JPH02275736A - Production of optical fiber of hermetic coating - Google Patents
Production of optical fiber of hermetic coatingInfo
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- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1062—Carbon
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、光ファイバ表面にカーボンまたはカーボン化
合物（ＳｉＣ、ＴｉＣ等）から成るハーメチック被覆を
被覆したハーメチック被覆光ファイバを得るための方法
に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method for obtaining a hermetic coated optical fiber in which the surface of the optical fiber is coated with a hermetic coat made of carbon or a carbon compound (SiC, TiC, etc.).
最近、第４図に示すように、コア３ａ、クラッド３ｂよ
りなる光ファイバ３の表面にカーボンまたはカーボン化
合物からなる被覆３０（以下ハーメチック被覆という）
を設け、外部から光ファイバの内部へ１１□０やＨ２が
侵入するのを防止する、いわゆるハーメチック被覆光フ
ァイバ４０と称されるものが提案されている。Recently, as shown in FIG. 4, a coating 30 (hereinafter referred to as a hermetic coating) made of carbon or a carbon compound is coated on the surface of an optical fiber 3 consisting of a core 3a and a cladding 3b.
A so-called hermetic coated optical fiber 40 has been proposed in which a hermetic coating is provided to prevent 11□0 and H2 from entering from the outside into the inside of the optical fiber.
このハーメチック被覆光ファイバ４０の特徴は、前記外
部からの１１ｔｏやＯＸの侵入を防止でき、その結果耐
水素特性が向上するだけでなく、光ファイバの動疲労特
性も向上することが見出され、現在その製造をいかにし
て安定に、かつ効率良く行うか検討が急がれている。The characteristics of this hermetic coated optical fiber 40 are that it can prevent the intrusion of 11to and OX from the outside, and as a result, it has been found that not only the hydrogen resistance properties are improved, but also the dynamic fatigue properties of the optical fiber are improved. Currently, there is an urgent need to consider how to manufacture it stably and efficiently.
第１図は従来検討されているハーメチック被覆光ファイ
バ４０の製造方法を示すものである。これは光ファイバ
用母材１を線引炉２に導入してコア３ａ、クラッド３ｂ
を有する光ファイバ３と成し、これを熱ＣＶＤ用の反応
炉５に導く、この反応炉５の外側にはヒータ６が配置さ
れていて、該ヒータ６により反応炉５内には加熱ゾーン
７が設定されている。符号８はハーメチック被覆用の原
料ガス導入口で、ここから原料ガス、例えばメタン、エ
タン、エチレン、アセチレン、プロパン、ブタン等の炭
化水素ガスが、これに通常添加されるＮ２ガスと共に反
応炉５内へと供給される。また符号９はガスの排気口を
示し、符号１０Ａ、 ＩＯＢはそれぞれ前記反応炉５の
両端部を示し、ここにはシールガス導入口１１Ａ 、Ｉ
ＩＢが設けられていて、反応炉５内への外気の導入を防
ぐため前記導入口１１Ａ、１１Ｂを介してシールガス、
例えば不活性ガスであるＮ２が供給されている。FIG. 1 shows a method of manufacturing a hermetic coated optical fiber 40 that has been considered in the past. In this process, the optical fiber preform 1 is introduced into the drawing furnace 2, and the core 3a and cladding 3b are drawn.
A heater 6 is disposed outside the reactor 5, and a heating zone 7 is formed inside the reactor 5 by the heater 6. is set. Reference numeral 8 denotes a raw material gas inlet for hermetic coating, through which raw material gas, for example, hydrocarbon gas such as methane, ethane, ethylene, acetylene, propane, butane, etc., is introduced into the reactor 5 together with N2 gas, which is usually added thereto. supplied to. Further, reference numeral 9 indicates a gas exhaust port, and reference numerals 10A and IOB indicate both ends of the reactor 5, including seal gas inlets 11A and IOB.
IB is provided, and in order to prevent outside air from being introduced into the reactor 5, seal gas,
For example, N2, which is an inert gas, is supplied.
このようにして成る反応炉５内に導かれた光ファイバ３
の表面には、前記原料ガスの熱分解によりカーボンが生
成され、これが気相化学反応により光ファイバ３の表面
上に堆積し、第４図に示すようなバーメチツク被覆３０
が形成される。図中の符号４は外径測定器で、この値に
より線引速度や光ファイバ用母材１の送り速度が調整さ
れ光ファイバ３の外径が一定になるように制御される。Optical fiber 3 guided into reactor 5 constructed in this way
Carbon is generated on the surface of the optical fiber 3 by thermal decomposition of the raw material gas, and this carbon is deposited on the surface of the optical fiber 3 by a gas phase chemical reaction, forming a vermetic coating 30 as shown in FIG.
is formed. Reference numeral 4 in the figure is an outer diameter measuring device, and the drawing speed and the feeding speed of the optical fiber preform 1 are adjusted based on this value, and the outer diameter of the optical fiber 3 is controlled to be constant.
尚、ＳｉＣ、ＴｉＣからなるハーメチック被覆３０を形
成しようとする場合は、炭化水素ガスにＳ ｉ Ｉｔ
ａやＴｉＣＩａ等を添加すればよい。以下前述した一連
の方法を熱ＣＶＤ法と称す。In addition, when trying to form the hermetic coating 30 made of SiC or TiC, Si It is added to the hydrocarbon gas.
What is necessary is to add a, TiCIa, etc. Hereinafter, the series of methods described above will be referred to as a thermal CVD method.
このようにして得られたハーメチック被覆光ファイバ４
０の外側には通常の方法でプラスチック被覆が形成され
る。例えば紫外線硬化性樹脂を塗布装置１２でハーメチ
ック被覆光ファイバ４０上に塗布し、これを紫外線照射
炉等の硬化炉１３により硬化せしめ、巻取機１４で巻き
取る。ここで塗布する樹脂として熱硬化性樹脂や熱可塑
性樹脂も使用でき、熱硬化性樹脂を使用する場合であれ
ば、前記硬化炉１３として加熱炉を配すればよい。Hermetically coated optical fiber 4 thus obtained
A plastic coating is applied to the outside of the 0 in the usual manner. For example, an ultraviolet curable resin is applied onto the hermetic coated optical fiber 40 using a coating device 12, cured using a curing furnace 13 such as an ultraviolet irradiation furnace, and wound up using a winder 14. A thermosetting resin or a thermoplastic resin can also be used as the resin to be applied here, and if a thermosetting resin is used, a heating furnace may be provided as the curing furnace 13.
ところが前述した従来の方法では、反応炉５に対してヒ
ータ６により熱を供給しているため、原料ガスの分解反
応は反応炉５の中央部よりもヒータ６に近い炉の内壁部
でより急速に進む。つまり光ファイバ３の表面近傍では
分解反応は必ずしも速くない。加えて内壁部で分解反応
が促進され、その結果生じたスス状の粒子は、ヒータ６
からの熱が炉中央部へ到達するのを遮断するため、−層
光ファイバ３の表面では分解反応が進まない。さらにま
たシールガス導入口１１＾、１１Ｂから供給されるＮ２
ガスは走行する光ファイバ３の表面に沿って流れ易いた
め、光ファイバ３表面への熱の伝達や光ファイバ３の表
面と原料ガスとの接触を妨げている。However, in the conventional method described above, heat is supplied to the reactor 5 by the heater 6, so the decomposition reaction of the raw material gas occurs more rapidly on the inner wall of the reactor 5 near the heater 6 than in the center of the reactor 5. Proceed to. In other words, the decomposition reaction is not necessarily fast near the surface of the optical fiber 3. In addition, the decomposition reaction is promoted on the inner wall, and the resulting soot-like particles are transferred to the heater 6.
The decomposition reaction does not proceed on the surface of the negative layer optical fiber 3 because the heat from the furnace is blocked from reaching the center of the furnace. Furthermore, N2 is supplied from the seal gas inlets 11^ and 11B.
Since the gas tends to flow along the surface of the optical fiber 3 as it travels, it prevents heat from being transferred to the surface of the optical fiber 3 and contact between the surface of the optical fiber 3 and the source gas.
このような種々の要因により光ファイバ３の表面ではハ
ーメチック被覆３０の形成速度が遅くなり、この速度を
実用レベルまで速くすることができなかった。またこの
ように低速で行っていると、反応炉５内が前述したスス
状粒子のため汚れ、結果的には炉内の条件が経時的に変
化するため長尺のハーメチック被覆光ファイバ４０を得
ることができないという問題もあった。Due to these various factors, the speed at which the hermetic coating 30 is formed on the surface of the optical fiber 3 is slow, and this speed cannot be increased to a practical level. Furthermore, if the process is carried out at such a low speed, the inside of the reactor 5 will be contaminated by the soot-like particles mentioned above, and as a result, the conditions inside the furnace will change over time, resulting in a long hermetic coated optical fiber 40. There was also the problem of not being able to do so.
前記問題に鑑み本発明の目的は、光ファイバ上にハーメ
チック被覆を安定して施すことができ、もって長尺のハ
ーメチック被覆光ファイバを得ることのできる方法を提
供することにある。In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a method that can stably apply a hermetic coating on an optical fiber, thereby making it possible to obtain a long hermetic-coated optical fiber.
前記目的を達成すべく本発明は、光ファイバ用母材から
光ファイバを線引し、しかる後に該光ファイバを熱ＣＶ
Ｄ用反応炉内を通過せしめ、その表面上に熱ＣＶＤ法に
よりカーボンまたはカーボン化合物からなるハーメチッ
ク被覆を施すノλ−メチ・ンク被覆光ファイバの製造方
法において、前記熱ＣｖＤ用反応炉内り供給する原料ガ
スの希釈用ガス及び前記反応炉を外気に対してシールす
るためのシール用ガスの少な（とも一方をヘリウムにす
ることを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention involves drawing an optical fiber from an optical fiber preform, and then subjecting the optical fiber to thermal CVD.
In the method for producing a λ-methane coated optical fiber, the fiber is passed through a reactor for thermal CVD, and a hermetic coating made of carbon or a carbon compound is applied on the surface thereof by a thermal CVD method. A gas for diluting the raw material gas to be reacted and a sealing gas for sealing the reactor from the outside air (one of which is characterized by using helium).
以下に本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。本発明の特徴は、前述した第１図において、原料ガス
供給口８から供給する原料ガスの希釈用ガス及び反応炉
５を外気に対してシールするためにシールガス導入口１
１Ａ 、ｔｉｌｌから供給するシールガスの少なくとも
一方を、拡散速度が速く、しかも熱伝導性の良いヘリウ
ムにする点にある。Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. The feature of the present invention is that, in FIG.
1A, at least one of the seal gases supplied from the till is helium, which has a fast diffusion rate and good thermal conductivity.
このようにヘリウムを使用すると、このガスは拡散速度
が速いため、光ファイバ３の表面から直ちに拡散し、そ
の結果原料ガスと光ファイバ３の表面との接触を妨げる
ことがない。一方外部のヒータ６から与えられた熱に対
しては、ヘリウムの熱伝導性の良さから、核熱を光ファ
イバ３表面まで効率良く伝達するという効果もある。When helium is used in this manner, since this gas has a high diffusion rate, it immediately diffuses from the surface of the optical fiber 3, and as a result, contact between the source gas and the surface of the optical fiber 3 is not hindered. On the other hand, with respect to the heat applied from the external heater 6, helium has the effect of efficiently transmitting nuclear heat to the surface of the optical fiber 3 due to its good thermal conductivity.
以上の結果ヘリウムを使用することによって光ファイバ
３表面と原料ガスとの接触も良くなり、かつまたヒータ
６からの熱も光ファイバ３の表面に伝わり易くなるため
、光ファイバ３表面近傍での原料ガスの熱分解量及びそ
の速度が上がり、もって光ファイバ３表面へのハーメチ
ック被覆３０の形成速度が非常に速くなる。As a result of the above, by using helium, the contact between the surface of the optical fiber 3 and the raw material gas is improved, and the heat from the heater 6 is also more easily transmitted to the surface of the optical fiber 3, so that the raw material gas near the surface of the optical fiber 3 is improved. The amount and rate of thermal decomposition of the gas increases, and as a result, the rate of formation of the hermetic coating 30 on the surface of the optical fiber 3 becomes extremely fast.
以下に本発明の実施例を比較例と共に示す。尚、使用し
た装置は前述した第１図に示すものである。Examples of the present invention are shown below along with comparative examples. The apparatus used is the one shown in FIG. 1 mentioned above.
使用した原料ガスはアセチレン（ＣＪｔ）ガスであるが
、もちろんこの他に前述したメタン、エタン、エチレン
、プロパン、ブタン等の炭化水素ガスあるいはこれらに
Ｓｉｎ、やＴｉＣＩｎ等を添加したものも使用できる。The raw material gas used is acetylene (CJt) gas, but in addition to this gas, hydrocarbon gases such as the aforementioned methane, ethane, ethylene, propane, and butane, or those to which Sin, TiCIn, etc. are added can also be used.
また実験では原料ガスであるＣＪｚガスの希釈用ガスと
してヘリウム（Ｉｔｓ）及びＮ２を使用した。そして各
々の条件で形成されたカーボン製のハーメチック被覆３
０の厚さ （入）は、ハーメチック被覆光ファイバ４０
を切断し、ハーメチック被覆光ファイバ４０上の樹脂被
覆を除去した後、その断面を電子顕微鏡にて測定して得
られた測定値と、ハーメチック被覆３０を燃焼させて、
これにより発生した一酸化炭素の重量から推定した値の
両方を参考にして決定した。In addition, in the experiment, helium (Its) and N2 were used as gases for diluting CJz gas, which is a raw material gas. And carbon hermetic coating 3 formed under each condition.
Thickness of 0 (in) is hermetic coated optical fiber 40
After cutting and removing the resin coating on the hermetic coated optical fiber 40, the cross section was measured using an electron microscope and the hermetic coating 30 was burned.
The value was determined by referring to both the values estimated from the weight of carbon monoxide generated as a result.
以上の結果を本発明の実施例は表−１に、比較例は表−
２に記載した。ここで実施例Ｎは実−Ｎ、比較例Ｎは比
−Ｎと示した。またシールＡとはシールガス導入口１１
Ａから導入したシールガスを意味し、シールＢはシール
ガス導入口１１Ｂから導入したシールガスを示している
。The above results are shown in Table 1 for Examples of the present invention and Table 1 for Comparative Examples.
2. Here, Example N is shown as Actual-N, and Comparative Example N is shown as Ratio-N. Seal A means seal gas inlet 11.
Seal B means the seal gas introduced from A, and seal B indicates the seal gas introduced from the seal gas inlet 11B.
反応炉内温度（°Ｃ）
ＣＪｚｉｔ （ｌ／ｍ１ｎ）
希釈ガス（種類）
世（ｆ／ｍ１ｎ）
シールＡ（種類）
〃 量（ｊ２／ｍ１ｎ）
シールＢ（種類）
量（ｌ／ｍ１ｎ）
反応炉内圧力（ｍｍｌ１２０）
線速（ｍ／ｍ１ｎ）
カーボン膜Ｉ￥（人）
製造可能時間（ｈｒ）
製造長さ （ｋｍ）
表−２
比−１比−２
反応炉内温度（”Ｃ） ９５０ ９５０ｃ
ｚｕｄｉｔ （ｆｆｉ／ｍ１ｎ） ２．０
２．０希釈ガス（種類） Ｎ２
Ｎ２量（ｆ ／ｗｉｎ） １．０ １．
０シールＡ（種類） Ｎｚ ＮｔＮ
（ｉ！／ｍ１ｎ） ２．０ ２．０シー
ルＢ（種類） Ｎｚ Ｎｚ量（Ｉ！
、／ｍ１ｎ） ２．０ ２．０反応炉内圧
力（ｍｍＨｚｏ） −１，０−１，０線速（ｍ／ｍ１
ｎ） １２０ １０カーボン膜厚（入） ＜
１００ ４００製造可能時間（ｈｒ） １．
３ １．３製造長さ （ｋｍ） ９．５
０．８この表−２において比−１でカーボン膜
厚、すなわちハーメチック被覆厚さが＜１００となって
いるのは、電子顕微鏡で測定できる測定限界である１０
０Å以下であったことを示している。Temperature inside the reactor (°C) CJzit (l/m1n) Diluent gas (type) World (f/m1n) Seal A (type) 〃 Quantity (j2/m1n) Seal B (type) Quantity (l/m1n) Reactor Internal pressure (mml120) Linear speed (m/m1n) Carbon film I ¥ (person) Manufacturing time (hr) Manufacturing length (km) Table-2 Ratio-1 Ratio-2 Reactor internal temperature (''C) 950 950c
zudit (ffi/m1n) 2.0
2.0 dilution gas (type) N2
N2 amount (f/win) 1.0 1.
0 seal A (type) Nz NtN
(i!/m1n) 2.0 2.0 Seal B (type) Nz Nz amount (I!
,/m1n) 2.0 2.0 Reactor pressure (mmHzo) -1,0-1,0 Linear speed (m/m1
n) 120 10 Carbon film thickness (included) <
100 400 Manufacturing time (hr) 1.
3 1.3 Manufacturing length (km) 9.5
0.8 In Table 2, the carbon film thickness, that is, the hermetic coating thickness, is <100 at a ratio of -1, which is the measurement limit that can be measured with an electron microscope.
It shows that it was 0 Å or less.
上記表−１、表−２が示す如く、希釈ガス及びシールガ
スの両方にＨｅガスを使用した実施例１では最も効率良
くハーメチック被覆を形成できることが判る。As shown in Tables 1 and 2 above, it can be seen that the hermetic coating can be formed most efficiently in Example 1 in which He gas was used as both the diluting gas and the sealing gas.
逆に両方ともＮ２ガスを使用した比較例の場合、線速を
１０ｍ／ｍｉｎ と下げれば４００人程０の膜厚のもの
が得られるが、長尺のものは得られず、また線速を通常
線速である１２０ｍ／ｍｉｎに上げると、１００Å以上
の厚さのものが形成できなかった。すなわち、線速１２
０ｍ／ｍｉｎでは耐水素特性を満足させるために必要と
されている３００人厚０ハーメチック被覆を形成できな
かった。On the other hand, in the case of a comparative example in which N2 gas was used in both cases, if the linear speed was lowered to 10 m/min, a film thickness of about 400 mm/min could be obtained, but a long film could not be obtained, and the linear speed was lowered to 10 m/min. When the linear speed was increased to 120 m/min, which is the normal linear speed, it was not possible to form a film with a thickness of 100 Å or more. That is, linear velocity 12
At 0 m/min, it was not possible to form a hermetic coating with a thickness of 300 mm, which is required to satisfy hydrogen resistance properties.
以上の実験では、比較的低温で分解するＣｔＨｚガスを
使用したがエチレンを使用しても同様に高速でハーメチ
ック被覆を形成できる。但しエチレンの場合は、アセチ
レン（ｃｔｕｚ）よりもその分解温度が高いので、反応
炉内温度はアセチレンの場合よりも１００〜１５０ ’
Ｃ程度、より高めに設定する必要がある。In the above experiments, CtHz gas, which decomposes at a relatively low temperature, was used, but a hermetic coating can be formed at a similar high speed even if ethylene is used. However, in the case of ethylene, its decomposition temperature is higher than that of acetylene (ctuz), so the temperature inside the reactor is 100 to 150' higher than that of acetylene.
It is necessary to set it higher, around C.
また前述のように種々の炭化水素ガスが原料ガスとして
使用できるが、二重結合や三重結合を持つエチレンやア
セチレンはより有効であり、これらとヘリウムの組合せ
が最も効果的である。Further, as mentioned above, various hydrocarbon gases can be used as the raw material gas, but ethylene and acetylene having double bonds or triple bonds are more effective, and the combination of these and helium is the most effective.
尚、前記実験で得られた実施例１と比較例１の各ハーメ
チック被覆光ファイバについて、その動疲労特性と水素
雰囲気内での熱処理後のロススペクトルを測定した。各
々の結果を第２図、第３図に示す。これらの図で実線が
実施例１を、点線が比較例１を示している。For each of the hermetically coated optical fibers of Example 1 and Comparative Example 1 obtained in the above experiment, their dynamic fatigue characteristics and loss spectra after heat treatment in a hydrogen atmosphere were measured. The results are shown in FIGS. 2 and 3. In these figures, the solid line indicates Example 1, and the dotted line indicates Comparative Example 1.
前者の勤疲労特性は、室温２５°Ｃ２湿度５０％、サン
プル数ｎ＝２０、サンプル長は４０ｃｍで引張速度は５
００ ｍｍ／ｍｉｎでの測定結果である。The fatigue characteristics of the former are as follows: room temperature 25°C2 humidity 50%, number of samples n=20, sample length 40cm, tensile speed 5
These are the measurement results at 00 mm/min.
また後者のロススペクトルは、１００％水素雰囲気、７
５°Ｃ１Ｉａｔｍの条件下にサンプルを２４時間晒した
後、測定した結果である。The latter loss spectrum is 100% hydrogen atmosphere, 7
These are the results of measurement after exposing the sample to 5°C1Iatm for 24 hours.
前記第２図、第３図が示すように、本発明による実施例
１のものは動疲労特性を示すｎ値も１８０と高く、また
水素雰囲気内での処理後も、はとんど水素による伝送ロ
スの増加が認められない。As shown in FIGS. 2 and 3, the n value of Example 1 according to the present invention, which indicates dynamic fatigue characteristics, is as high as 180, and even after treatment in a hydrogen atmosphere, it is almost impossible to maintain the strength due to hydrogen. No increase in transmission loss was observed.
これに対して従来の方法による比較例１のものでは、ｎ
値は２０と低く、しかも水素による伝送ロスの増加が著
しい。On the other hand, in Comparative Example 1 using the conventional method, n
The value is as low as 20, and the increase in transmission loss due to hydrogen is significant.
以上の如く本発明の方法によれば、所望膜厚を有する長
尺のハーメチック被覆光ファイバを安定して得ることが
できる。As described above, according to the method of the present invention, a long hermetic coated optical fiber having a desired thickness can be stably obtained.
第１図はハーメチック被覆光ファイバの製造方法の一例
を示す概略図、第２図、第３図は本発明により得られた
ハーメチック被覆光ファイバと従来法で得られたハーメ
チック被覆光ファイバのそれぞれの動疲労特性及び水素
雰囲気に晒した後のロススペクトルを示すグラフ、第４
図はハーメチック被覆光ファイバの一例を示す横断面図
である。
１〜光ファイバ用母材 ２〜線引炉 ３〜光ファイバ
５〜反応炉 ６〜ヒータ ８〜原料ガス導入口 １１Ａ
、ＩＩＢ〜シールガス導入口特許出願人 古河電
気工業株式会社第１図
−１，０
１，０
２，０
第
図
波
長
（ｐｍ）
第
図
第
図FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a method for manufacturing a hermetic coated optical fiber, and FIGS. 2 and 3 are diagrams showing a hermetic coated optical fiber obtained by the present invention and a hermetic coated optical fiber obtained by a conventional method, respectively. Graph showing dynamic fatigue characteristics and loss spectrum after exposure to hydrogen atmosphere, 4th
The figure is a cross-sectional view showing an example of a hermetic coated optical fiber. 1 - Base material for optical fiber 2 - Drawing furnace 3 - Optical fiber
5 ~ Reactor 6 ~ Heater 8 ~ Raw material gas inlet 11A
, IIB ~ Seal gas inlet Patent applicant Furukawa Electric Co., Ltd. Figure 1 - 1,0 1,0 2,0 Figure Wavelength (pm) Figure Figure
Claims (1)
該光ファイバを熱ＣＶＤ用反応炉内を通過せしめ、その
表面上に熱ＣＶＤ法によりカーボンまたはカーボン化合
物からなるハーメチック被覆を施すハーメチック被覆光
ファイバの製造方法において、前記熱ＣＶＤ用反応炉内
へ供給する原料ガスの希釈用ガス及び前記反応炉を外気
に対するシールするためのシール用ガスの少なくとも一
方をヘリウムにすることを特徴とするハーメチック被覆
光ファイバの製造方法。Hermetic coating light, in which an optical fiber is drawn from an optical fiber base material, the optical fiber is then passed through a thermal CVD reactor, and a hermetic coating made of carbon or a carbon compound is applied onto the surface of the optical fiber by thermal CVD. A hermetic coating in the fiber manufacturing method, characterized in that at least one of the gas for diluting the raw material gas supplied into the thermal CVD reactor and the sealing gas for sealing the reactor from the outside air is helium. Method of manufacturing optical fiber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1094582A JPH02275736A (en) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | Production of optical fiber of hermetic coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1094582A JPH02275736A (en) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | Production of optical fiber of hermetic coating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275736A true JPH02275736A (en) | 1990-11-09 |
Family
ID=14114271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1094582A Pending JPH02275736A (en) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | Production of optical fiber of hermetic coating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02275736A (en) |
-
1989
- 1989-04-14 JP JP1094582A patent/JPH02275736A/en active Pending
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