JPH02275686A - Gas discharge laser - Google Patents

Gas discharge laser

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JPH02275686A
JPH02275686A JP25506889A JP25506889A JPH02275686A JP H02275686 A JPH02275686 A JP H02275686A JP 25506889 A JP25506889 A JP 25506889A JP 25506889 A JP25506889 A JP 25506889A JP H02275686 A JPH02275686 A JP H02275686A
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JP
Japan
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gas discharge
frame
discharge chamber
laser
support bases
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Application number
JP25506889A
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Japanese (ja)
Inventor
Esterlin Peter
ペーター エルステルリン
Beumler Jurgen
ユルゲル ボイムラー
Friedrichs Reiner
ライナー フリードリッヒス
Hinz Burkhard
ブルクハルト ヒンツ
Kaareruto Hans-Juergen
ハンス―ユルゲン カーレルト
Bernd Mehmke
ベルント メームケ
Rosenprenter Bernd
ベルント ローゼンプレンター
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Lambda Physik Forschungs & Entwickl GmbH
Original Assignee
Lambda Physik Forschungs & Entwickl GmbH
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

PURPOSE: To freely detach respectively elements in a frame by detaching a side plate and to facilitate maintenance, repair, and adjustment by mounting optical elements on support bases provided on both the sides of a gas discharge chamber through vibration stopper members in a frame which contains those elements and gas discharge chamber. CONSTITUTION: The two support bases 52 and 54 for the optical elements are supported individually on lateral support bases 46 and 46' to the vibration stopper members 56 and 56' by the frame, i.e., independently of a housing 16 containing the gas discharge chamber supported individually by providing vibration stoppers on the lateral support bases 48 and 48'. Consequently, relative adjustment between the support bases 52 and 54 can be secured so that they can accurately be reproduced on those support bases without spoiling adjustment of a laser device including repair that will possibly be needed for the gas discharge chamber by making the side plate 50 detachable. Consequently, the operation and adjustment are facilitated and a beam from a laser system can be taken out for a long period.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ガス放電室と、レーザー共振器を形成する
光学要素とを配設したフレームを有するガス放電レーザ
ーに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a gas discharge laser having a frame in which a gas discharge chamber and an optical element forming a laser resonator are arranged.

[従来の技術] 産業用のガス放電レーザーは、長時間に亘って所望のパ
ワーを持ったレーザービームな供給し、確実に作動し、
さらに保守が容易で、調整が簡易かつ安全で、しかも調
整のためにアクセスが容易であることが必要である。
[Prior Art] Industrial gas discharge lasers supply a laser beam with the desired power over a long period of time, operate reliably,
Furthermore, it is necessary that maintenance is easy, that adjustment is simple and safe, and that access for adjustment is easy.

[発明が解決しようとする課題] この発明は、上記の点に関し、ガス放電レーザー装置の
改良を提案している。さらに、この発明は、ガス放電レ
ーザー、特にエキシマレーザ−装置において、操作およ
び調整が簡易で、しかもレーザー系からのビームを長い
間取り出せる用に改良する課題に対してなされている。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention proposes improvements to gas discharge laser devices in relation to the above points. Furthermore, the present invention addresses the problem of improving a gas discharge laser, particularly an excimer laser, in such a way that it is easy to operate and adjust, and the beam from the laser system can be extracted for a long period of time.

[課題が解決するための手段および作用]この発明によ
れば、上記課題はフレームに対して支持されると共に、
相互にかたく結合される光学要素用支持台を、ガス放電
室の各側においてレーザービームの方向に設けることに
よって解決している。
[Means and effects for solving the problem] According to the present invention, the above problem is achieved by supporting the frame, and
The solution is to provide supports for the optical elements that are rigidly connected to each other in the direction of the laser beam on each side of the gas discharge chamber.

従って、この発明はレーザービームを伸長したレーザー
装置の一側面または他の側面から光学的に導き出せるよ
うに、ガス放電レーザー装置、特にエキシマレーザ−装
置を少数の操作でリセットできるようにする。
The invention therefore allows gas discharge laser devices, particularly excimer laser devices, to be reset with a small number of operations so that the laser beam can be optically guided from one side or the other of the elongated laser device.

この発明によれば、互いにかたく結合されると共に、レ
ーザー共振器を形成しビーム特性を左右する光学要素を
取付ける支持台を、ガス放電室の両側にそれぞれ設ける
。すなわち、光学要素はそれぞれ支持台に装着されてい
る。レーザービームの方向を逆にするときには、支持台
上の光学要素を交替させるだけでよい。これにはモジュ
ールによって行う。ガス放電室の両側に配設された支持
台は、この支持台上の光学要素を交替させたときにおい
ても互いにかたく結合し得るので、調整は根本的に維持
される。
According to the invention, supports are provided on each side of the gas discharge chamber, which are rigidly coupled to each other and on which are mounted the optical elements that form the laser resonator and influence the beam characteristics. That is, the optical elements are each mounted on a support. When reversing the direction of the laser beam, it is only necessary to change the optical elements on the support. This is done through modules. The supports arranged on both sides of the gas discharge chamber can be firmly connected to each other even when the optical elements on these supports are replaced, so that the adjustment is essentially maintained.

さらにこの発明の好適な改良として、上記の支持台とこ
の支持台上に配設した光学要素とを内蔵した電磁遮蔽ハ
ウジングによってガス放電室を取り囲んでいる。このよ
うに、外部薄板ケーシングとは別に、レーザー装置には
、電磁妨害放射の主な源とみなされるガス放電室用の内
部遮蔽が追加されている。従って、この発明によると、
レーザー自体のフレーム内部で妨害放射が遮蔽されてい
るので、レーザーのその他の構成部分、とくに電子制御
ユニット等は電磁妨害放射から保護されている。
A further advantageous refinement of the invention is that the gas discharge chamber is surrounded by an electromagnetically shielded housing containing the above-mentioned support and the optical element arranged on the support. Thus, apart from the external sheet metal casing, the laser device has an additional internal shielding for the gas discharge chamber, which is considered the main source of electromagnetic interference radiation. Therefore, according to this invention,
Other components of the laser, in particular the electronic control unit, etc., are protected from electromagnetic interference radiation, as interference radiation is shielded within the frame of the laser itself.

この発明によるガス放電レーザー装置のさらに好適な改
良として、ガス放電室および光学要素用支持台が、それ
ぞれの振れ止め手段によってそれぞれが互いに別個にフ
レーム上に支持されている。
In a further advantageous refinement of the gas discharge laser device according to the invention, the gas discharge chamber and the support for the optical element are each supported separately from one another on the frame by respective steady rest means.

この発明の別の改良として、支持台間をかたく結合する
ために、フレームの外側においてレーザービームの方向
に平行に伸びると共に支持台に装着自在に固定される側
板が設けである。ガス放電レーザー装置の上記改良によ
って、光学要素の調整を妨げることなくガス放電室の修
理または交替が可能となる。すなわちガス放電室を交替
させた後、レーザー共振器を形成すると共にレーザービ
ームを限定する光学要素は、−1i19に再調整を必要
とする。
Another refinement of the invention is the provision of side plates extending parallel to the direction of the laser beam on the outside of the frame and attachably fixed to the supports in order to provide a rigid connection between the supports. The above-mentioned improvements in the gas discharge laser device make it possible to repair or replace the gas discharge chamber without disturbing the adjustment of the optical elements. That is, after changing the gas discharge chamber, the optical elements forming the laser resonator and confining the laser beam need to be readjusted to -1i19.

[実 施 例] 以下添付図面につき、この発明の詳細な説明する。[Example] The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

第1図は、この発明の実施例のエキシマレーザ−装置1
0の全体構成を示す斜視図である。このようなレーザー
の構造および作動は、公知であって、さらに説明をする
必要はない。レーザー装置10は、断面中空のフレーム
12を有し、このフレーム内にレーザーの個々の構成部
分が収容されている。フレーム12は、縁部材による伸
長平行六面体を形成している。レーザービームの軸線は
参照番号14で示す。
FIG. 1 shows an excimer laser device 1 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing the overall configuration of 0. The structure and operation of such lasers are well known and need no further explanation. The laser device 10 has a cross-section hollow frame 12 in which the individual components of the laser are accommodated. The frame 12 forms an elongated parallelepiped with edge members. The axis of the laser beam is indicated by reference numeral 14.

レーザービームは、ハウジング16内に配設したガス放
電室内で、公知の方法で発生されるので詳細に図示する
必要はない。ガス放電室および関連構成部分も公知のも
のである。ハウジング16は、導電材料からなり、従っ
てガス放電室および関連した電気構成部分を完全に電磁
遮蔽する。
The laser beam is generated in a known manner in a gas discharge chamber arranged in the housing 16 and does not need to be illustrated in detail. Gas discharge chambers and related components are also known. The housing 16 is made of electrically conductive material and therefore provides complete electromagnetic shielding of the gas discharge chamber and associated electrical components.

フレーム12は、全体に金属被覆18が施されている。The frame 12 is entirely coated with a metal coating 18.

平行六面体フレーム12の1つの長平方向側面には複数
のドア20が設けである。保守。
A plurality of doors 20 are provided on one long side surface of the parallelepiped frame 12. Maintenance.

修理および調整作業のために、レーザー装置のすべての
組立部は、ドア20を設けた側部でアクセスが可能であ
る。レーザー装置10には、公知のように空気供給口2
2および空気排出口24が設けである。
For repair and adjustment operations, all assemblies of the laser device are accessible on the side provided with the door 20. The laser device 10 includes an air supply port 2 as is known in the art.
2 and an air outlet 24 are provided.

この発明によるレーザー装置は、詳しくは以下のように
構成されている。
The laser device according to the present invention is configured in detail as follows.

入力モジュール26は、関連コネクターを設けたガスバ
ルブブロックを有する。さらに、入力モジュール26は
、外部すなわちフレーム12の外部に配設された主コン
ピユータまでの光線導波管用コネクターを有する。その
他、入力モジュール26は、主電源、遠隔制御装置、フ
レーム12の外部に配設された関連ガス清浄器の電源お
よび冷却水用コネクターを有する。電気、ガス、光線導
波管、冷却水等のすべての結合ラインは、レーザー装置
の右底部25に設けられている6人カモジュール26に
隣接して、真空ポンプモジュール28が配設されている
。活性炭フィルター30が、引出し自在の基板27に設
けである。真空ポンプ32は、ゴム脚上に振動防止を施
して装架されている。真空ポンプモジュール28は、保
守作業のために、基板27上で簡単に引出すことができ
る。
The input module 26 includes a gas valve block with associated connectors. In addition, the input module 26 has an optical waveguide connector to the main computer disposed externally, ie, outside the frame 12. In addition, the input module 26 includes a mains power source, a remote control device, an associated gas purifier power source and cooling water connectors located outside the frame 12. All coupling lines for electricity, gas, optical waveguides, cooling water, etc. are connected to a vacuum pump module 28 adjacent to a six-person module 26 located at the bottom right 25 of the laser device. . An activated carbon filter 30 is provided on the removable base plate 27. The vacuum pump 32 is mounted on rubber legs to prevent vibration. The vacuum pump module 28 can be easily pulled out on the base plate 27 for maintenance work.

主ユニツトモジュール34は、関連ドア20を開いた後
、フレーム12の下部のほぼ中央で引込み自在に配設さ
れている。そのために、主ユニツトモジュール34は、
横方向に配設された伸縮自在なレール上に支持されてい
る。主ユニツトモジュール34と外部結合部との間には
、別個の直結ラインは無い。
The main unit module 34 is retractably disposed approximately centrally at the bottom of the frame 12 after the associated door 20 is opened. To this end, the main unit module 34:
It is supported on laterally disposed telescoping rails. There is no separate direct connection line between the main unit module 34 and the external coupling.

主ユニツトモジュール34の上方には、制御モジュール
36が同様にフレーム12がら引込み自在に配設されて
いる。制御モジュール36は、レーザーの電力供給を制
御する。
A control module 36 is similarly arranged above the main unit module 34 so as to be retractable from the frame 12. Control module 36 controls the laser power supply.

熱交換器モジュール38も、右底部において、同様に引
込み自在に配設されている。第1図に示したレーザー装
置の特徴は、内部水循環系、すなわちレーザー自体内を
循環し、特にガス放電室を冷却する水循環系を有するこ
とである。冷却液は、水、腐食防止剤および凝固点低下
剤としてのクリセロールからなる。熱交換器を備えたポ
ンプ40内で、内部循環系で取り上げられた熱は、外部
循環系へ放出され、レーザー装置の外部へ導かれる。冷
却用、特にサイラトロン冷却用の内部油循環系は、第2
のポンプ42を通るが、ポンプ42にも同様に熱交換器
が設けである。この場合も同様に、蓄積した熱はポンプ
42で外部回路へ運ばれる。
The heat exchanger module 38 is also retractably disposed at the bottom right portion. A feature of the laser device shown in FIG. 1 is that it has an internal water circulation system, ie a water circulation system that circulates within the laser itself and in particular cools the gas discharge chamber. The coolant consists of water, corrosion inhibitor and chrycerol as freezing point lowering agent. In the pump 40 with a heat exchanger, the heat taken up in the internal circulation system is released into the external circulation system and conducted outside the laser device. The internal oil circulation system for cooling, especially for thyratron cooling, is
The heat exchanger passes through the pump 42, and the pump 42 is also provided with a heat exchanger. In this case as well, the accumulated heat is transported by the pump 42 to the external circuit.

上述したレーザー装置の供給ユニットの上方に、フレー
ム12は2つの長平方向支柱44(第1図には2つの長
平方向支柱の内の前方のもののみを示す)を有する。横
支柱46.46′48.48′上には、フレーム12の
上部に配設された組立部が後に詳述する五ノI−又せご
イしくいる。側板50は、レーザー装置のほぼ前側全体
に亘って伸びていて、以下に詳述するように、2つの支
持台52.54を結合している。支持台52.54は、
ガス放電室、即ちガス放電室を収容するハウジング16
の両側に配設されている。
Above the supply unit of the laser device described above, the frame 12 has two longitudinal columns 44 (only the front one of the two longitudinal columns is shown in FIG. 1). On the transverse struts 46, 46', 48, 48' there are five assemblies arranged in the upper part of the frame 12, which will be explained in more detail later. The side plate 50 extends over substantially the entire front side of the laser device and joins the two supports 52, 54, as will be explained in more detail below. The support stand 52.54 is
a gas discharge chamber, i.e. a housing 16 containing the gas discharge chamber;
are placed on both sides.

側板50は、第1図に示したレーザー装置1oの前側に
のみ設けられている。
The side plate 50 is provided only on the front side of the laser device 1o shown in FIG.

この発明によるレーザー装置の特徴は、フレーム12の
位置を変えないで、ビーム光軸14上で反対方向の2つ
のレーザービームをレーザーから任意に取出し得ること
である。このためには、支持台52.54上の各光学要
素58.60を交替させるだけでよい。これらの光学要
素は、公知のようにレーザー共振器を形成し、即ち反射
鏡、結合ミラーおよびレーザー光学格子等のビームを限
定する部材を、公知のように有している。これらの詳細
については、当事者にとって公知である。
A feature of the laser device according to the invention is that two laser beams in opposite directions on the beam optical axis 14 can be taken out from the laser arbitrarily without changing the position of the frame 12. For this purpose, it is only necessary to alternate each optical element 58.60 on the support 52.54. These optical elements form a laser cavity in a known manner, ie include beam-limiting elements, such as reflectors, coupling mirrors and laser optical gratings, in a known manner. These details are known to those concerned.

ハウジング16内でガス放電室に発生するレーザービー
ムは、ハウジング16の両側にあるすべり開口62を通
過する。
The laser beam generated in the gas discharge chamber within the housing 16 passes through sliding openings 62 on both sides of the housing 16 .

第1図に示した構造では、とくに左側に図示の光学要素
58には、反射プリズムおよび波長選択用格子が配設さ
れている。レーザービームは、ビーム軸に沿って右側へ
レーザー装置から出る。
In the structure shown in FIG. 1, the optical element 58 shown in particular on the left side is provided with a reflecting prism and a wavelength selection grating. The laser beam exits the laser device to the right along the beam axis.

ここでレーザービームの方向を任意に反対にするために
、この発明では、光学要素用の2つの支持台52.54
を横支持台46.46’上にそれぞれの振れ止め部材5
6.56’にフレーム(第3図参照)によって、それぞ
れ別個に、すなわち横支持台48.48’上に振れ止め
を施してそれぞれ別個に支持されたガス放電室、すなわ
ちこのガス放電室を収容するハウジング16とは、無関
係に支持するようにしている。
In order to arbitrarily reverse the direction of the laser beam here, the invention provides two supports 52, 54 for the optical elements.
Place each steady rest member 5 on the horizontal support stand 46 and 46'.
6.56' by means of a frame (see Figure 3) accommodates the gas discharge chambers supported separately, i.e. with steady rests on lateral supports 48 and 48'; The housing 16 is supported independently of the housing 16.

ここで重要な点は、支持台52.54間の相対調整を側
板50を取外し自在にし、その後ガス放電室に起りつる
修理を含めてレーザー装置を改造しまたはリセット後に
レーザー装置の調整が損われないように、支持台52.
54を支持する光学系フレーム(第3図)またはこれら
支持台上で再度正確に再現できるように確保できること
である。支持台52.54は光学系フレームと一体にし
てもよい。光学系フレーム74(第3図)は、水平断面
でほぼC形の形状を持つ。光学系フレーム74は、それ
ぞれ振れ止め部材56.56′に別個に装着されている
。装着状態において、側板50はC形光学系フレームの
開放側を閉じているので、閉じた長方形が寸法的に安定
に保持される。光学系フレームおよびその側板50との
協働作用の詳細は第3図に示す。
The important point here is that the relative adjustment between the supports 52, 54 is made possible by the removal of the side plate 50, and that the adjustment of the laser device is not impaired after subsequent modification or reset of the laser device, including any repairs that may occur to the gas discharge chamber. The support stand 52.
It is possible to ensure accurate reproduction again on the optical system frame (FIG. 3) that supports 54 or on these supports. The support pedestal 52,54 may be integrated with the optical system frame. The optical system frame 74 (FIG. 3) has a substantially C-shaped shape in horizontal section. The optical system frames 74 are each mounted separately on the steady rest members 56, 56'. In the installed state, the side plate 50 closes the open side of the C-shaped optical system frame, so that the closed rectangle is held dimensionally stable. Details of the optical system frame and its cooperation with the side plate 50 are shown in FIG.

フレーム12内を通過するガス供給系のたわみ鋼管は、
鋼ひだ外装付波形鋼製ホースである。そのため機械的振
動は伝わることがない。
The flexible steel pipe of the gas supply system passing through the frame 12 is
This is a corrugated steel hose with a steel pleated exterior. Therefore, mechanical vibrations are not transmitted.

レーザー装置の電気ケーブル配線は、上述したようにレ
ーザービームを2つの方向に出すのに1つのケーブルハ
ーネスでできるようになっている。従って、同一のライ
ン部が、ハウジング16の左右両側において支持台52
.54の領域内に達していて、レーザービームの方向に
よって選択的に接続される。
The electrical cabling of the laser device is such that, as described above, one cable harness can be used to emit the laser beam in two directions. Therefore, the same line portion is connected to the support base 52 on both the left and right sides of the housing 16.
.. 54 and are selectively connected depending on the direction of the laser beam.

ガス放電室に対する作業およびガス放電室を交換するこ
とがある場合に、側板50は4個のねじ72によって取
外される。この詳細を第2図に示す。ねじ72は、スリ
ーブ78内で側板50を通り光学系フレーム74に螺入
される。支持台52.54昧、光学系フレーム74上に
載置されている。スリーブ78に対応して形成された面
と協°働する円錐形案内筒76は、側板50を分解した
後にこの側板を再び光学系フレーム74に正確に元通り
になるように結合して、板状の支持台52.54も再度
正確に同一相対位置になるようにするものである。
In case of working on the gas discharge chamber and replacing it, the side plate 50 is removed by means of four screws 72. The details are shown in FIG. The screw 72 is threaded into the optical system frame 74 through the side plate 50 within the sleeve 78 . The support stands 52 and 54 are placed on the optical system frame 74. The conical guide tube 76, cooperating with a correspondingly formed surface of the sleeve 78, allows the side plate 50 to be reattached to the optical system frame 74 in a precise manner after disassembling the side plate 50, so that the plate The shaped supports 52, 54 are again placed in exactly the same relative position.

このように伸1板50は、4個のねじ72(第1図には
1個のみを示す)を緩めた後取り外し、この後にハウジ
ング16の前側も取外し自在となり、その結果ガス放電
室にアクセスできるようになる。そこでガス放電室は、
保守および修理作業のためにハウジング16から前方に
移動させることができる(上述のモジュール28,34
.38と同様である)。このために、ガス放電室用の供
給ラインは、これらを取り外す必要がないように充分に
長くしである。
In this way, the extension plate 50 can be removed after loosening the four screws 72 (only one is shown in Figure 1), and after this the front side of the housing 16 can also be removed, resulting in access to the gas discharge chamber. become able to. Therefore, the gas discharge chamber is
Can be moved forward from housing 16 for maintenance and repair work (modules 28, 34 described above)
.. 38). For this purpose, the supply lines for the gas discharge chambers are sufficiently long so that they do not have to be removed.

ガス放電室を前方に引き出すために持ち上げ手段66を
用いる。持ち上げ手段66は、ハウジング16の両側に
配設されていて、ガス放電室の供給部材に結合された非
導電材からなるロッド68をビーム方向14に対して前
後部に有している。
Lifting means 66 are used to pull the gas discharge chamber forward. The lifting means 66 is arranged on both sides of the housing 16 and has rods 68 made of non-conductive material connected to the supply member of the gas discharge chamber at the front and rear sides with respect to the beam direction 14.

このようにロッド68(または平行に並んだ同じタイプ
の2つのロッド)は、ハウジング16をその両側面で通
過している。どちらかの側に設けられたハンドレバー6
9を動かすと、予めガス放電室から分離されている供給
部材(記憶コンデンサ等)と−緒にロッド68が持ち上
げられるので、ガス放電室は供給部材から離れて前方に
移される(第1図において紙面から)。ロッド68は、
ハウジング16内の開ロア0を通過しいている。
The rod 68 (or two parallel rods of the same type) thus passes through the housing 16 on both sides thereof. Hand lever 6 provided on either side
9, the rod 68 is lifted together with the supply member (storage capacitor, etc.) previously separated from the gas discharge chamber, so that the gas discharge chamber is moved forward away from the supply member (as shown in FIG. from the paper). The rod 68 is
It passes through the open lower 0 in the housing 16.

第3a図は、第3b図のIII a −III a !
iに沿ってとった光学系フレームの垂直断面図である。
FIG. 3a shows III a -III a ! of FIG. 3b.
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the optical system frame taken along i.

第3b図は光学系フレーム74の平面図、すなわち第1
図の上部から見た図で、側板50を取外して示す。第3
c図は、第3b図のIII c −III c線に沿っ
てとった光学系フレーム74の垂直断面図で、側板50
は取外して示す。
FIG. 3b is a plan view of the optical system frame 74, i.e., the first
This is a view seen from the top of the figure, with the side plate 50 removed. Third
Figure c is a vertical sectional view of the optical system frame 74 taken along line IIIc-IIIc in Figure 3b, with the side plate 50
is shown removed.

第3a図ないし第3c図かられかるように、光学系フレ
ーム74は水平断面(すなわち第3b図の平面図に対応
する)がほぼ°゛C゛または°゛U°゛U°゛字形いる
。支持台52.54は、光学系フレーム74と一体に、
またはこれにかたく取付けられるようにしてもよい6上
述の用語「水平」および「垂直」とは、第1図に示した
レーザーの直立の作動位置に対するものである。
As can be seen from FIGS. 3a to 3c, the optical system frame 74 has a horizontal cross-section (i.e., corresponding to the top view of FIG. 3b) that is generally in the shape of a °C or °U°. The support stands 52, 54 are integrated with the optical system frame 74,
6. The terms "horizontal" and "vertical" above refer to the upright operating position of the laser as shown in FIG.

第3b図から特に明らかなように、側板50は、装着状
態において光学系フレームの開放!11を閉じているの
で、光学系フレーム全体は長方形をなし、従って寸法的
に極めて安定した形状となる。側板50によって閉じた
光学系フレーム74は、ガス放電室のハウジング16全
周を取囲んでいることも第3b図から明らかである。長
方形の1つの長辺は側板50で形成されているが、その
対辺は支柱74′で形成されており、支柱74′は取外
すことはできないが、光学系フレーム74の長方形の2
つの短辺に取外し自在に結合されている。
As is particularly clear from FIG. 3b, the side plate 50 is used to open the optical system frame in the mounted state. 11 is closed, the entire optical system frame has a rectangular shape, and therefore has an extremely stable shape dimensionally. It is also clear from FIG. 3b that the optics frame 74, closed by the side plates 50, surrounds the entire circumference of the housing 16 of the gas discharge chamber. One long side of the rectangle is formed by the side plate 50, and the opposite side is formed by a support 74'. Although the support 74' cannot be removed, two long sides of the rectangle of the optical system frame 74 are formed.
It is removably connected to the two short sides.

第3a図ないし第3c図に示したその他の部材について
はすでに上述した。長方形の光学系フレーム74の短辺
は、それぞれ振れ止め部材56.56’ に支えられて
いる。
The other elements shown in Figures 3a to 3c have already been described above. The short sides of the rectangular optical system frame 74 are supported by steady rest members 56 and 56', respectively.

第4図は、横支持台48と長手方向支柱44上のガス放
電室用のハウジング16を振れ止めを施して支持する状
態を示す詳細図である。
FIG. 4 is a detailed view showing the support of the housing 16 for the gas discharge chamber on the transverse supports 48 and the longitudinal columns 44 with steady rests.

横支持台すなわちビーム48.48’は、2つのほぼ”
 U”字形の個々の部材を組合わせて作られている。2
つの°゛U゛U゛字形の部材は互いに係合していて、弾
性材からなる振れ止め部材49.49’ を取囲んでい
る。その結果、ガス放電室を備えたハウジング16は、
レーザー装置のその他の要素から機械的に分離されてい
る。
The lateral supports or beams 48.48' have two approximately
It is made by combining individual U”-shaped parts.2
The two ゛U゛U゛-shaped elements engage with each other and surround a steady rest element 49, 49' made of elastic material. As a result, the housing 16 with the gas discharge chamber
Mechanically separated from other elements of the laser device.

一般に、ガス放電室内に通常設けられているガス循環フ
ァンがバランスをくずして機械振動を生ずるので、上記
分離は特に好都合である。ガス放電室内のガス放電時に
も、機械的刺激が起り得る。第4図に示した構造によっ
て、上記の機械的刺激がレーザーおよびその他の要素に
伝わらないように防止する。
Such a separation is particularly advantageous since, in general, the gas circulation fans normally provided in the gas discharge chamber are unbalanced and cause mechanical vibrations. Mechanical stimulation can also occur during gas discharge in the gas discharge chamber. The structure shown in FIG. 4 prevents the above mechanical stimulation from being transmitted to the laser and other elements.

[発明の効果] この発明により、レーザー装置の光学要素を、これら要
素およびガス放電室を収容するフレーム内に振れ止め部
材を介して、ガス放電室の両側に設けた支持台に装着し
であるので、レーザー装置の方向の切換えが容易となり
、またフレーム内の各要素を側板を取外して取出し自在
としたので、保守、修理および調整が容易となり、機械
的振動が伝達されないようになっている。
[Effects of the Invention] According to the present invention, the optical elements of the laser device can be mounted on supports provided on both sides of the gas discharge chamber through steady rest members within a frame that accommodates these elements and the gas discharge chamber. This makes it easy to change the direction of the laser device, and since each element in the frame can be taken out by removing the side plates, maintenance, repair, and adjustment are easy, and mechanical vibrations are not transmitted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、ガス放電レーザー装置の全体を側面から見た
略図、 第2図は、第1図のII −II線に沿ってとった断面
図、 第3a図、第3b図および第3c図は、光学系フレーム
の詳細図、 第4図は、振れ止め支持台の詳細図である。 lO・・・エキシマレーザ− 12・・・フレーム 14・・・レーザービーム軸線 16・・・ハウジング    18・・・金属カバー2
0・・・ドア       26・・・人力モジュール
27・・・基板 28・・・真空ポンプモジュール 34・・・主ユニツトモジュール 36・・・制御モジュール 38・・・熱交換器モジュール 49.49’・・・振れ止め部材 50・・・側板       52.54・・・支持台
56.56’・・・振れ止め部材
Figure 1 is a schematic diagram of the entire gas discharge laser device seen from the side; Figure 2 is a sectional view taken along line II-II in Figure 1; Figures 3a, 3b, and 3c. 4 is a detailed view of the optical system frame, and FIG. 4 is a detailed view of the steady rest support. lO...Excimer laser 12...Frame 14...Laser beam axis 16...Housing 18...Metal cover 2
0... Door 26... Human power module 27... Board 28... Vacuum pump module 34... Main unit module 36... Control module 38... Heat exchanger module 49.49'... - Steady rest member 50...Side plate 52.54...Support stand 56.56'... Steady rest member

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ガス放電室と、レーザー共振器を形成する光学要
素58,60とを配設したフレーム12を有するガス放
電レーザーにおいて、 前記フレーム12に対して振れ止めを施して支持される
と共に互いにかたく結合される前記光学要素58,60
用の支持台52,54を、上記ガス放電室の各側におい
てレーザービームの方向14にそれぞれ設けたことを特
徴とするガス放電レーザー。
(1) In a gas discharge laser having a frame 12 in which a gas discharge chamber and optical elements 58, 60 forming a laser resonator are disposed, the frame 12 is supported by a steady rest and is rigidly attached to each other. The optical elements 58, 60 to be coupled
A gas discharge laser, characterized in that supports 52, 54 for use in the gas discharge chamber are provided in the direction 14 of the laser beam on each side of the gas discharge chamber.
(2)ガス放電室は、前記支持台52,54と、これら
支持台上に配設した光学要素58,60とを内蔵してい
ない電磁遮蔽ハウジング16により取り囲まれているこ
とを特徴とする請求項1記載のガス放電レーザー。
(2) The gas discharge chamber is surrounded by an electromagnetic shielding housing 16 that does not contain the support bases 52, 54 and the optical elements 58, 60 disposed on these support bases. The gas discharge laser according to item 1.
(3)ガス放電室および光学要素58,60用支持台5
2,54は、それぞれの振れ止め手段56,56′,4
9,49′によってフレーム12上に互いに別個に支持
されていることを特徴とする請求項1または2記載のガ
ス放電レーザー。
(3) Support stand 5 for gas discharge chamber and optical elements 58, 60
2, 54 are steady rest means 56, 56', 4, respectively.
3. Gas discharge laser according to claim 1, characterized in that they are supported separately from each other on the frame 12 by means 9, 49'.
(4)支持台52,54をかたく結合するために、フレ
ーム12の外側においてビーム方向14に平行に伸長す
ると共に上記支持台または光学系フレーム74に取り外
し自在に装着した側板50を設けたことを特徴とする請
求項1から3のいずれかに記載したガス放電レーザー。
(4) In order to firmly connect the supports 52 and 54, a side plate 50 is provided which extends parallel to the beam direction 14 on the outside of the frame 12 and is detachably attached to the support or optical system frame 74. A gas discharge laser according to any one of claims 1 to 3.
(5)支持台52,54は、板状に作られていることを
特徴とする請求項1から4のいずれかに記載したガス放
電レーザー。
(5) The gas discharge laser according to any one of claims 1 to 4, wherein the support stands 52 and 54 are formed into plate shapes.
(6)レーザーの供給および制御要素は、レーザーのフ
レーム12内でそれぞれ個々に着脱自在に案内されるモ
ジュール26,28,34,36,38内にそれぞれ配
設されていることを特徴とする請求項1から5のいずれ
かに記載したガス放電レーザー。
(6) The supply and control elements of the laser are each arranged in modules 26, 28, 34, 36, 38, each individually removably guided in the frame 12 of the laser. The gas discharge laser according to any one of Items 1 to 5.
JP25506889A 1988-11-15 1989-09-28 Gas discharge laser Pending JPH02275686A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE8814296U DE8814296U1 (en) 1988-11-15 1988-11-15 Gas discharge laser
DE8814296.5 1988-11-15

Publications (1)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015075838A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 ギガフォトン株式会社 Laser apparatus and method for adding chamber to laser apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2015075838A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 ギガフォトン株式会社 Laser apparatus and method for adding chamber to laser apparatus
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