 6, and m is 0
or represents l.

ここで、R,及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ペンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
ェニル基等が挙げられるが、R.及びR2として好まし
くはアリール基である。
Here, examples of the aryl group represented by R and R2 include a phenyl group, a naphthyl group, etc., and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a penzothiazolyl group, a quinolyl group, a chenyl group, etc. and R2 is preferably an aryl group.

R1及びR,で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばトメキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基{例えばアセチルアミノ、ビバリルアミノ、ペ
ンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2 
.4 −ジーt−アミルフェノキシ)プチリルアミノな
ど}スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ、ドデカンスルホニルア
ミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど、ウレア基(例え
ば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレア
基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレアな
ど)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例
えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)、カルポキ
シ基、アルコキシ力ルポニル基(例えば、エトキシヵル
ポニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられる
。Rで表わされる2価の有機基としては、例エハアルキ
レン基(例えば、メチレン、エチレン、トリルチレン、
テトラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フエニ
レン、ナフチレンなど)、アラルキレン基等が挙げられ
るがアラルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セレ
ノ基、カルポR3 t ニル基、−N一基( R 3は水素原子、アルキル基、
アリール基を表わす、)スルホニル基等を含んでも良い
。Rで表わされる基については種々の置換具体的化合物 が導入できる。
Various substituents can be introduced into the aryl group or heterocyclic group represented by R1 and R. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine, fluorine, etc.), alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, dodecyl, etc.), alkoxy groups (e.g., tomoxy, ethoxy, impropoxy, butoxy, octyloxy, dodecyloxy, etc.), and acylamino groups. {For example, acetylamino, bivalylamino, penzoylamino, tetradecanoylamino, α-(2
.. 4-di-t-amylphenoxy)butyrylamino, etc.}sulfonylamino groups (e.g., methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, dodecanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), urea groups (e.g., phenylurea, ethylurea, etc.), thiourea groups (e.g. , phenylthiourea, ethylthiourea, etc.), hydroxyl group, amino group, alkylamino group (e.g., methylamino, dimethylamino, etc.), carpoxy group, alkoxyl group (e.g., ethoxycarponyl), carbamoyl group, sulfo group Examples of the divalent organic group represented by R include alkylene groups (e.g., methylene, ethylene, tolyltylene,
tetramethylene, etc.), arylene groups (e.g., phenylene, naphthylene, etc.), aralkylene groups, etc. Aralkylene groups include oxy groups, thio groups, seleno groups, carpo R3 t nyl groups, -N monogroups ( R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group,
It may also contain a sulfonyl group (representing an aryl group). Regarding the group represented by R, various specific substituted compounds can be introduced.

置換基としては例えば、− CONHNHRa ( R
 aは上述したR,及びR2と同じ意味を表わす)、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、カルポキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられ
る。
Examples of substituents include -CONHNHRa (R
a has the same meaning as R and R2 described above), an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a hydroxy group, a carpoxy group, an acyl group, an aryl group, and the like.

Rとして好ましくアルキレン基である。R is preferably an alkylene group.

一般式(1)で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR2が置換または未置換のフエニル基であり、n−
m−1でRがアルキレン基を表わす化合物である。
Among the compounds represented by general formula (1), preferably R1
and R2 is a substituted or unsubstituted phenyl group, and n-
A compound in which R in m-1 represents an alkylene group.

上記一般式(1)で表わされる代表的な化合物■ l −12 一14 l 一17 ■ ?C1■H■一n l l =19 l 2l l l l l l =33 l l l 一34 l l l l l l −46 l −53 l −54 tcsH+ 1 l 次に一般式[2]について説明する R!lで表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50ノ直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のヘラロ原子を含んだ飽
和のべテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。
Representative compounds represented by the above general formula (1) ■ l -12 -14 l -17 ■ ? C1■H■1n l l =19 l 2l l l l l l =33 l l l -34 l l l l l l -46 l -53 l -54 tcsH+ 1 l Next, general formula [2] will be explained. Do R! The aliphatic group represented by l preferably has 6 carbon atoms.
Among the above, it is particularly a linear, branched or cyclic alkyl group having 8 to 50 carbon atoms. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated betaro ring containing one or more helaro atoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, or a sulfoxy group.

R,1で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
The aromatic group represented by R,1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ビリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ペンズイミダゾール環、チアゾール
環、ペンゾチアゾール環等があ?がなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, birimidine ring, imidazole ring, pyrorazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, penzimidazole ring, thiazole ring, penzothiazole ring, etc. Among these, those containing a benzene ring are preferred.

R2lとして特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R2l is an aryl group.

R.lのアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。
R. The aryl group or unsaturated heterocyclic group in l may be substituted, and typical substituents include a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably a monocyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). or two rings), alkoxy groups (
(preferably one having 1 to 20 carbon atoms), substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), acylamino group (preferably one having 2 to 30 carbon atoms), sulfonamide Group (preferably 1 to 1 carbon atoms)
30), a ureido group (preferably a carbon number of 1 to
30).

一般式[2]のR.で表される基のうち置換されてもよ
いアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであって
、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていてもよ
い。
R of general formula [2]. Among the groups represented by the above, the optionally substituted alkoxy group has 1 to 20 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group, or the like.

一般式[2]においてR2■で表される基のうち置換さ
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがあ
る R.で表される基のうちで好ましいものは、置換されて
もよいアルコキシ基またはアミノ基である。
Among the groups represented by R2■ in general formula [2], the optionally substituted aryloxy group or heterocyclic oxy group is preferably a monocyclic group, and the substituent is a halogen atom alkyl group or an alkoxy group. , cyano group, etc. Among the groups represented by, preferred are an optionally substituted alkoxy group or an amino group.

A2置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−  一S−  一N一基結合を含む環状構造であっ
てもよい。但しR.がヒドラジノ基であることはない。
A2 may be an optionally substituted alkyl group, an alkoxy group, or a cyclic structure containing a 10-1S-1N bond. However, R. is never a hydrazino group.

一般式[11のR21またはR22はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
R21 or R22 in general formula [11] may have a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein.

バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a fninoxy group,
It can be selected from alkylphenoxy groups, etc.

一般式[2]のR2,またはR’22はその中にハロゲ
ン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれて
いるものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基
、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾ
ール基などの米国特許第4,355.105号に記載さ
れた基があげられる。一般式[2]で表される化合物の
うち下記一般式[2 −alで表される化合物は特に好
ましい。
R2 or R'22 in general formula [2] may have a group incorporated therein that enhances adsorption to the silver halide grain surface. Such adsorption groups include the groups described in US Pat. No. 4,355.105, such as thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto heterocyclic groups, and triazole groups. Among the compounds represented by the general formula [2], the compounds represented by the following general formula [2-al] are particularly preferred.

一般式[2−a] 上記一般式[2 −a]中、 R!3およびR!4は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプ口ビル基、2一シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ビロリ
ジル基(例えばフエニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、α−ヒドロキシナ7チル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ビリジル基、4−プ
ロビル2−ピリジル基、ビロリジル基、4−メチル−2
−ビロリジル基)を表し、 R.は水素原子または置換されてもよいべ冫ジル基、ア
ルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−メ
チルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基、
プチル基)を表し、R2.及びR27は2価の芳香族基
(例えば7エニレン基またはナフチレン基)を表し、Y
はイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合基
(例えば−SOzCJCHJi{  S02NH,  
OCH2SO2NH,  O−−CH−N−)を表し、 R2mは−R/R//または−OR,,を表し、R′,
R″及びR,.は水素原子、置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニ
ル基(例えばフエニル基、p−メチルフエニル基、p−
メトキシフエニル基)、ナフチル基(例えばα−ナフチ
ル基、β−ナ7チル基)又は、複素環基(例えば、ピリ
ジン、チオフェン、フランノ様ナ不飽和複素環基、また
は、テトラヒド口フラン、スルホランの様な飽和複素環
基)を表し、R′とR”は窒素原子と共に環(例えば、
ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等)を形成しても
良い。
General formula [2-a] In the above general formula [2-a], R! 3 and R! 4 is a hydrogen atom, an alkyl group that may be substituted (e.g., methyl group, ethyl group, butyl group, dodecyl group, 2-hydroxypuchyl group, 2-cyanoethyl group, 2-chloroethyl group), or an optionally substituted alkyl group Phenyl group, naphthyl group, cyclohexyl group, pyridyl group, birrolidyl group (e.g. phenyl group, p-methylphenyl group, naphthyl group, α-hydroxyna 7-tyl group, cyclohexyl group, p-methylcyclohexyl group, biridyl group, 4- proyl 2-pyridyl group, pyrrolidyl group, 4-methyl-2
-pyrrolidyl group), R. is a hydrogen atom or an optionally substituted benzyl group, alkoxy group and alkyl group (e.g. benzyl group, p-methylbenzyl group, methoxy group, ethoxy group, ethyl group,
butyl group), and R2. and R27 represents a divalent aromatic group (e.g. 7-enylene group or naphthylene group), and Y
represents a sulfur atom or an oxygen atom, and L represents a divalent bonding group (e.g. -SOzCJCHJi{ S02NH,
OCH2SO2NH, O--CH-N-), R2m represents -R/R// or -OR,, R',
R'' and R,. are hydrogen atoms, optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, dodecyl), phenyl groups (e.g. phenyl, p-methylphenyl, p-
methoxyphenyl group), naphthyl group (e.g. α-naphthyl group, β-na7thyl group), or heterocyclic group (e.g. pyridine, thiophene, furan-like unsaturated heterocyclic group, tetrahydrofuran, sulfolane), ), and R' and R'' together with the nitrogen atom represent a ring (e.g.
piperidine, piperazine, morpholine, etc.).

m,nは0またはlを表す。R26がOR,,を表すと
きYはイオウ原子を表すのが好ましい。
m and n represent 0 or l. When R26 represents OR, , Y preferably represents a sulfur atom.

上記一般式〔2〕及び(2−a)で表される代一般式[
21の具体例 l3 =15 CL 2l 一22 一23 ■ ※−NHNHCCOCH2CH.SO2CFl.CH,
O}l※−NHNHCCOCH2CH,SCH,C}1
,OFICH. CIllH11fl =20 一25 =26 S b b O0 O0 O0 一33 H しtI3 ※ ■ Il1 −NHNHCCNHC+ 2H2 s q 113L; 次に、上記具体的化合物のうち化合物2 −45.2−
47を例にとって、その合成法を示す。
Representative general formulas [2] and (2-a) represented by the above general formulas [2] and (2-a)
Specific example of 21 l3 =15 CL 2l -22 -23 ■ *-NHNHCCOCH2CH. SO2CFl. CH,
O}l*-NHNHCCOCH2CH,SCH,C}1
, OFICH. CIllH11fl =20 -25 =26 S b b O0 O0 O0 -33 H tI3 * ■ Il1 -NHNHCCNHC+ 2H2 s q 113L; Next, compound 2 -45.2- of the above specific compounds
Taking No. 47 as an example, its synthesis method will be shown.

化合物2−45の合成 合成スキーム (B) (E) (A) 化合’111 4−ニトロフェニルヒドラジン1539
と500mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間
還流する。反応を進めながらエタノールを除去していき
、最後に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテル
で数回洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)の
うち509をl000mnのメタノールで加温溶解し、
pd/ C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiの
か加圧したH,雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
Synthesis of compound 2-45 Synthesis scheme (B) (E) (A) Compound '111 4-nitrophenylhydrazine 1539
and 500 mQ of diethyl oxalate and refluxed for 1 hour. Ethanol is removed as the reaction progresses, and finally it is cooled to precipitate crystals. Filter, wash several times with petroleum ether and recrystallize. Next, 509 of the obtained crystals (A) were heated and dissolved in 1000 methanol of methanol,
Compound (B) is obtained by reduction under pd/C (palladium/carbon) catalyst in H atmosphere under pressure of 50 Psi.

この化合物(B)229をアセトニトリル200+iQ
とビリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C )
24gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別
後、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物( D )31
gを得Iこ 。
This compound (B) 229 was mixed with acetonitrile 200+iQ
and pyridine 169 at room temperature.
24 g of acetonitrile solution was added dropwise. After filtering off insoluble matter, the filtrate was concentrated and recrystallized to obtain compound (D) 31.
I got g.

化合物(D)309を上記と同様に水添をして化合物(
E)209を得た。
Compound (D) 309 was hydrogenated in the same manner as above to obtain compound (
E) 209 was obtained.

化合物(E)10gをアセトニトリルl00mQに溶解
しエチルインチオシアネート3.0gを加え、1時間還
流した。溶媒を留去後再結晶精製して化合物(F)7.
09を得た。化合物(F )5.0gをメタノール50
mQに溶解してメチルアミン(40%水溶液8■a)を
加え攪拌した。メタノールを若.干濃縮後、析出した固
体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。
10 g of compound (E) was dissolved in 100 mQ of acetonitrile, 3.0 g of ethyl inthiocyanate was added, and the mixture was refluxed for 1 hour. After distilling off the solvent, the compound (F) 7 was purified by recrystallization.
I got 09. Compound (F) 5.0g in methanol 50g
The mixture was dissolved in mQ, and methylamine (40% aqueous solution 8.a) was added and stirred. Add methanol. After drying and concentration, the precipitated solid was taken out and purified by recrystallization to obtain Compound 2-45.

化合物2−47の合成 合成スキーム (B) CD) (E) 化合物2−47 化合物(B)229をピリジン200ml2に溶解し攪
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライト
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物CC”)を得た。この化合物(C)を
合成スキームに従って化合物2−45と同様の反応によ
り化合物2−47を得た。
Synthesis of Compound 2-47 Synthesis Scheme (B) CD) (E) Compound 2-47 Compound (B) 229 was dissolved in 200 ml of pyridine, and 22 g of p-nitrobenzenesulfonyl chlorite was added into a stirring vessel. The reaction mixture was poured with water, and the precipitated solid was taken out to obtain compound CC"). Compound 2-47 was obtained by reacting this compound (C) in the same manner as compound 2-45 according to the synthesis scheme.

次に一般式[3]について説明する。Next, general formula [3] will be explained.

一般式[3]    。General formula [3].

瀝 Ar NHNH−CRs+ 一般式[3]中、Arは耐拡散基又はハロゲン化(C) 銀吸着促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わ
すが、耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加
剤において常用されているバラスト基が好ましい。バラ
スト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、
フエニル基、アルキルフエニル基、フエノキシ基、アル
キル7エノキシ基などの中から選ぶことができる。
Ar NHNH-CRs+ In the general formula [3], Ar represents an aryl group containing at least one diffusion-resistant group or a halogenated (C) silver adsorption promoting group; Ballast groups commonly used in additives are preferred. A ballast group is a group having 8 or more carbon atoms and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group,
It can be selected from phenyl groups, alkylphenyl groups, phenoxy groups, alkyl 7-enoxy groups, and the like.

ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385.108号に
記載された基が挙げられる。
Examples of the silver halide adsorption promoting group include groups described in US Pat. No. 4,385.108, such as a thiourea group, a thiourethane group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group.

R31は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロビル、ブチル、イソプロビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。
R31 represents a substituted alkyl group, and the alkyl group represents a linear, branched, or cyclic alkyl group, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, isopropyl, pentyl, cyclohexyl, and the like.

これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロル7エノキシ等)、ヘ
テロ環オキシ(例えばビリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロル7エニルチオ
等)、ペテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ビリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ペ
テロ環スルホニル(例えばビリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシ力ルポニ
ル(例えばエトキシ力ルポニル、メトキシ力ルボニル等
)、アリールオキシ力ルボニル(例えばフェノキシ力ル
ポニル等)、カルポキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチル力ルバモイル、N,N−
ジメチル力ルバモイル等)、アリール力ルバモイル(例
えば、N−7ェニルカルパモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミノ、N,N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ペンゾイルアミノ等)、アルコキシカルポニルア
ミノ(例えば、エトキシ力ルポニルアミノ等)、アリー
ルオキシ力ルポニルアミノ(例えば、7エノキシ力ルポ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えば、アセチルオキ
シ、ペンゾイルオキシ等)、アルキルアミノ力ルボニル
オキシ(例えばメチルアミノ力ルポニルオキシ等)、ア
リールアミノ力ルポニルオキシ(例えば、フェニルアミ
ノ力ルポニルオキシ等)、スルホ、スルファモイル、ア
ルキルスルファモイル(例えば、メチルスルファモイル
等)、アリールスル7アモイル(例えば、7エニルスル
ファモイル等)等の各基が挙げられる。
Substituents introduced into these alkyl groups include alkoxy (e.g., methoxy, ethoxy, etc.), aryloxy (e.g., phenoxy, p-chloro7-enoxy, etc.), heterocyclic oxy (e.g., biridyloxy, etc.), mercapto, alkylthio (methylthio), etc. , ethylthio, etc.), arylthio (e.g., phenylthio, p-chlor7enylthio, etc.), peterocyclicthio (e.g., pyridylthio, pyrimidylthio, thiadiazolylthio, etc.), alkylsulfonyl (e.g., methanesulfonyl, butanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl ( (e.g., benzenesulfonyl, etc.), peterocyclic sulfonyl (e.g., biridylsulfonyl, morpholinosulfonyl, etc.), acyl (e.g., acetyl, benzoyl, etc.), cyano, chlor, bromine, alkoxyl (e.g., ethoxyl, methoxyl, etc.), Aryloxycarbonyl (e.g. phenoxycarbonyl), carpoxy, carbamoyl, alkylcarbamoyl (e.g. N-methylcarbamoyl, N,N-
dimethyl-rubamoyl, etc.), aryl-rubamoyl (e.g., N-7-phenylcarpamoyl, etc.), amino, alkylamino (e.g., methylamino, N,N-dimethylamino, etc.), arylamino (e.g., phenylamino,
naphthylamino, etc.), acylamino (e.g., acetylamino, penzoylamino, etc.), alkoxycarponylamino (e.g., ethoxyluponylamino, etc.), aryloxyluponylamino (e.g., 7-enoxyluponylamino, etc.), acylamino (e.g., acetyloxy, penzoyl), oxy, etc.), alkylaminoluponyloxy (e.g., methylaminoluponyloxy, etc.), arylaminoluponyloxy (e.g., phenylaminoluponyloxy, etc.), sulfo, sulfamoyl, alkylsulfamoyl (e.g., methylsulfamoyl, etc.), Examples include various groups such as arylsul-7-amoyl (eg, 7-enylsulfamoyl, etc.).

ヒドラジンの水素厚子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。
Even if the hydrogen atoms of hydrazine are substituted with substituents such as sulfonyl groups (e.g., methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.), acyl groups (e.g., acetyl, trifluoroacetyl, etc.), oxalyl groups (e.g., ethoxalyl, etc.), etc. good.

上記一般式[3】で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
Representative compounds represented by the above general formula [3] include:
There are the following.

リ しりしk3 一25 q ※−NFINHCCHzOCHzCH20(JlzCH
*OH=28 =38 =32 一35 4l 次に化合物3−5の合成例について述べる。
Reshirishi k3 -25 q *-NFINHCCHzOCHzCH20(JlzCH
*OH=28 =38 =32 -35 4l Next, a synthesis example of compound 3-5 will be described.

化合物3−5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3−5を得 I
こ 。
Synthesis of Compound 3-5 Synthesis scheme Compound 3-5 was obtained according to the synthesis method of Compound 2-45.
child .

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
I L[2 ],[3 ]の化合物の量は、本発明のハ
ロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1
モル当り、5 X 10−’ないし5 X to−’モ
ルまでが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’な
いし本発明の方法において、ヒドラジド化合物は感光材
料及び/又は現像液に含有させればよい。感光材料に含
有させる場合は3−ビラゾリドン化合物及びジまたはト
リヒドロキシベンゼン系化合物を含有する感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層及び/又は少なくとも現像時までに該乳剤
層へ拡散して移動しうる支持体上の他の塗設層の少なく
とも1層に含有させればよい。感光材料に含有させる場
合、ヒドラジド化合物の量はハロゲン化銀1モル当り1
0−’〜io− ’モルの範囲が適当であり、好ましく
はハロゲン化銀1モル当り10−’〜lO−2モルの範
囲である。その適量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学
熟成度、バインダーである親水性コロイドの量、安定剤
、抑制剤、促進剤等の添加剤とのバランスを考慮して任
意に決めることができる。
General formula [
I
Per mole, the hydrazide compound is preferably 5 X 10-' to 5 X to-' mole, more preferably 5 X 10-' or more per mole. . When incorporated in a light-sensitive material, it is on a light-sensitive silver halide emulsion layer containing a 3-virazolidone compound and a di- or trihydroxybenzene compound and/or on a support that can diffuse and move into the emulsion layer at least until the time of development. It may be contained in at least one of the other coating layers. When included in a photosensitive material, the amount of hydrazide compound is 1 mole of silver halide.
A range of 0-' to io-' moles is suitable, preferably a range of 10-' to 10-2 moles per mole of silver halide. The appropriate amount can be arbitrarily determined by considering the composition of silver halide, particle size, chemical ripeness, amount of hydrophilic colloid as a binder, and balance with additives such as stabilizers, suppressors, and accelerators. .

ヒドラジド化合物を現像液へ含有させる場合、その添加
量は現像液112当り10−’〜lO−2モル、好まし
くはIO−4〜lO−3モルであり、共存するアミノ化
合物、pHtカブリ抑制剤などのバランスのもとに適量
が決定される。
When a hydrazide compound is contained in the developer, the amount added is 10-' to 1O-2 mol, preferably IO-4 to 1O-3 mol, per 112 of the developer, and the amount of addition is 10-' to 1O-2 mol, preferably IO-4 to 1O-3 mol, and coexisting amino compounds, pHt fog inhibitors, etc. The appropriate amount is determined based on the balance.

本発明の方法に用いられる感光材料に含まれる3−ビラ
ゾリドン化合物は次式により表わされる化合物である。
The 3-virazolidone compound contained in the photosensitive material used in the method of the present invention is a compound represented by the following formula.

式中、R4lは置換されていてもよいアリール基を表わ
し、R4!.R43及びR44は各々水素原子又は置換
されていてもよいアルキル基を表わす。R,1で表わさ
れるアリール基の置換基としては例えばメチル基、クロ
ロ基、アミン基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基、
メトキシ基及びメチルスルホンアミドエチル基のような
基が挙げられ、R4.で表わされるアリール基としては
例えばフェニル基、p−アミノ7エニル基、p−クロロ
フェニル基、p−アセトアミドフェニル基、p−メトキ
シフエニル基等が挙げられる。
In the formula, R4l represents an optionally substituted aryl group, and R4! .. R43 and R44 each represent a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group. Examples of substituents for the aryl group represented by R,1 include methyl group, chloro group, amine group, methylamino group, acetylamino group,
Groups such as methoxy and methylsulfonamidoethyl groups may be mentioned, R4. Examples of the aryl group represented by the formula include phenyl group, p-amino7enyl group, p-chlorophenyl group, p-acetamidophenyl group, p-methoxyphenyl group, and the like.

R ,!,R as及びR44で表わされるアルキル基
は、直鎖、分岐、環状の何れでもよく、好ましくは炭素
数1〜8であり、その置換基としては例えばヒドロキシ
基、カルポキシ基、スルホ基等が挙げられ、例えばメチ
ル基、ヒドロキシメチル基、エチル基、プロビル基等が
挙げられる。
R,! , R as and R44 may be linear, branched, or cyclic, and preferably have 1 to 8 carbon atoms, and examples of the substituents thereof include a hydroxy group, a carpoxy group, a sulfo group, etc. Examples include methyl group, hydroxymethyl group, ethyl group, and proyl group.

上記3−ビラゾリドン化合物の代表的な具体例を以下に
示す。
Typical specific examples of the above 3-virazolidone compound are shown below.

(A−1) (A−2) (A−3) (A−4) 〔A 5〕 (A−63 〔A 7〕 (A−8) 1−フエニル−3−ビラゾリドン l−フエニルー4,4−ジメチル−3−ビラゾリドン l−フェニル−4,−メチル−4−ヒドロキシメチル l−フェニル−4.4−ジ(ヒドロキシメチル)−3−
ビラゾリドン l−フェニル−5−メチル−3−ビラゾリドン l−7二二ルー4.4−ジメチル−3−ビラゾリドン 1−P−クロロ7エニル−4−メチル−4−プロビル−
3−ビラゾリドン IP−クロロフエニル−4−メチルー4(A−9)  
     iP−アセトアミドフェニル−4.4− ジ
エチル−3−ビラゾリドンC A − 10)    
   1−P−メトキシフェニル−4.4−ジエ  チ
ル−3−ビラドリドン 本化合物の感光材料中の存在位置は感光性ハロゲン化銀
乳剤層中が好ましいが保護膜層、中間層、下引層又は裏
引層など非乳剤層中にあっても構わない。本化合物の添
加は一般に有機溶剤で溶解して行なえばよく、添加量は
ハロゲン化銀1モル当りio−’〜10−1モル加えら
れるが、lO−4〜10−’モルの範囲が最も良い結果
を示す。
(A-1) (A-2) (A-3) (A-4) [A 5] (A-63 [A 7] (A-8) 1-phenyl-3-virazolidone l-phenyl-4,4 -dimethyl-3-virazolidone l-phenyl-4,-methyl-4-hydroxymethyl l-phenyl-4,4-di(hydroxymethyl)-3-
Virazolidone l-phenyl-5-methyl-3-vilazolidone l-722-4,4-dimethyl-3-virazolidone l-P-chloro7enyl-4-methyl-4-probyl
3-Vyrazolidone IP-chlorophenyl-4-methyl-4 (A-9)
iP-acetamidophenyl-4.4-diethyl-3-virazolidone CA-10)
1-P-Methoxyphenyl-4,4-diethyl-3-viladridone The present compound is preferably present in the light-sensitive silver halide emulsion layer, but it is preferably present in the protective film layer, intermediate layer, undercoat layer, or backing layer. It may be present in a non-emulsion layer such as a sublayer. The compound can generally be added by dissolving it in an organic solvent, and the amount added is from io-' to 10-1 mole per mole of silver halide, but the best range is from lO-4 to 10-' mole. Show the results.

本発明の画像形成方法に用いられる感光材料及び現像液
に含まれるジまたはトリヒドロキシベンゼン化合物は次
式により表わされる化合物である。
The di- or trihydroxybenzene compound contained in the photosensitive material and developer used in the image forming method of the present invention is a compound represented by the following formula.

0l υ■ 上式において、R,.,R.’.及びRs!は各々水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基(置換されたアルキル
基を含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む
)、ヘテロ還基(置換されたヘテロ還基を含む),−0
−Rs4又はーS−R,4を表わす。Rは水素原子、ア
ルキル基(置換されたアルキル基を含む)、アリール基
(置換されたアリール基を含む)、又はヘテロ還基(置
換されたヘテロ還基を含む)を表わす。nは0又は1を
表わす。
0l υ■ In the above equation, R, . ,R. '. and Rs! are hydrogen atoms, halogen atoms, alkyl groups (including substituted alkyl groups), aryl groups (including substituted aryl groups), hetero-reducing groups (including substituted hetero-reducing groups), -0
-Rs4 or -S-R,4. R represents a hydrogen atom, an alkyl group (including substituted alkyl groups), an aryl group (including substituted aryl groups), or a heterocyclic group (including substituted heterocyclic groups). n represents 0 or 1.

上記ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物の具体的
な化合物を下記に示す。
Specific examples of the above di- or trihydroxybenzene compounds are shown below.

CB−1)   ハイドロキノン (B−2)   クロロハイドロキノン(B−3)  
 プロムハイドロキノンCB−4)   メチルハイド
ロキノンCB−5)   2.3−ジクロロハイドロキ
ノンCB−6)   2.5−ジベンゾイルアミノハイ
ドロキノン CB−7)   没食子酸ブチルエステル(B−8) 
  没食子酸エチルエステル本化合物の感光材料中の存
在位置は感光性ハロゲン化銀乳剤層中が望ましいが、保
護膜層、中間層、下引層又は裏引層など非乳剤層中であ
っても構わない。本化合物の添加は一般に水又はメタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール等のグリコール類、アセ
ントのようなケトン類等の有機溶剤で溶解して行なえば
よく、添加量はノ1ロゲン化銀1モル当り0.001〜
0.lOモル加えられるが、好ましくは0.005〜0
.03モルである。
CB-1) Hydroquinone (B-2) Chlorohydroquinone (B-3)
Promhydroquinone CB-4) Methylhydroquinone CB-5) 2,3-dichlorohydroquinone CB-6) 2,5-dibenzoylaminohydroquinone CB-7) Gallic acid butyl ester (B-8)
Ethyl gallic acid ester This compound is preferably present in the light-sensitive silver halide emulsion layer, but it may also be present in non-emulsion layers such as a protective film layer, intermediate layer, subbing layer or backing layer. do not have. Generally, the compound can be added by dissolving it in water or an organic solvent such as alcohols such as methanol or ethanol, glycols such as diethylene glycol or triethylene glycol, or ketones such as Ascent, and the amount of addition is limited to 0.001 to 1 mole of silveride
0. 1O mol is added, preferably 0.005 to 0
.. 03 moles.

本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるジヒドロ
キシベンゼン系化合物は写真処理に広く用いられている
現像主薬であるノ八イドロキノンが最も好ましく、その
添加量は通常0.05〜0.5モル/12である。
The dihydroxybenzene compound contained in the developer used in the method of the present invention is most preferably nohydroquinone, which is a developing agent widely used in photographic processing, and the amount added is usually 0.05 to 0.5 mol. /12.

本発明の方法に用いられる現像液中に含まれる亜硫酸塩
はハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられる
ものを用いることができ、その具体的な例としては亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カ
リウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが挙
げられる。その濃度は空気酸化から現像液を保護し、か
つそれによって安定しI;写真性能かえられるに充分な
亜硫酸イオン濃度が得られる濃度であればよく、添加量
としては、0.05モル/Q以上が必要であるが好まし
くは0.15モル/Q以上である。
As the sulfite contained in the developer used in the method of the present invention, those commonly used in the developer of silver halide photographic light-sensitive materials can be used, and specific examples include sodium sulfite, potassium sulfite, sulfite, etc. Examples include lithium, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, formaldehyde sodium bisulfite, and the like. The concentration should be such that it protects the developer from air oxidation and stabilizes it; it can provide a sufficient sulfite ion concentration to change photographic performance, and the amount added is 0.05 mol/Q or more. is required, but preferably 0.15 mol/Q or more.

更に本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるアミ
ノ化合物は硬調化を促進し特に現像液のpHが比較的低
いレベルでも効果を強く出すことを目的に使用される。
Furthermore, the amino compound contained in the developer used in the method of the present invention is used for the purpose of promoting high contrast, and particularly to produce a strong effect even at a relatively low pH level of the developer.

本発明に有用なアミノ化合物は無機アミン及び有機アミ
ンの両者を包含している。有機アミンは、脂肪族アミン
、芳香族アミン、環状アミン、脂肪族一芳香族混合アミ
ン又は複素環式アミンであることができる。第1,第2
及び第3アミンならびに第4アンモニウム化合物はすべ
て有効であるということが判明した。
Amino compounds useful in this invention include both inorganic and organic amines. The organic amine can be an aliphatic amine, an aromatic amine, a cyclic amine, an aliphatic monoaromatic mixed amine or a heterocyclic amine. 1st, 2nd
and tertiary amines and quaternary ammonium compounds were all found to be effective.

本発明の目的に関して特に好ましいアルカノーールアミ
ンは、次式により表わされる。
Particularly preferred alkanolamines for the purposes of the present invention are represented by the formula:

\R6, 上式において、 R61は、2〜lO個の炭素原子を有するヒドロキシア
ルキル基であり、そして、 R.,及びR63は、それぞれ、水素原子、l −10
個の炭素原子を有するアルキル基、2〜lO個の炭素厘
子を有するヒドロキシアルキル基、ベンジル基または次
式の基: /X −Cnl{.n−tJ \Y であり、上式中のnは、1〜10の整数であり、モして
X及びYは、それぞれ、水素原子、1 −10個の炭素
原子を有するアルキル基又は2〜IO個の炭素原子を有
するヒドロキシアルキル基である。
\R6, In the above formula, R61 is a hydroxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R. , and R63 are each a hydrogen atom, l −10
an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, a benzyl group or a group of the formula: /X -Cnl{. n-tJ\Y, where n in the above formula is an integer of 1 to 10, and X and Y are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or 2 to A hydroxyalkyl group having IO carbon atoms.

別の好ましい部類に属するアミノ化合物は、アルキルア
ミン、特に次式により表わされる。
Another preferred class of amino compounds is the alkylamines, especially those represented by the formula:

上式において、 R.は、1〜10この炭素原子を有するアルキル基であ
り、そして Ras及びRagは、それぞれ、水素原子であるかもし
くは1〜lO個の炭素原子を有するアルキル基である。
In the above formula, R. is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and Ras and Rag are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

本発明を実施するに当って使用することのできる多数の
アミノ化合物のなかでも特に代表的なものの例を列挙す
ると下記の通りである。
Among the many amino compounds that can be used in carrying out the present invention, particularly representative examples are listed below.

(C−1)   トリエタノールアミン(C−2)  
 ジエタノールアミン (C−3)   エタノールアミン (C−4)   2−ジエチルアミノーl一エタノール
(C−5)   2−メチルアミノーl一エタノール〔
C−6)   3−ジエチルアミノーl−プロパノーノ
レ 5−アミノーl−ペンタノール ジエチルアミン トリエチルアミン ジイソプ口ピルアミン 2−ジブチルアミノエタノール i4−シクロヘキサンビス(メチノレ アミン) (C−7) [C−8] (C−9) ( C − 10) ( C − 11) ( C − 12) 0−アミン安息香酸 アミノプアニジンサルフィート 4−アミノー1−ブタノール 3−ピロリジノ−1.2プロパンジ オール 3−(ジメチルアミノ)−1.2 プロパンジオール 1.4−ビベラジノビス(エタンス ルホン酸) 3−ビペリジノ−1.2−プロパン ジオール なお、本発明に用いられるアミノ化合物の添加量は0.
Ol〜1.0モル/Qの範囲であり、好ましくは0.0
1〜0.04モル/12である。
(C-1) Triethanolamine (C-2)
Diethanolamine (C-3) Ethanolamine (C-4) 2-diethylamino-l-ethanol (C-5) 2-methylamino-l-ethanol [
C-6) 3-diethylamino l-propanol 5-amino l-pentanol diethylamine triethylamine diisopropylamine 2-dibutylaminoethanol i4-cyclohexane bis(methynoleamine) (C-7) [C-8] (C-9 ) (C-10) (C-11) (C-12) 0-Aminebenzoic acid aminopanidine sulfite 4-amino-1-butanol 3-pyrrolidino-1.2 Propanediol 3-(dimethylamino)-1. 2 Propanediol 1,4-biverazinobis(ethanesulfonic acid) 3-biperidino-1,2-propanediol Note that the amount of the amino compound used in the present invention added is 0.
The range is from Ol to 1.0 mol/Q, preferably 0.0
It is 1 to 0.04 mol/12.

本発明の方法に用いられる現像液には5(又は6)一二
トロインダゾールを含有させることが好ましい。これは
、カプリ防止にはもつとも効果的で、高感度及び硬調は
維持される。その添加量は現像液112当り0.000
1〜0.1モルの範囲が適当である。
It is preferred that the developer used in the method of the present invention contains 5 (or 6) ditroindazole. This is effective in preventing capri, and high sensitivity and high contrast are maintained. The amount added is 0.000 per 112 of the developer.
A range of 1 to 0.1 mol is suitable.

なお、本発明の方法に用いられる現像液の中に19〕 〔C ( C − 17) ( C − 18) ( c − 13) ( C − 14) ( C − 15〕 ( c  − 16) はジヒドロキシベンゼン系化合物の他に現像剤として3
−ビラゾリドン化合物又はオルソあるいはp−アミノフ
ェノール化合物が含有されてもよい。
In addition, in the developer used in the method of the present invention, 19] [C (C-17) (C-18) (c-13) (C-14) (C-15] (c-16) is dihydroxy 3 as a developer in addition to benzene compounds
-virazolidone compounds or ortho or p-aminophenol compounds may be included.

現像液のpoはlO〜l2が望ましいがそのpEIを維
持するため、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩をアルカ
リ剤として添加することができる。更に、現像によるカ
ブリ発生を抑制するために臭化カリウム等の無機抑制剤
及び5−メチルベンゾトリアゾール、5−クロロペンゾ
トリアゾール等のトリアゾール化合物及び2−メルカプ
トベンツイミタソール、1−フェニルー5−メルカプト
テトラゾール等のメルカプト化合物等の有機力ブリ防止
剤を使用することができる。
The po of the developer is preferably 10 to 12, but in order to maintain the pEI, an alkali metal hydroxide or carbonate can be added as an alkali agent. Furthermore, inorganic inhibitors such as potassium bromide, triazole compounds such as 5-methylbenzotriazole, 5-chloropenzotriazole, 2-mercaptobenzimitasole, 1-phenyl-5- Organic anti-brittle agents such as mercapto compounds such as mercaptotetrazole can be used.

更に、本発明の方法に用いられる現像液中には前述の成
分の他に目的に応じて任意の添加剤を使用することが出
来る。例えば、溶剤、暖衝剤、金属イオン封鎖剤、現像
促進剤、粘調剤及び乳剤層膨潤抑制剤等である。
Further, in addition to the above-mentioned components, arbitrary additives can be used in the developer used in the method of the present invention depending on the purpose. Examples include solvents, warming agents, sequestering agents, development accelerators, viscosity agents, and emulsion layer swelling inhibitors.

本発明において用いられる現像促進剤としては、例えば
下記一般式〔4〕で表される化合物が挙げられる。
Examples of the development accelerator used in the present invention include compounds represented by the following general formula [4].

一般式〔4〕 R ,−0 +C H . C H . O+n H〔
式中R,は水素原子、あるいは無置換又は置換基をもつ
芳香族環を表わし、nはlo〜200までの整数を表わ
す。〕 一般式〔4〕で表される化合物より好ましい具体例をあ
げるが、これらに限定されるものではない。
General formula [4] R , -0 +C H . C.H. O+n H [
In the formula, R represents a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted aromatic ring, and n represents an integer from lo to 200. ] Specific examples more preferable than the compound represented by the general formula [4] will be given, but the invention is not limited thereto.

HO(CH,CH,O)nH H0 ( C H 2 C H 2 0 ) n I{
}10(CI,CH20)nH H O ( C H 2 C H 2 0 ) n H
}IP(CH,CB.O)n}I HO(CH,CH.O)11}1 n=lO n−3o n=5o n=7o n==150 J7門・. これらの化合物は、市販されており容易に入手すること
ができる。これらの化合物はハロゲン化銀1モルに対し
0.Ol〜4.0モル添加するのが好まし< 0.02
〜2モルがより好ましい。
HO(CH,CH,O)nH H0 (CH2CH20)nI{
}10(CI,CH20)nH H O (C H 2 C H 2 0 ) n H
}IP(CH,CB.O)n}I HO(CH,CH.O)11}1 n=lO n-3o n=5o n=7o n==150 J7 Gate・. These compounds are commercially available and can be easily obtained. These compounds have a content of 0.0% per mole of silver halide. It is preferable to add 4.0 mol of Ol<0.02
-2 mol is more preferred.

また、nの値が異なる2種以上の化合物を含んでもかま
わない。
Further, two or more types of compounds having different values of n may be included.

本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤には、
各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えば塩化
銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀などで
ある。特に臭化銀及び沃臭化銀に対して本発明の効果は
顕著であり、沃化銀の少ない(Ag1  5モル%以下
)高感度感光材料に対して特に効果的である。
The silver halide emulsion of the light-sensitive material used in the present invention includes:
Various silver halides can be used. Examples include silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide, and silver chloroiodobromide. The effect of the present invention is particularly remarkable for silver bromide and silver iodobromide, and is particularly effective for high-sensitivity light-sensitive materials with a small amount of silver iodide (Ag1 5 mol % or less).

本発明の方法で使用するハロゲン化銀乳剤の調整方法は
公知の方法により親水性コロイド中に懸濁させたハロゲ
ン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモニア法でのシ
ングルジェット法、ダブルジェット法などによる乳剤調
整法が用いられる。
The silver halide emulsion used in the method of the present invention may be prepared by suspending the silver halide emulsion in a hydrophilic colloid by a known method, such as a neutral method, a single jet method using an ammonia method, or a double jet method. An emulsion preparation method such as a method is used.

本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤層中に
含有せしめるハロゲン化銀は平均粒子サイズ0.1〜l
.0μrtr,特に好ましくは0.1〜0.7μa+で
、かつ全粒子数の少なくとも75%、特に好ましくは8
0%以上が平均粒径の0.7〜1.3倍の粒子サイズを
有するハロゲン化銀を含むことが好ましい。
The silver halide contained in the silver halide emulsion layer of the light-sensitive material used in the present invention has an average grain size of 0.1 to 1
.. 0 μrtr, particularly preferably from 0.1 to 0.7 μa+ and at least 75% of the total particle number, particularly preferably 8
Preferably, 0% or more contains silver halide having a grain size of 0.7 to 1.3 times the average grain size.

本発明において、実質的に双晶面を持たない粒子とは、
その表面の全て、ないしは過半数が(100)面である
粒子をいう。
In the present invention, particles having substantially no twin planes are defined as
A particle in which all or a majority of its surfaces are (100) planes.

又、脱塩後、調整するpAgは9.0〜6.5の範囲が
好ましく、より好ましくは9.0〜8.0である。
Moreover, the pAg to be adjusted after desalting is preferably in the range of 9.0 to 6.5, more preferably 9.0 to 8.0.

pAg調整には、臭化カリウム、沃化カリウムが用いら
れるが、より好ましくは沃化カリウムである。
Potassium bromide and potassium iodide are used to adjust pAg, and potassium iodide is more preferred.

更に多価金属イオン(例えばイリジウム、ロジウム等)
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許第3
.271.157号、同3,447 .927号、同3
,531.291号などによる乳剤も使用できる。ハロ
ゲン化銀乳剤は、通常行なわれるイオウ化合物、塩化金
酸塩、三塩化金などのような金化合物等を用いる化学増
感することができる。
Furthermore, polyvalent metal ions (e.g. iridium, rhodium, etc.)
U.S. Patent No. 3 as a silver halide emulsion occluded with
.. No. 271.157, 3,447. No. 927, same 3
, 531.291 can also be used. Silver halide emulsions can be chemically sensitized using conventional sulfur compounds, gold compounds such as chlorauric acid salts, gold trichloride, and the like.

本発明の適用されるハロゲン化銀乳剤は増感色素を用い
て所望の感光波長域に感色性を付与することができる。
The silver halide emulsion to which the present invention is applied can be imparted with color sensitivity in a desired wavelength range by using a sensitizing dye.

増感色素としてはシアニン、ヘミシアニン、ローダシア
ニン、メロシアニン、オキサノール、ヘミオキソノール
などのメチン色素及びスチリル色素など通常用いられる
ものを用いることができる。
As the sensitizing dye, commonly used ones such as methine dyes and styryl dyes such as cyanine, hemicyanine, rhodacyanine, merocyanine, oxanol, and hemioxonol can be used.

上記色素は米国特許第2,742.833号、同2,7
56,148号、同3,567.458号、同3,61
5.517号、同3,615.519号、同3,632
.3・40号、同3,155,519号、同3,384
,485号、同4,232,115号、同3,796.
580号、同4,028,110号、同3,752.6
73号、特開昭55−45015号等の記載を参考にす
ることができる。
The above dye is disclosed in U.S. Pat. No. 2,742.833 and U.S. Pat.
No. 56,148, No. 3,567.458, No. 3,61
No. 5.517, No. 3,615.519, No. 3,632
.. No. 3.40, No. 3,155,519, No. 3,384
, No. 485, No. 4,232,115, No. 3,796.
No. 580, No. 4,028,110, No. 3,752.6
Reference may be made to the descriptions in No. 73, JP-A-55-45015, and the like.

本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀写真乳剤は
硬膜剤として通常用いられる例えばアルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、
ムコクロル酸等)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキ
サン誘導体(2.3−ジヒドロキシジオキサン等)、活
性ビニル化合物(1 .3 .5−トリアクリロイルー
へキサヒドローS−トリアジン、ビス(ビニルスルホニ
ル)メチルエーテル等)、活性ハロゲン化物(2,4−
ジクロルー6−ヒドロキシーS−}リアジン等)、等を
単独又は組合わせて用いることができ、また増粘剤、マ
ット剤、塗布助剤等として通常用いられるものが使用で
きる。また、結合剤としては通常用いられる保護コロイ
ド性を有する親水性結合剤を使用できる。
The silver halide photographic emulsion of the light-sensitive material used in the present invention contains aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde,
mucochloric acid, etc.), N-methylol compounds (dimethylolurea, methyloldimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), activated vinyl compounds (1.3.5-triacryloylhexahydro S-triazine, bis(vinylsulfonyl) methyl ether, etc.), active halides (2,4-
Dichloro-6-hydroxy-S-}riazine, etc.) can be used alone or in combination, and commonly used thickeners, matting agents, coating aids, etc. can be used. Further, as the binder, a commonly used hydrophilic binder having protective colloidal properties can be used.

更に本発明は目的に応じて感光材料中にカプラ、紫外線
吸収剤、蛍光増白剤、画像安定剤、酸化防止剤、潤滑剤
、金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通常用いられ
るものを添加することができる。
Furthermore, according to the purpose of the present invention, commonly used couplers, ultraviolet absorbers, optical brighteners, image stabilizers, antioxidants, lubricants, sequestering agents, emulsifying dispersants, etc. may be added to the photosensitive material. can do.

本発明の方法に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳
剤層以外の層として保護層、中間層、フィルター層、ア
ンチハレーション層、下引層、補助層、イラジェーショ
ン防止層、裏引層などを有してよ〈、使用される支持体
としてはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロース
アセテート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテ
レフタレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じ
て適宜選択できる。
The light-sensitive materials used in the method of the present invention include layers other than the silver halide emulsion layer, such as a protective layer, an intermediate layer, a filter layer, an antihalation layer, a subbing layer, an auxiliary layer, an anti-irradiation layer, and a backing layer. The support to be used may be appropriately selected from baryta paper, polyethylene-coated paper, cellulose acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, etc. depending on the intended use of the photosensitive material.

感光性ハロゲン化銀乳剤層又はその他の支持体上の塗設
層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート
、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又はコ
ポリマーからなるボリマーラテックスを、写真材料の寸
度安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめ
てよい。
A polymer latex consisting of a homo- or copolymer of alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylic acid, glycidyl acrylate, etc. is applied to the photosensitive silver halide emulsion layer or other coating layer on the support to improve the dimensional stability of the photographic material. It may be included for the purpose of improving the physical properties of the film.

感光性ハロゲン化銀乳剤中に安定剤またはカプリ防止と
して4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン、■−フェニルー5−メルカプトテト
ラゾール、レゾルシノールオキシム、ハイドロキノンア
ルドキシムをはじめ多くの化合物をハロゲン化銀1モル
当たりIO−4〜IO−1モルの〔実施例〕 以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明の実施
の態様はこれらに限定されない。
4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7- as a stabilizer or anti-capri in photosensitive silver halide emulsions.
Many compounds including tetrazaindene, ■-phenyl-5-mercaptotetrazole, resorcinol oxime, and hydroquinone aldoxime were added in amounts of IO-4 to IO-1 mol per mol of silver halide. Examples will be described, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

実施例I (ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 両面に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−1994
1号の実施例l参照)を施した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.0
g/m”、銀量が3.5g/m’になる様に塗設し、さ
らにその上に下記処方(2)の保護層をゼラチン量が1
.0g/+”になる様に塗設し、また反対側のもう一方
の下塗層上には下記処方(3)に従ってパッキング層を
ゼラチン量が3.5g/m”になる様に塗設し、さらに
その上に下記処方(4)の保護層をゼラチン量がl g
/+”になる様に塗設して試料No.1 −16を得た
Example I (Preparation of silver halide photographic light-sensitive material) Undercoat layer with a thickness of 0.1 μm on both sides (JP-A-59-1994
A silver halide emulsion layer having the following formulation (1) with a gelatin amount of 2.0 was applied on one of the undercoating layers of a 100 μm thick polyethylene tereftate film coated with Example 1 of No. 1.
g/m', silver amount is 3.5 g/m', and on top of that, a protective layer of the following formulation (2) is applied with a gelatin amount of 1.
.. 0g/+", and on the other undercoat layer on the opposite side, apply a packing layer according to the following recipe (3) so that the gelatin amount is 3.5g/m". , and then on top of that a protective layer of the following formulation (4) with an amount of gelatin of 1 g.
/+'' to obtain sample No. 1-16.

処方(l)(ハロゲン化銀乳剤層組成)ゼラチン   
          2.0g/m’また脱塩終了後沃
化カリウムによりpAgを7.7より8.8に上げI;
。) 3.5g/m2 ※防パイ剤 10mg/Agmff ハロゲン化銀乳剤A 3.5g/+” カブリ防止剤:ハイドロキノン 安定剤4−メチル−6−ヒドロキシー 1.3.3a.7−テトラザインデン 界面活性剤:サボニン 促進剤 例示化合物 4−4 ラテックスポリマー: 25mg/m2 30+119/112 0.1g/m” 100+119/I1’ 本発明に係る化合物または比較化合物 沃臭化銀乳剤(平均粒径0.20μm1沃化銀2モル%
、表1に示す量 増感色素S: (a) 処方(2)〔乳剤保護層組成〕 ゼラチン             1.5g/+*″
マット剤:平均粒径3.0〜5.0μIのポリメチルメ
タクリレート      0.05g/+*”コロイダ
ルシリ力         0.029/lm”界面活
性剤S: (b) So,Na 0.Olg/m” 硬膜剤: (CHI・CI{SOxCHx)0    
  0− 10g/@”処方(3)(パッキング層組成
) (c) SO,Na ゼラチン             2.7g/−2界
面活性剤:サポニン       0.Ig/s’硬膜
剤:グリオキザール      0−1g/m!ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.019/m叩 処方(4)〔パッキング保護層組成〕 ゼラチン              Ig/m”マッ
ト剤:平均粒径3.0〜5.0μ霞のポリメチルメタク
リート0.05g/a″ 界面活性剤: 硬膜剤:グリオキザール      0−01g/m”
得られた試料について、下記の方法による網点品質試験
を行った。
Prescription (l) (Silver halide emulsion layer composition) Gelatin
2.0 g/m' Also, after the desalination was completed, pAg was raised from 7.7 to 8.8 with potassium iodide.
. ) 3.5g/m2 *Anti-fogging agent 10mg/Agmff Silver halide emulsion A 3.5g/+” Antifoggant: Hydroquinone stabilizer 4-methyl-6-hydroxy-1.3.3a.7-tetrazaindene interface Activator: sabonin promoter exemplified compound 4-4 Latex polymer: 25 mg/m2 30+119/112 0.1 g/m''100+119/I1' Compound according to the present invention or comparative compound Silver iodobromide emulsion (average grain size 0.20 μm1 Silver iodide 2 mol%
, amount shown in Table 1 Sensitizing dye S: (a) Prescription (2) [Emulsion protective layer composition] Gelatin 1.5 g/+*''
Matting agent: Polymethyl methacrylate with an average particle size of 3.0 to 5.0 µI 0.05 g/+*"Colloidal silicone strength 0.029/lm" Surfactant S: (b) So, Na 0. Olg/m” Hardener: (CHI・CI{SOxCHx)0
0-10g/@” Prescription (3) (Packing layer composition) (c) SO, Na Gelatin 2.7g/-2 Surfactant: Saponin 0.Ig/s' Hardener: Glyoxal 0-1g/m! Sodium dodecylbenzenesulfonate 0.019/m Beating recipe (4) [Packing protective layer composition] Gelatin Ig/m" Matting agent: Polymethyl methacrylate with an average particle size of 3.0 to 5.0μ haze 0.05g/a "Surfactant: Hardener: Glyoxal 0-01g/m"
The resulting sample was subjected to a halftone quality test using the method described below.

(網点品質性試験方法) ステップウエッジに網点面積50%の返し網スクリーン
 (150線/インチ)を一部付して、これに試料を密
着させてキセノン光源で5秒間露光を与え、この試料を
下記現像液、下記定着液を投入した迅速処理用自動現像
機にて下記の条件で現像処理を行い、試料の網点品質を
100倍のルーペで観察し、網点品質の高いものを 「
5」ランクとし、以下「4」、「3」、「2」、「l」
までの5ランクとした。
(Testing method for halftone dot quality) A halftone screen (150 lines/inch) with a halftone dot area of 50% is attached to a step wedge, and the sample is placed in close contact with this screen and exposed for 5 seconds to a xenon light source. The sample was developed under the following conditions in an automatic processing machine for quick processing using the developer and fixer listed below, and the quality of the halftone dots on the sample was observed with a 100x magnifying glass. "
5" rank, followed by "4", "3", "2", "l"
5 ranks.

なおランク 「l」及び「,2」は実用上好ましくない
レベルである。
Note that ranks "l" and ",2" are levels that are not desirable in practical terms.

また網点中の黒ボツも同様に評価し、網点中に全く黒ポ
ツの発生していないものを最高ランク「5」とし、網点
中に発生する黒ボツの発生度に応じてランク 「4」、
「3」、「2」、rlJ とそのランクを順次下げて評
価するものとした。なお、ランク「l」及び「2」では
黒ポツも大きく実用上好ましくないレベルである。
In addition, black spots in the halftone dots are evaluated in the same way, and the highest rank is ``5'' when there are no black spots in the halftone dots, and ranks are determined according to the degree of occurrence of black spots in the halftone dots. 4",
The evaluation was performed by lowering the ranks sequentially from "3" to "2" to rlJ. Note that the ranks "l" and "2" have large black spots, which are at a level that is not practical.

また得られた試料をコニカデジタル濃度計PDP−65
で測定し、試料Nolの濃度3.0における感度を10
0として相対感度で示し、さらに濃度0.3と3.0と
の正接をもってガンマを表示した。
In addition, the obtained sample was measured using a Konica digital densitometer PDP-65.
The sensitivity at the concentration of sample No. 3.0 was set to 10.
The relative sensitivity is expressed as 0, and the gamma is expressed as the tangent between the densities 0.3 and 3.0.

現像液処方 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩1g 亜硫酸ナトリウム          60gハイドロ
キノン            35g5−アミノーl
−ペンタノール 臭化カリウム 5−メチルベンゾトリアゾール 1−7エニルー3−ビラゾロドン 水を加えてlQとし、水酸化ナト を11.5に調整する。
Developer recipe Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 1g Sodium sulfite 60g Hydroquinone 35g 5-Aminol
-Pentanol Potassium bromide 5-methylbenzotriazole 1-7enyl-3-vilazolodone Add water to make 1Q and adjust sodium hydroxide to 11.5.

定着液処方 (組成A) チオ硫酸アンモニウム (72.5%w/v 2.5g 0.3g 0.2g リウムにてpH 水溶液) 240m4 17g 6.5g 2g 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 (組成B) 純水(イオン交換水) 硫酸(50%w/wの水溶液) 硫酸アルミニウム (Affi.OS換算含量が8.1%w/wの水溶液)
l7鴎Q 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500ml2中に上記組成A、組成
Bの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。この定着液の
pHは酢酸で6に調整した。
Fixer formulation (composition A) Ammonium thiosulfate (72.5% w/v 2.5g 0.3g 0.2g pH in lium aqueous solution) 240m4 17g 6.5g 2g Sodium sulfite Sodium acetate trihydrate Borate Sodium citrate・Dihydrate (composition B) Pure water (ion exchange water) Sulfuric acid (50% w/w aqueous solution) Aluminum sulfate (Affi.OS equivalent content 8.1% w/w aqueous solution)
17 UQ Q 4.7g 26.5g When using a fixer, the above composition A and composition B were dissolved in 500 ml of water in that order, and finished to IQ. The pH of this fixer was adjusted to 6 with acetic acid.

(現像処理条件) (工 程)  (温 度)  (時 間)現  像  
   40 ℃      15  秒定  着   
  35 ℃      lO  秒水  洗    
 30 ℃      lO 秒乾  燥     5
0 ℃      lO 秒なお、処方(1)における
ハロゲン化銀乳剤層に浜加した比較化合物としては以下
の(a)〜(c)の化合物を使用した。
(Development processing conditions) (Process) (Temperature) (Time) Development
Fix at 40℃ for 15 seconds
35℃ lO second water wash
Dry at 30°C for 10 seconds 5
0° C. 10 seconds The following compounds (a) to (c) were used as comparative compounds added to the silver halide emulsion layer in formulation (1).

上記実施例の結果を表1に示した。The results of the above examples are shown in Table 1.

表1から明らかなように本発明に係る試料は、比較に対
して感度高く、硬調でかつ網点品質と黒ポ/ 実施例2 実施例lで用いた試料を下記処方の現像液で処理する以
外はすべて実施例lと同様に行つt;。
As is clear from Table 1, the samples according to the present invention have higher sensitivity, higher contrast, and lower dot quality and black spots than the comparison. Everything else was carried out in the same manner as in Example 1.

結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

現像液処方 ハイドロキノン           22.59メト
ール             0.25gエチレンジ
アミン四酢酸       1.09亜硫酸ナトリウム
         75.09水酸化ナトリウム   
       7,9gリン酸三ナトリウム(12水塩
)    75.0g5−メチルベンゾトリアゾール 
   0.259N,N−ジエチルエタノールアミン 
  l2.5■a水を加えて1aに仕上げ、pHを11
.6に調整した。
Developer formulation Hydroquinone 22.59 Methol 0.25g Ethylenediaminetetraacetic acid 1.09 Sodium sulfite 75.09 Sodium hydroxide
7.9g trisodium phosphate (decahydrate) 75.0g 5-methylbenzotriazole
0.259N,N-diethylethanolamine
Add l2.5■a water to make it 1a, and adjust the pH to 11.
.. Adjusted to 6.

上記実施例の結果を表2に示した。The results of the above examples are shown in Table 2.

表2の結果から明らかなように、本発明に係る試料は実
施例lと同様に、比較に対して感度高く、硬調でかつ網
点品質と黒ポツが良いことがわかる。
As is clear from the results in Table 2, the sample according to the present invention, like Example 1, has higher sensitivity, higher contrast, and better halftone dot quality and black spots than the comparison.

/ /: ・・一 以・下余白 実施例3 平均粒径0.22μmでヘキサクロ口イリジウム酸カリ
ウムをハロゲン化銀1モル当たり0.3mg含有し、分
散度21%、沃化銀含有率2%の沃臭化銀粒子を常法に
従い硫黄増感した。その後安定剤として、6−メチル−
4−ヒドロキシ−1. 3. 3a. 7−テトラザイ
ンデンを加え、これを表3に示すように分割し、ヒドラ
ジン化合物を添加し、実施例lと同じ処方で塗布を行っ
た。できた試料にIO−6秒の露光を与え、実施例1に
従い旭理を行った。結果を表3に示す。
/ /: ...1 or less, lower margin Example 3 Contains 0.3 mg of potassium hexacroiridate per mole of silver halide with an average grain size of 0.22 μm, dispersion rate of 21%, silver iodide content of 2% Silver iodobromide grains were sulfur-sensitized according to a conventional method. Then, as a stabilizer, 6-methyl-
4-hydroxy-1. 3. 3a. 7-tetrazaindene was added, the mixture was divided as shown in Table 3, a hydrazine compound was added, and coating was carried out using the same formulation as in Example 1. The resulting sample was exposed to light for IO-6 seconds, and then subjected to optical analysis according to Example 1. The results are shown in Table 3.

表3の結果から明らかなように本発明試料は高照度特性
についても優れた性能を示している。
As is clear from the results in Table 3, the samples of the present invention also exhibit excellent performance in terms of high illumination characteristics.

〔発明の効果〕 本発明により、迅速処理によっても、硬調で網点品質に
優れ、カプリが少なく、シかも高感度なハロゲン化銀写
真感光材料の画像形成方法を提供することができた。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it was possible to provide an image forming method of a silver halide photographic light-sensitive material that has high contrast, excellent halftone dot quality, little capri, and high sensitivity even through rapid processing.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン化銀写真乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において、粒子形成
、物理熟成時までは実質的に双晶面を持たない粒子を形
成し、脱塩工程終了後に、pAgを9.0以下にし、か
つ該乳剤層が下記一般式[1]、[2]、[3]で表さ
れる化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。) 一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。) 一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。)
[Claims] In a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide photographic emulsion layer on a support, the grains have substantially no twin planes until grain formation and physical ripening. After the formation and desalting step, the pAg is set to 9.0 or less, and the emulsion layer contains at least one of the compounds represented by the following general formulas [1], [2], and [3]. Characteristic silver halide photographic materials. General formula [1] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R_1 and R_2 represent an aryl group or a heterocyclic group, R represents an organic bonding group, n is 0 to 6, m is 0
or 1, and when n is 2 or more, each R may be the same or different. ) General formula [2] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R_2_1 is an aliphatic group, aromatic group, or heterocyclic group, and R_2_2 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkoxy group, or a heterocyclic group. It represents an oxy group, an amino group, or an aryloxy group, and P_1 and P_2 represent a hydrogen atom, an acyl group, or a sulfinic acid group.) General formula [3] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, Ar represents an aryl group containing at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group, and R_3_1 represents a substituted alkyl group.)
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6331151A (en) * 1986-07-24 1988-02-09 Nec Corp Semiconductor device
JPS6346437A (en) * 1986-04-02 1988-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JPS6397950A (en) * 1986-10-14 1988-04-28 Mitsubishi Paper Mills Ltd Processing method for silver halide photographic sensitive material
JPH01100531A (en) * 1987-10-13 1989-04-18 Konica Corp Silver halide photographic sensitive material
JPH02228647A (en) * 1989-03-01 1990-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material and ultra-high contrast image forming method by using this material

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6346437A (en) * 1986-04-02 1988-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JPS6331151A (en) * 1986-07-24 1988-02-09 Nec Corp Semiconductor device
JPS6397950A (en) * 1986-10-14 1988-04-28 Mitsubishi Paper Mills Ltd Processing method for silver halide photographic sensitive material
JPH01100531A (en) * 1987-10-13 1989-04-18 Konica Corp Silver halide photographic sensitive material
JPH02228647A (en) * 1989-03-01 1990-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material and ultra-high contrast image forming method by using this material

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