JPH02289571A - 3-alkenyl-1-azabicyclo(3.2.0)hepto-2-ene-2-carboxylic acid derivative and its production and antifungal medicine containing same - Google Patents

3-alkenyl-1-azabicyclo(3.2.0)hepto-2-ene-2-carboxylic acid derivative and its production and antifungal medicine containing same

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JPH02289571A
JPH02289571A JP2109966A JP10996690A JPH02289571A JP H02289571 A JPH02289571 A JP H02289571A JP 2109966 A JP2109966 A JP 2109966A JP 10996690 A JP10996690 A JP 10996690A JP H02289571 A JPH02289571 A JP H02289571A
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JP
Japan
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salt
compound
group
reaction
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JP2109966A
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Inventor
Akira Yamada
明 山田
Toshiyuki Chiba
敏行 千葉
Masayoshi Murata
正好 村田
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:The title derivative of formula I [R<1> is (protected) carboxyl; R<2> is (protected) hydroxy lower alkyl; R<3> and R<4> are each H or lower alkyl; R<5> is (substituted) unsaturated heterocycle] or its salt acceptable as a medicine. EXAMPLE:2-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)-4-ethoxycarbonyl thiazole. USE:Anti-fungus agents, being highly effective on a great variety of pathogenic microorganisms. PREPARATION:For example, a compound of formula II (R<6> is lower alkoxy or aryl) or its salt is put to ring closure reaction to obtain the objective com pound of the formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は新規な3−アルケニルー1−アザビシク口[
3.2.0]ヘプトー2−エンー2−カルボン酸訊導体
または医薬として許容されるその塩に関するものであり
、より詳細には、抗菌活性を有する上記化合物または医
薬として許容されるその塩、更には上記化合物の製造方
法並びに上記化合物または医薬として許容されるその塩
を含む抗菌性薬剤に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to a novel 3-alkenyl-1-azabisic group [
3.2.0] Hept-2-ene-2-carboxylic acid conductor or a pharmaceutically acceptable salt thereof, more specifically, the above compound having antibacterial activity or a pharmaceutically acceptable salt thereof; relates to a method for producing the above-mentioned compound and to an antibacterial agent containing the above-mentioned compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof.

[発明の目的] 従ってこの発明の目的は、多数の病原性微生物に対して
高い抗菌活性を示し、抗菌剤として有用な新規な3−ア
ルケニルー1−アザビシク口[3.2.0]ヘブトー2
−エンー2−カルボン酸銹導体または医薬として許容さ
れるその塩を提供することにある. この発明の他の目的は新規な上記化合物またはその塩を
製造する為の方法を提供することにある. この発明の更に他の目的は、上記化合物または医薬とし
て許容されるその塩を活性成分として含有することによ
って、人間または動物における病原性徴生物による感染
性疾患の治療に有効な作用を発揮する抗菌性薬剤を提供
することにある。
[Object of the Invention] Therefore, the object of the present invention is to develop a novel 3-alkenyl-1-azabisic[3.2.0]hebuto2 compound that exhibits high antibacterial activity against a large number of pathogenic microorganisms and is useful as an antibacterial agent.
An object of the present invention is to provide a -en-2-carboxylic acid salt conductor or a pharmaceutically acceptable salt thereof. Another object of this invention is to provide a novel method for producing the above-mentioned compound or a salt thereof. Still another object of the present invention is to provide an antibacterial agent containing the above-mentioned compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient, which exhibits an effective effect on the treatment of infectious diseases caused by pathogenic organisms in humans or animals. The goal is to provide medicine.

[発明の構成の説明] この発明の目的物質である3−アルケニルー1−アザビ
シク口[3.2.O]ヘブトー2一二ンー2−カルボン
酸話導体は新規化合物であり、次に示す式によって表わ
すことができる。
[Description of the structure of the invention] 3-alkenyl-1-azabicyl, which is the target substance of the present invention [3.2. O]Hebuto-2-2-2-carboxylic acid conductor is a new compound and can be represented by the formula shown below.

式 R3 (式中R1 :カルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基 R2 =ヒドロキシ(低級)アルキル基または保護され
たヒドロキシ(低 級)アルキル基 R3.R4  ,夫々同一または異なって水素または低
級アルキル基 R’:1以上の適当な置換基で置換されていても良い不
飽和複素巻式基》 上記目的化合物およびその製造過程において得られる以
下に示す中間化合物においては、1組またはそれ以上の
立体異性体、例えば不斉炭素原子および/一または2重
結合の存在に基づく光学異性体および/または幾何異性
体が存在することがあるが、これらの異性体もこの発明
の範囲内に含まれるものと理解すべきである。
Formula R3 (wherein R1: carboxy group or protected carboxy group R2 = hydroxy (lower) alkyl group or protected hydroxy (lower) alkyl group R3.R4, respectively the same or different, hydrogen or lower alkyl group R': Unsaturated heterocyclic group optionally substituted with one or more suitable substituents] In the above target compound and the intermediate compounds shown below obtained in the manufacturing process thereof, one or more sets of stereoisomers, e.g. Optical and/or geometric isomers may exist based on the presence of asymmetric carbon atoms and/or single or double bonds, and it is to be understood that these isomers are also included within the scope of this invention. It is.

目的化合物(1)の好ましい塩とは、汎用されている非
毒性且つ医薬として許容される塩であり、例えばアルカ
リ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等)、アル
カリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩
等)、アンモニウム塩等の無機塩基塩、例えば有機アミ
ン塩(例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリ
ン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、
ジシクロヘキシルアミン塩、N,N’ −ジベンジルエ
チレンジアミン塩等)等の有m塩基塩等の塩基との塩;
無機酸付加塩(例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、
燐酸塩等)、有機酸付加塩(例えば蟻酸塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩等)等の酸との塩:
塩基性または酸性アミノ酸(例えばアルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等)との塩;分子間または分子
内4級塩等が含まれる. 前記した分子間4級塩は、例えば化合物(I)における
R4で示される不飽和複素環式基が3級窒素原子を含む
場合(例えばビリジル等)に形成され、好ましい分子間
4級塩としては、1−(低級)アルキルピリジニオ(低
級)アルキルサルフェート(例えばl−メチルビリジニ
オメチルサルフェート、1−エチルピリジニオエチルサ
ルフェート等)、1−(低級)アルキルピリジニオハラ
イド(例えば1−メチルビリジニオアイオダイド等)、
l一カルバモイル(低級)アルキルピリジニオ(低級)
アルキルサルフェート(例えば1−カルバモイルメチル
ピリジニオメチルサルフェート、1−カルパモイルエチ
ルビリジニオエチルサルフェート等)、1−カルバモイ
ル(低級)アルキルピリジニオハライド(例えば1−カ
ルバそイルメチルビリジニオアイオダイド、!一力ルバ
モイルエチルピリジニオアイオダイド等)が挙げられる
. 前記分子内4級塩は、例えば化合物(1)におけるR4
で示される不飽和複素環式基が3級窒素原子を含む場合
(例えばピリジル等)で、且つR1がカルボキシ基であ
る場合に形成され、好ましい分子内4級塩としては、1
−(低級)アルキルピリジニオカルボキシラート(例え
ば1−メチルピリジニオカルボキシラート、1−エチル
ビリジニオカルボキシラート、1−プロビルビロリジニ
オカルボキシラート、1−イソブロビルビリジニオカル
ボキシラート、1−ブチルピリジニオカルボキシラート
等)、1−[カルバモイル(低級)アルキル]ピリジニ
オカルボキシラート[例えば1−(カルバモイルメチル
》ビリジニオ力ルポキシラート、1−(カルバモイルエ
チル)ビリジニオカルボキシラート、1−(カルバモイ
ルブ口ビル)ピリジニオカルボキシラート、1−(カル
バモイルイソブロビル)ビリジニすカルボキシラート,
!−(カルバモイルブチル)ピリジニオカルボキシラー
ト等]等が挙げられる.この発明によれば目的化合物(
1)および医薬として許容されるその塩は、下記反応式
に示されるプロセスに従って製造される. (l!) またはその塩 またはその塩 N (1−c) またはその塩 (1−d) またはその塩 (1−a) またはその塩 (1−b) またはその塩 またはその塩 (I−f) またはその塩 (1−g) またはその塩 (I−h) またはその塩 プロセス6: ( IV ) ( 夏 ) プロセス7: (1−B(1−j) またはその塩          またはその塩上記反
応式において、 R ’ ,R ’ , R 3.R ’ オJ: ヒR
 ’ G;! 夫々前ト同L/ 意JRl.は保護され
たカルボキシ基 R2,は保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基R2
,はヒドロキシ(低級)アルキル基Rl1は保護された
イミノ残基を含む不飽和複素環式基であって、更に1以
上の適当な置換基で置換されていても良い RSbはイミノ残基を含む不飽和複素環式基であって、
更に1以上の適当な置換基で置換されていても良い RScは3級窒素原子を含む不飽和複素環式基であって
更に1以上の適当な置換基で置換されていても良い + RScは4級窒素原子を含む不飽和複素環式基であ
って更に1以上の適当な置換基で置換されていても良い Rlldは保護された低級アルキルアミノ(低級)アル
キル基で置換されている不飽和複素環式基 all1は低級アルキルアミノ(低級)アルキル基で置
換されている不飽和複素環式基 R6はアリール基または低級アルコキシ基R7は低級ア
ルキル基 X は酸残基 を夫々示す. 方1聾二上 プロセス1および6における出発物質口■)お よび (1v) は新規であり、 例えば下記に示す方法 によって製造することができる. (IX) (V) (■) またはその塩 (■) (■) (IX) またはその塩 またはその塩 またはその塩 方il E上 方』がと± (Xll) (IXa) (!■) またはその塩 またはその塩 またはその塩 (Xlll) 方韮」一一 (XI) (Xl1) またはその塩 またはその塩 (XV) (■!) ([Xa) またはその塩 (1v) またはその塩 (XV) (■) またはその塩 上記反応式においてR l . R2 , R3 , 
R4 . 1t S , R 8およびXは夫々前と同
じ意味 R7は保護されたカルボキシ基 L は脱離基 を夫々示す。
Preferred salts of the target compound (1) are commonly used non-toxic and pharmaceutically acceptable salts, such as alkali metal salts (e.g. sodium salts, potassium salts, etc.), alkaline earth metal salts (e.g. calcium salts). , magnesium salts, etc.), inorganic base salts such as ammonium salts, organic amine salts such as triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, ethanolamine salts, triethanolamine salts, etc.
salts with bases such as m-based salts such as dicyclohexylamine salt, N,N'-dibenzylethylenediamine salt, etc.;
Inorganic acid addition salts (e.g. hydrochloride, hydrobromide, sulfate,
phosphate, etc.), organic acid addition salts (e.g., formate, acetate, trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, etc.):
Salts with basic or acidic amino acids (eg, arginine, aspartic acid, glutamic acid, etc.); intermolecular or intramolecular quaternary salts, etc. are included. The above-described intermolecular quaternary salt is formed, for example, when the unsaturated heterocyclic group represented by R4 in compound (I) contains a tertiary nitrogen atom (for example, pyridyl), and preferred intermolecular quaternary salts include , 1-(lower)alkylpyridinio(lower)alkyl sulfates (e.g. l-methylpyridiniomethylsulfate, 1-ethylpyridinioethylsulfate, etc.), 1-(lower)alkylpyridiniohalides (e.g. 1 - methylviridinioiodide, etc.),
l-carbamoyl (lower) alkylpyridinio (lower)
Alkyl sulfates (e.g. 1-carbamoylmethylpyridiniomethylsulfate, 1-carpamoylethylviridinioethyl sulfate, etc.), 1-carbamoyl (lower) alkylpyridiniohalides (e.g. 1-carbamoylmethylpyridiniomethylsulfate, etc.) !Dide, !ichiriki rubamoylethylpyridinioiodide, etc.). The intramolecular quaternary salt is, for example, R4 in compound (1).
When the unsaturated heterocyclic group represented by contains a tertiary nitrogen atom (for example, pyridyl, etc.) and R1 is a carboxyl group, the preferred intramolecular quaternary salt is 1
-(lower)alkylpyridiniocarboxylate (e.g. 1-methylpyridiniocarboxylate, 1-ethylpyridiniocarboxylate, 1-propylbyridiniocarboxylate, 1-isobrobylbyridiniocarboxylate, 1-butylpyridiniocarboxylate, etc.), 1-[carbamoyl(lower)alkyl]pyridiniocarboxylate [e.g. 1-(carbamoylmethyl]viridiniocarboxylate, 1-(carbamoylethyl)viridiniocarboxylate, 1 -(carbamoylisobrobyl)pyridiniocarboxylate, 1-(carbamoylisobrobyl)pyridiniocarboxylate,
! -(carbamoylbutyl)pyridiniocarboxylate, etc.]. According to this invention, the target compound (
1) and a pharmaceutically acceptable salt thereof are produced according to the process shown in the reaction formula below. (l!) or its salt or its salt N (1-c) or its salt (1-d) or its salt (1-a) or its salt (1-b) or its salt or its salt (I-f ) or its salt (1-g) or its salt (I-h) or its salt Process 6: (IV) (Summer) Process 7: (1-B(1-j) or its salt or its salt The above reaction formula In, R', R', R 3.R' OJ: HiR
'G;! Each previous to the same L/I JRl. is a protected carboxy group R2, is a protected hydroxy (lower) alkyl group R2
, is a hydroxy (lower) alkyl group Rl1 is an unsaturated heterocyclic group containing a protected imino residue, and RSb, which may be further substituted with one or more suitable substituents, contains an imino residue. an unsaturated heterocyclic group,
RSc, which may be further substituted with one or more suitable substituents, is an unsaturated heterocyclic group containing a tertiary nitrogen atom, and which may be further substituted with one or more suitable substituents. Rlld, which is an unsaturated heterocyclic group containing a quaternary nitrogen atom and may be further substituted with one or more suitable substituents, is an unsaturated group substituted with a protected lower alkylamino (lower) alkyl group. The heterocyclic group all1 is substituted with a lower alkylamino (lower) alkyl group, the unsaturated heterocyclic group R6 is an aryl group, or the lower alkoxy group R7 is a lower alkyl group X represents an acid residue, respectively. The starting materials (1) and (1v) in Processes 1 and 6 are new and can be produced, for example, by the method shown below. (IX) (V) (■) or its salt (■) (■) (IX) or its salt or its salt or its salt il Salt or its salt or its salt (Xlll) 方韮一一 (XI) (Xl1) or its salt or its salt (XV) (■!) ([Xa) or its salt (1v) or its salt (XV) (■) or a salt thereof In the above reaction formula, R l . R2, R3,
R4. 1tS, R8 and X each have the same meaning as before; R7 is a protected carboxy group L each represents a leaving group.

この明細書における前述および後述の記載において、こ
の発明の範囲内に含まれる種々の定義に関する好ましい
例示および説明を詳述すれば下記の通りである. 『低級」の用語は他に特別の指示をしない限り炭素数1
〜6であることを示す。
In the foregoing and subsequent descriptions of this specification, preferred illustrations and explanations of various definitions included within the scope of this invention are detailed below. "Lower" terms have a carbon number of 1 unless otherwise specified.
~6.

好ましい「保護されたカルボキシ基」とはエステル化さ
れたカルボキシ基を含むものであり、この「エステル化
されたカルボキシ基」とは下記に示す様なものが挙げら
れる. エステル化されたカルボキシ基におけるエステル残基の
好ましい例としては、例えば低級アルキルエステル(例
えばメチルエステル、エチルエステル、プロビルエステ
ル、イソブロビルエステル、ブチルエステル、イソブチ
ルエステル、第3級ブチルエステル、ベンチルエステル
、ヘキシルエステル等)並びに少なくとも1つの好適な
置換基を有していても良い低級アルキルエステル、例え
ば低級アルカイル才キシ(低級)アルキルエステル[例
えばアセトキシメチルエステル、プロビオニルオキシメ
チルエステル、プチリルオキシメチルエステル、バレリ
ルオキシメチルエステル、ビバロイルオキシメチルエス
テル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、1−(また
は2−)アセトキシエチルエステル、1−(または2−
 または3−)アセトキシブロピルエステル、l−(ま
たは2− または3− または4−)アセトキシブチル
エステル、1−(または2−)ブロビオニルオキシエチ
ルエステル、1−(または2− または3−)プロビオ
ニルオキシブ口ピルエステル、1−(または2−)イソ
ブチリルオキシエチルエステル、1−(または2−)ビ
バロイルオキシエチルエステル、1−(または2−)ヘ
キサノイルオキシエチルエステル、イソブチリルオキシ
メチルエステ゜ル、2−エチルブチ・リルオキシメチル
エステル、3.3−ジメチルブチリルオキシメチルエス
テル、1−(または2−)ペンタノイルオキシエチルエ
ステル等]、低級アルカンスルホニル(低級)アルキル
エステル(例えば2−メシルエチルエステル等)、もの
(またはジ、またはトリ)八口(低級)アルキルエステ
ル(例えば2一沃化エチルエステル、2.2.2 −ト
リクロ口エチルエステル等)、低級アルコキシカルボニ
ルオキシ(低級)アルキルエステル[例えばメトキシヵ
ルボニルオキシメチルエステル、エトキシヵルボニルオ
キシメチルエステル、プロポキシカルポニルオキシメチ
ルエステル、M3級ブトキシカルボニルオキシメチルエ
ステル、1−(または2−)メトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、1−(または2−)エトキシカルボニ
ルオキシエチルエステル、1−(または2−)イソブロ
ボキシカルボニルオキシエチルエステル等]、フタリジ
リデン(低級)アルキルエステル、または(5一低級ア
ルキルニ2−オキソー1.3−ジオキソル−4ーイル)
メチルエステル[例えば(5−メチル−2−オキソー1
.3−ジオキソル−4〜イル)メチルエステル、(5−
エチル−2−オキソー1,3一ジオキソル−4−イル)
メチルエステル、(5−プロビル−2−オキソー1.3
−ジオキソル−4−イル)エチルエステル等] ;低級
アルケニルエステル(例えばビニルエステル、アリルエ
ステル等);低級アルキニルエステル(例えばエチニル
エステル、プロビニルエステル等);少なくとも1つの
適当な置換基を有していても良いアル(低級)アルキル
エステル(例えばベンジルエステル、4−メトキシベン
ジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチ
ルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステ
ル、ビス(メトキシフエニル)メチルエステル、3.4
−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ−3.
5一ジ第3級プチルベンジルエステル等);少なくとも
1つの適当な置換基を有していても良いアリルエステル
(例えばフエニルエステル、4−クロロフェニルエステ
ル、トリルエステル、第3級プチルフェニルエステル、
キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル等):フタリジル′エステル等が挙げられる。
A preferable "protected carboxy group" is one containing an esterified carboxy group, and examples of the "esterified carboxy group" include those shown below. Preferred examples of ester residues in the esterified carboxy group include lower alkyl esters (e.g. methyl ester, ethyl ester, proyl ester, isobroyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, bentyl ester). , hexyl esters, etc.) as well as lower alkyl esters which may have at least one suitable substituent, such as lower alkyl oxy(lower) alkyl esters [e.g. acetoxymethyl ester, probionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, bivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1-(or 2-)acetoxyethyl ester, 1-(or 2-)
or 3-) acetoxypropyl ester, l-(or 2- or 3- or 4-) acetoxybutyl ester, 1-(or 2-) brobionyloxyethyl ester, 1-(or 2- or 3-) Probionyloxibutyryl ester, 1-(or 2-) isobutyryloxyethyl ester, 1-(or 2-) bivaloyloxyethyl ester, 1-(or 2-) hexanoyloxyethyl ester, isobutyryloxyethyl ester, lyloxymethyl ester, 2-ethylbutylyloxymethyl ester, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1-(or 2-)pentanoyloxyethyl ester, etc.), lower alkanesulfonyl (lower) alkyl ester ( (e.g., 2-mesylethyl ester, etc.), mono (or di, or tri) yakuchi (lower) alkyl esters (e.g., 2-monoiodide ethyl ester, 2.2.2-trichloroethyl ester, etc.), lower alkoxycarbonyloxy (Lower) alkyl esters [e.g. methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, propoxycarbonyloxymethyl ester, M3-butoxycarbonyloxymethyl ester, 1-(or 2-)methoxycarbonyloxyethyl ester, 1- (or 2-) ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1-(or 2-) isobroboxycarbonyloxyethyl ester, etc.), phthalidylidene (lower) alkyl ester, or (5-lower alkyl di-2-oxo 1,3-dioxol- 4-il)
Methyl ester [e.g. (5-methyl-2-oxo 1
.. 3-dioxol-4-yl)methyl ester, (5-
ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl)
Methyl ester, (5-propyl-2-oxo 1.3
-dioxol-4-yl)ethyl ester, etc.]; Lower alkenyl esters (e.g., vinyl esters, allyl esters, etc.); Lower alkynyl esters (e.g., ethynyl ester, provinyl ester, etc.); (lower) alkyl esters (e.g. benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3.4
-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3.
5-1 ditertiary butyl benzyl ester, etc.); allyl ester which may have at least one suitable substituent (e.g. phenyl ester, 4-chlorophenyl ester, tolyl ester, tertiary butyl phenyl ester,
xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc.): phthalidyl' ester, etc.

この様に定義される保護されたカルボキシ基の更に好ま
しいものとしては、C,−C4アルケニルオキシカルボ
ニル及びフェニル(またはニトロフェニル)(C+ −
C4 )アルコキシカルボニルが挙げられ、もっとも好
ましいものはアリルオキシカルボニルである。
More preferred protected carboxy groups defined in this way include C, -C4 alkenyloxycarbonyl and phenyl (or nitrophenyl) (C+ -
C4) alkoxycarbonyl, the most preferred being allyloxycarbonyl.

好適な[ヒドロキシ(低級)アルキル」とは、ヒドロキ
シ基で置換された直鎮状または分岐状低級アルキルであ
り、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒド
ロキシブ口ピル、1−(ヒドロキシメチル)エチル、1
−ヒドロキシ−1−メチルエチル、ヒドロキシブチル、
ヒドロキシベンチル、ヒドロキシヘキシル等が示され、
これらのうちより好ましいものはヒドロキシ(C+C4
)アルキルであり、更にもっとも好ましいのはl−ヒド
ロキシエチルである. 好適な「保護されたヒドロキシ(低級)アルキル」とし
ては、・前記した様なヒドロキシ(低級)アルキルにお
けるヒドロキシ基が常用のヒドロキシ保護基、例えば後
述のイミノ保謹基の説明で述べる様な保護基、好ましく
は低級アルケニル才キシカルボニルおよびフエニル(ま
たはニトロフエニル)(低級)アルコキシカルボニル;
更にC6−CI。のアル(低級)アルキル、例えばモノ
またはジまたはトリフェニル(低級)アルキル(例えば
ベンジル、ペンズヒドリル、トリチル等)等:3置換シ
リル、例えばトリ(低級)アルキルシリル(例えばトリ
メチルシ1ノル、トリエチルシリル、イソブロピルジメ
チルシリル、第3級プチルジメチルシリル、ジイソブ口
ビルメチルシリル等)、トリ(Ca−C+。)アリール
シリル(例えばトリフエニルシリル等)、トリス[ (
Ca −C,。)アル(低級)アルキル]シリル、例え
ばトリス[フエニル(低級)アルキル]シリル(例えば
トリベンジルシリル等)等で保護されたものが挙げられ
る。
Suitable [hydroxy (lower) alkyl] is a straight or branched lower alkyl substituted with a hydroxy group, such as hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxybubutyr, 1-(hydroxymethyl)ethyl, 1
-Hydroxy-1-methylethyl, hydroxybutyl,
Hydroxybentyl, hydroxyhexyl, etc. are shown,
Among these, the more preferable one is hydroxy (C+C4
) alkyl, most preferably l-hydroxyethyl. Suitable "protected hydroxy (lower) alkyl" includes: - The hydroxy group in the above-mentioned hydroxy (lower) alkyl is a commonly used hydroxy protecting group, for example, a protecting group as described in the explanation of the imino protective group below. , preferably lower alkenyl, oxycarbonyl and phenyl (or nitrophenyl) (lower) alkoxycarbonyl;
Furthermore, C6-CI. al(lower)alkyl, such as mono- or di- or triphenyl(lower)alkyl (e.g. benzyl, penzhydryl, trityl, etc.); trisubstituted silyl, e.g. tri(lower)alkylsilyl (e.g. trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, tertiary butyldimethylsilyl, diisobutylmethylsilyl, etc.), tri(Ca-C+.)arylsilyl (e.g. triphenylsilyl, etc.), tris[ (
Ca-C,. )al(lower)alkyl]silyl, such as those protected with tris[phenyl(lower)alkyl]silyl (eg, tribenzylsilyl, etc.).

この様に説明された[保護されたヒドロキシ(低級)ア
ルキル」のうちより好ましいものは{フェニル(または
ニトロフェニル)  (CtC4)アルコキシ)カルボ
ニルオキシ(C.−C4)アルキル、C2−C4アルケ
ニルオキシカルボニルオキシ(c+ −C4 )アルキ
ルおよび(トリ(Cl−C4)アルキルシリル)オキシ
(c+ −C4 )アルキル等であり、もっとも好まし
いのは1一第3級ブチルジメチルシリル才キシエチルで
ある。
More preferred among the [protected hydroxy (lower) alkyl] described above are {phenyl (or nitrophenyl) (CtC4) alkoxy) carbonyloxy (C.-C4) alkyl, C2-C4 alkenyloxycarbonyl They include oxy(c+-C4)alkyl and (tri(Cl-C4)alkylsilyl)oxy(c+-C4)alkyl, and the most preferred is 1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl.

好適な「低級アルキル」とは直鎖状または分岐状のもの
、例えばメチル、エチル、プロビル、イソブロビル、ブ
チル、第3級ブチル、ペンチル、ヘキシル等であり、こ
れらのうち好ましいものはC,−C4アルキルであり、
もっとも好ましいのはメチルである. 「1以上の適当な置換基で置換されていても良い不飽和
複素環式基」の用語における「不飽和複素環式基」とは
少なくとも1つの複素原子、例えば酸素原子、硫黄原子
、または窒素原子を含む不飽和の単環式または多環式複
素環式基を意味する。
Suitable "lower alkyl" is a linear or branched one, such as methyl, ethyl, proyl, isobrobyl, butyl, tertiary butyl, pentyl, hexyl, etc., and among these, preferred are C, -C4 is alkyl,
The most preferred is methyl. "Unsaturated heterocyclic group" in the term "unsaturated heterocyclic group optionally substituted with one or more suitable substituents" means at least one heteroatom, such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. means an unsaturated monocyclic or polycyclic heterocyclic group containing atoms.

好ましい不飽和複素環式基としては、次の様なものが例
示される。
Examples of preferred unsaturated heterocyclic groups include the following.

1〜4個の窒素原子を有する3〜8員、より好ましくは
5〜6員の不飽和複素単環式基、例えばイミダゾリル、
ピラゾリル、ピリジル、ビリミジル、ビラジニル、ピリ
ダジニル、トリアゾリル(例えば4H−1.2.4−ト
リアゾリル、IH−1.2.3−トリアゾリル、2 H
−1.2.3 − トリアゾリル等)、テトラゾリル(
例えばIH−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)一
ジヒドロトリアジニル(例えば4.5−ジヒドロ−1.
2.4−トリアジニル、2.5−ジヒドロ−1.2.4
−トリアジニル等)等; 1〜5個の窒素原子を含む不飽和縮合複素環式基、例え
ばインドリジニル、ペンズイミダゾリル、キノリル、イ
ソキノリル、インダゾリル、ペンゾトリアゾリル、テト
ラゾ口ピリジル、テトラゾ口ピリダジニル(例えばテト
ラゾ口[1.5−b ]ビリダジニル等)等; 1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を含む3〜8
員、好ましくは5〜6員の不飽和複素単環式基、例えば
オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル(
例えば1.2.4−オキサジアゾリル、1,3.4−オ
キサジアゾリル、1,2.5 −オキサジアゾリル等)
等; 1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を含む不飽和
縮合複素環式基、例えばペンゾオキサゾリル、ペンゾオ
キサジアゾリル等; 1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を含む3〜8
員、好ましくは5〜6員の不飽和複素単環式基、例えば
1.3−チアゾリル、1.2−チアゾリル、2−チアゾ
リニル、チアジアゾリル(例えば1,2.4−チアジア
ゾリル、1,3.4−チアジアゾリル、1,2.5−チ
アジアゾリル、1,2.3−チアジアゾリル)等; 1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を含む不飽和
縮合複素環式基、例えばペンゾチアゾリル、ペンゾチア
ジアゾリル等. そして上記の様な複素環式基は1またはそれ以上、好ま
しくは1または2個の好適な置換基を有していてもよく
、その様な置換基としては次の様なものが例示される。
3- to 8-membered, more preferably 5- to 6-membered unsaturated heteromonocyclic groups having 1 to 4 nitrogen atoms, such as imidazolyl,
pyrazolyl, pyridyl, birimidyl, birazinyl, pyridazinyl, triazolyl (e.g. 4H-1.2.4-triazolyl, IH-1.2.3-triazolyl, 2H
-1.2.3 - triazolyl, etc.), tetrazolyl (
For example, IH-tetrazolyl, 2H-tetrazolyl, etc.)-dihydrotriazinyl (for example, 4,5-dihydro-1.
2.4-triazinyl, 2.5-dihydro-1.2.4
unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 5 nitrogen atoms, such as indolizinyl, penzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, penzotriazolyl, tetrazopyridyl, tetrazopyridazinyl (e.g. 3-8 containing 1-2 oxygen atoms and 1-3 nitrogen atoms
membered, preferably 5- to 6-membered, unsaturated heteromonocyclic groups, such as oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl (
For example, 1.2.4-oxadiazolyl, 1,3.4-oxadiazolyl, 1,2.5-oxadiazolyl, etc.)
etc.; unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as penzoxazolyl, penzoxadiazolyl, etc.; 1 to 2 sulfur atoms and 1 3-8 containing ~3 nitrogen atoms
membered, preferably 5- to 6-membered, unsaturated heteromonocyclic groups, such as 1.3-thiazolyl, 1.2-thiazolyl, 2-thiazolinyl, thiadiazolyl (e.g. 1,2.4-thiadiazolyl, 1,3.4 unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as penzothiazolyl, pen Zothiadiazolyl etc. The above-mentioned heterocyclic group may have one or more suitable substituents, preferably one or two, and examples of such substituents include the following: .

上記した様な低級アルキル基、より好ましくはCI−C
4アルキル(例えばメチル等)二上記した緑な低級アル
キル基と同じ様な低級アルキルを含む低級アルキルアミ
ノ(低級)アルキル、好ましくはC.−C4アルキルア
ミノ(CI−C4)アルキル(例えばメチルアミノメチ
ル等): 上述の様な低級アルキルアミノ(低級)アルキルのアミ
ノ基が後述するイミノ保謹基の説明において述べる様な
慣用のアミノ保護基によって保護されたアミノ基を含む
、保護された低級アルキルアミノ(低級)アルキル、よ
り好ましくはN−(CI  C4)アルキルーN− (
C2 −C4 )アルケニルオキシカルボニルアミノ(
C+ −C.t )アルキル(例えばN−アリルオキシ
カルボニルーN−メチルアミノメチル等);等。
Lower alkyl groups as described above, more preferably CI-C
4 Alkyl (such as methyl) 2 Lower alkylamino (lower) alkyl containing lower alkyl similar to the green lower alkyl group described above, preferably C. -C4 alkylamino (CI-C4) alkyl (e.g. methylaminomethyl etc.): The amino group of the lower alkylamino (lower) alkyl as mentioned above is a commonly used amino protecting group as described in the explanation of the imino protecting group below. protected lower alkylamino (lower) alkyl, more preferably N-(CI C4)alkyl, including an amino group protected by N- (
C2-C4) alkenyloxycarbonylamino (
C+ -C. t) alkyl (e.g. N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl, etc.); etc.

上記複素環式基が環内にイミノ残基を有するとぎは、そ
のイミノ残基は以下において述べる様なイミノ保護基の
如き好適な置換基で置換されていても良く、その様な置
換基としてより好ましいのはC2−C4アルケニルオキ
シカルボニル(例えばアリルオキシカルボニル等)等が
示される。
When the above heterocyclic group has an imino residue in the ring, the imino residue may be substituted with a suitable substituent such as an imino protecting group as described below. More preferred are C2-C4 alkenyloxycarbonyl (eg, allyloxycarbonyl).

好適な「3級窒素原子を有し、好適な置換基で置換され
ていても良い不飽和複素環式基」とは、上記した柱にr
好適な置換基で置換されていても良い不飽和複素環式基
」における複素環内に少なくとも1つの3級窒素原子を
含むものを意味する。
A suitable "unsaturated heterocyclic group having a tertiary nitrogen atom and optionally substituted with a suitable substituent" means
"Unsaturated heterocyclic group optionally substituted with a suitable substituent" means a heterocyclic group containing at least one tertiary nitrogen atom.

好適な「4級窒素を含有する不飽和複素環式基であフて
、好適な置換基によって置換されていても良いもの」と
は、上述した様に『好適な置換基によって置換されてい
ても良い不飽和複素環式基」における複素環が少なくと
も1つの4級窒素原子を包含するものを意味する。
As mentioned above, "a quaternary nitrogen-containing unsaturated heterocyclic group which may be substituted with a suitable substituent" means "a quaternary nitrogen-containing unsaturated heterocyclic group which may be substituted with a suitable substituent". The term "unsaturated heterocyclic group" means one in which the heterocycle contains at least one quaternary nitrogen atom.

好適な「イミノ残基を有する不飽和複素環式基であって
、好通な置換基で置換されていても良いもの」とは、上
記した様に『好通な置換基によって置換されていても良
い不飽和複素環式基」における複素環が少なくとも1つ
のイミノ残基を包含するものを意味する。
A suitable "unsaturated heterocyclic group having an imino residue, which may be substituted with a common substituent" means, as mentioned above, "an unsaturated heterocyclic group having an imino residue, which may be substituted with a common substituent" The term "unsaturated heterocyclic group" means one in which the heterocycle includes at least one imino residue.

好適な『保護されたイミノ残基を有する不飽和複素環式
基であって、好適な置換基で置換されていても良いもの
』とは、上記した様に「好適な置換基によって置換され
ていても良い不飽和複素環式基Jにおける複素環が少な
くとも1つの保護されたイミノ残基を包含するものを意
味する.好通な「保護された低級アルキルアミノ(低級
)アルキル基で置換された不飽和複素環式基」とは上述
した様に「不飽和複素環式基であって好適な置換基で置
換されていても良いもの」における複素環が保護された
低級アルキルアミノ(低級)アルキル基を置換基として
有するものを意味する. 好適な『低級アルキルアミノ(低級)アルキル基で置換
された不飽和複素環式基」とは上述した様に「不飽和複
素環式基であって好適な置換基で置換されていても良い
もの』における複素環が低級アルキルアミノ(低級)ア
ルキル基を置換基として有するものを意味する。
A suitable "unsaturated heterocyclic group having a protected imino residue, which may be substituted with a suitable substituent" means, as mentioned above, "an unsaturated heterocyclic group having a protected imino residue, which may be substituted with a suitable substituent". means that the heterocycle in the optional unsaturated heterocyclic group J contains at least one protected imino residue. As mentioned above, "unsaturated heterocyclic group" refers to lower alkylamino (lower) alkyl in which the heterocycle in "unsaturated heterocyclic group optionally substituted with a suitable substituent" is protected. It means something that has a group as a substituent. A suitable "unsaturated heterocyclic group substituted with a lower alkylamino (lower) alkyl group" is, as mentioned above, "an unsaturated heterocyclic group which may be substituted with a suitable substituent. '' in which the heterocycle has a lower alkylamino (lower) alkyl group as a substituent.

更に上記した複素環式基には、例えばイミダゾリールを
取上げると、下記平衡式に示す様な亙変異性体が存在す
る。
Further, in the above-mentioned heterocyclic group, for example, when imidazolyl is taken up, there are a wide variety of mutants as shown in the balanced formula below.

上記した互変異性体はいずれもこの発明の範囲内に包含
されるものである。しかしながらこの明゜細書において
は、その様な互変異性体群を含む目的物質並びに中間化
合物は、便宜上それらのうちの一方のみ、即ち例えばイ
ミダゾリルにおいては以下の式 H をもって表現するものとする. 好適な「低級アルコキシ基』とは直鎖状または分岐状の
もの、例えばメトキシ、エトキシ、ブロボキシ、イソプ
ロボキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ベンチルオキシ、
イソベンチルオキシ、ヘキシルオキシ等を含み、これら
のうちより好ましいのはC,−C4アルコキシ基である
All of the above-mentioned tautomers are included within the scope of this invention. However, in this specification, for convenience, target substances and intermediate compounds containing such tautomer groups will be expressed by the following formula H in the case of imidazolyl. Suitable "lower alkoxy groups" include linear or branched ones, such as methoxy, ethoxy, broboxy, isoproboxy, butoxy, isobutoxy, benzyloxy,
It includes isobentyloxy, hexyloxy, etc., and among these, C, -C4 alkoxy group is more preferred.

好通な「酸残基」は、例えばアジドやハロゲン(即ち塩
素、臭素、弗素、沃素)等の無機酸残基、アシルオキシ
(例えばベンゼンスルホニルオキシ、トシルオキシ、メ
タンスルホニルオキシ、アセトキシ等)等の酸残基を含
むものであり、ここにおいてより好ましいのはハロゲン
であり、もっとも好ましいのは沃素である。
Common "acid residues" include, for example, inorganic acid residues such as azides and halogens (i.e. chlorine, bromine, fluorine, iodine), acids such as acyloxy (eg benzenesulfonyloxy, tosyloxy, methanesulfonyloxy, acetoxy, etc.) The residue is more preferably halogen, and most preferably iodine.

好適な「アリール基」は例えばフェニル、トリル、キシ
リル、クメニル、メシチル、ナフチル等のCIS−CI
Oアリール基を含み、これらのうちより好ましいのはフ
ェニル基である。
Suitable "aryl groups" include CIS-CI such as phenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, naphthyl, etc.
Oaryl groups are included, and among these, phenyl group is more preferred.

好適な『脱離基」は上記した酸残基を含むものであり、
これらのうちより好ましいのは低級アルカノイルオキシ
、もっとも好ましいのはアセトキシである。
Suitable "leaving groups" include the acid residues described above,
Among these, lower alkanoyloxy is more preferred, and acetoxy is most preferred.

好適な「イミノ保謹基」は、例えば脂肪族アシル、芳香
族アシル、複素環式アシルおよび芳香族基もしくは複素
環式基で置換された脂肪族アシル等のアシル基を含み、
それらは対応するカルボン酸、炭酸、スルホン酸もしく
はカルバミン酸から銹導される. 脂肪族アシルとしては、例えば低級アルカノイル(例え
ばホルミル、アセチル、プロビオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキ
サノイル等)のようなアルカノイル、例えば低級アルキ
ルスルホニル(例えばメシル、エチルスルホニル、プロ
ビルスルホニル、イソブロビルスルホニル、プチルスル
ホニル、イソブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、
ヘキシルスルホニル等)のようなアルキルスルホニル、
カルバモイル、N−アルキルカルバモイル(例えばメチ
ルカルバモイル、エチルカルバモイル等)、例えば低級
アルコキシカルボニル(例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロボキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、第3級ブトキシカルボニル等)のようなアル
コキシカルボニル、例えば低級アルケニルオキシカルボ
ニル(例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニル等)のようなアルケニル才キシカルボニル、例
えば低級アルケノイル(例えばアクリロイルオキシ、メ
タクリ口イルオキシ、クロトノイル等)のようなアルケ
ノイル、例えばシクロ(低級)アルカン力ルボニル(例
えばシクロプロパンカルボニル、シクロペンタンカルボ
ニル、シクロヘキサンカルボニル等)のようなシクロア
ルカンカルボニル等が含まれる. 芳香族アシルとしては、アロイル(例えばベンゾイル、
トルオイル、キシロイル等)、N−アリールカルバモイ
ル(例えばN−フェニルカルバモイル、N−}リルカル
バモイル、N−ナフチルカルバモイル等)、アレーンス
ルホニル(例えばベンゼンスルホニル、トシル等)等が
含まれる。
Suitable "imino-protecting groups" include acyl groups such as aliphatic acyl, aromatic acyl, heterocyclic acyl, and aliphatic acyl substituted with an aromatic group or a heterocyclic group,
They are derived from the corresponding carboxylic, carbonic, sulfonic or carbamic acids. Aliphatic acyl includes, for example, alkanoyl such as lower alkanoyl (e.g. formyl, acetyl, probionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, etc.), e.g. lower alkylsulfonyl (e.g. mesyl, ethylsulfonyl, probylsulfonyl, etc.). Isobrobylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, pentylsulfonyl,
alkylsulfonyl, such as hexylsulfonyl,
Carbamoyl, N-alkylcarbamoyl (e.g. methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl etc.), alkoxycarbonyl such as lower alkoxycarbonyl (e.g. methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, proboxycarbonyl, butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl etc.) Alkenyloxycarbonyl such as alkenyloxycarbonyl (e.g. vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, etc.), alkenoyl such as lower alkenoyl (e.g. acryloyloxy, methacryloyloxy, crotonyl, etc.), e.g. cyclo(lower)alkanylcarbonyl (For example, cycloalkane carbonyl such as cyclopropane carbonyl, cyclopentane carbonyl, cyclohexane carbonyl, etc.). Aromatic acyls include aroyl (e.g. benzoyl,
(toluoyl, xyloyl, etc.), N-arylcarbamoyl (eg, N-phenylcarbamoyl, N-}lylcarbamoyl, N-naphthylcarbamoyl, etc.), arenesulfonyl (eg, benzenesulfonyl, tosyl, etc.), and the like.

複素環式アシルとしては複素環カルボニル(例えばフロ
イル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、チ
アゾリルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、テト
ラゾリルカルボニル等)等が含まれる。
Heterocyclic acyl includes heterocyclic carbonyl (eg, furoyl, thenoyl, nicotinoyl, isonicotinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolylcarbonyl, tetrazolylcarbonyl, etc.).

芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
フェニル(低級)アルカノイル(例えばフェニルアセチ
ル、フェニルプロピオニル、フェニルヘキサノイル等)
等のようなアラルカノイル、例えばフェニル(低級)ア
ルコキシカルボニル(例えばペンジルオキシカルボニル
、フェネチルオキシカルボニル等)等のようなアラルコ
キシカルボニル、例えばフェノキシ(低級)アルカノイ
ル(例えばフェノキシアセチル、フェノキシブロビオニ
ル等)等のようなアリールオキシアルカノイル等が含ま
れる。
Examples of aliphatic acyl groups substituted with aromatic groups include phenyl (lower) alkanoyl (e.g., phenylacetyl, phenylpropionyl, phenylhexanoyl, etc.)
aralkanoyl, such as phenyl(lower)alkoxycarbonyl (e.g. penzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.), e.g. phenoxy(lower)alkanoyl such as phenoxy(lower)alkanoyl (e.g. phenoxyacetyl, phenoxybrobionyl, etc.) ) and the like.

複素環式基で置換された脂肪族アシル基としては、例え
ば複素環式(低級)アルカノイル(例えばチェニルアセ
チル、イミダゾリルアセチル、フリルアセチル、テトラ
ゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジアゾリル
アセチル、チェニルブロピオニル、チアジアゾリルブ口
ピオニル等)のような複素環式アルカノイル等が含まれ
る.これらのアシル基はさらに、例えば低級アルキル基
(例えばメチル、エチル、プロビル、イソブロビル、ブ
チル、ベンチル、ヘキシル等)、ハロゲン(即ち塩素、
臭素、沃素、弗素)、低級アルコキシ基(例えばメトキ
シ、エトキシ、プロボキシ、イソプロボキシ、ブトキシ
、ベンチルオキシ、ヘキシルオキシ等)、低級スルキル
チオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ
、イソブロビルチオ、ブチルチオ、ベンチルチオ、ヘキ
シルチオ等)、ニトロ基、低級アルキルアミノ基(例え
ばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソ
プロピルアミノ等)、保護された低級アルキルアミノ基
(例えばN−アリールオキシカルボニルーN−メチルア
ミノ等)等のような1個またはそれ以上の適当な置換基
で置換されていてもよく、その様な置換基を有する好ま
しいアシル基としては、モノ(またはジ、またはトリ)
ハロアルカノイル(例えばクロロアセチル、プロモアセ
チル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等)、
モノ(またはジ、またはトリ)ハロアルコキシカルボニ
ル(例えばクロロメトキシカルボニル、ジクロロメトキ
シカルボニル、2,2.2 − }−リクロ口エトキシ
カルボニル等)、ニトロ(または八口、または低級アル
コキシ)アラルコキシカルボニル(例えばニトロペンジ
ルオキシカルボニル、クロロペンジルオキシカルボニル
、メトキシベンジルオキシカルボニル、クロロペンジル
オキシカルボニル、メトキシベンジル才キシカルボニル
等)、モノ(またはジ、またはトリ)八口(低級)アル
キルスルホニル(例えばフルオロメチルスルホニル、ジ
フオロメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニ
ル、トリクロロメチルスルホニル等)等が含まれる.上
記の様に定義されたイミノ保謹基のより好ましい例とし
ては、(C2  C4)アルケニルオキシカルボニル、
フェニル(またはニトロフェニル)  (CI −C4
 )アルコキシカルボニル、C,−C.アルキルアミノ
(C+−.C4)アルカノイルおよびN− (C2  
C4 )アルケニルオキシカルボニルーN− (C+ 
一Ca )アルキルアミノ(c+ −C4 )アルカノ
イル等が挙げられ、更にもフとも好ましいのはアリール
オキシカルボニル、(メチルアミノ)アセヂルおよびN
−アリルオキシカルボニルーN−メチルアミノアセチル
である. 次にこの発明の目的物質(1)を製造するプロセスにつ
いて詳述する。
Examples of the aliphatic acyl group substituted with a heterocyclic group include heterocyclic (lower) alkanoyl (e.g., thienyl acetyl, imidazolylacetyl, furylacetyl, tetrazolylacetyl, thiazolyl acetyl, thiadiazolyl acetyl, This includes heterocyclic alkanoyls such as chenylpropionyl, thiadiazolylbutionyl, etc.). These acyl groups may further include, for example, lower alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, probyl, isobrobyl, butyl, bentyl, hexyl, etc.), halogens (i.e. chlorine,
bromine, iodine, fluorine), lower alkoxy groups (e.g. methoxy, ethoxy, propoxy, isoproboxy, butoxy, benzyloxy, hexyloxy, etc.), lower sulfylthio groups (e.g. methylthio, ethylthio, propylthio, isobrobylthio, butylthio, bentylthio, hexylthio, etc.) ), nitro group, lower alkylamino group (e.g. methylamino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, etc.), protected lower alkylamino group (e.g. N-aryloxycarbonyl-N-methylamino, etc.), etc. Preferred acyl groups which may be substituted with one or more suitable substituents include mono (or di, or tri)
haloalkanoyl (e.g. chloroacetyl, promoacetyl, dichloroacetyl, trifluoroacetyl, etc.),
Mono (or di, or tri) haloalkoxycarbonyl (e.g. chloromethoxycarbonyl, dichloromethoxycarbonyl, 2,2.2-}-licroethoxycarbonyl, etc.), nitro (or yakuchi, or lower alkoxy) aralkoxycarbonyl (e.g. nitropenzyloxycarbonyl, chloropenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, chloropenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, etc.), mono (or di, or tri) methylsulfonyl, difluoromethylsulfonyl, trifluoromethylsulfonyl, trichloromethylsulfonyl, etc.). More preferred examples of the imino-protecting group defined above include (C2C4)alkenyloxycarbonyl,
Phenyl (or nitrophenyl) (CI-C4
) alkoxycarbonyl, C, -C. Alkylamino (C+-.C4)alkanoyl and N- (C2
C4) Alkenyloxycarbonyl-N- (C+
-Ca)alkylamino(c+-C4)alkanoyl, etc., and most preferred are aryloxycarbonyl, (methylamino)acetyl and N
-allyloxycarbonyl-N-methylaminoacetyl. Next, the process for producing the object substance (1) of the present invention will be described in detail.

(1)プロセス1: 化合物(1)またはその塩は、化合物( I+ )また
はその塩を閉環反応に付すことによって得られる. 化合物(1夏)の塩としては化合物(!)の塩として挙
げたものがそのまま例示される.この反応は、反応の進
行に悪影響を与えない慣用溶媒、例えばジオキサン、ヘ
キサメチル燐酸アミド、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ビリジン等、またはこれらの混合溶媒中で化合物(
I1)を加熱して行うのが好ましい.またこの反応はヒ
ドロキノンの存在下に行うこともできる. この反応の反応温度は特に限定されるものではなく、通
常は加温乃至加熱下に行なわれる。
(1) Process 1: Compound (1) or a salt thereof can be obtained by subjecting compound (I+) or a salt thereof to a ring-closing reaction. Examples of the salt of the compound (1 summer) include those listed as the salt of the compound (!). This reaction is carried out using a conventional solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, hexamethylphosphoramide, benzene, toluene, xylene, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, pyridine, etc., or a mixed solvent thereof.
It is preferable to carry out I1) by heating. This reaction can also be carried out in the presence of hydroquinone. The reaction temperature of this reaction is not particularly limited, and it is usually carried out with or under heating.

(2)プロセス2: 化合物(1−b)またはその塩は、化合物(1−a)ま
たはその塩をRI.におけるカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことによって得られる。
(2) Process 2: Compound (1-b) or a salt thereof is prepared by subjecting compound (1-a) or a salt thereof to RI. It can be obtained by subjecting it to the elimination reaction of the carboxy protecting group.

化合物(I−a)および化合物(1−b)の塩としては
、化合物(1)の塩として挙げたものがそのまま例示さ
れる。
Examples of the salts of compound (I-a) and compound (1-b) include those listed as the salt of compound (1).

この反応は、例えば加水分解,還元といった常法に従っ
て行なう。
This reaction is carried out according to conventional methods such as hydrolysis and reduction.

(イ)加水分解: 加水分解は塩基もしくは酸の存在下に行うのが好ましい
。好通な塩基としては、水酸化アルカリ金属(例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、水酸化アルカリ
土類金属(例えば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム等)、水素化アルカリ金属(例えば水素化ナトリウム
、水素化カリウム等)、水素化アルカリ土類金属(例え
ば水素化カルシウム等)、アルカリ金属アルコキシド(
例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウム第3級ブトキシド等)、炭酸アルカリ金属(例
えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)、炭酸アルカリ
土類金属(例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等
)、炭酸水素アルカリ金属(例えば炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウム等)等が含まれる。
(a) Hydrolysis: Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or acid. Common bases include alkali metal hydroxides (e.g. sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxides (e.g. magnesium hydroxide, calcium hydroxide, etc.), alkali metal hydrides (e.g. sodium hydroxide, etc.). , potassium hydride, etc.), alkaline earth metal hydrides (e.g. calcium hydride, etc.), alkali metal alkoxides (
For example, sodium methoxide, sodium ethoxide,
Potassium tert-butoxide, etc.), alkali metal carbonates (e.g. sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), alkaline earth metal carbonates (e.g. magnesium carbonate, calcium carbonate, etc.), alkali metal hydrogen carbonates (e.g. sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.) ) etc. are included.

好適な酸としては、有機酸(例えば蟻酸、酢酸、ブロピ
オン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−
}ルエンスルホン酸等)および無機酸(例えば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、燐酸等)が含まれる。これらのうちト
リフルオロ酢酸を使用する酸性条件下の加水分解は一般
にカチオン補足剤(例えばフェノール、アニソール等)
の添加によって促進される。
Suitable acids include organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, p-
}) and inorganic acids (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc.). Among these, hydrolysis under acidic conditions using trifluoroacetic acid is generally performed using cation scavengers (e.g. phenol, anisole, etc.).
is promoted by the addition of

この反応は、反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶媒
、例えば水、塩化メチレン、アルコール(例えばメタノ
ール、エタノール等)、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトン、またはこれらの混合溶媒中で行なうのが
好ましい.塩基および酸のうち液状のものは溶媒を兼ね
て用いることができる。
This reaction is preferably carried out in a conventional solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as water, methylene chloride, alcohol (eg, methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, dioxane, acetone, or a mixed solvent thereof. Among bases and acids, liquid ones can be used also as a solvent.

反応温度は特に限定されるのではなく、一般に冷却乃至
加熱下に行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is generally carried out under cooling or heating.

(El)還元 この脱離反応に適用される還元方法としては、例えば金
属(例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等)またCr化合物(
例えば塩化第1クロム、酢酸クロム等)と有機もしくは
無機酸(例えば酢酸、プロビオン酸、塩酸、硫酸等)を
組合わせて用いる還元方法;例えばパラジウム触媒(例
えばスポンジパラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウ
ム、バラジクムー炭素、コロイドパラジウム、パラジウ
ムー硫酸バリウム、パラジウムー炭酸バリウム、水酸化
バラジクムー炭素等)、ニッケル触媒(例えば還元ニッ
ケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等)、白金触媒(
例えば白金板、スポンジ白金、白金黒、コロイド白金、
酸化白金、白金線等》等の慣用の金属触媒の存在下に行
う一nシ的な接触還元等が挙げられる。
(El) Reduction The reduction method applied to this elimination reaction includes, for example, metals (e.g. zinc, zinc amalgam, etc.) and Cr compounds (
Reduction methods using a combination of organic or inorganic acids (e.g. acetic acid, probionic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.); e.g. palladium catalysts (e.g. palladium sponge, palladium black, palladium oxide, palladium chloride, etc.); carbon, colloidal palladium, palladium-barium sulfate, palladium-barium carbonate, baladium carbon hydroxide, etc.), nickel catalysts (e.g. reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, etc.), platinum catalysts (
For example, platinum plate, sponge platinum, platinum black, colloidal platinum,
Examples include catalytic reduction carried out in the presence of a conventional metal catalyst such as platinum oxide, platinum wire, etc.

接触還元法が採用される場合には、反応は中性付近の条
件で行うのが好ましい。
When a catalytic reduction method is employed, the reaction is preferably carried out under conditions near neutrality.

この反応は反応の進行に悪1[を与えない慣用の溶媒、
例えば水、アルコール(例えばメタノール、エタノール
、プロパノール等)、ジオキサン、テトラヒド口フラン
、酢酸、緩衝液(例えば燐酸塩緩衝液、酢酸塩緩衝液等
、或はこれらの混合溶媒中で行なうのが好ましい。
This reaction can be carried out using conventional solvents that do not have an adverse effect on the progress of the reaction,
For example, the reaction is preferably carried out in water, alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, etc.), dioxane, tetrahydrofuran, acetic acid, a buffer solution (eg, phosphate buffer, acetate buffer, etc.), or a mixed solvent thereof.

反応温度は特に限定されるものではなく、一般に冷却乃
至加温下に行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is generally carried out under cooling or heating.

カルボキシ保護基がアリル基である場合には、バラジク
ム化合物を用いて加水分解から保護することもできる。
When the carboxy protecting group is an allyl group, it can also be protected from hydrolysis using a baladicum compound.

この反応で用いられる好適なパラジウム化合物としては
、パラジウムー炭素、水酸化パラジウムー炭素、塩化パ
ラジウ,ム、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン
)パラジウム(0)、ジ[1.2−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)エタン]パラジウム(O)、テトラキス(亜
燐酸トリフェニル)パラジウム(0)、テトラキス(亜
燐酸トリエチル)パラジウム(0)等の様なパラジウム
配位子錯体等が挙げられる。
Suitable palladium compounds used in this reaction include palladium on carbon, palladium hydroxide on carbon, palladium chloride, such as tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0), bis(dibenzylideneacetone)palladium(0), di[ 1. Palladium ligand complexes such as 2-bis(diphenylphosphino)ethane]palladium(O), tetrakis(triphenylphosphite)palladium(0), tetrakis(triethylphosphite)palladium(0), etc. Can be mentioned.

反応は、例えばアミン(例えばモルホリン、N−メチル
アニリン等)、活性メチレン化合物(例えばジメドン、
酢酸ベンゾイル、2−メチル−3−オキソバレリアン酸
等)、シアノヒドリン化合物(例えばシアン化α−テト
ラヒド口ビラニルオキシベンジル等)、(低級)アルカ
ン酸またはその塩(例えば情酸、酢酸、情酸アンモニウ
ム、酢酸ナトリウム等)のような、反応中で発生するア
リル基の捕集剤の存在下に行なうのが好ましい。
The reaction can be carried out using, for example, amines (e.g. morpholine, N-methylaniline, etc.), active methylene compounds (e.g. dimedone,
benzoyl acetate, 2-methyl-3-oxovaleric acid, etc.), cyanohydrin compounds (e.g. α-tetrahydrocyanide biranyloxybenzyl cyanide, etc.), (lower) alkanoic acids or their salts (e.g. phosphoric acid, acetic acid, ammonium phosphoric acid) It is preferable to carry out the reaction in the presence of a scavenger for allyl groups generated during the reaction, such as sodium acetate, sodium acetate, etc.).

この反応は低級アルキルアミン(例えばプチルアミン、
トリエチルアミン等)、ビリジン等のような塩基の存在
下に行なうことができる。
This reaction is effective for lower alkyl amines (e.g. butylamine,
This can be carried out in the presence of a base such as triethylamine, etc.), pyridine, etc.

パラジウム配位子錯体をこの反応に使用,する場合には
、例えばトリフエニルホスフイン、亜燐酸トリフエニル
、亜燐酸トリエチル等の対応する配位子の存在下に反応
を行なうのが好ましい.この反応は通常、水、メタノー
ル、エタノール、プロバノール、ジオキサン、テトラヒ
ド口フラン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロ口
メタン、ジクロ口エタン、酢酸エチル等、この反応の進
行に悪影晋を及ぼさない慣用の溶媒中、またはそれらの
混合溶媒中で行なわれる。
When a palladium ligand complex is used in this reaction, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a corresponding ligand such as triphenylphosphine, triphenyl phosphite, triethyl phosphite, and the like. This reaction is usually carried out in any conventional solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as water, methanol, ethanol, propanol, dioxane, tetrahydrofuran, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, ethyl acetate, etc. , or a mixed solvent thereof.

脱離反応は脱離されるべきカルボキシ保護基の種類によ
って遷択することができる. このプロセス中には、R2におけるヒドロキシ保護基お
よび/またはR5におけるイミノおよび/またはヒドロ
キシ保護基が反応中同時に脱離されてしまう様な場合も
含まれる. (3)プロセス3: 化合物(1−d)またはその塩は、化合物(I−c)ま
たはその塩を、R2,におけるヒドロキシ保護基の脱離
反応に付すことによって得られる. 化合物(1−c)および(1−d)の好適な塩としでは
、化合物(1)の塩として挙げたものがそのまま例示さ
れる. この反応は例えば加水分解、還元等の慣用的な方法によ
クて行なわれる. 加水分解および還元の方法、並びに反応条件(例えば反
応温度、溶媒等)はプロセス2において述べた化合物(
I−a)におけるカルボキシ保護基の脱離反応において
述べた条件と実質的に同である。従ってそれらの説明が
参照されるべきである。
The elimination reaction can be selected depending on the type of carboxy protecting group to be eliminated. This process also includes cases where the hydroxy protecting group at R2 and/or the imino and/or hydroxy protecting group at R5 are simultaneously eliminated during the reaction. (3) Process 3: Compound (1-d) or a salt thereof can be obtained by subjecting compound (I-c) or a salt thereof to an elimination reaction of the hydroxy protecting group at R2. As suitable salts of compounds (1-c) and (1-d), those listed as the salt of compound (1) are directly exemplified. This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis and reduction. The hydrolysis and reduction methods and reaction conditions (e.g. reaction temperature, solvent, etc.) are the same as those described in Process 2 (
The conditions are substantially the same as those described for the elimination reaction of the carboxy protecting group in I-a). Therefore, reference should be made to those descriptions.

ヒト口キシ保護基がトリ(低級)アルキルシリル基であ
る場合の保護基の脱n目よ弗化テトラ(低級)アルキル
アンモニウム(例えば弗化テトラブチルアンモニウム等
)の存在下に行うこともできる。
When the human oxygen protecting group is a tri(lower) alkylsilyl group, the removal of the protecting group can also be carried out in the presence of a tetra(lower) alkylammonium fluoride (eg, tetrabutylammonium fluoride, etc.).

このプロセス中にはR′におけるカルボキシ保護基およ
び/またはRSにおけるイミノおよび/またはヒドロキ
シ保護基が反応中同時に脱tAされてしまう様な場合も
含まれる。
This process includes cases where the carboxy protecting group at R' and/or the imino and/or hydroxy protecting group at RS are simultaneously removed with tA during the reaction.

(4)プロセス4: 化合物(1−f)またはその塩は化合物(1−e)また
はその塩をall,におけるイミノ保護基の脱離反応に
付すことによクて得られる。
(4) Process 4: Compound (1-f) or a salt thereof can be obtained by subjecting compound (1-e) or a salt thereof to an elimination reaction of the imino protecting group in all.

化合物(1−e)の好適な塩としては、化合物(1)の
塩として挙げたものがそのまま例示される. 化合物(I−f)の好適な塩としては、化合物(1)の
塩として挙げたものがそのまま例示される. この反応は例えば加水分解.還元等の慣用的な方法によ
って行なわれる. 加水分解および還元の方法、並びに反応条件(例えば反
応温度、溶媒等)はプロセス2において述べた化合物(
1−a)におけるカルボキシ保護基の脱離反応において
述べた条件と実質的に同一である。従ってそれらの説明
が参照されるべきである. このプロセス中には、R1および/またはR2における
カルボキシおよび/またはヒドロキシ保li(t基、お
よび/またはR′におけるヒドロキシ保謹基が反応中同
時に脱離されてしまう様な場合も含まれる。
As suitable salts of compound (1-e), those listed as salts of compound (1) are directly exemplified. Suitable salts of compound (I-f) are exemplified by those listed as the salt of compound (1). This reaction is, for example, hydrolysis. This is done by conventional methods such as reduction. The hydrolysis and reduction methods and reaction conditions (e.g. reaction temperature, solvent, etc.) are the same as those described in Process 2 (
The conditions are substantially the same as those described for the elimination reaction of the carboxy protecting group in 1-a). Therefore, those explanations should be referred to. This process includes cases in which the carboxy and/or hydroxyl groups in R1 and/or R2 and/or the hydroxyl groups in R' are simultaneously eliminated during the reaction.

(5)プロセス5: 化合物(1−h)またはその塩は化合物(1−g)また
はその塩を化合物( II1 )と反応させることによ
って得られる. 化合物(1−g)および(T−h)の好適な塩としては
、化合物(1)の塩として挙げたものがそのまま例示さ
れる. この反応は反応の進行に悪影響を与えない溶媒、例えば
テトラヒド口フラン、ジオキサン、水、アセトン、アセ
トニトリル、メタノール、エタノール、Mi街液(例え
ば燐酸塩iJt街液等)等、またはこれらの混合溶媒中
で行なうのが好ましい. 反応温度は特に限定されるものではなく、通常は冷却乃
至加温下に行なわれる. (6)プロセス6: 化合物(1)またはその塩は化合物(IV)またはその
ヒドロキシ基における反応性話導体またはそれらの塩を
脱水反応に付すことによって得られる. 化合物( IV )の好適な塩としては、化合物(1)
の塩として挙げたものがそのまま例示される. 化合物(!V)のヒドロキシ基における反応性誘導体と
しては、例えばハライド(例えばクロライド、ブロマイ
ド、アイオダイド等)、スルホン酸エステル(例えばメ
タンスルポン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステル
、トルエンスルホン酸エステル等)等のような慣用のも
のが含まれ、これらのうち特に好ましいものはスルホン
酸エスデルである. この脱水反応は、例えば化合物(IV)またはそのヒド
ロキシ基における反応性話導体またはそれらの塩を塩基
と反応させることによって行なわれる. この反応に用いられる好適な塩基としては、例えばトリ
アルキルアミン(例えばトリメチルアミン、トリエチル
アミン等)、ビリジン、ビコリン、ルチジン、N−メチ
ルビロリジン、N−メチルモルホリン、1.5−ジアザ
ビシク口[4.3.Qlノン−5−オン、1.4−ジア
ザビシクロ[2.2.2]オクタン、1.5−ジアザビ
シク口[5.4.0] ウンデセン−5等の有機塩基が
用いられる. この反応は、反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶媒
、例えば水、塩化メチレン、アルコール(例えばメタノ
ール、エタノール等)、テトラヒド口フラン、ジオキサ
ン、アセトン等あるいはこれらの混合溶媒中で行なうの
が好ましい.そし・て液状の塩基は溶媒を兼ねて用いる
こともできる. 反応温度は特に限定されるものではなく、通常は冷却乃
至加熱下に行なわれる. (7)プロセス7: 化合物(1−j)またはその塩は化合物(1−1)また
はその塩をRS,におけるアミノ保護基の脱離反応に付
すことによって得られる.化合物(1−i)および(I
−j)の好適な塩としては、化合物(1)の塩として挙
げたものがそのまま例示される. この反応は例えば加水分解、還元等の慣用的な方法によ
って行なわれる. 加水分解および還元方法、並びに反応条件(例えば反応
温度、溶媒等)はプロセス2において述べた化合物(1
−a)におけるカルボキシ保護基の脱離反応において述
べた条件と実質的に同一である。従ってそれらの説明が
参照されるべきである。
(5) Process 5: Compound (1-h) or a salt thereof is obtained by reacting compound (1-g) or a salt thereof with compound (II1). Suitable salts of compounds (1-g) and (T-h) are exemplified by those listed as the salt of compound (1). This reaction is carried out in a solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, water, acetone, acetonitrile, methanol, ethanol, Mi street solution (for example, phosphate iJt street solution, etc.), or a mixed solvent thereof. It is preferable to do so. The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. (6) Process 6: Compound (1) or a salt thereof can be obtained by subjecting compound (IV) or a reactive conductor at its hydroxy group or a salt thereof to a dehydration reaction. A suitable salt of compound (IV) is compound (1)
The salts listed above are examples. Examples of reactive derivatives at the hydroxy group of the compound (!V) include halides (e.g., chloride, bromide, iodide, etc.), sulfonic acid esters (e.g., methanesulfonic acid ester, benzenesulfonic acid ester, toluenesulfonic acid ester, etc.), and the like. Among these, particularly preferred is esdel sulfonate. This dehydration reaction is carried out, for example, by reacting compound (IV) or a reactive conductor at its hydroxy group or a salt thereof with a base. Suitable bases used in this reaction include, for example, trialkylamines (e.g., trimethylamine, triethylamine, etc.), viridine, vicoline, lutidine, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo[4.3 .. Organic bases such as Ql non-5-one, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane, and 1.5-diazabicyclo[5.4.0]undecene-5 are used. This reaction is preferably carried out in a conventional solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as water, methylene chloride, alcohol (e.g. methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, dioxane, acetone, etc., or a mixed solvent thereof. .. A liquid base can also be used as a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. (7) Process 7: Compound (1-j) or a salt thereof can be obtained by subjecting compound (1-1) or a salt thereof to an elimination reaction of the amino protecting group in RS. Compounds (1-i) and (I
-j) are exemplified by those listed as the salt of compound (1). This reaction is carried out by conventional methods such as hydrolysis and reduction. The hydrolysis and reduction methods and reaction conditions (e.g. reaction temperature, solvent, etc.)
The conditions are substantially the same as those described for the elimination reaction of the carboxy protecting group in -a). Therefore, reference should be made to those descriptions.

この反応のプロセスは、不飽和複素環式基中にイミノ保
謹基が存在する場合において、当該保護基が反応の進行
中同時に脱離する場合をも包含する. 次にこの発明で用いられる新規な原料物質(!夏)およ
び(1v)またはそれらの塩を製造する方法について詳
述する. ハと立抹A 化合物(■)またはその塩は、化合物(V)に化合物(
V!)またはその塩を反応させることによって得られる
This reaction process also includes the case where, when an imino protecting group is present in the unsaturated heterocyclic group, the protecting group is simultaneously eliminated during the progress of the reaction. Next, the method for producing the new raw material (!Natsu) and (1v) or their salts used in this invention will be described in detail. A Compound (■) or its salt is added to Compound (V) with Compound (■) or its salt.
V! ) or a salt thereof.

化合物(V!)および(■)の好適な塩としては、化合
物(1)の酸付加塩として例示したものがそのまま挙げ
られる. 化合物(V!)またはその塩はこの明細書中に製造例と
して示した方法または常法に従って公知化合物から製造
される。
Suitable salts of compounds (V!) and (■) include those exemplified as the acid addition salts of compound (1). Compound (V!) or a salt thereof can be produced from a known compound according to the methods shown as production examples in this specification or conventional methods.

この反応は、例えば水酸化アルカリ金R(例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等)、水酸化アルカリ土類
金属(水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等)、水
素化アルカリ金R(例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等)、水素化アルカリ土類金属(例えば水素化カ
ルシウム等)、アルカリ金属アルコキシド(例えばナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第
3級ブトキシド等)、炭酸アルカリ金属(例えば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等)、炭酸アルカリ土類金属(
例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等)、炭酸水
素アルカリ金属(例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等)等の塩基の存在下に行なわれる。
This reaction includes, for example, alkali gold hydroxide R (e.g. sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxide (magnesium hydroxide, calcium hydroxide, etc.), alkali gold hydride R (e.g. sodium hydroxide, potassium hydride, etc.), alkaline earth metal hydrides (e.g. calcium hydride, etc.), alkali metal alkoxides (e.g. sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, etc.), alkali metal carbonates (e.g. sodium carbonate, carbonic acid, etc.) potassium, etc.), alkaline earth metal carbonates (
The reaction is carried out in the presence of a base such as magnesium carbonate, calcium carbonate, etc.) or an alkali metal hydrogen carbonate (eg, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.).

この反応は、好ましくはエノール化剤の存在下に行なわ
れる。好適なエノール化剤としては、トリ八口(低級)
アルカンスルホン酸トリ(低級)アルキルシリル、好ま
しくはトリ八口(c+ −C4 )アルカンスルホン酸
トリ(C+ −C4)アルキルシリル(例えばトリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリル等)、例えばハ
ロゲンを有していても良い低級アルキルスルホン酸錫の
様な錫化合物、好ましくはポリ八口(C,一C4)アル
キルスルホン酸錫(例えばトリフルオロメタンスルホン
酸錫等)等が含まれる。
This reaction is preferably carried out in the presence of an enolizing agent. A suitable enolization agent is Toriyakuchi (low grade).
Tri(lower)alkylsilyl alkanesulfonate, preferably tri(c+-C4)alkanesulfonic acid tri(C+-C4)alkylsilyl alkanesulfonate (e.g. trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, etc.), which may contain a halogen, for example Tin compounds such as lower alkyl tin sulfonates, preferably polyoctachinic (C, 1 C4) tin alkyl sulfonates (for example, tin trifluoromethanesulfonate, etc.) are included.

この反応は反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶媒、
例えば水、塩化メチレン、アルコール(例えばメタノー
ル、エタノール等)、テトラヒド口フラン、ジオキサン
、アセトン等あるいはこれらの混合溶媒中で行なうのが
好ましい。液状の塩基は溶媒を兼ねることもできる。
This reaction can be carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction.
For example, it is preferable to carry out the reaction in water, methylene chloride, alcohol (eg, methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, dioxane, acetone, etc., or a mixed solvent thereof. The liquid base can also serve as a solvent.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. 』Lj口LL上 化合物([X)またはその塩は化合物(■)またはその
塩に化合物(■)またはその反応性等価物を反応させる
ことによって得られる. 化合物(IX)の好適な塩としては、化合物(I)の塩
として例示したものがそのまま挙げられる。
The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. ''Lj口LL上 Compound ([X) or its salt can be obtained by reacting compound (■) or its salt with compound (■) or its reactive equivalent. Suitable salts of compound (IX) include those exemplified as salts of compound (I).

化合物(■)の好適な例としては、カルボキシ基が慣用
のカルボキシ保護基によって保護され上記した様なエス
テル化されたカルボキシ基に誘導されていても良いグリ
オキシル酸が挙げられる.化合物(■)の好適な反応性
等価物としては、1水和物が含まれる。
A preferable example of compound (■) is glyoxylic acid, the carboxyl group of which may be protected by a conventional carboxy protecting group and derivatized into an esterified carboxyl group as described above. Suitable reactive equivalents of compound (■) include the monohydrate.

この反応は反応の進行に伴って生成する水を共沸によっ
て留去しながら行うことが望まれる.水の共沸留去は常
法(例えば共沸蒸留等)に従って行うことができる. この反応は反応の進行に悪影響を与えない慣用・の溶媒
、例えば水、塩化メチレン、アルコール(例えばメタノ
ール、エタノール等)、テトラヒド口フラン、ジオキサ
ン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン等、ある
いはこれらの混合溶媒中で行なうのが好ましい. 反応温度は特に限定されず、通常は加温乃至加熱下に行
なわれる. 旦し方迭旦ユ 化合物(!■)またはその塩は化合物(EX)またはそ
のヒドロキシ基における反応性銹導体またはそれらの塩
に化合物(X)を反応させることによって得られる. 化合物(IX)のヒドロキシ基における好適な反応性話
導体としては、例えばハライド(例えばクロライド、ブ
ロマイド、アイオダイド等)、スルホ・ン酸エステル(
例えばメタンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸
エステル、トルエンスルホン酸エステル等)等といった
慣用の話導体が用いられ、これらのうちより好ましいの
はハライドである。
It is desirable to carry out this reaction while distilling off the water produced as the reaction progresses by azeotropy. Azeotropic distillation of water can be carried out according to conventional methods (such as azeotropic distillation). This reaction can be carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as water, methylene chloride, alcohol (e.g. methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, dioxane, acetone, benzene, toluene, xylene, etc., or a mixture thereof. It is preferable to perform this in a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out with or under heating. The compound (!■) or its salt can be obtained by reacting the compound (X) with the compound (EX) or a reactive salt conductor at its hydroxyl group or a salt thereof. Suitable reactive conductors for the hydroxy group of compound (IX) include, for example, halides (e.g. chloride, bromide, iodide, etc.), sulfonate esters (
Conventional conductors such as methanesulfonate, benzenesulfonate, toluenesulfonate, etc.) are used, and among these, halides are more preferred.

化合物(X)の好適な例としては、トリフェニルホスフ
ィン、トリ(C+  C4)アルキルホスフィン(例え
ばトリエチルホスフィン等)等が挙げられる。
Suitable examples of compound (X) include triphenylphosphine, tri(C+C4)alkylphosphine (eg, triethylphosphine, etc.).

この反応は、例えば炭酸水素アルカリ金属(例えば炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、炭酸アルカリ
金属(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)、炭酸
アルカリ土類金属(例えば炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム等)、トリ(低級)アルキルアミン(例えばトリ
メチルアミン、トリエチルアミン,N,N−ジイソプ口
ビルーN一エチルアミン等)、ピリジン化合物[例えば
ビリジン、ビコリン、ルチジン、N,N−ジ(低級)ア
ルキルアミノピリジン(例えばN,N−ジメチルアミノ
ピリジン等)等]、キノリン、イミダゾール、N一低級
アルキルモルホリン(例えばN−メチルモルホリン等)
、N−低級アルキルビベリジン(例えばN一エチルピベ
リジン等)、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ン(例えばN,N−ジメチルベンジルアミン等)等とい
った無機または有機塩基の存在下に行うことがで診る。
This reaction is performed, for example, on alkali metal bicarbonates (e.g. sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), alkali metal carbonates (e.g. sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), alkaline earth metal carbonates (e.g. magnesium carbonate, calcium carbonate, etc.), (lower)alkylamines (e.g. trimethylamine, triethylamine, N,N-diisobutyl-N-ethylamine, etc.), pyridine compounds [e.g. biridine, vicolin, lutidine, N,N-di(lower)alkylaminopyridine (e.g. N,N -dimethylaminopyridine, etc.), quinoline, imidazole, N-lower alkylmorpholine (e.g., N-methylmorpholine, etc.)
, N-lower alkylbiveridine (e.g., N-ethylpiveridine, etc.), N,N-di(lower)alkylbenzylamine (e.g., N,N-dimethylbenzylamine, etc.), etc. in the presence of an inorganic or organic base. I'll check it out.

この反応は反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶媒、
例えばジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩
化メチレン、ヘキサメチルホスホルアミド、塩化エチレ
ン、テトラヒド口フラン、酢酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、N,N−ジメチルポルムアミド、ビリジン等、
あるいはこれらの混合溶媒中で行うのが一般的である。
This reaction can be carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction.
For example, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, hexamethylphosphoramide, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylpolamide, pyridine, etc.
Alternatively, it is generally carried out in a mixed solvent of these.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. (D)方法D: 化合物(!Xa)またはその塩は化合物(■)またはそ
の塩に化合物(■a)またはその塩を反応させることに
よって得られる. 化合物(IXa)の好適な塩としては、化合物(1)の
塩として例示したものがそのまま挙げられる. 化合物(■a)の好適な塩としては化合物( 1−e)
の塩と同一のものが挙げられる。
The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. (D) Method D: Compound (!Xa) or its salt can be obtained by reacting compound (■) or its salt with compound (■a) or its salt. Suitable salts of compound (IXa) include those exemplified as salts of compound (1). A suitable salt of compound (■a) is compound (1-e)
The same salts are mentioned.

化合物(■a)の好適な.例としては、しゅう酸におけ
る一方のカルボキシ基が上記した様な慣用のカルボキシ
保護基によフて保護されることのある塩化オキサリルが
挙げられる. 反応は方法Cで述べた様な塩基の存在下に行うことがで
跨る. この反応は通常反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶
媒、例えばジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、塩化メチレン、ヘキサメチルホスホルアミド、塩化エ
チレン、テトラヒド口フラン、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、N.N−ジメチルホルムアミド、ピリジン
等、あるいはこれらの混合溶媒中で行う。
Preferred compound (■a). Examples include oxalyl chloride in which one carboxy group in oxalic acid may be protected with a conventional carboxy protecting group as described above. The reaction can be carried out in the presence of a base as described in Method C. This reaction is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, hexamethylphosphoramide, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N. The reaction is carried out in N-dimethylformamide, pyridine, etc., or a mixed solvent thereof.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. 套)2日L見上 化合物(II)またはその塩は化合物(IXa)または
その塩に化合物(X)を反応させることによって得られ
る. この反応は通常反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶
媒、例えばジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、塩化メチレン、ヘキサメチルホスホルアミド、塩化エ
チレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、N.N−ジメチルホルムアミド、ピリジン
、ベンゼン、トルエン、キシレン等、あるいはこれらの
混合溶媒中で行う. 反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. m抹ヱ二 化合物(Xlll)またはその塩は化合物(XI)また
はその塩に化合物(X[I)またはその塩を反応させる
ことによって得られる. 化合物(XI)および(Xlll)の好適な塩としては
化合物(1)の塩として例示したものがそのまま挙げら
れる. 化合物(刈)の好適な塩としては、化合物(1)の酸塩
として例示したものがそのまま挙げられる. この反応は例えばアルカリ金属ジ(低級)アルキルアミ
ド、好ましくはリチウムジ(CI−C4)アルキルアミ
ド(例えばリチウムジイソブ口ピルアミド等)、水酸化
アルカリ金属(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等)、水酸化アルカリ土類金属(水酸化マグネシウム
、水酸化カルシウム等)、水素化アルカリ金属(例えば
水素化ナトリウム、水素化カリウム等)、水素化アルカ
リ土類金属(例えば水素化カルシウム等)、アルカリ金
属アルコキシド(例えばナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシド等)、炭酸
アルカリ金属(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
)、炭酸アルカリ土類金属(例えば炭酸マグネシウム、
炭酸カルシウム等)、炭酸水素アルカリ金属(例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)等の塩基の存
在下に行なわれる. この反応は通常反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶
媒、例えば水、塩化メチレン、アルコール(例えばメタ
ノール、エタノール等)、ヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等、あるいはこれらの混合 溶媒中で行なわれる. 反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. 化合物(XI)は米国特許第4,348,320号の実
施例に記截されたような通常の方法に従って製造される
. 套LフロL免工 化合物( IV )またはその塩は化合物(Xlll)
またはその塩を閉環反応に付すことによって得られる. この反応は反応の進行に悪影響を与えない様な慣用溶媒
、例えばジオキサン、ヘキサメチルホスホルアミド、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジン等、あるいは
これらの混合溶媒中で化合物(■)を加熱することによ
って行うのが好ましい. しかし反応温度は特に限定されず、通常は加温乃至加熱
下に行なわれる. 旦と立盪旦二 化合物(XV)は化合物(XIV)に化合物(虐)を反
応させることによって得られる. この反応は通常反応の進行に悪影響を与えない慣用の溶
媒、例えばジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、塩化メチレン、ヘキサメチルホスホルアミド、塩化エ
チレン、ヘキサン、テトラヒド口フラン、酢酸エチル、
ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド
、ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレン等、あるい
はこれらの混合溶媒中で行う. 反応温度は特に限定されず、通常は冷却乃至加温下に行
なわれる. 旦し亙抹工二 化合物(■)またはその塩は化合物(XI/)に化合物
(X[I)またはその塩を反応させることによって得ら
れる. この反応は反応の進行に悪影響を与えない様な慣用溶媒
、例えばジオキサン、ヘキサメチルホスホルアミド、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミド、ビリジン等、あるいは
これらの混合溶媒中で化合物(XV)および(X[I)
を加熱することによって行うのが好ましい. またこの反応はヒドロキノンの存在下に行うこともで台
る. 反応温度は特に限定されず、通常は加温乃至加熱下に行
なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. Compound (II) or a salt thereof can be obtained by reacting compound (IXa) or a salt thereof with compound (X). This reaction is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, hexamethylphosphoramide, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, N. Carry out in N-dimethylformamide, pyridine, benzene, toluene, xylene, etc., or a mixed solvent thereof. The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. Compound (Xll) or a salt thereof can be obtained by reacting compound (XI) or a salt thereof with compound (X[I) or a salt thereof. Suitable salts of compounds (XI) and (Xll) include those exemplified as the salts of compound (1). Suitable salts of the compound (Kari) include those exemplified as the acid salt of the compound (1). This reaction can be carried out using, for example, an alkali metal di(lower)alkylamide, preferably a lithium di(CI-C4)alkylamide (e.g. lithium diisobutyramide, etc.), an alkali metal hydroxide (e.g. sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), a hydroxide. Alkaline earth metals (magnesium hydroxide, calcium hydroxide, etc.), alkali metal hydrides (e.g. sodium hydride, potassium hydride, etc.), alkaline earth metal hydrides (e.g. calcium hydride, etc.), alkali metal alkoxides (e.g. sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, etc.), alkali metal carbonates (e.g. sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), alkaline earth metal carbonates (e.g. magnesium carbonate,
It is carried out in the presence of a base such as calcium carbonate, etc.) or an alkali metal hydrogen carbonate (e.g., sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc.). This reaction is usually carried out using a conventional solvent that does not adversely affect the progress of the reaction, such as water, methylene chloride, alcohol (e.g. methanol, ethanol, etc.), hexane, tetrahydrofuran, dioxane, acetone, benzene, toluene, xylene, etc., or a mixture thereof. It is carried out in a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. Compound (XI) is prepared according to conventional methods as described in the Examples of US Pat. No. 4,348,320. The compound (IV) or its salt is the compound (Xllll)
or its salt by subjecting it to a ring-closing reaction. This reaction can be carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, hexamethylphosphoramide, benzene, toluene, xylene, dimethyl sulfoxide,
This is preferably carried out by heating the compound (■) in a solvent such as N,N-dimethylformamide, pyridine, or a mixed solvent thereof. However, the reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out with or under heating. Compound (XV) can be obtained by reacting compound (XIV) with compound (XIV). This reaction is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, hexamethylphosphoramide, ethylene chloride, hexane, tetrahydrofuran, ethyl acetate,
It is carried out in dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, pyridine, benzene, toluene, xylene, etc., or a mixed solvent thereof. The reaction temperature is not particularly limited, and is usually carried out under cooling or heating. The compound (■) or a salt thereof can be obtained by reacting the compound (XI/) with the compound (X[I) or a salt thereof. This reaction can be carried out using conventional solvents that do not adversely affect the progress of the reaction, such as dioxane, hexamethylphosphoramide, benzene, toluene, xylene, dimethyl sulfoxide,
Compound (XV) and (X[I) in N,N-dimethylformamide, pyridine, etc., or a mixed solvent thereof.
Preferably, this is done by heating. This reaction can also be carried out in the presence of hydroquinone. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out with or without heating.

プロセス1〜7に従って得られる目的物質は、抽出、沈
殿、分別結晶、再結晶、クロマトグラフィといフた常法
に従って分離および精製される. この発明の目的物質(1)および医薬として許容される
その塩は新規であって高い抗菌活性を有し、ダラム陽性
菌およびダラム陰性菌を含む広範な病原性徴生物の成長
を阻害する.またデヒドロベブチダーゼに対して非常に
安定であり、尿から高濃度に排泄されるので、各種感染
性疾患の治療に対して高い有効性を示す。
The target substances obtained according to Processes 1 to 7 are separated and purified by conventional methods such as extraction, precipitation, fractional crystallization, recrystallization, and chromatography. The object substance (1) of this invention and its pharmaceutically acceptable salts are novel, have high antibacterial activity, and inhibit the growth of a wide range of pathogenic organisms, including Durum-positive and Durum-negative bacteria. Furthermore, it is very stable against dehydrobebutidase and is excreted in high concentrations through urine, making it highly effective in treating various infectious diseases.

目的物質(1)においてR4が低級アルキル基である化
合物は特に高い抗菌活性を示すと共にデヒドロベブチダ
ーゼに対する安定性が極めて高い. 次に目的物質(!)の有用性を示す目的で、目的物質(
1)の中から代表的化合物を選んでその抗菌活性データ
を以下の通り記す. 下記の寒天平板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を
測定した. トリブチケース・ソーイ・ブロス(生菌数10’/ml
)の中で一夜培養した試験菌株の一白金耳を各段階濃度
の試験化合物を含む八一ト・インフユージ日ン・アガー
(Hl寒天)に接種し、37℃で2時間培養した後、最
低発育阻止濃度(MIC)を測定した(単位μg/ml
) .K1生皇潰 実施例5−1で得られた化合物 区豊茄1 この発明の目的化合物(1)またはその医薬として許容
される塩を治療目的に用いるに当たっては、経口投与、
非経口投与および外用投与に適した有機もしくは無機固
体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容される
担体と混合して前記化合物を有効成分として含有する常
用の医薬製剤の形として使用される。
A compound in which R4 is a lower alkyl group in the target substance (1) exhibits particularly high antibacterial activity and extremely high stability against dehydrobebutidase. Next, in order to demonstrate the usefulness of the target substance (!),
Select representative compounds from 1) and record their antibacterial activity data as follows. In vitro antibacterial activity was measured by the agar plate multiple dilution method described below. Tributicase Soy Broth (viable count 10'/ml
) was inoculated onto H1 agar (Hl agar) containing the test compound at various concentrations, and after culturing at 37°C for 2 hours, the lowest growth rate was reached. The inhibitory concentration (MIC) was measured (in μg/ml
). Compound Kufuyotake 1 Obtained in Example 5-1 When using the object compound (1) of the present invention or a pharmaceutically acceptable salt thereof for therapeutic purposes, oral administration,
Used in the form of conventional pharmaceutical preparations containing said compounds as active ingredients in admixture with pharmaceutically acceptable carriers such as organic or inorganic solid or liquid excipients suitable for parenteral and topical administration. .

医薬製剤は錠剤、顆粒、粉剤、カプセルのような固体状
であってもよく、また溶液、懸濁液、シロップ、エマル
ジョン、レモネード等のような液状であってもよい. 必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
その他、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウ
ム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タルク、ゼラチン
、寒天、ペクチン、落下生油、オリーブ油、カカオ脂、
エチレングリコール、酒石酸、クエン酸、フマル酸等の
ような通常使用される添加剤が含まれていてもよい.化
合物(1)の投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類、
使用する化合物(1)の種類等によつて変化する.一般
的には1日当りlmgと約4000一gとの間の量もし
くはそれ以上を患者に投与すればよい.この発明の目的
化合物(1)は平均1回投与量約laIg, IOB,
 50mg, 100mg , 250mg ,500
mg , loohg、2000sgを病原菌感染症治
療に投与すればよい. 以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する。
Pharmaceutical formulations may be in solid form such as tablets, granules, powders, capsules, or liquid forms such as solutions, suspensions, syrups, emulsions, lemonades, etc. If necessary, auxiliary agents, stabilizers, wetting agents, and others such as lactose, stearic acid, magnesium stearate, terra alba, sucrose, corn starch, talc, gelatin, agar, pectin, fallen raw oil, olive oil, cacao fat,
Commonly used additives such as ethylene glycol, tartaric acid, citric acid, fumaric acid, etc. may also be included. The dosage of compound (1) depends on the patient's age, condition, type of disease,
It varies depending on the type of compound (1) used, etc. Generally, doses between 1 mg and about 4000 1 g per day or more may be administered to the patient. The object compound (1) of this invention has an average single dose of about laIg, IOB,
50mg, 100mg, 250mg, 500
mg, loohg, 2000sg may be administered to treat pathogenic bacterial infections. The present invention will be explained in more detail below according to production examples and examples.

毀遣■ユ 2−アリルオキシカルボニルアミノメチルー4−エトキ
シカルボニルチアゾール(4.62g)のジメチルホル
ムアミド( 4 0 ml)溶液に沃化メチル(5.5
11 )と水素化ナトリウム(62.8%二油状懸濁液
、7 2 0 mg)をO℃で加えた.窒素ガス雰囲気
下に同温度で攪拌することによって得られた反応溶液を
酢酸エチル中に注いだ.この混合物を水、ブラインの順
序で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した.溶媒を留去
して得られる残留物をシリカゲル充填のカラムクロマト
グラフィに展開し、n−ヘキサンと酢酸エチルの混液(
2:1、V/V)で溶出すると、2−(N−アリルオキ
シカルボニルーN−メチルアミノメチル)−4−エトキ
シカルボニルチアゾール(4.47g )が得られた. ?R (Neat)  : 1690−1710 cm
−’NMR (CDCIs. δ)  : 1.41(
31l.t.J−7Hz),3.01(311,s) 
,4.39 (2H.q.J”711z) ,4.5−
4.7 (211,m) ,4.78 (2H.s) 
.5.1−5.4 (211,m) ,5.6−8.2
 (III,m) ,8.13 (IH,s) 去1目乳ス 2−(N−アリルオキシカルボニルーN−メチルアミノ
メチル)−4−エトキシカルボニルチアゾール(4.4
7g )のテトラヒド口フラン(50ml)溶液中に水
素化ほう素ナトリウム(1.2g)を加えた.上記混合
物を還流させながら1時間を要してメタノール(12m
l)を加え、次いでO℃に冷却して酢酸(IJml)を
加えた.減圧下に溶媒を留去した後、残漬を酢酸エチル
に溶解し、水およびブラインで順次洗浄した.有機溶媒
層を乾燥して溶媒を留去すると、2−(N−アリルオキ
シカルボニル一N−メチルアミノメチル)−4−ヒドロ
キシメチルチアゾール(3.8g)が得られた.IR 
(Neat)  : 3100−3400.1880−
1700 cm−’NMR (CDCIs.δ)  :
2.93(:II1,s),4.5−4.8(5B,+
a),5.0−5.4 (2}L.S) . 5.6−
6.2 (1}1,1) .7.19 (Ill,s)
聚遺■旦 2− (N−アリルオキシカルボニルーN−メチルアミ
ノメチル)−4−ヒドロキシメチルチアゾール(3.7
g)の酢酸エチル(100ml)溶液に、活性二酸化マ
ンガン(31g)を加えた.この混合物を室温下に2時
間攪拌した後、沈殿物を濾去し、濾液より減圧下に溶媒
を留去した.残漬をトルエン(100ml)に溶解し、
得られた溶液に3−トリフェニルホスホラニリデンブタ
ン−2−オン(5.0g)を加え、反応混合物を80℃
で1時間攪拌した.次いで溶媒を留去し、得られた残漬
をシリカゲル充填のカラムクロマトグラフィに展開して
n−ヘキサンと酢酸エチルの混液(2:1, v/v)
で溶出すると,2−(N−アリルオキシカルボニルーN
−メチルアミノメチル)−4− (2−メチル−3−オ
キソー1−ブテニル)チアゾール(3.87g)が得ら
れた. fR  (Neat)  : 1700.  1660
 ca+一富NMR  (CDCIs.  δ)  :
 2.13(311.s).  3.36(311,s
),2.97 (311,s) .4 .52 (2H
 ,d ,J=511x) . 4.67 (211,
 s,) ,5.0−5.4(2H,m), 5.6−
6.2(llI.m).7.32(ill,S) .7
.39 (Ill,S)鼠】j((二上 4−ホルミルイミダゾール(Ig)のトルエン(20s
l)I液に3−トリフェニルホスホラニリデンブタン−
2−オン(4.5g)を加えた.この混合物を4時間遠
流させた後、溶媒を留去し、残漬をテトラヒド口フラン
(2011)と水(20ml)の混液に溶解した.得ら
れた溶液にクロルギ酸アリル(1.5ml)を滴下し、
その間液性はIN水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH
10とし、また液温は5℃に維持した.反応混合物を酢
酸エチル(100ml)で希釈し、水およびブラインで
順次洗浄した.乾燥後溶媒を留去して得られる残漬をシ
リカゲル充填のカラムクロマトグラフィに展開し、n−
ヘキサンと酢酸エチルの混液(2:1, v/v)で溶
出すると、!−アリルオキシカルボニル−4−(2−メ
チル−3−オキソー1−ブテニル)イミダゾール(2.
4g)が得られた. IR (NuJol) : 17
50 cm−’NMR (CDCJs,δ)  : 2
.16(311,s), 2.42(3}1,s).4
.91 (21!,d,J−711Z).5.1−5.
6 (211,m),5.7−6.3(lft,m),
7.37(ill,s), 7.59(11,s), 
8.18(III,d,J−1112) 梨1』[(二又 製造例4−1と実質的に同一の操作を行うことにより、
2−メチル−4−(2−メチル−3−オキソー1−プテ
ニル)チアゾールが78.1%の収率で得られた. NIAR  (CDC1s.   δ)   :  2
.14(311,S),  2.3’l(3}1,S)
,2.7N311,s).7.20(111,s), 
7.47(III,s)鼠1』1L二上 1−アリルオキシカルボニル−4−(2−メチル−3′
−オキソー1−ブテニル)イミダゾール(3.54g)
の塩化メチレン(50ml)溶液にトリエチルアミン(
2.5ml) とトリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリルエステル(3.2ml)を窒素ガス雰囲気下
−60℃で加えた.同一条件下に30分間の攪拌を行な
った後、混合液を水およびブラインで順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した.溶媒を留去して得られる残渣
を塩化メチレン(50ml)に溶解した.この混合物に
(3S,4R) −4−アセトキシー3 − [ (l
n)− s一第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−2−オキソアゼチジン(44g)および臭化亜鉛(
3 . 4 g)を加え、得られた混合物を1時間攪拌
下に還流した.反応液を水、炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液および水の順序で洗浄した.有機溶媒層を乾燥させ
た後留去し、残漬をシリカゲル充填のカラムクロマトグ
ラフィに展開してn−ヘキサンと酢酸エチルの混液(1
:2,v/v)で溶出すると、(35.4R) −4−
 [4− (1 一アリルオキシカルボニルイミダゾー
ル−4−イル)−3−メチル−2−才キソー3−ブテニ
ル]−3−((IR)−1一第3級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン(1.46g
)が得られた. IR  (CHiCli)  : 3400,1760
,1730.1660  cm−’NMR  (CDC
Is.  δ)   :  0.08(6H,s), 
 0.118(911,s),1.28 (311,d
,J−71目!),2.15(311,S),  2.
6−3.3(311,m) ,3.8−4.3 (2t
l,m) .4.811 (2H,d,J−61Ix)
 ,5.2−5.6 (21口,m)  ,5.7−6
.2 (2H,m) ,7.31 (IH,s)  .
7.62 (Ill,s) .8.14 (Ill,s
)肘1』1Lニュ 製造例5−1と実質的に同一の操作を行うことにより、
(35,4R) − 3 − [ (In) − 1一
第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4−[3
−メ“チルー4−(2−メチルチアゾール−4−イル)
−2−オキソー3−ブテニル]−2−オキソアゼチジン
が48.8%の収率で得られた.IR (CH2Ch)
  : 3660, 1750, 1655 cat−
’NMR (CDCI,,δ)  7 0.08(61
1,s). O.ll[l(9+1,S).1.21(
3H,d,J−611z).2.20(3H,s), 
2.72(3H,s) ,2.8−3.4 (311,
w) ,3.8−4.3 (2H,s) ,6.10(
III,br s), 7.32(Ill,S), 7
.40(111.3)艮遺{N 5ニュ 製造例5−1と実質的に同一の操作を行うことにより、
(35.4R) −4− [4− (2− (N−アリ
ルオキシ力ルボニルーN−メチルアミノメチル)チアゾ
ール−4−イル)−3−メチル−2−オキソー3−ブテ
ニル]−3−[IR)−1一第3級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−オキソアゼチジンが65.5%
の収率で得られた。
■To a solution of 2-allyloxycarbonylaminomethyl-4-ethoxycarbonylthiazole (4.62 g) in dimethylformamide (40 ml) was added methyl iodide (5.5 g).
11) and sodium hydride (62.8% di-oil suspension, 720 mg) were added at 0°C. The reaction solution obtained by stirring at the same temperature under a nitrogen gas atmosphere was poured into ethyl acetate. The mixture was washed sequentially with water and brine, and dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was developed on column chromatography packed with silica gel, and a mixture of n-hexane and ethyl acetate (
2:1, V/V) to give 2-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)-4-ethoxycarbonylthiazole (4.47 g). ? R (Neat): 1690-1710 cm
-'NMR (CDCIs. δ): 1.41 (
31l. t. J-7Hz), 3.01 (311,s)
,4.39 (2H.q.J"711z) ,4.5-
4.7 (211,m) ,4.78 (2H.s)
.. 5.1-5.4 (211, m), 5.6-8.2
(III, m), 8.13 (IH, s) Lactose 2-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)-4-ethoxycarbonylthiazole (4.4
Sodium borohydride (1.2 g) was added to a solution of (7 g) in tetrahydrofuran (50 ml). While refluxing the above mixture, methanol (12 m
l) was added, then cooled to 0°C and acetic acid (IJml) was added. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was dissolved in ethyl acetate and washed successively with water and brine. The organic solvent layer was dried and the solvent was distilled off to give 2-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)-4-hydroxymethylthiazole (3.8 g). IR
(Neat): 3100-3400.1880-
1700 cm-'NMR (CDCIs.δ):
2.93 (: II1, s), 4.5-4.8 (5B, +
a), 5.0-5.4 (2}L.S). 5.6-
6.2 (1}1,1). 7.19 (Ill,s)
N-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)-4-hydroxymethylthiazole (3.7
Activated manganese dioxide (31 g) was added to a solution of g) in ethyl acetate (100 ml). After stirring this mixture at room temperature for 2 hours, the precipitate was filtered off, and the solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure. Dissolve the residue in toluene (100ml),
3-triphenylphosphoranylidenebutan-2-one (5.0 g) was added to the resulting solution, and the reaction mixture was heated at 80°C.
The mixture was stirred for 1 hour. Next, the solvent was distilled off, and the resulting residue was developed on column chromatography packed with silica gel to obtain a mixture of n-hexane and ethyl acetate (2:1, v/v).
When eluted with 2-(N-allyloxycarbonyl-N
-methylaminomethyl)-4-(2-methyl-3-oxo-1-butenyl)thiazole (3.87 g) was obtained. fR (Neat): 1700. 1660
ca+Ichitomi NMR (CDCIs. δ):
2.13 (311.s). 3.36 (311,s
), 2.97 (311,s). 4. 52 (2H
, d, J=511x). 4.67 (211,
s,) ,5.0-5.4(2H,m), 5.6-
6.2 (llI.m). 7.32 (ill, S). 7
.. 39 (Ill, S) rat]j
l) 3-triphenylphosphoranylidenebutane in liquid I
2-one (4.5 g) was added. After this mixture was centrifuged for 4 hours, the solvent was distilled off, and the residue was dissolved in a mixture of tetrahydrofuran (2011) and water (20 ml). Allyl chloroformate (1.5 ml) was added dropwise to the resulting solution.
In the meantime, adjust the pH by adding IN sodium hydroxide aqueous solution.
10, and the liquid temperature was maintained at 5°C. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate (100ml) and washed successively with water and brine. After drying, the solvent was distilled off and the residue obtained was developed on column chromatography packed with silica gel, and n-
When eluted with a mixture of hexane and ethyl acetate (2:1, v/v),! -allyloxycarbonyl-4-(2-methyl-3-oxo-1-butenyl)imidazole (2.
4g) was obtained. IR (NuJol): 17
50 cm-'NMR (CDCJs, δ): 2
.. 16 (311, s), 2.42 (3}1, s). 4
.. 91 (21!, d, J-711Z). 5.1-5.
6 (211, m), 5.7-6.3 (lft, m),
7.37(ill,s), 7.59(11,s),
8.18 (III, d, J-1112) Pear 1'' [(By performing substantially the same operation as Bifurcated Production Example 4-1,
2-Methyl-4-(2-methyl-3-oxo-1-putenyl)thiazole was obtained in a yield of 78.1%. NIAR (CDC1s. δ): 2
.. 14 (311, S), 2.3'l (3}1, S)
, 2.7N311, s). 7.20 (111,s),
7.47(III,s) Mouse 1' 1L di-1-allyloxycarbonyl-4-(2-methyl-3'
-oxo-1-butenyl)imidazole (3.54g)
Triethylamine (
2.5 ml) and trifluoromethanesulfonic acid trimethylsilyl ester (3.2 ml) were added at -60°C under a nitrogen gas atmosphere. After stirring for 30 minutes under the same conditions, the mixture was washed successively with water and brine, and dried over magnesium sulfate. The residue obtained by evaporating the solvent was dissolved in methylene chloride (50 ml). This mixture contains (3S,4R)-4-acetoxy3-[(l
n)-s-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-2-oxoazetidine (44 g) and zinc bromide (
3. 4 g) was added, and the resulting mixture was refluxed with stirring for 1 hour. The reaction solution was washed with water, a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, and water in that order. After drying the organic solvent layer, it was distilled off, and the residue was developed on column chromatography packed with silica gel to obtain a mixture of n-hexane and ethyl acetate (1
:2, v/v), (35.4R) -4-
[4-(1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)-3-methyl-2-xo-3-butenyl]-3-((IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2- Oxoazetidine (1.46g
)was gotten. IR (CHiCli): 3400,1760
, 1730.1660 cm-'NMR (CDC
Is. δ): 0.08 (6H, s),
0.118 (911,s), 1.28 (311,d
, J-71st! ), 2.15 (311, S), 2.
6-3.3 (311, m), 3.8-4.3 (2t
l, m). 4.811 (2H, d, J-61Ix)
,5.2-5.6 (21 ports, m) ,5.7-6
.. 2 (2H, m) , 7.31 (IH, s) .
7.62 (Ill,s). 8.14 (Ill,s
) Elbow 1'' By performing substantially the same operation as in 1L Nut Production Example 5-1,
(35,4R)-3-[(In)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-[3
-methyl-4-(2-methylthiazol-4-yl)
-2-oxo-3-butenyl]-2-oxoazetidine was obtained in a yield of 48.8%. IR (CH2Ch)
: 3660, 1750, 1655 cat-
'NMR (CDCI,,δ) 7 0.08 (61
1,s). O. ll[l(9+1,S). 1.21(
3H, d, J-611z). 2.20 (3H, s),
2.72 (3H, s) , 2.8-3.4 (311,
w) ,3.8-4.3 (2H,s) ,6.10(
III, br s), 7.32 (Ill, S), 7
.. 40 (111.3) Production {N 5 By performing substantially the same operation as in Production Example 5-1,
(35.4R) -4- [4- (2- (N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)thiazol-4-yl)-3-methyl-2-oxo-3-butenyl]-3-[IR) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-2-oxoazetidine is 65.5%
was obtained in a yield of .

IR (ClhC1a)  : 3440, 1770
, 1710. 1675 cm−’NMR (CDC
I3,δ)  : 0.09(611,s), 0.9
1(9H,S).1.64 (3H,d,J=6Hz)
.2.23 (3H,s).3.16 (311,s)
,2.6−4.4(311,m), 3.8−4.3(
211,m).4.5−4.8(211,s),4.7
8 (211,s)、 4.9−5.4 (211.1
I1) ,5.6−6.2(211.01) . 7.
48(III,s)腎遷■1 (35.4R) −4− [4− (1−アリルオキシ
力ルポニルイミダゾール−4−イル)−3−メチルー2
−オキソー3−ブテニル] −3− [IR)−1 −
第311Lブチルジメチルシリルオキシエチル]−2−
オキソアゼチジン(2 1 0mg)のトルエン(10
ml)溶液にグリオキシル酸アリルの1水和物(78 
B)を加えた.得られた混合物を4時間還流し、この間
混合物中の水を共沸によって除去した.次いで溶媒を留
去し、残渣である2 − [ (3S,4R) − 4
 −(4− (1−アリルオキシカルボニルイミダゾー
ル−4−イル》−3−メチル−2−オキソー3−ブテニ
ル} − 3 − (IR)一t一第3級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−2−オキソアゼチジン−1−
イル]グリオキシル酸アリルをキシレンに溶解した.減
圧下に溶媒を留去し、残漬を塩化メチレン(10ml)
に溶解した.この溶液に2.6−ルチジン(0.07t
sl) 、次イテ塩化チオ=ル(0.051ml)を夫
々−20℃で加えた, −20tl:テl 5分間攪拌
した後、反応混合物を酢酸エチル(5011)と水(5
0ml)の混液中に5℃で加えた.炭酸水素ナトリウム
水溶液を用いてpH6.5近辺に調整した後、有機溶媒
層を分離し、ブラインによる洗浄、硫酸マグネシウムに
よる乾燥を行なって更に溶媒を留去した.残渣を、脱ガ
スしたN,N−ジメチルホルムアミド(10a+1)に
溶解した後、この溶液に2.6−ルチジン(0.05m
l)とトリフェニルホスフィン(0.13g)を加えた
.この反応混合液を室温下に6時間放置した後、酢酸エ
チル(50ml)と水(50ml)の混液中に注いだ.
有機溶媒層を分離して水、IN冷塩酸、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、プラインの順序で洗浄した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した.溶媒を留去して得られる残漬をシリ
カゲル(20g)充填のカラムクロマトグラフィに展開
し、n−ヘキサンと酢酸エチルの混液(9:1−4:8
 ,v/v )で溶出すると、2 − [ (3S,4
R) − 4 −(4−(1−アリルオキシカルボニル
イミダゾール−4−イル)−3−メチル−2−オキソー
3−ブテニル) − 3−{IR)− t一第3級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル}−2−オキソアゼチジ
ン−1−イル] −2−トリフエニルホスホラニリデン
酢酸アリル(147mg)が得られた。
IR (ClhC1a): 3440, 1770
, 1710. 1675 cm-'NMR (CDC
I3, δ): 0.09 (611, s), 0.9
1 (9H, S). 1.64 (3H, d, J=6Hz)
.. 2.23 (3H, s). 3.16 (311,s)
, 2.6-4.4 (311, m), 3.8-4.3 (
211, m). 4.5-4.8 (211,s), 4.7
8 (211,s), 4.9-5.4 (211.1
I1), 5.6-6.2 (211.01). 7.
48(III,s) Renal status ■1 (35.4R) -4- [4- (1-allyloxylponylimidazol-4-yl)-3-methyl-2
-oxo-3-butenyl] -3- [IR)-1 -
311L Butyldimethylsilyloxyethyl]-2-
Toluene (10 mg) of oxoazetidine (210 mg)
ml) solution of allyl glyoxylate monohydrate (78
B) was added. The resulting mixture was refluxed for 4 hours, during which time water in the mixture was removed azeotropically. Then, the solvent was distilled off, and the residue 2-[(3S,4R)-4
-(4- (1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)-3-methyl-2-oxo-3-butenyl} -3- (IR)-tertiary-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-oxoazetidine -1-
Allyl] glyoxylate was dissolved in xylene. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in methylene chloride (10 ml).
It was dissolved in Add 2.6-lutidine (0.07t) to this solution.
After stirring for 5 minutes, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (5011) and water (5011).
0 ml) at 5°C. After adjusting the pH to around 6.5 using an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, the organic solvent layer was separated, washed with brine, dried with magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off. After dissolving the residue in degassed N,N-dimethylformamide (10a+1), 2,6-lutidine (0.05 m
l) and triphenylphosphine (0.13g) were added. The reaction mixture was left at room temperature for 6 hours, and then poured into a mixture of ethyl acetate (50 ml) and water (50 ml).
The organic solvent layer was separated and washed with water, IN-cold hydrochloric acid, aqueous sodium bicarbonate solution, and prine in this order, and then dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was developed on column chromatography packed with silica gel (20 g), and a mixture of n-hexane and ethyl acetate (9:1-4:8
, v/v), 2-[(3S,4
R) - 4 -(4-(1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)-3-methyl-2-oxo-3-butenyl) - 3-{IR)-t-tert-butyldimethylsilyloxyethyl} -2-oxoazetidin-1-yl] -2-triphenylphosphoranylidene allyl acetate (147 mg) was obtained.

IR (CllaC12)  : 1785, 174
0 cm−’NMR (CDCI3.6)  :−0.
20〜0.10(6H,m),0.50−0.90(9
11,m).0.90−1.3(311,a+), 4
.8−5.2(4N,m) ,5.3−5.6 (4t
l,m) .5.6−6.2 (2H.m) .7.2
−8.0 (1711.m) .8.17 (III,
s)聚遣盟ユ n−ブチルリチウムをn−ヘキサン(3.23i+1)
に溶解させた1.55Mのn−ブチルリチウム溶液を、
ジイソブ口ビルアミン(0.77ml)のテトラヒド口
フラン(a.oomt)溶液に−78℃で滴下した.こ
の混合物をO℃まで加温し、同温度で30分攪拌した後
、再び−78℃に冷却すると、約0.5Mのリチウムジ
イソブロビルアミド溶液が得られた.一方2 − [ 
(3S,4R) − 3 − ( (lRi 1一第3
級ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−{(IR
)−1−メチル−2−オキソブ口ピル}−2−オキソア
ゼチジン−1−イル] −2−}−リフェニルホスホラ
ニリデン酢酸アリル(0.500g)のテトラヒド口フ
ラン(10.Oal)溶液を準備し、これに先に得たリ
チウムジイソブ口ピルアミド溶液(1.82ml)を−
78℃で滴下した。同温度で30分攪拌した後、この混
合物に3−ピリジンカルブアルデヒド(0.1111)
のテトラヒド口フラン(1.0@1)溶液を加えた.こ
れを放置し1時間を要して−30℃まで昇温させた.こ
の混合物に塩化アンモニウム水溶液(30ml)を加え
、酢酸エチル(5hl)で希釈した。有機溶媒層を分離
し、塩化アンモニウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、ブラインの順序で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した.溶媒を留去して得られる残漬をシリカゲ
ル(20g)充填のカラムクロマトグラフィに展開し、
塩化メチレンとアセトンの混液(9:1−1:1 , 
v/v)で溶出すると、2 − [ (3S,4R) 
− 3 − ( (IR) 一1−第3級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−4−((IR)−4−ヒドロ
キシ−1−メチル−2−オキソー4−(3−ピリジル)
ブチル}一2−オキソアゼチジン−1−イル] −2−
}リフェニルホスホラニリデン酢酸アリル(418mg
)が得られた. IR (CI12Cl2)  : 2420,. 17
40, 1700. 1820 Cll−’NMR (
CDCl3. δ):−0.1〜0.16(6H,++
+), 0.84(911,s) .0.95−1.5
7 (611.1) .2.40−3.37 (5H,
m) ,3.92−4.2 (2H,+a) ,4.4
−4.8 (311,m) ,4.8−6.2(311
,m),7.0−8.0(1711,+o). 8.3
−8.7(2H,m)東MJLユ 2−[3S,4R) −4− (4− (1−アリルオ
キシ力ルポニルイミダゾール−4−イル)−3−メチル
−2−オキソー3−ブテニル)−3−{(lR)−1一
第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル}−2−オキ
ソアゼチジン−1−イル]一2一トリフェニルホスホラ
ニリデン酢酸アリル(1 . 2g)をキシレン(30
11)に溶解し、140℃で7時間加熱した.反応混合
物から溶媒を留去して得られる残漬をシリカゲル充填の
カラムクロマトグラフィに展開し、n−ヘキサンと酢酸
エチルの混液(2 : 1 ,v/v)で溶出すると、
(SR,SS) −3− [2− (1 −アリルオキ
シカルボニルイミダゾール−4−イル)一1−メチルエ
テニル] −6− [(IR)−1−第3級ブチルジメ
チルシリルオキシエチル]一7−オキソー1−アザビシ
ク口[3.2.0]ヘブト−2−エンー2−カルボン酸
アリル(0.45g)が得られた. IR (CIIzClz)  : 1780, 172
0 cm−’NMR  (CDCls.δ)  : 0
.09(60,S).  0.89(91+,s).2
.28 (311,d,J=611z) ,3.12 
(3H,d,J=1+暑z》,2.9−3.2(3H,
s). 4.0−4.4(2H,m),4.6−5.0
(4H,+s)  ,5.0−5.6 (4!口,m)
  ,5.7−6.2 (2}1,m)  .6.4(
IH,S),  7.39(IH,S).  a.xt
(4o,d,.+−toz)叉m二上 製造例6および実施例1と実質的に同一の操作を行うこ
とにより、(SR,[iS) −6 − [ (IR)
 − 1 −第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−3−[1−メチル−2−(2−メチルチアゾール−
4−イル)エテニル]−7−オキソー1−アザビシクロ
[3,2.01ヘブトー2−エンー2−カルボン酸フリ
ルが67.0%の収率で得られた.IR (ClhCh
)  : 1780, 1720 cm−’NMR  
(CDCIコ. δ)   :  0.09(all,
S),  0.88(9+1,S),1.22 (31
1, d,J=611x) .2. 13 (311 
,s) , 2 .65 (311, s) ,2.9
−3.2(3H,m), 3.9−4.3(211,m
),4.5−4.8(211,+s) ,5.0−5.
5 (211,m) ,5.6−6.1 (IH,m)
 ,6.52 (III,s) ,6.99 (IH,
s)Ki近ユニュ アリルが81.8%の収率で得られた.IR (CIh
Ch)  : 1780, 1740. 1710 c
m−’NMR (CDCIs,δ)  : 0.09(
611,s). 0.90(911.s),1.25(
3H,d,J=711z),2.21(3H,s). 
3.01(311,s) ,3.0−3.2 (211
,m) .4.5−4.8 (411,ffl) ,5
.0−5.5(4H,m), 5.6−6.2(2H,
m),6.68(Ill,s)実施例2−1と実質的に
同一の操作を行うことにより、(5R.BS) −3−
 [2− ( (2− (N−アリルオキシカルボニル
ーN−メチルアミノメチル)チアゾール−4−イル)−
1−メチルエテニル] −a− [IR)−1−第3級
ブチルジメチルシリルオキシエチル]一7−オキソ−1
−アザビシク口[3.2.O]ヘブトー2−エンー2−
カルボン酸2 − [ (3S,4R) − 3 − 
( (tn)− 1−第3級ブチルジメチルシリルオキ
シェチル}−4−((lR)−4−ヒドロキシ−1−メ
チル−2−オキソー4−(3−ビリジル)ブチル)−2
−オキソアゼチジン−1−イル]一2−トリフェニルホ
スホラニリデン酢酸アリル(1.91g) +7)脱気
トルエン(65.oIIll)溶液を7時間加熱還流し
た.冷却後トルエンを留去し、残漬を塩化メチレン中に
分散させた.この混合物にトリエチルアミン(0.42
111)とメタンスルホン酸クロリド(0.21ml)
を、5℃で攪拌しながら滴下し、同温度で30分攪拌を
続けた.得られた混合物に1.8−ジアザビシク口[5
 . 4 . Ol ウンデカー7−エン(1.12m
l)を加え、反応混合物を放置して室温まで戻した.室
温で1時間攪拌した後、混合物を酢酸エチルで希釈し、
塩化アンモニウム水溶液、水、ブラインの順序で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥した.溶媒を留去して得られ
る残漬をシリカゲル(75a+1)充填のカラムクロマ
トグラ゛フィに展開し、n−へキチンと酢酸エチルの混
液(9:1− 1:1,v/v)で溶出すると、(4S
.5R,65) − 6 −[(IR)−1一第3級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−4−メチル−7−
オキソー3−[(E)−2− (3−ピリジル)エテニ
ル]−1−アザビシク口[3 . 2 . Olヘブト
ー2−エンー2−カルボン酸アリルが得られた(690
.8a+g)IR (CIIzCh)  : 1770
. 1710 cm−’NMR (CDCl3,δ) 
 : 0.12(all,S). 0.92(9+1,
S).1.30(611,d,J−711z),3.2
3(IH,dd,J−3. 611z).3.25−3
.7 (Il1,讃).4.05−4.40 (211
,+++),4.65−4.85(211,m).5.
1−5.6(211,目).5.85−6.25(IH
,l),8.75(IH,d,J−17112).7.
23(IH,dd,J−5.  8112).  7.
7−7.9(lH.m).7.91 (18,d,J=
1711z) .  8.46 (III,dd,J−
3.5Hz) ,8.82 (IH,d,J−31Iz
)実施例4−1 (511.65)−3−[2− (1−アリルオキシカ
ルボニルイミダゾール−4−イル)−1−メチルエテニ
ル] −6− [(IR)−1−第3級ブチルジメチル
シリルオキシエチル]一7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.O]ヘブトー2−エンー2−カルボン酸アリ
ル(450og)のテトラヒド口フラン(10ml)溶
液に酢酸(0.50ml)と弗化テトラブチルアンモニ
ウムのIMテトラヒド口フラン(5.0ml)溶液を0
℃で加えた.室温で10時間放置した後、反応混合物を
酢酸エチル(50ml)と水(50a+1)の混液中に
分敗した。有機溶媒層を分離し、炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液およびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した.溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲル
充填のカラ′ムクロマトグラフィに展開し、n−ヘキサ
ンと酢酸エチルの混液(8:2−2:8 , v/v)
で溶出すると、(SR,BS) − 3 −[2− (
1−アリルオキシカルボニルイミダゾール−4−イル)
−1−メチルエテニル]−6−[(IR]−1−ヒドロ
キシエチル]−7−オキソー1−アザビシク口[3.2
.0]ヘブトー2一二ンー2−カルボン酸アリルが得ら
れた(210mg) .IR (ClhCh)  : 
3675, 17fiO, 1720 Cll−”NM
R (CDCIs.δ)  : 1.26(3H,d,
J−611!). 2.13(3H,d.J−IHz)
 ,3.0−3.4 (311,++) ,4.6−5
.0(4Lm) ,5 .1−5.6 (411,m)
 ,5.7−6.2 (211,m) .6.42(i
ll,s),7.40(1B,s), 8.12(IH
,d,J−111z)夫五■エニュ 実施例4−1と実質的に同一の操作を行うことにより、
(SR,65) −6 − [ (IR) −1−ヒド
ロキシエチル] −3− [1−メチル−2−(2−ア
ミノチアゾールー4−イル)エテニル]−7−オキソー
1−アザビシク口(3.2.0]ヘプトー2−エンー2
−カルボン酸アリルが53.0%の収率で得られた. IR NMR (CH2Ch)  : 3800,  1775,  
1720 cta−’(CDCIs.  δ)   :
lJ1(31目,d,J=711z) ,  2.14
(311,s),2.62(3H.s). 2.9−3
J(3H,m),3.8−4.4(2tl,m),  
4.5−4.8(21目,a+)  ,5.0−5.5
(211,■).5.6−6.2(11l,m).6.
50(III,s). 6.97(III,s) 火1j((ニュ 実施例4−1と実質的に同一の操作をすることにより、
(SR,65) −3− [2−(2− (N−アリル
オキシカルボニルーN−メチルアミノメチル)チアゾー
ル−4−イル)−1−メチルエテニル]−6−[(IR
)−1−ヒドロキシエチル]一7−オキソー1−アザビ
シク口[3 . 2 . Olヘブトー2−エンー2−
カルボン酸アリルが27.6%の収率で得られた. IR  (CI12Cl2)  : 3600,  1
780.  1705 cm−’NMR  (CDCl
3.  6)  : 1.32(311.d,J−61
1z).  2.19(311.s).3.00(3H
.s).  2.9−3.3(2H,+a),4.4−
4.8 (6114) ,5.0−5.5 (4H,s
) ,5.6−6.2(211,ffl) ,6.SL
(IH,s) . 7.12(111.s)衷茄j[(
二A (4S,SR,6S) − 6 − ( (IR) −
1−第3級ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4−
メチル−7一オキソー3− [(E)−2− (3−ピ
リジル)エテニル]−1−アザビシク口[3.2.0]
ヘブトー2一エンー2−カルボン酸アリル(62.7m
g)のテトラヒド口フラン(5.0ml)溶液に、酢酸
(0:1151)とテトラヒドロフラン(lml)の混
液、並びに弗化テトラブチルアンモニウムのIMテトラ
ヒドロフラン(0.67ml)溶液を室温1に滴下した
.室温で24時間放置した後、反応混合物を酢酸エチル
(4hl)、燐酸塩緩衝液( p H 6.86.20
ml)および水(20ml)の混液中に注いだ.有機溶
媒層を分取して燐酸塩緩街液p H 6.llIi)お
よびブラインで順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た.溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲル(4m
l)充填のカラムクロマトグラフィに展開し、塩化メチ
レンとアセトンの混液(4:1, v/v)で溶出する
と、(45,SR,65) − 6−[(IR)−1−
ヒドロキシエチル]−4−メチルー7−オキソー3− 
[(E)−2− (3−ビリジ・ル)エテニル]−1−
アザビシク口[3.2.0]ヘブトー2−エンー2−カ
ルボン酸アリルが得られた(40.2+ag) IR (CIhCh)  : 3620, 1770.
 1710 cva−’NMR (CDCIs.δ) 
 : 1.31(311,d,J−811z), 1.
38(311,d,J=?lIz),3.20(ill
,  br  s),  3.26(Ill,dd,J
−3,71lz), 3.58(llI, dq, J
−8,811z) ,4.00−4.:19 (211
,m) .4.53−4.97 (2++,m) .5
.08−5.57 (211劃). 5.68−6.2
5(III,+a),6.72(IH,d.J−161
目Z),  7.11−7.39(Ill,m).7.
80−7.85(IH,m), 7.85(IH,d,
J−161lz),8.20−8.8O(211,m) 東五血lニュ (SR,651 −3− [2− (1−アリルオキシ
力ルポニルイミダゾール−4−イル)−1−メチルエテ
ニル] −6− [IR)−1−ヒドロキシエチル]一
7−オキソ−1−アザビシク口[3.2.0]ヘプトー
2−エンー2−カルボン酸アリル(200mg)をテト
ラヒド口フラン(4+al)とエタノール(2ml)の
混液に溶解した溶液に、トリフェニルホスフィン(37
mg)、5.5−ジメチル−1.3−シクロヘキサンジ
オン(137+ag)およびテトラキス(トリフエニル
ホスフィン)パラジウム(0)  (54mg)を順次
加えた.これを室温下に1時間攪拌し、得られた析出物
を濾取した後テトラヒド口フランで洗浄・した.この析
出物を水(20IIIL)に溶解し、この液を酢酸エチ
ルで洗浄した後、減圧濃縮し、更に凍結乾燥すると、(
5R,OS) − 6 − [ (IR) − 1−ヒ
ドロキシエチル] −3− [2− (イミダゾール−
4−イル)−t−メチノレエテニノレ]−7−オキソー
1−アザビシク口[3.2.0]ヘプトー2−エンー2
−カルボン酸が得られた(50mg), IR (KBr) : 1740−1750 cm−’
NMR(D,O,δ)  : 1.30(3H,d,J
−6}1!),2.03(3+1,S),8.22(i
ll,s) ,8.50(III,s)医蓬Ji二1 0H ジメドンの代りに2−エチルヘキサンカルボン酸ナトリ
ウムを用いた他は実施例5−1と実質的に同一の操作を
行うことにより、(SR,lis) − 6 −[ (
IR) − 1−ヒドロキシエチル] −3− [1−
メチル−2−(2−メチルチアゾールー.4−イル)エ
テニル]−7−オキソー1−アザビシク口[3.2.0
]ヘブトー2−エンー2−カルボン酸ナトリウムが89
,6%の収率で得られた.IR (NujOl) : 
1745−1755 c+a−’NMR (Dad,δ
)  : 1.24(311,d.J=611z).2
.03(311,s).2.61(311,s).6.
40(IH,s). 7.23(IH,s)衷茄』1L
ニュ 実施例5−1と実質的に同一の操作を行うことにより、
(SR,85) − 3 − [ 1−メチル−2−(
2− (N−メチルアミノメチル)チアゾールー4−イ
ル}エテニル] −6− [IR)−1−ヒドロキシエ
チル]一7−オキソ−1−アザビシク口[3.2.0]
ヘブトー2−エンー2−カルボン酸が37.9%の収率
で得られた。
IR (CllaC12): 1785, 174
0 cm-'NMR (CDCI3.6): -0.
20-0.10 (6H, m), 0.50-0.90 (9
11, m). 0.90-1.3 (311, a+), 4
.. 8-5.2 (4N, m), 5.3-5.6 (4t
l, m). 5.6-6.2 (2H.m). 7.2
-8.0 (1711.m). 8.17 (III,
s) N-butyl lithium in n-hexane (3.23i+1)
A 1.55M n-butyllithium solution dissolved in
The mixture was added dropwise to a solution of diisobutylamine (0.77 ml) in tetrahydrofuran (a.oomt) at -78°C. This mixture was heated to 0°C, stirred at the same temperature for 30 minutes, and then cooled again to -78°C to obtain an approximately 0.5M lithium diisobrobylamide solution. On the other hand, 2 − [
(3S, 4R) - 3 - ((lRi 1-3rd
butyldimethylsilyloxyethyl)-4-{(IR
)-1-Methyl-2-oxobupyr}-2-oxoazetidin-1-yl] -2-}-riphenylphosphoranylidene Prepare a solution of allyl acetate (0.500 g) in tetrahydrofuran (10.Oal) Then, the previously obtained lithium diisobutyramide solution (1.82 ml) was added to it.
It was added dropwise at 78°C. After stirring at the same temperature for 30 minutes, 3-pyridinecarbaldehyde (0.1111) was added to this mixture.
A solution of tetrahydrofuran (1.0@1) was added. This was left to stand and the temperature was raised to -30°C over 1 hour. Aqueous ammonium chloride solution (30 ml) was added to this mixture, and the mixture was diluted with ethyl acetate (5 hl). The organic solvent layer was separated, washed with an aqueous ammonium chloride solution, water, an aqueous sodium bicarbonate solution, and brine in this order, and then dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was developed on column chromatography packed with silica gel (20 g),
Mixture of methylene chloride and acetone (9:1-1:1,
v/v), 2-[(3S,4R)
- 3 - ((IR) 1-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-4-((IR)-4-hydroxy-1-methyl-2-oxo 4-(3-pyridyl)
butyl}-2-oxoazetidin-1-yl] -2-
}Riphenylphosphoranylidene allyl acetate (418 mg
)was gotten. IR (CI12Cl2): 2420,. 17
40, 1700. 1820 Cll-'NMR (
CDCl3. δ): -0.1 to 0.16 (6H, ++
+), 0.84 (911,s). 0.95-1.5
7 (611.1) . 2.40-3.37 (5H,
m) , 3.92-4.2 (2H, +a) , 4.4
-4.8 (311, m) , 4.8-6.2 (311
, m), 7.0-8.0 (1711, +o). 8.3
-8.7 (2H, m) East MJL Yu2-[3S,4R) -4- (4- (1-allyloxylponylimidazol-4-yl)-3-methyl-2-oxo-3-butenyl) -3-{(lR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl}-2-oxoazetidin-1-yl]-12-triphenylphosphoranylidene allyl acetate (1.2 g) was added to xylene (30
11) and heated at 140°C for 7 hours. The residue obtained by distilling off the solvent from the reaction mixture was applied to column chromatography packed with silica gel, and eluted with a mixture of n-hexane and ethyl acetate (2:1, v/v).
(SR, SS) -3- [2- (1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)-1-methylethenyl] -6- [(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-7- Allyl oxo-1-azabisic[3.2.0]hebut-2-ene-2-carboxylate (0.45 g) was obtained. IR (CIIzClz): 1780, 172
0 cm-'NMR (CDCls.δ): 0
.. 09 (60, S). 0.89 (91+,s). 2
.. 28 (311, d, J=611z) , 3.12
(3H, d, J = 1 + heat z》, 2.9-3.2 (3H,
s). 4.0-4.4 (2H, m), 4.6-5.0
(4H, +s) ,5.0-5.6 (4! mouth, m)
,5.7-6.2 (2}1,m). 6.4(
IH, S), 7.39 (IH, S). a. xt
(SR, [iS) -6 - [ (IR)
-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-3-[1-methyl-2-(2-methylthiazole-
Furyl 4-yl)ethenyl]-7-oxo-1-azabicyclo[3,2.01hbut-2-en-2-carboxylic acid was obtained in a yield of 67.0%. IR (ClhCh
): 1780, 1720 cm-'NMR
(CDCI co. δ): 0.09 (all,
S), 0.88 (9+1, S), 1.22 (31
1, d, J=611x). 2. 13 (311
, s), 2. 65 (311, s), 2.9
-3.2 (3H, m), 3.9-4.3 (211, m
), 4.5-4.8 (211, +s), 5.0-5.
5 (211, m), 5.6-6.1 (IH, m)
,6.52 (III,s) ,6.99 (IH,
s) Ki near unaryl was obtained in a yield of 81.8%. IR (CIh
Ch): 1780, 1740. 1710c
m-'NMR (CDCIs, δ): 0.09 (
611, s). 0.90 (911.s), 1.25 (
3H, d, J=711z), 2.21 (3H, s).
3.01 (311,s) ,3.0-3.2 (211
,m). 4.5-4.8 (411,ffl) ,5
.. 0-5.5 (4H, m), 5.6-6.2 (2H,
m), 6.68 (Ill, s) By performing substantially the same operation as in Example 2-1, (5R.BS) -3-
[2- ((2- (N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)thiazol-4-yl)-
1-methylethenyl] -a- [IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-7-oxo-1
-Azabishiku mouth [3.2. O] hebuto2-en-2-
Carboxylic acid 2-[(3S,4R)-3-
((tn)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl}-4-((lR)-4-hydroxy-1-methyl-2-oxo4-(3-biridyl)butyl)-2
-oxoazetidin-1-yl]-2-triphenylphosphoranylidene allyl acetate (1.91 g) +7) A degassed toluene (65.oIIll) solution was heated under reflux for 7 hours. After cooling, toluene was distilled off and the residue was dispersed in methylene chloride. Triethylamine (0.42
111) and methanesulfonic acid chloride (0.21 ml)
was added dropwise with stirring at 5°C, and stirring was continued at the same temperature for 30 minutes. 1.8-diazabisic acid [5
.. 4. Ol Undekar 7-ene (1.12m
1) was added, and the reaction mixture was allowed to warm to room temperature. After stirring for 1 hour at room temperature, the mixture was diluted with ethyl acetate and
It was washed with an aqueous ammonium chloride solution, water, and brine in that order, and dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was applied to column chromatography packed with silica gel (75a+1) and eluted with a mixture of n-hexitine and ethyl acetate (9:1-1:1, v/v). Then, (4S
.. 5R,65) -6-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-methyl-7-
Oxo-3-[(E)-2-(3-pyridyl)ethenyl]-1-azabisic [3. 2. Allyl hebuto-2-ene-2-carboxylate was obtained (690
.. 8a+g)IR (CIIzCh): 1770
.. 1710 cm-'NMR (CDCl3, δ)
: 0.12(all,S). 0.92 (9+1,
S). 1.30 (611, d, J-711z), 3.2
3 (IH, dd, J-3. 611z). 3.25-3
.. 7 (Il1, praise). 4.05-4.40 (211
, +++), 4.65-4.85 (211, m). 5.
1-5.6 (211, eyes). 5.85-6.25 (IH
, l), 8.75 (IH, d, J-17112). 7.
23 (IH, dd, J-5. 8112). 7.
7-7.9 (lH.m). 7.91 (18, d, J=
1711z). 8.46 (III, dd, J-
3.5Hz), 8.82 (IH, d, J-31Iz
) Example 4-1 (511.65)-3-[2-(1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)-1-methylethenyl] -6-[(IR)-1-tert-butyldimethylsilyl oxyethyl]-7-oxo-1-azabicyclo[3.2. To a solution of allyl hebuto-2-ene-2-carboxylate (450 og) in tetrahydrofuran (10 ml) was added acetic acid (0.50 ml) and an IM solution of tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran (5.0 ml).
Added at ℃. After standing at room temperature for 10 hours, the reaction mixture was partitioned into a mixture of ethyl acetate (50ml) and water (50a+1). The organic layer was separated, washed with saturated aqueous sodium bicarbonate solution and brine, and dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was developed on column chromatography packed with silica gel, and a mixture of n-hexane and ethyl acetate (8:2-2:8, v/v) was used.
When eluted with (SR, BS) − 3 − [2− (
1-allyloxycarbonylimidazol-4-yl)
-1-methylethenyl]-6-[(IR]-1-hydroxyethyl]-7-oxo1-azabisic [3.2
.. 0] Allyl hebuto-2-2-2-carboxylate was obtained (210 mg). IR (ClhCh):
3675, 17fiO, 1720 Cll-”NM
R (CDCIs.δ): 1.26 (3H, d,
J-611! ). 2.13 (3H, d.J-IHz)
,3.0-3.4 (311,++) ,4.6-5
.. 0 (4Lm), 5. 1-5.6 (411, m)
, 5.7-6.2 (211, m). 6.42(i
ll, s), 7.40 (1B, s), 8.12 (IH
, d, J-111z) By performing substantially the same operation as in Example 4-1,
(SR,65) -6-[(IR)-1-hydroxyethyl]-3-[1-methyl-2-(2-aminothiazol-4-yl)ethenyl]-7-oxo1-azabisic(3 .2.0] hepto2-en-2
-Allyl carboxylate was obtained in a yield of 53.0%. IR NMR (CH2Ch): 3800, 1775,
1720 cta-' (CDCIs. δ):
lJ1 (31st, d, J=711z), 2.14
(311, s), 2.62 (3H.s). 2.9-3
J (3H, m), 3.8-4.4 (2tl, m),
4.5-4.8 (21st, a+), 5.0-5.5
(211, ■). 5.6-6.2 (11l, m). 6.
50 (III, s). 6.97 (III, s) Tue 1j ((By performing substantially the same operation as in Example 4-1,
(SR,65) -3-[2-(2-(N-allyloxycarbonyl-N-methylaminomethyl)thiazol-4-yl)-1-methylethenyl]-6-[(IR
)-1-Hydroxyethyl]-7-oxo-1-azabisic [3. 2. Ol Hebuto 2-en-2-
Allyl carboxylate was obtained in a yield of 27.6%. IR (CI12Cl2): 3600, 1
780. 1705 cm-'NMR (CDCl
3. 6): 1.32 (311.d, J-61
1z). 2.19 (311.s). 3.00 (3H
.. s). 2.9-3.3 (2H, +a), 4.4-
4.8 (6114) ,5.0-5.5 (4H,s
), 5.6-6.2 (211, ffl), 6. SL
(IH,s). 7.12 (111.s) 衷茄j [(
2A (4S, SR, 6S) - 6 - ((IR) -
1-tertiary butyldimethylsilyloxyethyl]-4-
Methyl-7-oxo-3-[(E)-2-(3-pyridyl)ethenyl]-1-azabisic [3.2.0]
Allyl hebuto-2-ene-2-carboxylate (62.7m
A mixture of acetic acid (0:1151) and tetrahydrofuran (lml) and a solution of IM tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran (0.67ml) were added dropwise to the tetrahydrofuran (5.0ml) solution of g) at room temperature. After standing at room temperature for 24 hours, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (4 hl), phosphate buffer (pH 6.86.20)
ml) and water (20 ml). 6. Separate the organic solvent layer and adjust the pH of the phosphate solution. llIi) and brine and dried over magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel (4 m
l) Developed in packed column chromatography and eluted with a mixture of methylene chloride and acetone (4:1, v/v) to give (45,SR,65)-6-[(IR)-1-
hydroxyethyl]-4-methyl-7-oxo3-
[(E)-2- (3-viridi-l)ethenyl]-1-
Allyl hebuto-2-ene-2-carboxylic acid [3.2.0] was obtained (40.2+ag) IR (CIhCh): 3620, 1770.
1710 cva-'NMR (CDCIs.δ)
: 1.31 (311, d, J-811z), 1.
38(311,d,J=?lIz), 3.20(ill
, br s), 3.26 (Ill, dd, J
-3,71lz), 3.58(llI, dq, J
-8,811z) ,4.00-4. :19 (211
,m). 4.53-4.97 (2++, m). 5
.. 08-5.57 (211th chapter). 5.68-6.2
5 (III, +a), 6.72 (IH, d.J-161
Z), 7.11-7.39 (Ill, m). 7.
80-7.85 (IH, m), 7.85 (IH, d,
J-161lz), 8.20-8.8O (211, m) Togoketsu (SR, 651 -3- [2- (1-allyloxylponylimidazol-4-yl)-1-methylethenyl] -6- [IR)-1-Hydroxyethyl]-7-oxo-1-azabisic [3.2.0] allyl hept-2-ene-2-carboxylate (200 mg) was mixed with tetrahydrofuran (4+al) and ethanol ( Triphenylphosphine (37
mg), 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione (137+ag) and tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (54 mg) were added sequentially. This was stirred at room temperature for 1 hour, and the resulting precipitate was collected by filtration and washed with tetrahydrofuran. This precipitate was dissolved in water (20IIIL), this liquid was washed with ethyl acetate, concentrated under reduced pressure, and further freeze-dried.
5R, OS) - 6 - [(IR) - 1-hydroxyethyl] -3- [2- (imidazole-
4-yl)-t-methylethynol]-7-oxo-1-azabisic[3.2.0]hept-2-en-2
-Carboxylic acid was obtained (50 mg), IR (KBr): 1740-1750 cm-'
NMR (D, O, δ): 1.30 (3H, d, J
-6}1! ), 2.03 (3+1, S), 8.22 (i
ll,s) ,8.50(III,s) Medical Care Ji21 0H Perform substantially the same operation as Example 5-1 except that sodium 2-ethylhexanecarboxylate was used instead of dimedone. Therefore, (SR, lis) − 6 −[ (
IR) - 1-hydroxyethyl] -3- [1-
Methyl-2-(2-methylthiazol-.4-yl)ethenyl]-7-oxo1-azabisic[3.2.0
] Sodium hebuto-2-ene-2-carboxylate is 89
, was obtained with a yield of 6%. IR (NujOl):
1745-1755 c+a-'NMR (Dad, δ
): 1.24 (311, d.J=611z). 2
.. 03 (311, s). 2.61 (311, s). 6.
40 (IH, s). 7.23 (IH, s) 茷茄'' 1L
By performing substantially the same operation as in Example 5-1,
(SR, 85) -3-[1-methyl-2-(
2-(N-methylaminomethyl)thiazol-4-yl}ethenyl] -6- [IR)-1-hydroxyethyl]-7-oxo-1-azabisic [3.2.0]
Hebuto-2-ene-2-carboxylic acid was obtained in a yield of 37.9%.

IR (Nujol) : 1750 cm””NMr
 (IhO.δ)  : 1.2B(311,d,J−
71Ix),2.10(311,s),2.81(31
1,s),6.48(III,s), 7.50(Il
l,s)MS:  364(M+◆l) 火五五1ニ1 去11牝旦 実bN例5−2と実質的に同一の操作を行うことにより
(4S,5R,6S) − 6 − [ (In) −
 1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソー
3−[(E)−2− (3−ピリジル)エテニル]−1
−アザビシク口[3.2.0]ヘプトー2−エンー2−
カルボン酸ナトリウムが得られた。
IR (Nujol): 1750 cm””NMr
(IhO.δ): 1.2B(311,d,J-
71Ix), 2.10 (311,s), 2.81 (31
1, s), 6.48 (III, s), 7.50 (Il
l, s) MS: 364 (M+◆l) Tue 55 1 Ni 1 Last 11 Female Danseed bN By performing substantially the same operation as Example 5-2 (4S, 5R, 6S) - 6 - [ (In) −
1-hydroxyethyl]-4-methyl-7-oxo3-[(E)-2-(3-pyridyl)ethenyl]-1
-Azabishiku mouth [3.2.0] hepto 2-en-2-
Sodium carboxylate was obtained.

TR (Nujol) : 3350, 1740. 
1800 cm−’NMR (D,0,δ)  : 1
.14(311.d.J−8112),1.32(3+
1,d,J−7Hz),3.19−3.64 (2+1
,at).3.94−449 (211,m),6.6
3(Ill,d,J−1611Z). 7.29(II
I,dd,J−4,71lz) .7.63 (II1
.d,J−1611z) ,8.26(01,d,J−
4}1x).8.40(III, br s)(4S,
SR,6S) − 6 − [ (IR) − 1−ヒ
ドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソー3−[(
E)2−(3−ビリジル)エテニル]−1−アザビシク
口[3.2.0]ヘプトー2−エンー2−カルボン酸ア
リル(0.171g)のアセトン(10mlHillJ
液に沃化メチル(0.18ml)を加えた。室温で22
時間攪拌した後、この混合物中に沃化メチル(0.18
ml)を追加し、更に6時間攪拌した。溶媒および過剰
の沃化メチルを減圧留去すると、(4S,SR,5S)
 − 6 −[(IR)−1−ヒドロキシエチル]一4
−メチル−7−才キソー3− [(E)−2− (1−
メチル−3−ビリジニオ)エテニル]−1−アザビシク
口[3.2.0]ヘプトー2−エンー2−カルボン酸ア
リルアイオダイドが得られた(238mg)。
TR (Nujol): 3350, 1740.
1800 cm-'NMR (D, 0, δ): 1
.. 14 (311.d.J-8112), 1.32 (3+
1, d, J-7Hz), 3.19-3.64 (2+1
, at). 3.94-449 (211, m), 6.6
3 (Ill, d, J-1611Z). 7.29 (II
I, dd, J-4, 71lz). 7.63 (II1
.. d, J-1611z) , 8.26 (01, d, J-
4}1x). 8.40 (III, br s) (4S,
SR,6S)-6-[(IR)-1-hydroxyethyl]-4-methyl-7-oxo3-[(
E) Allyl 2-(3-biridyl)ethenyl]-1-azabisic[3.2.0]hept-2-en-2-carboxylate (0.171 g) in acetone (10 ml Hill J
Methyl iodide (0.18 ml) was added to the liquid. 22 at room temperature
After stirring for an hour, methyl iodide (0.18
ml) was added thereto, and the mixture was further stirred for 6 hours. When the solvent and excess methyl iodide are distilled off under reduced pressure, (4S, SR, 5S)
-6-[(IR)-1-hydroxyethyl]-4
-Methyl-7-year-old xo3- [(E)-2- (1-
Methyl-3-viridinio)ethenyl]-1-azabisic[3.2.0]hept-2-ene-2-carboxylic acid allyl iodide was obtained (238 mg).

本品は精製せずに次工程の原料物質として使用した. IR (Nujol) : 3340, 1750. 
1710 cm−’NMn (DMSO−d6,  δ
)  : 1.17(311,d,J−411z), 
1.25(:lH.d,J−511z) ,3.25−
3.45 (IH,m) ,3.45−3.75(il
l,m) ,3.82−4.15 (III,II+)
 ,4.15−4.40 (III,m) ,4.35
 (311,s) ,4.65−4.85 (211,
m) ,5.13−5.60(211,ml .5.7
6−6.23 (III,m) .7.13 (Ill
,d,J−1611z), 7.88(II1,d,J
−161Iz),8.08(III.dd,J−6. 
81121,8.60(III,d,J−8112).
 8.81(lIl,d,JJllz) ,9.12 
(ill,s)実施例7 (4S,5R,6S) − 6 − [ (Ill) 
− 1−ヒドロキシエチル1−4−メチル−7−才キソ
ー3−[(E)2−(1−メチル−3−ピリジニオ)エ
テニル]ー1−アザビシク口[3.2.0]ヘブトー2
−エンー2−カルボン酸アリルアイオダイドのN,N−
ジメチルホルムアミド(10.0ml)溶液に、トリフ
ェニルホスフィン(12.2a+g),テトラキス(ト
リフェニルホスフィン)パラジウム(o)  (5.4
mg)および2ーエチルヘキサンカルボン酸ナトリウム
の酢酸エチル(1.90ml)溶液(0.49M)を加
えた.室温で1時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。
This product was used as a raw material for the next process without being purified. IR (Nujol): 3340, 1750.
1710 cm-'NMn (DMSO-d6, δ
): 1.17 (311, d, J-411z),
1.25 (:lH.d, J-511z), 3.25-
3.45 (IH, m), 3.45-3.75 (il
l, m) , 3.82-4.15 (III, II+)
, 4.15-4.40 (III, m) , 4.35
(311,s) ,4.65-4.85 (211,
m), 5.13-5.60 (211, ml .5.7
6-6.23 (III, m). 7.13 (Ill
, d, J-1611z), 7.88 (II1, d, J
-161Iz), 8.08 (III.dd, J-6.
81121, 8.60 (III, d, J-8112).
8.81 (lIl, d, JJllz) , 9.12
(ill, s) Example 7 (4S, 5R, 6S) - 6 - [ (Ill)
- 1-Hydroxyethyl 1-4-methyl-7-year-old xo-3-[(E)2-(1-methyl-3-pyridinio)ethenyl]-1-azabishikuchi[3.2.0]hebuto2
-N,N- of en-2-carboxylic acid allyl iodide
In a dimethylformamide (10.0 ml) solution, triphenylphosphine (12.2a+g), tetrakis(triphenylphosphine)palladium (o) (5.4
mg) and a solution (0.49M) of sodium 2-ethylhexanecarboxylate in ethyl acetate (1.90ml) were added. After stirring at room temperature for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure.

残漬をブラインと酢酸エチルの混液中に分散せしめ、水
層を分取してジイソプ口ピルエーテルで4回洗浄した後
、減圧下に濃縮した.残漬を非イオン性吸着樹脂「ダイ
ヤイオンHP−20J  (商標、三菱化成工業社製)
 (80ml)充填のカラムクロマトグラフィに展開し
、水(250ml) 、次いで水性アセトン(10−3
0%、350a+1)で溶出した。目的物質を含む両分
を集めて凍結乾燥すると、(45.5R,[+5) −
 6 −[ (In) − 1−ヒドロキシェチル]一
4−メチル−3− [(E)−2− (1−メチル−3
−ピリジニオ)エテニル]−7−オキソ−1−アザビシ
ク口[3.2.01ヘプトー2−エンー2−カルボン酸
が得られた(107mg) .
The residue was dispersed in a mixture of brine and ethyl acetate, and the aqueous layer was separated, washed four times with diisopropyl ether, and then concentrated under reduced pressure. The remaining residue is treated with a non-ionic adsorption resin “Diaion HP-20J (trademark, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.)”
(80 ml) packed column chromatography, water (250 ml) and then aqueous acetone (10-3
0%, eluted at 350a+1). When both parts containing the target substance are collected and lyophilized, (45.5R, [+5) -
6-[(In)-1-hydroxyethyl]-4-methyl-3-[(E)-2-(1-methyl-3
-pyridinio)ethenyl]-7-oxo-1-azabisic[3.2.01 Hept-2-ene-2-carboxylic acid was obtained (107 mg).

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1:カルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基 R^2:ヒドロキシ(低級)アルキル基ま たは保護されたヒドロキシ(低 級)アルキル基 R^3、R^4:夫々同一または異なって水素または低
級アルキル基 R^5:1以上の適当な置換基で置換され ていても良い不飽和複素環式基) で示される3−アルケニル−1−アザビシクロ[3.2
.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸誘導体または
医薬として許容されるその塩。
(1) Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula R^1: Carboxy group or protected carboxy group R^2: Hydroxy (lower) alkyl group or protected hydroxy (lower) alkyl group R ^3, R^4: the same or different hydrogen or lower alkyl group R^5: an unsaturated heterocyclic group optionally substituted with one or more suitable substituents) 3-alkenyl-1 - Azabicyclo [3.2
.. 0] hept-2-ene-2-carboxylic acid derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
(2)下記(a)〜(g)のいずれかに記載した方法に
よって請求項(1)に記載された化合物またはその塩を
製造する方法。 (a)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5は
夫々前と同じ意味を示し、R^6はアリール基または低
級アルコキシ基を意味する) で示される化合物またはその塩を閉環反応に付すことに
より、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5は
夫々前と同じ意味を示す) で示される化合物を製造する方法、 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^2、R^3、R^4およびR^5は夫々前と
同じ意味を示し、R^1_aは保護されたカルボキシ基
を示す) で示される化合物またはその塩を、R^1_aにおける
カルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^2、R^3、R^4およびR^5は夫々前と
同じ意味を示す) で示される化合物またはその塩を製造する方法、(c)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^3、R^4およびR^5は夫々前と
同じ意味を示し、R^2_aは保護されたヒドロキシ(
低級)アルキル基を示す) で示される化合物またはその塩を、R^2_aにおける
ヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^3、R^4およびR^5は夫々前と
同じ意味を示し、R^2_bはヒドロキシ(低級)アル
キル基を示す) で示される化合物またはその塩を製造する方法、(d)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3およびR^4は夫々前と
同じ意味を示し、R^5_aは1以上の保護基で保護さ
れたイミノ残基を1以上含む不飽和複素環式基を示し、
この不飽和複素式基は1以上の適当な置換基で置換され
ていても良い)で示される化合物をR^5_aにおける
イミノ保護基の脱離反応に付すことにより、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3およびR^4は夫々前と
同じ意味を示し、R^5_bは1以上のイミノ残基を含
む不飽和複素環式基を示し、この不飽和複素環式基は1
以上の適当な置換基で置換されていても良い)で示され
る化合物またはその塩を製造する方法、(e)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1_a、R^2、R^3およびR^4は夫々
前と同じ意味を示し、R^5_cは4級窒素原子を含む
不飽和複素環式基を示し、この不飽和複素環式基は1以
上の適当な置換基で置換されていても良い) で示される化合物またはその塩をアルカンイミド化剤と
反応させることにより、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1_a、R^2、R^3およびR^4は夫々
前と同じ意味を示し^+R^5_cは4級窒素原子を含
む不飽和複素環式基を示し、この不飽和複素環式基は1
以上の適当な置換基で置換されていても良い、R^7は
保護されたカルボキシ基、Xは酸残基を示す)で示され
る化合物またはその塩を製造する方法、(f)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5は
夫々前と同じ意味) で示される化合物またはそのヒドロキシ基における反応
性誘導体あるいはその塩を脱水反応に付すことにより、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5は
夫々前と同じ意味を示す) で示される化合物またはその塩で製造する方法、(g)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3およびR^4は夫々前と
同じ意味を示し、R^5_dは保護された低級アルキル
アミノ(低級)アルキルで置換された不飽和複素環式基
を意味する) で示される化合物またはその塩をR^5_dにおけるア
ミノ保護基の脱離反応に付すことにより、式▲数式、化
学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2、R^3およびR^4は夫々前と
同じ意味を示し、R^5_eは低級アルキルアミノ(低
級)アルキルで置換された不飽和複素環式基を示す)で
示される化合物またはその塩を製造する方法。
(2) A method for producing the compound described in claim (1) or a salt thereof by the method described in any one of the following (a) to (g). (a) Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before, and R^6 is aryl. or a lower alkoxy group) or its salt is subjected to a ring-closing reaction, formulas ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula R^1, R^2, R^3, (R^4 and R^5 each have the same meaning as before) Method for manufacturing the compound represented by (b) Formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R^2, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before, R^1_a represents a protected carboxy group) or a salt thereof is subjected to an elimination reaction of the carboxy protecting group in R^1_a Therefore, a compound represented by the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula, R^2, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as above) (c)
Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before, and R^2_a is a protected hydroxy (
By subjecting a compound represented by (lower) alkyl group) or its salt to the elimination reaction of the hydroxy protecting group at R^2_a, the formula ▲mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (in the formula R^1, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before, and R^2_b represents a hydroxy (lower) alkyl group) A method for producing a compound or a salt thereof, (d)
Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 each have the same meaning as before, and R^5_a is protected with one or more protecting groups. represents an unsaturated heterocyclic group containing one or more imino residues,
This unsaturated heterogroup may be substituted with one or more suitable substituents) by subjecting the compound represented by the formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 each have the same meaning as before, and R^5_b represents an unsaturated heterocyclic group containing one or more imino residues. and this unsaturated heterocyclic group is 1
A method for producing a compound or a salt thereof (which may be substituted with an appropriate substituent as mentioned above), formula (e) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula R^1_a, R^2 , R^3 and R^4 each have the same meaning as before, R^5_c represents an unsaturated heterocyclic group containing a quaternary nitrogen atom, and this unsaturated heterocyclic group has one or more suitable substituents. By reacting a compound represented by (which may be substituted with a group) or a salt thereof with an alkanimidizing agent, the formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (in the formula R^1_a, R^2, R ^3 and R^4 each have the same meaning as before, and ^+R^5_c represents an unsaturated heterocyclic group containing a quaternary nitrogen atom, and this unsaturated heterocyclic group has 1
(f) Formula ▲ Formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before) or its reactive derivative in the hydroxy group, or By subjecting the salt to a dehydration reaction,
A compound represented by the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 and R^5 each have the same meaning as before) (g) method of manufacturing;
Formula▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 each have the same meaning as before, and R^5_d is a protected lower alkylamino (lower ) means an unsaturated heterocyclic group substituted with alkyl) By subjecting the compound represented by or its salt to the elimination reaction of the amino protecting group in R^5_d, the formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 each have the same meaning as before, and R^5_e represents an unsaturated heterocyclic group substituted with lower alkylamino (lower) alkyl. A method for producing a compound shown in (shown) or a salt thereof.
(3)請求項(1)に記載された化合物または医薬とし
て許容されるその塩を活性成分とし、これに医薬として
許される担体または賦形剤を配合したものである抗菌性
薬剤。
(3) An antibacterial drug comprising the compound according to claim (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient, and a pharmaceutically acceptable carrier or excipient added thereto.
JP2109966A 1989-04-24 1990-04-24 3-alkenyl-1-azabicyclo(3.2.0)hepto-2-ene-2-carboxylic acid derivative and its production and antifungal medicine containing same Pending JPH02289571A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993016080A1 (en) * 1992-02-06 1993-08-19 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. Novel carbapenem derivative
KR100351660B1 (en) * 2000-07-14 2002-09-05 한국화학연구원 2-arylethenyl carbapenem derivatives and a process for the preparation thereof

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993016080A1 (en) * 1992-02-06 1993-08-19 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. Novel carbapenem derivative
KR100351660B1 (en) * 2000-07-14 2002-09-05 한국화학연구원 2-arylethenyl carbapenem derivatives and a process for the preparation thereof

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