JPH02267549A - Method of processing photosensitive material - Google Patents
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Abstract
Description
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ハロゲン化銀感光材料を湿式処理する感光材
料の処理方法に関する。
〈従来の技術〉
一般に、湿式処理において、露光後のハロゲン化銀感光
材料（以下、単に感光材料という）は、その処理工程に
従って、現像、定着（または漂白・定＠）、水洗等の処
理が施されている。
このような処理は、通常、自動現像機等により、現像液
、定着液等を入れた各処理槽間を順次搬送することによ
って行われている。
そして、このような処理に際しても、近年、環境保全、
資源節減が要望されてきており、処理液、特に現像液の
節減が課題となっている。
現像液を節減するには、現像効率を上げることが必要で
あり、実際、所定量の現像液を入れた現像槽を複数用い
て処理すれば現像効率が上がることが知られている。
このようなことから、少量の現像液で現像可能な方法と
して、いわゆる多段向流方式（段数２〜９）等が適用さ
れている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、上記のような方法では、複数の処理槽を並設す
るため、装置が大型化して広い設置スペースが必要とな
り、また、現像液の消費量（補充量）の低減化において
も十分とはいえない。
本発明は、このような従来技術の欠点に鑑みてなされた
もので、その目的は、用いられる装置が小型で設置スペ
ースが少な（、処理液の補充量の低減を図ることができ
る感光材料の処理方法を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
このような目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、本発明は、露光後のハロゲン化銀感光材料を湿式
処理する感光材料の処理方法であって、
複数に区画された処理室を有する処理槽の各処理室内に
処理液を満し、前記感光材料を大気と接触することなく
前記各処理室を順次通過させることを特徴とするハロゲ
ン化銀感光材料の処理方法である。
また、前記各処理室において、それぞれ組成の異なる処
理液にて処理する感光材料の処理方法であるのが好まし
い。
また、前記処理室のうちの、少なくとも１つより処理液
を補充する感光材料の処理方法であるのが好ましい。
く作用〉
このような構成の本発明によれば、感光材料を、複数に
区画された処理室にて大気と接触することなく処理する
ことにより２処理の効率が上る。 よって、写真性を良
好に保ちつつ、処理液の消費量（補充量）の低減が図れ
る。
く具体的構成〉
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
第１図には、本発明のハロゲン化銀感光材料の処理方法
を実施する際に用いられる処理槽の構成例が示される。
第１図に示される処理槽は、いわゆるスリット型処理槽
と呼ばれるもので、横断面がスリット状の処理路１５を
有し、この処理路１５は区画部材１４１により長手方向
に沿って複数の処理室６０Ａに区画され、各処理室内に
処理液ｌＯが入れられた状態で感光材料Ｓを順次搬送し
て処理を行うものである。
このような構成の処理槽を用いることにより、処理液１
０の使用液量を少なくすることができる。
第１図に示される処理槽は、（し型の上蓋５６を吊下げ
た蓋４１をハウジング５５の上方開口部に配置した構成
とされている。 蓋４１の上面中央部には把手４３が設
けられている。
上蓋５６は、はぼ垂直に配置された例えば樹脂製の複数
の上蓋材１２より構成され２これらの上下端部の結合部
に感光材料送り用のリール１６〜２０が配置されている
。
ハウジング５５の内部には、上蓋材１２と組合わさって
処理路１５を形成する槽壁材１４が配置されている。
従って、上蓋材１２と槽壁材１４とにより、波型に連続
するスリット状の処理路１５が形成され、その上方およ
び下方の湾曲部に感光材料送り用のリール１６〜２０が
それぞれ配置されることになる。
本発明において、感光材料Ｓの通過部分であるスリット
状の処理路１５の間隙距離は０．２〜５０１ｍｍ、好ま
しくは０．４〜１ＯＩＩＩＩ１１のものとすればよい。
このような間隙距離とすることにより、感光材料と処理
路またはリールとの間等のデッドスペースが少な（なり
、また感光材料にキズもつきにくくなり、支障なく搬送
される。
また、リール間の長さと、例えばリール１６とリール１
７との間の処理路１５の長さは５Ｃ−以上、好ましくは
１０ｃｍ以上とするのがよい。
処理槽の外部には、感光材料Ｓを処理路１５の入口部に
搬入するための感光材料搬入側り−ル２４と、処理路１
５の出口部から搬出するための感光材料搬出側リール２
６とが設置されている。
処理路１５には、処理液１０が液面レベルＬまで満たさ
れており、感光材料Ｓの処理時には、新鮮な処理液（以
下、補充液という）が供給される。
この補充液の供給は、処理液の種類によって異なるが、
例えば現像液、定着液、漂白液または漂白・定着液の場
合、処理路１５の感光材料入側から行われるのが好まし
い。
第１図に示す構成例では、補充液を吐出する給液口３６
が処理路１５上部の感光材料入側（リール２４の下方）
に設置され、一方、感光材料出側にはオーバーフローに
より処理液ｌＯを排出する排液口３５が液面レベルＬの
位置に設置されている。 これにより、給液口３６から
供給された補充液はＵ字状の処理路１５内を感光材料Ｓ
の搬送方向と同方向に流れ（パラレルフロー） 補充量
とほぼ同量の劣化した処理液が廃液口３５から排出され
る。
このように、処理液（特に現像液）をパラレルフローと
することにより、感光材料Ｓの感度が向上するという利
点がある。
なお、本発明では、給液０３６および排液口３５は、処
理路１５における各処理室６０Ａのいずれに設置しても
よく、また、２以上の処理室から補充液を供給または排
出してもよい。
このような処理路１５には、処理路１５を複数の処理室
６０Ａに区画する区画部材１４１が設置されている。
第２ａ図は、第１図に示す区画部材１４１を拡大して示
す断面正面図である。
同図に示すように、区画部材１４１は、実質的に変形し
ないフランジ部２４１と、先端へ向って厚さが漸減し、
感光材料Ｓの進入によって容易に変形可能な薄肉部２４
２とで構成されいる。
このような一対の区画部材１４１は、それぞれ上蓋材１
２および槽壁材１４に対向するように設置される。 即
ち、上蓋材１２および槽壁材１４のそれぞれ処理路１５
側に形成された凹部１２０および１４０内に、各区画部
材１４１のフランジ部２４１が例えばボルト２４５等の
固定具により取り付けられている。 薄肉部２４２の先
端部同士は密着しており、これにより区画部材１４１の
図中上方および下方の処理路１５を複数の処理室６０Ａ
に分離している。
このような区画部材１４１は、感光材料Ｓの通過を容易
に可能とし、かつ、処理液１０の逆流を防止するのに好
適な構成となっている。
区画部材１４１の構成材料は、例えばＮＲｌＩ Ｒ，Ｓ
ＢＲ，ＢＲ，ＣＲ，ＮＢＲ％ＮＩＲ１ＮＢＩＲのような
ジエン系ゴム、ＩＩＦ（、ＥＰＭ％ＥＰＤＭ、Ｕ％Ｑ、
ＣＭ等の非ジエン系ゴム、さらにフッ素ゴム、シリコー
ンゴム、ウレタンゴム等の各種ゴム、サーモラン、ラバ
ロン、ハイトレル等のエラストマー ポリエチレン、シ
リコーン樹脂、テフロン等の軟質樹脂等、またはこれら
のうち２以上を組み合せたものが挙げられ、そのなかで
も、特に、耐久性、処理液Ｑに対する耐薬品性（変形、
膨張、強度低下等を生じない）を有するという点で、ネ
オブレンゴム、シリコーンゴム、ブタジェンゴム、ネオ
ブレン−ブタジェンゴム、またはテフロン、ナイロン、
ポリエチレン等の軟質樹脂等が好ましい。
区画部材１４１は、第３図の下部に示すように、感光材
料Ｓの非通過時（処理液の補充なし）には、薄肉部２４
２の先端部同士が密着し、これにより処理路１５を遮蔽
し、隣接する処理室間での処理液１０の流通を遮断する
。
なお、通常、薄肉部２４２同士の密着力は、薄肉部の弾
性力により与えられているが、薄肉部２４２内に磁性材
料を配合しく例えば、ゴム磁石のようなもの）、薄肉部
同士を吸引させて密着力を与え、または高めることも可
能である。
このような区画部材１４１によれば、感光材料Ｓの非搬
送時には薄肉部２４２の先端同士が密着し、搬送時には
感光材料Ｓの進入によって薄肉部２４２が押し広げられ
、感光材料Ｓの通過が可能となる。
このような区画部材１４１を設けることにより、感光材
料Ｓの非処理時には、隣接する処理室間での処理液の流
通がほとんどなく、また処理時にては、わずかな流通し
かないため、さらには、処理の間に、感光材料が大気中
に露出せず、空気との接触がないため、処理効率が向上
し、処理液の使用量（補充量）を低減することができる
。
ここで、［流通がほとんどない」とは、処理室間での処
理液の移動量が実質的に無視できるほど小さいことを意
味し、例えば処理液の移動量が２ ｍｌ１分以下である
ような場合をいう。
また、［わずかな流通しかない」とは、処理室間の処理
液の移動（好ましくは感光材料の搬送方向と同方向の移
動）量が補充液の供給量と同量程度であることを意味し
、例えば処理液の移動量が１〜２０１１ＩｊＺ分である
ようにすることが好ましい。
このように処理効率が向上するのは、処理路１５の長手
方向に沿って処理液に、液組成勾配が確実に形成され、
持維されるからである。
即ち、給液口３６のある処理室６０Ａ内の処理液が最も
新鮮であり、以後の処理室において順次劣化の度合が高
まり、排液口３５のある処理室内の処理液が最も劣化し
たものとなる。
第２ｂ図は、区画部材の他の構成例を示す拡大断面正面
図である。 同図に示すように、区画部材９９は、上蓋
材１２および槽壁材１４の壁面にそれぞれ対向するよう
に固着された一対のローラ載置台９３．９４と、各ロー
ラ載置台９３．９４の上部の傾斜面上に転勤可能に載置
された一対のローラ９１．９２とで構成されたものであ
る。
この区画部材９９によれば、第２ｂ図の下部に示すよう
に、感光材料Ｓの非通過時には、対のローラ９１．９２
は０凰により傾斜面を下り、その外周面同士が当接、密
着する。 これにより、処理路１５を遮断し、隣接する
処理室６０４間での処理液１０の流通がほとんどなくな
る。
第２ｂ図の上部に示すように、処理時において、感光材
料Ｓが区画部材９９を通過する際には、両ローラ９１．
９２が傾斜面を昇り、感光材料Ｓが両ローラ間に進入し
、ローラを回転させつつ図中矢印方向に通過する。
感光材料Ｓが区画部材９９を通過した後は、区画部材９
９は第２ｂ図の下部に示す元の状態に復帰し、ローラ９
１．９２の外周面同士が当接、密着して、再び処理液１
０の流通を遮断する。
このような区画部材９９においても、前述と同様の作用
、効果が生じる。
ローラ９１．９２の構成材料は、耐久性、処理液１０に
対する耐薬品性を有し、かつ処理液を変質させて現像特
性等に悪影響を及ぼさないものであるのが好ましく、例
えば、ネオブレン、ブタジェン、ネオプレン−ブタジェ
ン等の各種天然ゴム、合成ゴム、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、
ポリフェニレンオキサイド、ポリエステル、硬質塩化ビ
ニル、フェノール樹脂等の各種樹脂、アルミナ等のセラ
ミックス、ステンレス、チタン、ハステロイ等の耐食性
を有する金属類、またはこれらを組み合わせたものを挙
げることができる。
また、ローラ９１，９２の外周面に次のような各種処理
を施してもよい。 例えば、ローラの円筒面にテフロン
、ナイロン、弗素樹脂等の表面塗工処理を施すことがで
き、また、ローラの円筒面が金属で構成されている場合
には、電解研磨、電解メツキ等の平滑化処理、円筒面が
セラミックスで構成されている場合には、弗素処理等を
施すことができる。
なお、ローラ９１，９２同士の接合は、自重による傾斜
面の降下によるものに限られず、バネ等の付勢手段（図
示せず）によりローラ同士を押圧する構成としてもよい
。
また、図示の例では、ローラ９１．９２は感光材料Ｓの
通過により移動する構成となっているが、両ローラを移
動させる駆動手段（図示せず）を設け、その移動により
感光材料の通過部分の開閉を行なう構成としてもよい。
なお、このような区画部材１４１または９９は、処理路
１５の長手方向に、例えばｌＯ〜８０ｃｍ間隔で設置す
るのがよい。
また、区画部材の構成は、上述したものに限定されない
ことは言うまでもない。
なお、本発明における処理槽には、補充槽、撹拌手段、
循環手段（いずれも図示せず）等が適宜設置されていて
もよい。
また、ハウジング５５内には、処理液の温度を一定に保
つための温水が充填されている。
このような構成の装置において、感光材料Ｓは、例えば
リーダーテープの索引によりリール２４を経て処理液が
満たされた処理路１５内に搬入され、各リール１６〜２
０を経て処理路に形成された各処理室６０Ａを順次通過
して処理され、処理路１５を出た後、リール２６を経て
次工程へ送られてゆく。
この場合、感光材料Ｓは、処理路を通過している間に大
気、特に開放大気と接触しない。
これにより、次のような利点がある。
ｌ）処理槽間のクロスオーバーにかかる時間が省略され
、実質の処理時間が確保される。
２）漂白・定着槽においてアンモニアガス等の写真にと
って有害なガス（現像カブリの原因となる）が発生する
が、この有害ガスの放散を抑制するとともに、複数の現
像槽を並設する場合に比べ、有害ガスと感光材料とが接
触するチャンスが減少し、現像カブリ等を防止すること
ができる。
３）大気中にある感光材料が現像液中に入るときに空気
を巻き込み、現像液の酸化を生じる。
特に、複数の現像槽を並設する場合、現像槽間をクロス
オーバーする際に現像液で濡れた感光材料が大気と接触
して表面にＣＯＩガスを吸着し、このＣＯ，ガスが現像
液中に混入することによりｐＨを低下させる。 本発明
ではこのようなことが防止されるため、現像液の補充量
を低減することができる。
第３図には、本発明の実施に用いる処理槽の他の構成例
が示される。 同図に示す処理槽は、ハウジング２内が
、主ローラ４、区画部材５等により複数の処理室６Ａ〜
６Ｋに区画され、各処理室内に処理液１０を充填し、感
光材料をこれらの処理室６Ａ〜６Ｋに順次通過させて処
理を行うものである。
このような構成の処理槽を用いることにより、処理液の
使用液量を少なくすることができる。
第３図に示されるように、ハウジング２の上方には、感
光材料Ｓを処理液ｌＯに搬入する搬入ローラ４５および
処理後の感光材料Ｓを搬出する搬出ローラ４７が設置さ
れている。
処理槽のハウジング２内には、感光材料Ｓを搬送するた
めの主ローラ４が、所定の間隔で多段に配置されている
。 これらの主ローラ４の一部または全部は任意の駆動
手段（図示せず）により駆動回転するローラである。
各主ローラ４間には、区画部材５が設置されている。
この区画部材５は、その両端部がそれぞれ上側および下
側の主ローラ４に接触し、ハウジング２、内の空間を左
右に分割している。
このような主ローラ４、区画部材５およびハウジング２
の内壁により処理室６Ａ〜６Ｋが規定される。
１つのハウジング２における処理室６の数は、例えば、
３〜１９個程度であり、また、１つの処理室６の体積は
、前記と同様とすればよい。
区画部材５は、回転する主ローラ４と摺動しつつ左右の
処理室の境界となるものであるため、その構成材料は、
耐久性、処理液１０に対して変形、膨張、強度低下等を
生じることがなく、かつ処理液を変質させて写真特性に
悪影響を及ぼさないものであるのが好ましい。 また、
区画部材５の少なくとも画先端部はシール効果を得るた
めに弾性材料で構成されているのが好ましい。 このよ
うな点から、区画部材５は、各種ゴム、各種軟質樹脂の
ようなエラストマーで構成されているのがよい。
最下段の主ローラ４の下部には、下降してきた感光材料
Ｓを反転し、上昇させる反転ガイド３０．３０が設置さ
れている。 また、両反転ガイド３０．３０間には、主
ローラ４との間で感光材料Ｓを挟持するガイドローラ３
１が設置されている。
各処理室６内のハウジング２の内壁には、感光材料Ｓを
案内するガイド７が設置されている。
このガイド７の上部と主ローラ４との間に、感光材料Ｓ
が通過する感材通過ゲート８が形成されている。
また、第４図に示されるように、ガイド７の案内面７０
１は１、感光材料Ｓを次の感材通過ゲート７へ導くよう
なテーバが形成されている。 そして、ガイド７の上端
には、後述するフリーローラ９を載置する傾斜面７０２
が形成されている。
感材通過ゲート８には、このゲートを開閉するシャッタ
ー手段としてのフリーローラ９が設置されている。 こ
のフリーローラ９は、感材通過ゲート８の幅より大きい
径を有し、ガイド上端の傾斜面７０２上を自由に転動す
ることができる。
感光材料Ｓの非通過時には、フリーローラ９はその自重
により傾斜面７０２を下り、主ローラ４に当接しつつ回
転しく第４図中の実線）これにより感材通過ゲート８は
閉止状態となる。 一方、感光材料Ｓの搬送時には、感
光材料Ｓの進行によりフリーローラ９は傾斜面７０２を
昇り、主ローラ４との間で感光材料Ｓを挟持しつつ回転
しく第４図中の点ｌｉｔ ） これにより感光材料Ｓ
の通過が可能となる。
なお、バネ等の付勢手段（図示せず）によりフリーロー
ラ９を主ローラ４へ押圧する構成としてもよい。
また、フリーローラ９は、感材通過ゲート８を完全に液
密に閉止するものではなく、特に、感光材料Ｓの通過時
には感材通過ゲート８を処理液１０が若干流れる程度の
ものでもよい。
主ローラ４およびフリーローラ９の構成材料は、耐久性
、処理液１０に対して変形、膨張、強度低下等を生じる
ことがな（、かつ処理液ｌＯを変質させて写真特性等に
悪影響を及ぼさないものであるのが好ましく、例えば、
上述した各種ゴム、各種樹脂、セラミックス、耐食性を
有する金属（ステンレス、チタン、ハステロイ等） ま
たはこれらの組合わせを挙げることができる。
また上記ローラの円筒面には各種表面処理を施してもよ
い。
なお、図示の例では、フリーローラ９は感光材料Ｓの通
過により移動する構成となっているが、フリーローラ９
を移動させる駆動手段（図示せず）を設け、その移動に
より感材通過ゲート８の開閉を行なう構成としてもよい
。
本発明におけるシャッター手段は、上記フリーローラ９
によるものに限らず、これに代わる開閉部材（例えば、
可動片、弾性体によるスキージ−等）によるもの、また
はこの開閉部材と上記のようなフリーローラとを組み合
わせたもの等、いかなるものでもよい。 また、シャッ
ター手段は、例えばラビリンスのように、感材通過ゲー
トを感光材料は通過するが、水洗処理液の通過は抑制さ
れるような任意の構造のものが可能である。
ハウジング２の上部に位置する処理室６Ａおよび６に内
の処理液液面付近には、処理液１０を供給および排出す
る給液口２３、および排液口２２が設置されている。
なお、前記と同様、給液口２３および排液口２２の設置
位置や設置数は、図示の場合に限定されない。
このような構成の装置において、感光材料Ｓは、搬入ロ
ーラ４５により処理槽の処理液１０中に搬入され、各処
理室６Ａ〜６Ｋを順次搬送されて処理された後、搬出ロ
ーラ４７によって搬出される。 そして、感光材料Ｓが
処理室６Ａから６Ｋを通過する間に、大気との接触はな
い。
なお、処理液は、パラレルフローとすることが好ましい
。
第５図および第６図には、本発明の実施に用いる処理槽
のさらに他の構成が示される。
これらの図に示される処理槽は、槽内にラック３が挿入
されており、ラック３の側板３２．３３間にはブロック
体４０．５０が設置されている。
ブロック体４０は、ブロック体５０の内側に挿入するよ
うになっており、この挿入状態で、感光材料Ｓを処理す
るための空間である５つの処理室６５Ａ１６５Ｂ、６５
Ｃ１６５Ｄ。
６５Ｅが形成される。 また、隣接する処理室６５Ａと
６５Ｂ、６５Ｂと６５Ｃ１６５Ｃと６５Ｄおよび６５Ｄ
と６５Ｅとの間には、画処理室を連結する狭幅の通路７
１．７２．７３および７４が形成される。 さらに、処
理室６５Ａおよび処理室６５Ｅの上部には、それぞれ感
光材料Ｓを搬入および搬出するための同様の通路７５お
よび７６が形成される。
ブロック体４０．５０は、図示の例では中実となってい
るが、これに限定されるものではなく、中空であっても
よく、樹脂等で構成すればよい。
これらの通路７１〜７６の幅（間隙距離）は、感光材料
Ｓの厚さの５〜４０倍程度とするのが好ましい。
このような通路幅とすることによって、感光材料Ｓは支
障なく搬送される。
また、搬送性をさらに向上するために、通路７１〜７６
の内壁面には、撥水化処理等を施してもよい。
処理室６５Ａ、６５Ｂ、６５Ｄ、６５Ｅの中央部付近に
は、それぞれ１対の搬送ローラ８５が設置され、最下部
にある処理室６５Ｃには、３対の搬送ローラ８５が設置
されている。
また、通路７５の感光材料入口付近には感光材料Ｓを処
理液１０に搬入する搬入ローラ８２が、そして通路７６
の感光材料出口付近には感光材料Ｓを搬出する搬出ロー
ラ８３が５それぞれ設置されている。
これらの搬入ローラ８２、搬出ローラ８３および各搬送
ローラ８５は、ブロック体４０またはブロック体５０に
軸支されており、ローラ対のいずれか一方または双方が
駆動回転し、ローラ間に感光材料を挟持して感光材料Ｓ
を搬送するようになっている。
第６図に示されるように、搬送ローラ８５の駆動機構は
、図中垂直方向に軸支された主軸８０２の所定箇所に固
定されたベベルギア８０３と、各搬送ローラ８５の回転
軸８０１の一端部に固定されたベベルギア８０４とが噛
合し、モータ等の駆動源（図示せず）の作動で主軸８０
２を所定方向に回転することにより、各搬送ローラ８５
が回転するようになっている。
この場合、搬入ローラ８２の回転軸８０１ａは主軸８０
２とずれた位置にあるので、主軸８０２に固定されたギ
ア８０５を含む歯車列を介して主軸８０２と平行に支持
された従動軸８０６を設け、この従動軸８０６に固定さ
れたベベルギア８０３と、回転軸８０１ａの一端部に固
定されたベベルギア８０４とを噛合させて回転軸８０１
ａを回転させる。 さらに、回転軸８０１ａには、ベベ
ルギア８０４の内側にギア８０７が固定され、このギア
８０７と他方の搬入ローラ８２の回転軸８０１ｂの一端
部に固定されたギア８０８とを噛合させることにより両
搬送ローラ８が同時に駆動回転する。
各処理室内の搬送ローラ８５では、一方のローラを駆動
回転させ、両ローラの周面同士が接触することによって
他方のローラを従動回転させる構成となっている。 な
お、両ローラをギアで連殖し、双方のローラを駆動回転
する構成としてもよい。
このようなローラの構成材料は、耐久性、水洗処理液に
対して変形、膨張、強度低下等を生じないものであれば
よく、前記のローラと同様のものとすればよい。
処理室６５Ａ、６５Ｂ、６５Ｄ、６５Ｅの搬送ローラ８
５の上下近傍には、感光材料Ｓを案内するための対をな
すガイド９５が設置されている。 また、処理室６５Ｃ
の搬送ローラ８５間には、円弧状に湾曲し、この湾曲部
に沿って感光材料Ｓの方向を転換する反転ガイド９６が
設置されている。
これらのガイド９５．９６は、例えば成型プラスチック
や金属の板で構成され、ガイドを貫通する開口９０がほ
ぼ均一に形成されている。
この開口９０の存在により処理液１０が流通し、循環が
促進され、処理効率が高まる。
処理室６５Ｅおよび処理室６５Ａの上部液面付近に、処
理液を供給および排出する給液口１３および排液口１１
がそれぞれ設置されている。
なお、前記と同様、給液口１３および排液口１１の設置
位置や設置数は、図示の場合に限定されない。
各処理室６５Ａ〜６５Ｅの通路７１〜７６との接続部分
には、感光材料Ｓの非通過時にこの部分を遮蔽（封止）
しつる遮蔽手段としての弁５３ａ、５３ｂが設置されて
いる。 この弁５３ａ、５３ｂは、第６図に示されるよ
うに、いずれも両端が縮径した（円錐状の）ローラ状と
なっているが、その構成は弁５３ａと弁５３ｂとで異な
っている。
弁５３ａは、その比重が処理液１０よりも小さいため、
浮力により浮上し、各処理室６５Ａ〜６５Ｅの上部を遮
蔽するものである。 これに対し、弁５３ｂは、その比
重が処理液１０よりも大きいため沈降し、各処理室６５
Ａ、６５Ｂ、６５Ｄ、６５Ｅの下部を遮蔽するものであ
る。
弁５３ａおよび弁５３ｂの比重の調整は、それらの構成
材料の選択により行うことができる。 例えば、弁５３
ａおよび弁５３ｂを中実ローラとする場合、弁５３ａの
構成材料として、発泡ポリプロピレン、発泡ポリフェニ
レンオキサイド（ＰＰＯ）、発泡ＡＢＳ等を用い、弁１
３ｂの構成材料として、硬質塩化ビニル、ＡＢＳ樹脂、
ＰＰＯ等を用いればよい。
また、弁５３ａが、処理液ｌＯより比重が大きい材料で
構成されていたとしても、図示のように弁５３ａを中空
ローラとすることにより浮力を与えることができる。
また、弁５３ｂについても、必要により金属等の芯材を
入れる（図示せず）ことにより、弁５３ｂ全体の比重を
増大させることができる。
なお、通路７１〜７６の遮蔽性を向上するという観点か
らは、弁５３ａおよび弁５３ｂを、シリコーンゴムやそ
の他の各種エラストマー等の弾性体で構成し、またはこ
れらの材料で弁５３ａ、５３ｂのローラ周面を被覆して
お（のが好ましい。
このような弁５３ａ、５３ｂは、感光材料Ｓの非通過時
には通路７１〜７６の出入口を遮蔽しているが、感光材
料Ｓが通過する際には、感光材料Ｓに押圧されてブロッ
ク体４０．５０に形成された傾斜面５４ａ、５４ｂに沿
って転動し、感光材料Ｓの通過が可能となる。 そして
、感光材料Ｓが通過した後は、弁５３ａ、５３ｂが元に
もどり、再び通路７１〜７６の出入口を遮蔽する。
なお、各処理室６５Ａ〜６５Ｅにおける遮蔽手段の構成
は、図示のようなものに限定されず、種々の態様であっ
てよい。
このような構成の装置において、感光材料Ｓは、搬入ロ
ーラ８２により処理槽の処理液１０中に搬入され、搬送
ローラ８５により各処理室６５Ａ〜６５Ｅを順次搬送さ
れて処理された後、搬出ローラ８３によって搬出される
。 そして、感光材料Ｓが処理室６５Ａから６５Ｅを通
過する間に、大気との接触はない。
なお、処理液は、パラレルフローとすることが好ましい
。
この他、処理室内および処理室外を循環する処理液の循
環路および液流形成手段を設置し、これにより各処理室
内の処理液１０を感光材料Ｓの膜面と平行で搬送方向と
直交する方向に流すような構成とすることもできる。
このように液流を形成することによって、処理室間での
処理液の移動量を少な（し、処理室における濃度勾配を
維持し、処理効率を向上することが可能となる。
また、このような液流を形成する処理室は一部であって
もよい。
なお、このような液流の流速は２０〜
２０、ＯＯＯｍｊ／分程度とする。
本発明における複数の処理室に区画された処理槽は、図
示のものに限定されず感光材料が大気と接触することな
（処理できるものであれば、いかなるものでもよい。
本発明の感光材料の処理方法により処理される感光材料
の種類は特に限定されず、カラーおよび黒白のいずれの
感光材料であってもよい。
例えばカラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラ
ー印画紙、カラーポジフィルム、カラー反転印画紙、製
版用写真感光材料、Ｘ線写真感光材料、黒白ネガフィル
ム、黒白印画紙、マイクロ用感光材料等の各種感光材料
等が挙げられる。
また、処理液の具体例としては、次のようなものが挙げ
られる。
カラー現像液は、一般に発色現像主薬を含むアルカリ性
水溶液から構成される。
発色現像主薬としては、−級芳香族アミン現像剤、例え
ばフェニレンジアミン類（例えば４−アミノ−Ｎ、Ｎ−
ジエチルアニリン、３−メチル−４−アミノ−Ｎ、Ｎ−
ジエチルアニリン、４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−
ヒドロキシエチルアニリン、３−メチル−４−アミノ−
Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリン、３−
メチル−４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−メタンスル
ホンアミドエチルアニリン、４−アミノ−３−メチル−
Ｎ−エチル−Ｎ−β−メトキシエチルアニリン等）を用
いることができる。
発色現像液としては、上記のほか、ｐ）ｌ緩衝剤、現像
抑制剤ないしカブリ防止剤等を含むことができる。
また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、現
像促進剤、色素形成カプラー 競争カプラー かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
黒白現像液としては、ジヒドロキシベンゼン類（例えば
ハイドロキノン） ３−ピラゾリドン類（例えばｌ−フ
ェニル−３−ピラゾリドン）、アミノフェノール類（例
えばＮ−メチル−ｐ−アミノフェノール）等の現像主薬
を単独あるいは組合わせて用いることができる。
定着液としては、ハロゲン化銀に対して定着作用のある
化合物（定着剤）としてはチオ硫酸アンモニウム、チオ
硫酸ナトリウム（ハイポ） ハロゲン化アンモニウム、
チオ尿素、チオエーテル等を含むものが挙げられる。
漂白液としては、漂白剤として、ポリカルボン酸の鉄塩
、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサジン等を
含むものが挙げられる。 これらのうちフェリシアン化
カリ、エチレンジアミン四酢酸鉄（Ｉｌｌ ）ナトリウ
ムおよびエチレンジアミン四酢酸鉄（ＩＩＩ ）アンモ
ニウムは特に有用である。 また、上記漂白剤および定
着剤の双方を含む漂白・定着液とすることもできる。
定着液（漂白・定着液）には、定着剤の他に、通常、亜
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
また、漂白液（漂白・定着液）には、米国特許筒３，０
４２，５２０号、同第３．２４１゜９６６号、特公昭４
５−８５０６号、特公昭４５−８６３６号などに記載の
漂白促進剤、特開昭５３−６５７３２号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
〈実施例〉
以下、本発明を具体的実施例について説明する。<Industrial Application Field> The present invention relates to a method for processing a photosensitive material by wet processing a silver halide photosensitive material. <Prior art> In general, in wet processing, silver halide photosensitive materials (hereinafter simply referred to as photosensitive materials) after exposure are subjected to processing such as development, fixing (or bleaching/fixing@), washing with water, etc. according to the processing steps. It has been subjected. Such processing is usually carried out by sequentially transporting a developing solution, a fixing solution, etc. between processing tanks using an automatic developing machine or the like. In recent years, environmental conservation and
There is a growing demand for resource saving, and saving processing solutions, especially developing solutions, has become an issue. In order to save developer, it is necessary to increase development efficiency, and it is actually known that development efficiency can be increased by processing using a plurality of developer tanks containing a predetermined amount of developer. For this reason, a so-called multistage countercurrent method (number of stages from 2 to 9) has been applied as a method capable of developing with a small amount of developer. <Problem to be solved by the invention> However, in the above method, multiple processing tanks are installed in parallel, which increases the size of the device and requires a large installation space. ) cannot be said to be sufficiently reduced. The present invention was made in view of the shortcomings of the prior art, and its purpose is to reduce the amount of processing liquid replenishment required for photosensitive materials, which requires a small device and requires little installation space. An object of the present invention is to provide a processing method. <Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention as described below. That is, the present invention provides a method for wet processing a silver halide photosensitive material after exposure. A method for processing a photosensitive material, comprising filling each processing chamber of a processing tank having a plurality of processing chambers with a processing liquid, and passing the photosensitive material sequentially through each of the processing chambers without coming into contact with the atmosphere. This is a method for processing a silver halide photosensitive material, characterized in that the processing method for a photosensitive material is characterized in that each of the processing chambers processes a photosensitive material with a processing liquid having a different composition. It is preferable that the processing method for a photosensitive material replenishes the processing solution from at least one of the following methods. The efficiency of the second processing is increased by processing without contact with the atmosphere.Therefore, while maintaining good photographic properties, the amount of processing solution consumed (replenishment amount) can be reduced. The specific structure of the invention will be explained in detail. FIG. 1 shows an example of the structure of a processing tank used when carrying out the method for processing silver halide photosensitive materials of the invention. The processing tank is a so-called slit-type processing tank, and has a processing path 15 having a slit-like cross section. The processing is carried out by sequentially transporting the photosensitive material S with the processing solution 10 placed in each processing chamber.
The amount of liquid used can be reduced. The processing tank shown in FIG. 1 has a structure in which a lid 41 with a rectangular upper lid 56 suspended is disposed at the upper opening of the housing 55. A handle 43 is provided at the center of the upper surface of the lid 41. The upper lid 56 is composed of a plurality of upper lid members 12 made of, for example, resin and arranged approximately vertically.2 Reels 16 to 20 for feeding the photosensitive material are arranged at the joints of the upper and lower ends of these upper lid members 12. Inside the housing 55, a tank wall material 14 that is combined with the upper lid material 12 to form the processing path 15 is arranged.
Therefore, the upper lid material 12 and the tank wall material 14 form a slit-shaped processing path 15 that continues in a wave pattern, and reels 16 to 20 for feeding the photosensitive material are arranged at the upper and lower curved portions of the processing path 15, respectively. It turns out. In the present invention, the gap distance of the slit-shaped processing path 15 through which the photosensitive material S passes may be 0.2 to 501 mm, preferably 0.4 to 1 OIII11. By setting such a gap distance, there is less dead space between the photosensitive material and the processing path or reel, etc., and the photosensitive material is less likely to be scratched, so it can be transported without any trouble. length and e.g. reel 16 and reel 1
It is preferable that the length of the treatment path 15 between the treatment path 15 and the treatment path 7 is 5 cm or more, preferably 10 cm or more. Outside the processing tank, there is a photosensitive material carrying-in side rail 24 for carrying the photosensitive material S into the entrance of the processing path 15, and a processing path 1.
Photosensitive material unloading reel 2 for unloading from the exit section of 5
6 is installed. The processing path 15 is filled with the processing liquid 10 up to the liquid level L, and when processing the photosensitive material S, fresh processing liquid (hereinafter referred to as replenisher) is supplied. The supply of this replenisher varies depending on the type of processing solution, but
For example, in the case of a developer, a fixer, a bleach, or a bleach-fixer, it is preferable to carry out the cleaning from the photosensitive material entrance side of the processing path 15. In the configuration example shown in FIG. 1, the liquid supply port 36 that discharges the replenisher
is the photosensitive material entrance side of the upper part of the processing path 15 (below the reel 24)
On the other hand, on the photosensitive material outlet side, a liquid drain port 35 for discharging the processing liquid 10 by overflow is installed at a liquid level L. As a result, the replenisher supplied from the liquid supply port 36 passes through the U-shaped processing path 15 for the photosensitive material S.
flows in the same direction as the conveyance direction (parallel flow), and the degraded processing liquid is discharged from the waste liquid port 35 in an amount that is approximately the same as the replenishment amount. In this way, the parallel flow of the processing solution (particularly the developer) has the advantage that the sensitivity of the photosensitive material S is improved. In addition, in the present invention, the liquid supply 036 and the liquid drain port 35 may be installed in any of the processing chambers 60A in the processing path 15, and the replenishing liquid may be supplied or discharged from two or more processing chambers. good. A partitioning member 141 is installed in such a processing path 15 to partition the processing path 15 into a plurality of processing chambers 60A. FIG. 2a is an enlarged cross-sectional front view of the partition member 141 shown in FIG. 1. As shown in the figure, the partition member 141 includes a flange portion 241 that does not substantially deform, and a thickness that gradually decreases toward the tip.
Thin wall portion 24 that can be easily deformed by entering the photosensitive material S
It consists of 2. Such a pair of partition members 141 each have a top cover material 1.
2 and the tank wall material 14. That is, the upper lid material 12 and the tank wall material 14 each have a treatment path 15.
The flange portions 241 of each partition member 141 are attached to the recesses 120 and 140 formed on the sides by fasteners such as bolts 245, for example. The tips of the thin-walled portions 242 are in close contact with each other, so that the upper and lower processing paths 15 in the drawing of the partitioning member 141 are connected to the plurality of processing chambers 60A.
It is separated into Such a partitioning member 141 has a configuration suitable for easily allowing passage of the photosensitive material S and preventing backflow of the processing liquid 10. The constituent material of the partition member 141 is, for example, NRlI R,S.
Diene rubbers such as BR, BR, CR, NBR%NIR1NBIR, IIF(, EPM%EPDM, U%Q,
Non-diene rubber such as CM, various rubbers such as fluororubber, silicone rubber, urethane rubber, elastomers such as Thermolan, Lavalon, Hytrel, etc., soft resins such as polyethylene, silicone resin, Teflon, etc., or a combination of two or more of these. Among them, durability, chemical resistance to processing liquid Q (deformation,
Neorene rubber, silicone rubber, butadiene rubber, neorene-butadiene rubber, or Teflon, nylon,
Soft resins such as polyethylene are preferred. As shown in the lower part of FIG. 3, the partitioning member 141 closes the thin wall portion 24 when the photosensitive material S is not passing through (without replenishing the processing liquid).
The tips of the two are in close contact with each other, thereby blocking the processing path 15 and blocking the flow of the processing liquid 10 between adjacent processing chambers. Note that the adhesion force between the thin-walled portions 242 is usually given by the elastic force of the thin-walled portions, but if a magnetic material is mixed in the thin-walled portions 242 (for example, a rubber magnet), the thin-walled portions are attracted to each other. It is also possible to give or increase adhesion by applying the adhesive. According to such a partitioning member 141, when the photosensitive material S is not being conveyed, the tips of the thin wall portions 242 are in close contact with each other, and when the photosensitive material S is being conveyed, the thin wall portions 242 are pushed open as the photosensitive material S enters, allowing the photosensitive material S to pass through. becomes. By providing such a partitioning member 141, when the photosensitive material S is not being processed, there is almost no flow of the processing liquid between adjacent processing chambers, and when it is being processed, there is only a slight flow of the processing solution. During processing, the photosensitive material is not exposed to the atmosphere and does not come into contact with air, so processing efficiency is improved and the amount of processing liquid used (replenishment amount) can be reduced. Here, "there is almost no flow" means that the amount of processing liquid transferred between processing chambers is so small that it can be ignored, for example, the amount of processing liquid transferred is less than 2 ml per minute. Refers to the case. In addition, "there is only a small amount of circulation" means that the amount of movement of processing liquid between processing chambers (preferably movement in the same direction as the transport direction of the photosensitive material) is approximately the same amount as the amount of replenisher supplied. However, it is preferable that the amount of movement of the processing liquid is, for example, 1 to 2011 IjZ. The processing efficiency is improved in this way because a liquid composition gradient is reliably formed in the processing liquid along the longitudinal direction of the processing path 15.
This is because it is maintained. That is, the processing liquid in the processing chamber 60A where the liquid supply port 36 is located is the freshest, the degree of deterioration increases sequentially in subsequent processing chambers, and the processing liquid in the processing chamber where the liquid drain port 35 is located is the most deteriorated. Become. FIG. 2b is an enlarged sectional front view showing another example of the configuration of the partitioning member. As shown in the figure, the partitioning member 99 includes a pair of roller mounting tables 93.94 fixed to the wall surfaces of the upper cover material 12 and the tank wall material 14 so as to face each other, and an upper part of each roller mounting table 93.94. It is composed of a pair of rollers 91 and 92 that are movably placed on the inclined surface of the roller. According to this partitioning member 99, as shown in the lower part of FIG. 2b, when the photosensitive material S does not pass, the pair of rollers 91 and 92
The two go down the slope due to zero pressure, and their outer peripheral surfaces come into contact with each other and come into close contact. As a result, the processing path 15 is blocked, and the flow of the processing liquid 10 between adjacent processing chambers 604 is almost eliminated. As shown in the upper part of FIG. 2b, during processing, when the photosensitive material S passes through the partitioning member 99, both rollers 91.
92 ascends the inclined surface, the photosensitive material S enters between both rollers, and passes in the direction of the arrow in the figure while rotating the rollers. After the photosensitive material S passes through the partitioning member 99, the partitioning member 9
9 returns to its original state shown at the bottom of FIG. 2b, and the roller 9
The outer peripheral surfaces of 1.92 come into contact with each other and are in close contact with each other, and the processing liquid 1 is applied again.
Block the distribution of 0. Such a partitioning member 99 also produces the same functions and effects as described above. The constituent material of the rollers 91 and 92 is preferably one that has durability and chemical resistance against the processing liquid 10, and does not alter the processing liquid and adversely affect the development characteristics, etc., such as neorene, butadiene, etc. , various natural rubbers such as neoprene-butadiene, synthetic rubbers, polyethylene, polypropylene, ABS resins, polyamides, polyacetals,
Examples include various resins such as polyphenylene oxide, polyester, hard vinyl chloride, and phenol resin, ceramics such as alumina, metals having corrosion resistance such as stainless steel, titanium, and Hastelloy, or combinations thereof. Furthermore, the following various treatments may be applied to the outer circumferential surfaces of the rollers 91 and 92. For example, the cylindrical surface of the roller can be coated with Teflon, nylon, fluororesin, etc., and if the cylindrical surface of the roller is made of metal, it can be smoothed by electropolishing, electrolytic plating, etc. If the cylindrical surface is made of ceramics, fluorine treatment or the like can be applied. Note that the joining of the rollers 91 and 92 is not limited to the method of lowering the inclined surface due to their own weight, but may be configured to press the rollers together using a biasing means (not shown) such as a spring. Further, in the illustrated example, the rollers 91 and 92 are configured to move as the photosensitive material S passes, but driving means (not shown) for moving both rollers is provided, and the movement of the rollers 91 and 92 moves the portion through which the photosensitive material passes. It may be configured to open and close. Note that such partitioning members 141 or 99 are preferably installed at intervals of, for example, 10 to 80 cm in the longitudinal direction of the processing path 15. Furthermore, it goes without saying that the configuration of the partitioning member is not limited to that described above. Note that the processing tank in the present invention includes a replenishing tank, a stirring means,
Circulation means (none of which are shown) or the like may be appropriately installed. Further, the housing 55 is filled with hot water to keep the temperature of the processing liquid constant. In an apparatus having such a configuration, the photosensitive material S is carried into the processing path 15 filled with processing liquid via the reel 24 by the index of the leader tape, for example, and the photosensitive material S is carried into the processing path 15 filled with processing liquid.
0, passes sequentially through each processing chamber 60A formed in the processing path, is processed, exits the processing path 15, and is sent to the next process via the reel 26. In this case, the photosensitive material S does not come into contact with the atmosphere, especially the open atmosphere, while passing through the processing path. This has the following advantages. l) The time required for crossover between processing tanks is omitted, and the actual processing time is secured. 2) Gases such as ammonia gas that are harmful to photography (causing developer fog) are generated in the bleaching/fixing tank, but in addition to suppressing the dispersion of this harmful gas, compared to the case where multiple developer tanks are installed side by side, The chances of contact between harmful gases and photosensitive materials are reduced, and development fog can be prevented. 3) When the photosensitive material in the atmosphere enters the developer, air is drawn in, causing oxidation of the developer. In particular, when multiple developer tanks are installed in parallel, the photosensitive material wetted with the developer comes into contact with the atmosphere during crossover between the developer tanks and adsorbs COI gas on the surface, and this CO gas is absorbed into the developer. The pH is lowered by mixing with In the present invention, since such a problem is prevented, the amount of developer replenishment can be reduced. FIG. 3 shows another example of the structure of the processing tank used for implementing the present invention. The processing tank shown in the figure has a housing 2 which has a plurality of processing chambers 6A to 6A formed by a main roller 4, a partition member 5, etc.
It is divided into 6K processing chambers, each processing chamber is filled with processing liquid 10, and the photosensitive material is processed by sequentially passing through these processing chambers 6A to 6K. By using a treatment tank having such a configuration, the amount of treatment liquid used can be reduced. As shown in FIG. 3, above the housing 2, a carry-in roller 45 for carrying the photosensitive material S into the processing liquid IO and a carry-out roller 47 for carrying out the processed photosensitive material S are installed. Inside the housing 2 of the processing tank, main rollers 4 for conveying the photosensitive material S are arranged in multiple stages at predetermined intervals. Some or all of these main rollers 4 are driven and rotated by an arbitrary driving means (not shown). A partitioning member 5 is installed between each main roller 4 .
The partitioning member 5 has both ends thereof in contact with the upper and lower main rollers 4, respectively, and divides the space inside the housing 2 into left and right sides. Such a main roller 4, partition member 5 and housing 2
The processing chambers 6A to 6K are defined by the inner walls of the processing chambers 6A to 6K. The number of processing chambers 6 in one housing 2 is, for example,
The number is about 3 to 19, and the volume of one processing chamber 6 may be the same as described above. Since the partition member 5 slides on the rotating main roller 4 and serves as a boundary between the left and right processing chambers, its constituent materials are as follows:
It is preferable that the material has durability, that it does not cause deformation, expansion, strength reduction, etc. to the processing liquid 10, and that it does not alter the quality of the processing liquid and adversely affect photographic properties. Also,
It is preferable that at least the front end of the partitioning member 5 is made of an elastic material in order to obtain a sealing effect. From this point of view, the partition member 5 is preferably made of an elastomer such as various rubbers or various soft resins. A reversing guide 30, 30 for reversing the descending photosensitive material S and raising it is installed below the main roller 4 at the lowest stage. Further, between the two reversing guides 30 and 30, a guide roller 3 that holds the photosensitive material S between it and the main roller 4 is provided.
1 is installed. A guide 7 for guiding the photosensitive material S is installed on the inner wall of the housing 2 in each processing chamber 6. A photosensitive material S is placed between the upper part of this guide 7 and the main roller 4.
A photosensitive material passing gate 8 is formed through which the photosensitive material passes. Further, as shown in FIG. 4, the guide surface 70 of the guide 7
1 is formed with a taber that guides the photosensitive material S to the next photosensitive material passing gate 7 . At the upper end of the guide 7, there is an inclined surface 702 on which a free roller 9, which will be described later, is placed.
is formed. A free roller 9 is installed at the photosensitive material passage gate 8 as a shutter means for opening and closing the gate. This free roller 9 has a diameter larger than the width of the photosensitive material passage gate 8, and can freely roll on the inclined surface 702 at the upper end of the guide. When the photosensitive material S is not passing through, the free roller 9 moves down the slope 702 due to its own weight and rotates while contacting the main roller 4 (solid line in FIG. 4), thereby closing the photosensitive material passing gate 8. On the other hand, when the photosensitive material S is conveyed, the free roller 9 ascends the inclined surface 702 as the photosensitive material S advances, and rotates while holding the photosensitive material S between it and the main roller 4 (point (lit) in FIG. 4). photosensitive material S
It becomes possible to pass through. Note that the free roller 9 may be pressed against the main roller 4 by a biasing means (not shown) such as a spring. Further, the free roller 9 does not need to completely close the photosensitive material passage gate 8 in a liquid-tight manner, and may be such that the processing liquid 10 flows slightly through the photosensitive material passage gate 8 when the photosensitive material S passes through. The constituent materials of the main roller 4 and the free roller 9 are durable and do not cause deformation, expansion, or decrease in strength with respect to the processing liquid 10 (and do not alter the quality of the processing liquid 10 and adversely affect photographic properties, etc.). For example, it is preferable that there is no
The various rubbers, various resins, ceramics, corrosion-resistant metals (stainless steel, titanium, Hastelloy, etc.) mentioned above, or a combination thereof can be used. Further, the cylindrical surface of the roller may be subjected to various surface treatments. In the illustrated example, the free roller 9 is configured to move as the photosensitive material S passes, but the free roller 9
A configuration may also be adopted in which a drive means (not shown) is provided to move the photosensitive material passage gate 8 and the photosensitive material passage gate 8 is opened and closed by the movement of the drive means (not shown). The shutter means in the present invention is the free roller 9
Not limited to the opening/closing member (for example,
Any type of device may be used, such as a movable piece, a squeegee using an elastic body, etc., or a combination of this opening/closing member and a free roller as described above. Further, the shutter means may have any structure, such as a labyrinth, which allows the photosensitive material to pass through the photosensitive material passage gate, but prevents the washing liquid from passing through. A liquid supply port 23 for supplying and discharging the processing liquid 10 and a liquid drain port 22 are installed near the liquid level of the processing liquid in the processing chambers 6A and 6 located at the upper part of the housing 2. Note that, as described above, the installation positions and the number of installations of the liquid supply port 23 and the liquid drain port 22 are not limited to those shown in the drawings. In the apparatus configured as described above, the photosensitive material S is carried into the processing liquid 10 of the processing tank by the carry-in roller 45, sequentially conveyed through each of the processing chambers 6A to 6K and processed, and then carried out by the carry-out roller 47. Ru. There is no contact with the atmosphere while the photosensitive material S passes through the processing chambers 6A to 6K. Note that it is preferable that the processing liquid has a parallel flow. FIG. 5 and FIG. 6 show still other configurations of the processing tank used for implementing the present invention. In the processing tank shown in these figures, a rack 3 is inserted into the tank, and a block body 40.50 is installed between the side plates 32, 33 of the rack 3. The block body 40 is inserted inside the block body 50, and in this inserted state, five processing chambers 65A, 165B, 65, which are spaces for processing the photosensitive material S,
C165D. 65E is formed. In addition, adjacent processing chambers 65A and 65B, 65B and 65C, 165C, 65D and 65D
and 65E, there is a narrow passageway 7 that connects the image processing room.
1.72.73 and 74 are formed. Further, similar passages 75 and 76 for carrying in and carrying out the photosensitive material S are formed in the upper part of the processing chamber 65A and the processing chamber 65E, respectively. Although the block bodies 40 and 50 are solid in the illustrated example, they are not limited to this, and may be hollow, and may be made of resin or the like. The width (gap distance) of these passages 71 to 76 is preferably about 5 to 40 times the thickness of the photosensitive material S. With such a path width, the photosensitive material S can be conveyed without any trouble. In addition, in order to further improve conveyance, the passages 71 to 76
The inner wall surface may be subjected to water repellent treatment or the like. A pair of transport rollers 85 is installed near the center of each of the processing chambers 65A, 65B, 65D, and 65E, and three pairs of transport rollers 85 are installed in the processing chamber 65C located at the bottom. Further, near the photosensitive material entrance of the passage 75, there is a carry-in roller 82 for carrying the photosensitive material S into the processing liquid 10, and the passage 76
Five carry-out rollers 83 for carrying out the photosensitive material S are installed near the photosensitive material outlet. These carry-in roller 82, carry-out roller 83, and each transport roller 85 are pivotally supported by the block body 40 or block body 50, and one or both of the pair of rollers is driven to rotate, and the photosensitive material is held between the rollers. Photosensitive material S
It is designed to transport. As shown in FIG. 6, the drive mechanism of the conveyance rollers 85 includes a bevel gear 803 fixed at a predetermined position on a main shaft 802 that is vertically supported in the figure, and one end of the rotating shaft 801 of each conveyance roller 85. The main shaft 80 engages with a bevel gear 804 fixed to the
2 in a predetermined direction, each conveying roller 85
is set to rotate. In this case, the rotation shaft 801a of the carry-in roller 82 is the main shaft 80
2, a driven shaft 806 supported parallel to the main shaft 802 via a gear train including a gear 805 fixed to the main shaft 802 is provided, and a bevel gear 803 fixed to the driven shaft 806, The rotating shaft 801 is meshed with a bevel gear 804 fixed to one end of the rotating shaft 801a.
Rotate a. Further, a gear 807 is fixed to the rotating shaft 801a inside a bevel gear 804, and by meshing this gear 807 with a gear 808 fixed to one end of the rotating shaft 801b of the other carry-in roller 82, both conveyance rollers 8 drive and rotate at the same time. The transport rollers 85 in each processing chamber are configured such that one roller is driven to rotate, and the other roller is driven to rotate when the circumferential surfaces of both rollers come into contact with each other. Note that both rollers may be coupled with gears, and both rollers may be driven and rotated. The constituent material of such a roller may be any material as long as it has durability and does not cause deformation, expansion, strength reduction, etc. with respect to the washing liquid, and may be the same as the above-mentioned roller. Conveyance rollers 8 in processing chambers 65A, 65B, 65D, and 65E
A pair of guides 95 for guiding the photosensitive material S are installed near the top and bottom of the photosensitive material S. In addition, processing chamber 65C
A reversing guide 96 is installed between the transport rollers 85, which is curved in an arc shape and changes the direction of the photosensitive material S along this curved portion. These guides 95,96 are made of, for example, molded plastic or metal plates, and have substantially uniform openings 90 extending through them. The presence of this opening 90 allows the processing liquid 10 to flow, promoting circulation and increasing processing efficiency. A liquid supply port 13 and a liquid drain port 11 for supplying and discharging the processing liquid near the upper liquid level of the processing chamber 65E and the processing chamber 65A.
are installed respectively. Note that, similarly to the above, the installation positions and the number of installations of the liquid supply port 13 and the liquid drain port 11 are not limited to those shown in the drawings. The connecting portions of the processing chambers 65A to 65E with the passages 71 to 76 are covered (sealed) when the photosensitive material S does not pass through.
Valves 53a and 53b are installed as shielding means. As shown in FIG. 6, the valves 53a and 53b are both roller-shaped (conical) with a reduced diameter at both ends, but the configurations of the valves 53a and 53b are different. Since the specific gravity of the valve 53a is smaller than that of the processing liquid 10,
It floats due to buoyancy and shields the upper part of each processing chamber 65A to 65E. On the other hand, since the specific gravity of the valve 53b is greater than that of the processing liquid 10, the valve 53b settles, and each processing chamber 65
This shields the lower portions of A, 65B, 65D, and 65E. The specific gravity of the valves 53a and 53b can be adjusted by selecting their constituent materials. For example, valve 53
When the valve 53a and the valve 53b are solid rollers, foamed polypropylene, foamed polyphenylene oxide (PPO), foamed ABS, etc. are used as the constituent material of the valve 53a, and the valve 1
As constituent materials of 3b, hard vinyl chloride, ABS resin,
PPO or the like may be used. Further, even if the valve 53a is made of a material having a higher specific gravity than the processing liquid IO, buoyancy can be given by making the valve 53a a hollow roller as shown. Moreover, the specific gravity of the valve 53b as a whole can be increased by inserting a core material such as a metal (not shown) into the valve 53b if necessary. From the viewpoint of improving the shielding properties of the passages 71 to 76, the valves 53a and 53b may be made of an elastic material such as silicone rubber or various other elastomers, or the rollers of the valves 53a and 53b may be made of these materials. It is preferable to cover the peripheral surface of the valves 53a and 53b. Such valves 53a and 53b block the entrances and exits of the passages 71 to 76 when the photosensitive material S is not passing through, but when the photosensitive material S is passing through the valves 53a and 53b, , is pressed by the photosensitive material S and rolls along the inclined surfaces 54a and 54b formed on the block body 40.50, allowing the photosensitive material S to pass.After the photosensitive material S has passed, The valves 53a and 53b return to their original positions and again close the entrances and exits of the passages 71 to 76. Note that the configuration of the shielding means in each of the processing chambers 65A to 65E is not limited to that shown in the drawings, and may be modified in various ways. In an apparatus having such a configuration, the photosensitive material S is carried into the processing liquid 10 of the processing tank by the carrying roller 82, and is sequentially carried through each of the processing chambers 65A to 65E by the carrying roller 85, and then processed. , and is carried out by the carrying-out roller 83. While the photosensitive material S passes through the processing chambers 65A to 65E, there is no contact with the atmosphere. Note that it is preferable that the processing liquid has a parallel flow. A circulation path and a liquid flow forming means are installed for the processing liquid that circulates inside and outside the processing chamber, so that the processing liquid 10 in each processing chamber flows in a direction parallel to the film surface of the photosensitive material S and perpendicular to the transport direction. By forming the liquid flow in this way, the amount of movement of the processing liquid between processing chambers can be reduced (and the concentration gradient in the processing chamber can be maintained, thereby improving processing efficiency). In addition, the processing chamber that forms such a liquid flow may be a part of it.The flow rate of such a liquid flow is approximately 20 to 20,000 mj/min. The processing tank divided into the processing chambers is not limited to the one shown in the figure, but any type may be used as long as the photosensitive material can be processed without coming into contact with the atmosphere. The type of photosensitive material used is not particularly limited, and may be either color or black and white photosensitive materials.For example, color negative film, color reversal film, color photographic paper, color positive film, color reversal photographic paper, photosensitive material for plate making, etc. Examples of the processing liquid include the following: Color developers generally consist of an alkaline aqueous solution containing a color developing agent. Color developing agents include -class aromatic amine developers, such as phenylene diamines (e.g. 4-amino-N, N-
Diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N,N-
Diethylaniline, 4-amino-N-ethyl-N-β-
Hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-
N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-
Methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-methanesulfonamidoethylaniline, 4-amino-3-methyl-
N-ethyl-N-β-methoxyethylaniline, etc.) can be used. In addition to the above, the color developing solution may contain a p)l buffer, a development inhibitor or an antifoggant, and the like. In addition, if necessary, water softeners, preservatives, organic solvents, development accelerators, dye-forming couplers, competitive couplers, fogging agents, auxiliary developers, viscosity imparting agents, polycarboxylic acid chelating agents, antioxidants, alkalis, etc. It may also contain agents, solubilizers, surfactants, antifoaming agents, and the like. The black and white developer may contain developing agents such as dihydroxybenzenes (e.g. hydroquinone), 3-pyrazolidones (e.g. l-phenyl-3-pyrazolidone), aminophenols (e.g. N-methyl-p-aminophenol), etc. alone or in combination. Can be used together. As a fixing solution, compounds that have a fixing effect on silver halide (fixing agents) include ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate (hypo), ammonium halide,
Examples include those containing thiourea, thioether, etc. Examples of the bleaching solution include those containing iron salts of polycarboxylic acids, red blood salts, bromate compounds, cobalt hexazine, and the like as bleaching agents. Of these, potassium ferricyanide, sodium iron(Ill) ethylenediaminetetraacetate, and ammonium iron(III) ethylenediaminetetraacetate are particularly useful. Furthermore, a bleaching/fixing solution containing both the bleaching agent and the fixing agent described above may be used. In addition to the fixing agent, the fixing solution (bleach/fixing solution) can usually contain fixing aids such as preservatives such as sodium sulfite, acid agents, buffers, and hardening agents. In addition, the bleaching solution (bleaching/fixing solution) has US Patent No. 3,0
No. 42,520, No. 3.241゜966, Special Publication No. 4
In addition to the bleaching accelerators described in Japanese Patent Publication No. 5-8506 and Japanese Patent Publication No. 45-8636, and the thiol compounds described in Japanese Patent Application Laid-open No. 53-65732, various additives can also be added. <Examples> The present invention will be described below with reference to specific examples.
【実施例１］
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体の上に、以
下に示す層構成の多層印画紙を作製した。 塗布液は下
記のようにして調製した。
（第−層塗布液調製）
イエローカプラー（ＥｘＹ−１）８よび（ＥｘＹ−２）
各々１０．２ｇ、９．１ｇおよび色像安定剤（Ｃｐｄ−
１）４．４ｇに酢酸エチル２７．２ｃｃおよび高沸点溶
媒（Ｓｏｌｖ−１）７．７ｃｃ （８，０ｇ）を加え溶
解し、この溶液を１０％ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム８ｃｃを含む１０％ゼラチン水溶液１８５ｃｃ
に乳化分散させた。 この乳化分散物と乳剤ＥＭＩおよ
びＥＭ２とを混合溶解し、以下の組成になるようゼラチ
ン濃度を調節し第−層塗布液を調製した。 第二層から
第七要用の塗布液も第−層塗布液と同様の方法で調製し
た。 各層のゼラチン硬化剤としてはｌ−オキシ−３，
５−ジクロロ−５−）リアジンナトリウム塩を用いた。
また、増粘剤としては（Ｃｐｄ−２）を用いた。
（層構成）
以下に各層の組成を示す、 数字は塗布量（ｇ／ｎｆ）
を表わす、 ハロゲン化銀乳剤は銀換算塗布量を表わす
。
支持体
ポリエチレンラミネート紙
［第一層側のポリエチレンに白色顔料
（ＴｉＯ２）と青味染料を含む。】
第−層（青感層）
増感色素（ＥｘＳ−１）で分光増感された単分散塩臭化
銀乳剤（ＥＭＩ） ・・・０．１３増感色素（ＥｘＳ
−１）で分光増感された単分散塩臭化乳剤（ＥＭ２）
・・・０．１３ゼラチン
・・・１．８６イエローカブラー（Ｅ ｘ Ｙ −１）
＝・０．４４イエローカプラー（ＥｘＹ−２）
−・−０，３９色像安定剤（Ｃｐｄ−１） ・
・・０．１９溶媒（Ｓｏ ｌ ｖ−１）
＝・０．３５第二層（混色防止層）
ゼラチン ・・・０．９９混色
防止剤（Ｃｐｄ−３） ・・・０．０８第三層
（緑感層）
増感色素（ＥｘＳ−２，３）で分光
増感された単分散塩臭化銀乳剤
（ＥＭ３） ・・・０．０５増感
色素（ＥｘＳ−２，３）で分光
増感された単分散塩臭化銀乳剤
（ＥＭ４） ・・・０．）ｌゼラ
チン ・・・１．８０マゼンタ
カプラー（ＥｘＭ−１） −０，３９色像安定剤（Ｃ
ｐｄ−４） ・・・０．２０色像安定剤（Ｃｐ
ｄ−５） ・・・０．０２色像安定剤（Ｃｐｄ
−６） ・・・０．０３溶媒（Ｓｏ １ ｖ−
２） ・・０．１２溶媒（Ｓｏ ｌ ｖ−
３） ・＝０．２５第四層（紫外線吸収層
）
ゼラチン
紫外線吸収剤
（Ｃｐｄ−７／Ｃｐｄ−８／Ｃｐｄ−９＝３７２／６
：混色防止剤（Ｃｐｄ−１０）
溶媒（Ｓｏｌｖ−４）
・・・１．６０
重量比）
・・・０．７０
・・・０．０５
・・・０．２７
第五層（赤感層）
増感色素（ＥｘＳ−４，５）で分光
増感された単分散塩臭化銀乳剤
（ＥＭ５） 、０．０７増感色素
（ＥｘＳ−４，５）で分光
増感された単分散塩臭化銀乳剤
（Ｅ Ｍ ６ ） ・０．１６ゼ
ラチン ・・・０．９２シアン
カプラー（Ｅ ｘ Ｃ−１） ・・−０，３２色像
安定剤
（Ｃｐｄ−８／Ｃｐｄ−９／Ｃｐｄ−１２＝３／４／２
：重量比）・・・０．１７
分散用ポリｖ −（Ｃｐ ｄ −１１） −０，２１
１１溶媒（Ｓｏ ｌ ｖ−２） −・−０
，２０第六層（紫外線吸収層）
ゼラチン ・・・０．５４紫外
線吸収剤
（Ｃｐｄ−７／Ｃｐｄ−９／Ｃｐｄ−１２＝１１５／３
：重量比）・・・０．２１
溶媒（Ｓｏ ｌ ｖ−２） ・０．０８第
七層（保護層）
ゼラチン ・・・１．３３ポリ
ビニルアルコールのアクリル
変性共重合体（変性度１７％） ・・・０，１７流動パ
ラフイン ・・・０．０３また、この
時、イラジェーション防止用染料としては、（Ｃｐｄ−
１３，Ｃｐｄ−１４）を用いた。
さらに各層には、乳化分散剤、塗布助剤として、アルカ
ノールＢ （Ｄｕｐｏｎｔ社製） アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、コハク酸エステルおよびＭａｇｅ
ｆａｃｘ Ｆ−１２０（大日本インキ社製）を用いた。
ハロゲン化銀の安定化剤として、（Ｃｐｄ−１５，１
６）を用いた。
使用した乳剤の詳細は以下の通りである。
乳剤色
形 状 粒子径
（μ）
Ｂｒ含量 変動係数
（ｍｏ１％）
ＭＩ
Ｍ２
Ｍ３
Ｍ４
Ｍ５
Ｍ６
立方体
立方体
立方体
立方体
立方体
立方体
１．０
０．７５
０．５
０．４
０．５
０゜４
０．０８
０．０７
０．０９
０．１０
０．０９
０．１０
使用した化合物の構造式を次に示す。
ＥｘＹ−１
ｌ
ＥｘＹ−２
Ｃ＃
ＥｘＹ−１
ｘＣ−１
Ｉ
ｘＳ−５
ｐｄ−１
ｐｃｔ−２
ｐｄ−３
０■
ｘＳ−１
ｘＳ−２
ｘＳ−３
ｘＳ−４
ｐｃｔ−４
ｐｄ−５
Ｃ，Ｈｓ
ｐｄ−６
ｐｄ−７
し４ＮｇＢ）
ｃｐａ−ｓ
Ｃｐｄ−１３
Ｉ
Ｃｐｄ−９
Ｃｐｄ−１０
ｎ■
Ｃｐｄ−１４
Ｃｐｄ−１１
Ｃｐｄ−１２
ｃｐｃｉ−１５
ｃｐｃｉ−１６
Ｈ
ジブチルフタレート
トリクレジルホスフェート
トリオクチルホスフェート
トリノニルホスフェート
上記の感光材料を像様露光後、下記処理工程にてカラー
現像の連続処理（ランニングテスト）を行った。
Ｕ 温度 特閲 補充鳳° 檀円液鳳カラー現
像 ３８℃ １分４０秒 ２９０ｍ１ ６０
１漂白定着 ３５℃ ６０秒 １８０ｔａ
１ ２０ｇリンス■ ３３〜３５℃ ２０秒
−２０１リンス０ ３３〜３５℃ ２０秒
−２０１リンス■ ３３〜３５℃ ２０秒
３６４ａ＋１ ２０１乾燥 ７０〜８０℃ ５０
秒
＊感光材料１ｍ”あたり
（リンス■−■→■への３タンク向流方式各処理液の組
成は、以下の通りである。
ｈ５−Example 1 A multilayer photographic paper having the layer structure shown below was prepared on a paper support laminated on both sides with polyethylene. The coating solution was prepared as follows. (Preparation of coating liquid for the first layer) Yellow couplers (ExY-1) 8 and (ExY-2)
10.2g, 9.1g and color image stabilizer (Cpd-
1) Add and dissolve 27.2 cc of ethyl acetate and 7.7 cc (8.0 g) of high boiling point solvent (Solv-1) to 4.4 g, and dissolve this solution in a 10% aqueous gelatin solution containing 8 cc of 10% sodium dodecylbenzenesulfonate. 185cc
It was emulsified and dispersed. This emulsified dispersion and emulsions EMI and EM2 were mixed and dissolved, and the gelatin concentration was adjusted to have the following composition to prepare a first layer coating solution. Coating solutions for the second to seventh layers were also prepared in the same manner as the coating solution for the first layer. The gelatin hardening agent for each layer is l-oxy-3,
5-dichloro-5-) riazine sodium salt was used. Moreover, (Cpd-2) was used as a thickener. (Layer composition) The composition of each layer is shown below. The numbers are coating amount (g/nf)
The silver halide emulsion represents the coated amount in terms of silver. Support polyethylene laminate paper [The polyethylene on the first layer side contains a white pigment (TiO2) and a bluish dye. ] th layer (blue-sensitive layer) Monodisperse silver chlorobromide emulsion (EMI) spectrally sensitized with a sensitizing dye (ExS-1) ...0.13 sensitizing dye (ExS-1)
-1) Monodisperse chlorobromide emulsion spectrally sensitized (EM2)
...0.13 gelatin
...1.86 Yellow Cabler (E x Y -1)
=・0.44 yellow coupler (ExY-2)
-・-0,39 color image stabilizer (Cpd-1) ・
・・0.19 solvent (Sol v-1)
=・0.35 Second layer (color mixing prevention layer) Gelatin...0.99 Color mixing prevention agent (Cpd-3)...0.08 Third layer (green sensitive layer) Sensitizing dye (ExS-2, 3) Monodisperse silver chlorobromide emulsion (EM3) spectrally sensitized with 0.05 sensitizing dye (ExS-2,3) Monodisperse silver chlorobromide emulsion (EM4) spectrally sensitized with 0.05 sensitizing dye (ExS-2,3) ...0. )l Gelatin...1.80 Magenta coupler (ExM-1) -0,39 Color image stabilizer (C
pd-4) ...0.20 color image stabilizer (Cp
d-5) ...0.02 color image stabilizer (Cpd
-6) ...0.03 solvent (So 1 v-
2) ...0.12 solvent (Sol v-
3) ・=0.25 Fourth layer (ultraviolet absorption layer) Gelatin ultraviolet absorber (Cpd-7/Cpd-8/Cpd-9=372/6
: Color mixing prevention agent (Cpd-10) Solvent (Solv-4) ...1.60 Weight ratio) ...0.70 ...0.05 ...0.27 Fifth layer (red sensitive layer) Monodisperse silver chlorobromide emulsion (EM5) spectrally sensitized with a sensitizing dye (ExS-4,5), monodisperse salt odor emulsion spectrally sensitized with a 0.07 sensitizing dye (ExS-4,5) Silveride emulsion (EM 6 ) 0.16 gelatin 0.92 cyan coupler (Ex C-1) 0,32 color image stabilizer (Cpd-8/Cpd-9/Cpd-12 =3/4/2
: weight ratio)...0.17 Dispersion poly v -(Cp d -11) -0,21
11 Solvent (Sol v-2) -・-0
, 20 sixth layer (ultraviolet absorbing layer) Gelatin...0.54 ultraviolet absorber (Cpd-7/Cpd-9/Cpd-12=115/3
: weight ratio)...0.21 Solvent (Sol v-2) -0.08 Seventh layer (protective layer) Gelatin...1.33 Acrylic modified copolymer of polyvinyl alcohol (denaturation degree 17%) ...0.17 Liquid paraffin ...0.03 At this time, as the irradiation prevention dye, (Cpd-
13, Cpd-14) was used. Furthermore, each layer contains Alkanol B (manufactured by DuPont), sodium alkylbenzenesulfonate, succinate ester, and Mage as an emulsifying dispersant and coating aid.
facx F-120 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was used. As a stabilizer for silver halide, (Cpd-15,1
6) was used. Details of the emulsion used are as follows. Emulsion color shape Grain size (μ) Br content Coefficient of variation (mo1%) MI M2 M3 M4 M5 M6 Cube Cube Cube Cube Cube 1.0 0.75 0.5 0.4 0.5 0゜4 0.08 0.07 0.09 0.10 0.09 0.10 The structural formula of the compound used is shown below. ExY-1 l ExY-2 C# ExY-1 xC-1 I xS-5 pd-1 pct-2 pd-3 0■ xS-1 xS-2 xS-3 xS-4 pct-4 pd-5 C, Hs pd-6 pd-7 4NgB) cpa-s Cpd-13 I Cpd-9 Cpd-10 n Cpd-14 Cpd-11 Cpd-12 cpci-15 cpci-16 H dibutyl phthalate tricresyl phosphate trioctyl phosphate Trinonyl phosphate After imagewise exposure of the above photosensitive material, continuous color development processing (running test) was performed in the following processing steps. U Temperature special inspection replenishment temperature Danen liquid color development 38℃ 1 minute 40 seconds 290m1 60
1 Bleach fixing 35℃ 60 seconds 180ta
1 20g rinse■ 33-35℃ 20 seconds -201 rinse 0 33-35℃ 20 seconds
-201 Rinse■ 33-35℃ 20 seconds
364a+1 201 drying 70-80℃ 50
seconds * per 1 m'' of photosensitive material (3-tank countercurrent method from rinsing ■-■→■ The composition of each processing solution is as follows. h5-
【ｌ蓬 ムヱ２」水
８００ｍｊジエチレ
ントリアミン五酢酸 １．０ｇニトリロ三酢酸
２．０ｇ１−ヒドロキシエチリデン
−１，１−ジホスホン酸
ベンジルアルコール
ジエチレングリコール
亜硫酸ナトリウム
臭化カリウム
炭酸カリウム
Ｎ−エチル−Ｎ−（βメタン
スルホンミドエチル）−３
−メチルー４−アミノアニ
リン硫酸塩
ヒドロキシルアミン硫酸塩型
５．５ｇ
２．０ｇ
２．０ｇ
１６＋ｎｊ
１０ａ＋１
２、Ｏｇ
０．５ｇ
０ｇ
光増白剤
（ＷｌｌＩＴＥＸ４．住友化学製）
１．５ｇ
水を加えて
ｐＨ（２５℃）
０００ｍ１
１０．２０
補Ｊし液
１１１００ｍ！
１．０ｇ
２゜Ｏｇ
２、Ｏｇ
２ｍ１
０ｍ１
２．５ｇ
０ｇ
７．５ｇ
２．５ｇ
２．０ｇ
１０００ｍ＆
１０．６０
濃」Ｌ定」Ｌ液
水
チオ硫酸アンモニウム（７０％）
亜硫酸アンモニウム
エチレンジアミン
四酢酸鉄（ＩＩＩ）
アンモニウム
エチレンジアミン
四酢酸二ナトリウム
之」２と放
４００ｏ＋ｊ
８ｈ！
４ｇ
０ｇ
ｇ
補ＪＬ液
００ｍ１
５ｍ１
２ｇ
０ｇ
０ｇ
水を加えテ１０００ｍ１ １０００ｍ！ｐＨ（２５℃）
６．５０ ６．００ユ
］二瓦放
イオン交換水（カルシウム、マグネシウム各々３ ｐｐ
ｍ以下）
（処理方法Ａ）
富士写真フィルム社製カラーペーパー自現機であるガイ
ド付ロールプロセッサーＦＰＲＰ−１１５の改造機（現
像槽内の液量：６０ρ）を用いてランニング現像処理を
行った。
ランニング条件は、１日１０時間温調し、１日１回感光
材料０．２０１”の処理を行い、これを２ケ月間続行し
た。
なお、現像液の補充量は２９０ ｍｊ／ｍ２とした。
（処理方法Ｂ）
処理方法Ａにおいて、カラー現像液の補充量を２５％増
加（３６３Ｉｌｆｆｉ／ｌ１２）シて同様に２ケ月間ラ
ンニングを続行した。
（処理方法Ｃ）
上記ＦＰＲＰ−１１５改造機をさらに改造し、現像槽の
みを第５図および第６図に示す構造としたものを用いた
。
現像槽における処理室の数は５室であり、各処理室の容
積は３００＋ａ！とした。
また、現像液の補充は、感材入側から３番目の処理室（
第３処理室）へ行った。
（処理方法Ｄ）
処理方法Ｃにおいて、現像液の補充を感材入側から１番
目の処理室（第１処理室）とし、また補充量を２０％減
少（２３２ｍｌ／ｍ”）させた。
処理方法Ａ−Ｄについて２ケ月後に得られた写真性能（
新液との比較）を下記表１に示す。
表中、写真性能の代表特性として、ＧＬの感度をΔｌｏ
ｇＢで表わす。
表 １
表１に示されるように、本発明の処理方法ＣおよびＤに
よれば、現像液の補充量を増すことなく高い写真性能を
維持することができた。
また、処理方法りでは、補充液の供給を所定位置の処理
室に行うことにより、補充量をさらに低減しても写真性
能を維持できることが確認された。
【実施例２】
（処理方法Ｅ）
現像槽をスリット型処理槽とし、その処理路に第２ａ図
に示す構造の区画部材（シリコーンゴム製）を設けたも
のを用いた以外は前記処理方法Ｃと同様とした。
現像槽における処理路の寸法は、厚さ３１ＩＩｌｌｌ、
幅１５０１１１１％全長３．４ｍであり、処理室の数は
１０室、各処理室の容積は１５０ｍ１とした。
また、現像液の補充は、感材入側から２番目の処理室（
第２処理室）へ行い、その補充量は、２３２ ｍｌ／ｍ
”とした。
（処理方法Ｆ）
現像液の補充量を２０３ ｃａｌ／ｍ２とした以外は処
理方法Ｅと同様とした。
これらの処理方法について、得られた結果を前記と同様
、下記衣２に示す。
表 ２
本発明の処理方法ＥおよびＦによれば現像液の補充量が
少な（、かつ写真性能も良好に維持されている。
［実施例３］
（処理方法Ｇ）
現像については前記処理方法Ｆを実行し、漂白・定着液
のテストを行った。
漂白・定着槽内の液量は２０４２で、１日ｌＯ時間温調
し、１日１回感光材料０．２ｍ”の処理を行い、処理の
都度漂白・定着液を補充してこれを２ケ月間続行した。
なお、漂白・定着液の補充量は、２００醜ｆ／−８とし
た。
（処理方法Ｈ）
前記処理方法Ｇにおいて、漂白・定着槽を第３図に示す
構造としたものを用いた。
漂白・定着槽における処理室の数は１１室、各処理室の
容積は１４０ｍｊとした。
また、漂白・定着液の補充は、第３処理室へ行い、その
補充量は、１６０ ｍｌ／ｍ”とした。
（処理方法Ｉ）
前記処理方法Ｇにおいて、漂白・定着槽をスリット型処
理槽とし、その処理路に第２ｂ図に示す構造の区画部材
を設けたものを用いた。
漂白・定着槽におけろ処理路の寸法は、厚さ３ｍｍ、幅
１５０ｍｏ＋、全長２ｍであり、処理室の数は８室、各
処理室の容積はｌｌｏｍｊとした。
また、漂白・定着液の補充は、第１処理室へ行い、その
補充量は、１４４ ａ＋ｊ／ｍ”とした。
処理方法、Ｇ、Ｈおよび工におけるテスト結果は次の通
りである。
処理方法Ｇでは、２ケ月後、漂白・定着槽中に多量の沈
澱物が発生し、処理済み感光材料に漂白刃ブリ様のステ
ィンが発生した。
これに対し、処理方法ＨおよびＩでは、いずれも沈澱物
の発生はなく、しかもスティンの発生もなかった。
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明の感光材料の処理方法によれ
ば、処理効率の向上が図れ、処理液の補充量の低減が可
能となり、また、この処理方法の実施に用いられる処理
装置の小型化を図ることができる。[lyo mue 2” water
800mj diethylenetriaminepentaacetic acid 1.0g nitrilotriacetic acid
2.0g 1-Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid benzyl alcohol diethylene glycol Sodium sulfite Potassium bromide Potassium carbonate N-ethyl-N-(βmethanesulfonmidoethyl)-3-methyl-4-aminoaniline sulfate Hydroxylamine sulfate Mold 5.5g 2.0g 2.0g 16+nj 10a+1 2, Og 0.5g 0g Optical brightener (WllITEX4. manufactured by Sumitomo Chemical) 1.5g Add water to pH (25℃) 000ml 10.20 J correction solution 11100m! 1.0g 2゜Og 2, Og 2m1 0m1 2.5g 0g 7.5g 2.5g 2.0g 1000m & 10.60 Concentrated "L constant" L liquid water Ammonium thiosulfate (70%) Ammonium sulfite ethylenediaminetetraacetate iron (III ) Disodium ammonium ethylenediaminetetraacetic acid 2 and released at 400o+j 8h! 4g 0g g Supplementary JL liquid 00ml 5ml 2g 0g 0g Add water 1000ml 1000m! pH (25℃)
6.50 6.00 yen] Nigawari ion exchange water (3 pp each of calcium and magnesium
m or less) (Processing method A) Running development processing was performed using a modified machine (liquid volume in developer tank: 60ρ) of a guided roll processor FPRP-115, which is a color paper automatic processor manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The running conditions were that the temperature was controlled for 10 hours a day, and 0.201" of photosensitive material was processed once a day, and this was continued for two months. The amount of developer replenishment was 290 mj/m2. (Processing method B) In processing method A, the color developer replenishment amount was increased by 25% (363 Ilffi/l12) and running was continued for two months in the same manner. (Processing method C) The above modified FPRP-115 machine was further modified. A modified device was used in which only the developing tank had the structure shown in Figures 5 and 6. The number of processing chambers in the developing tank was 5, and the volume of each processing chamber was 300+a!. To replenish the developer, go to the third processing chamber from the photosensitive material input side (
3rd processing room). (Processing method D) In processing method C, the developer was replenished in the first processing chamber from the photosensitive material entrance side (first processing chamber), and the replenishment amount was reduced by 20% (232 ml/m"). Processing Photographic performance obtained after 2 months for methods A-D (
Comparison with new solution) is shown in Table 1 below. In the table, GL sensitivity is Δlo as a representative characteristic of photographic performance.
Expressed in gB. Table 1 As shown in Table 1, according to processing methods C and D of the present invention, high photographic performance could be maintained without increasing the amount of developer replenishment. Furthermore, in the processing method, it was confirmed that by supplying replenisher to the processing chamber at a predetermined position, photographic performance could be maintained even if the amount of replenishment was further reduced. [Example 2] (Processing method E) The above processing method C was used except that the developing tank was a slit-type processing tank, and the processing path was provided with a partition member (made of silicone rubber) having the structure shown in Fig. 2a. The same is true. The dimensions of the processing path in the developer tank are: 31IIllll thick;
It had a width of 1501111% and a total length of 3.4 m, the number of processing chambers was 10, and the volume of each processing chamber was 150 m1. Also, replenishment of the developer is done in the second processing chamber (from the side where the sensitive material enters).
The replenishment amount is 232 ml/m
(Processing method F) The procedure was the same as processing method E except that the developer replenishment amount was 203 cal/m2. The results obtained for these processing methods were applied to the following coating 2 in the same manner as above. Table 2 According to processing methods E and F of the present invention, the amount of developer replenishment is small (and the photographic performance is also maintained well. [Example 3] (Processing method G) Regarding development, the above-mentioned processing Method F was carried out and the bleaching/fixing solution was tested. The amount of solution in the bleaching/fixing tank was 2042, the temperature was controlled for 10 hours per day, and 0.2 m" of photosensitive material was processed once a day. This process was continued for two months by replenishing the bleaching/fixing solution each time the treatment was performed.The amount of replenishment of the bleaching/fixing solution was set at 200 f/-8. (Processing method H) In the processing method G above A bleach/fix tank having the structure shown in Figure 3 was used.The number of processing chambers in the bleach/fix tank was 11, and the volume of each processing chamber was 140 mJ.In addition, the bleach/fix solution was replenished. was carried out to the third processing chamber, and the replenishment amount was 160 ml/m''. (Processing method I) In the processing method G, the bleaching/fixing tank was a slit-type processing tank, and a second A device equipped with partitioning members having the structure shown in the figure was used.The dimensions of the processing path in the bleaching/fixing tank were 3 mm thick, 150 mo+ wide, and 2 m long, and the number of processing chambers was 8, with one for each treatment. The volume of the chamber was set to llomj. In addition, the bleaching/fixing solution was replenished to the first processing chamber, and the replenishment amount was set to 144 a+j/m". The test results for the processing method, G, H, and The results are as follows: In Processing Method G, a large amount of precipitate was generated in the bleaching/fixing tank after two months, and staining similar to bleach blade burr appeared on the processed photosensitive material. In both H and I, no precipitate was generated, and no stain was generated. <Effects of the Invention> As described above, according to the method for processing photosensitive materials of the present invention, processing efficiency can be improved. As a result, it is possible to reduce the amount of replenishment of the processing liquid, and it is also possible to downsize the processing apparatus used to carry out this processing method.
第１図は、本発明の実施に用いられる処理槽の構成例を
示す断面正面図である。
第２ａ図および第２ｂ図は、それぞれ第１図中に示され
る区画部材の構成を拡大して示す断面正面図である。
第３図は、本発明の実施に用いられる処理槽の他の構成
例を示す断面正面図である。
第４図は、第３図に示される処理槽の感光材料通過ゲー
ト付近を拡大して示す断面正面図である。
第５図は１本発明の実施に用いられる処理槽のさらに他
の構成例を示す断面正面図である。
第６図は、第５図中のＩＩ −ｎ線での断面図である。
符号の説明
２．５５・・・ハウジウング
３・・・ラック
４・・・主ローラ
５．９９．１４１・・・区画部材
４１・・・蓋
４３・・・把手
５６・・・上蓋
６Ａ〜６Ｋ、６０Ａ、６５Ａ〜６５Ｅ・・・処理室７・
・・ガイド
７０１・・・案内面
７０２・・・傾斜面
８・・・感材通過ゲート
９・・・フリーローラ
１０・・・処理液
１２・・・上蓋材
１４・・・槽壁材
１５・・・処理路
１６〜２０．２４．２６・・・リール
２２．３５．１１・・・排液口
２３．３６．１３・・・給液口
３０・・・反転ガイド
３１・・・ガイドローラ
４０．５０・・・ブロック体
５３ａ、５３ ｂ ・・・弁
７１〜７６・・・通路
４５．８２・・・搬入ローラ
４７．８３・・・搬出ローラ
８５・・・搬送ローラ
９０・・・開口
９５．９６・・・ガイド
８０１．８０１ａ、８０ ｌ ｂ−・・回転軸８０２・
・・主軸
８０３．８０４・・・ベベルギア
８０５．８０７・・・ギア
８０６・・・従動輪
９１．９２・・・ローラ
９３．９４・・・ローラ載置台
１２０．１４０・・・凹部
２４１・・・フランジ部
２４２・・・薄肉部
２４５・・・ボルト
Ｓ・・・感光材料
Ｆ Ｉ Ｇ 、２０
ＦＩＧ、２ｋ）FIG. 1 is a cross-sectional front view showing an example of the configuration of a processing tank used in carrying out the present invention. FIGS. 2a and 2b are sectional front views showing enlarged configurations of the partitioning members shown in FIG. 1, respectively. FIG. 3 is a cross-sectional front view showing another example of the structure of a processing tank used in carrying out the present invention. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional front view showing the vicinity of the photosensitive material passage gate of the processing tank shown in FIG. 3. FIG. FIG. 5 is a sectional front view showing still another example of the structure of a processing tank used in carrying out the present invention. FIG. 6 is a sectional view taken along line II-n in FIG. 5. Explanation of symbols 2.55...Housing 3...Rack 4...Main roller 5.99.141...Dividing member 41...Lid 43...Handle 56...Upper lid 6A to 6K, 60A, 65A to 65E...processing chamber 7.
... Guide 701 ... Guide surface 702 ... Inclined surface 8 ... Sensitive material passage gate 9 ... Free roller 10 ... Processing liquid 12 ... Top cover material 14 ... Tank wall material 15 ... ...Processing path 16-20.24.26...Reel 22.35.11...Drain port 23.36.13...Liquid supply port 30...Reversing guide 31...Guide roller 40 .50...Block bodies 53a, 53b...Valves 71-76...Passage 45.82...Carry-in roller 47.83...Carry-out roller 85...Conveyance roller 90...Opening 95 .96...Guide 801.801a, 80 l b-...Rotating shaft 802.
... Main shaft 803.804 ... Bevel gear 805.807 ... Gear 806 ... Driven wheel 91.92 ... Roller 93.94 ... Roller mounting table 120.140 ... Recess 241 ... Flange part 242... Thin wall part 245... Bolt S... Photosensitive material FIG, 20 FIG, 2k)
Claims (1)
光材料の処理方法であつて、 複数に区画された処理室を有する処理槽の各処理室内に
処理液を満し、前記感光材料を大気と接触することなく
前記各処理室を順次通過させることを特徴とするハロゲ
ン化銀感光材料の処理方法。(1) A photosensitive material processing method in which a silver halide photosensitive material after exposure is wet-processed, which comprises filling each processing chamber of a processing tank having a plurality of processing chambers, and processing the photosensitive material. A method for processing a silver halide photosensitive material, characterized in that the material is sequentially passed through each of the processing chambers without contacting with the atmosphere.
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|---|---|---|---|
| JP1090422A JP2731942B2 (en) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | Processing method of photosensitive material |
| US07/502,888 US5040013A (en) | 1989-04-10 | 1990-04-02 | Photosensitive material processing apparatus |
| DE4011613A DE4011613C2 (en) | 1989-04-10 | 1990-04-10 | Apparatus for treating photosensitive silver halide material |
| US07/685,313 US5168296A (en) | 1988-04-20 | 1991-04-15 | Method and apparatus for processing photosensitive material |
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| JP2731942B2 JP2731942B2 (en) | 1998-03-25 |
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| JP (1) | JP2731942B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH04242739A (en) * | 1990-12-28 | 1992-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material processing device |
| JPH05158203A (en) * | 1991-12-09 | 1993-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Blade assembly and photosensitive material processor |
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-
1989
- 1989-04-10 JP JP1090422A patent/JP2731942B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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