JPH02255716A - Photochemical production of electrically conductive polymer film formed into pattern shape - Google Patents

Photochemical production of electrically conductive polymer film formed into pattern shape

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JPH02255716A
JPH02255716A JP7497289A JP7497289A JPH02255716A JP H02255716 A JPH02255716 A JP H02255716A JP 7497289 A JP7497289 A JP 7497289A JP 7497289 A JP7497289 A JP 7497289A JP H02255716 A JPH02255716 A JP H02255716A
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JP
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pyrroles
light
film
potential
oxidation
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JP7497289A
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Japanese (ja)
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Masaaki Takakubo
高窪 正明
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject film useful for electronic devices, etc., by forming pyrroles having both hydrophilic and hydrophobic parts into a monomolecular film on a substrate according to a Langmuir-Blodgett(LB) method, dipping the resultant film in a solution containing a specific component, photochemically polymerizing the pyrroles and controlling the film thickness and structural regularity on the molecular level. CONSTITUTION:Pyrroles having both relatively hydrophilic and relatively hydrophobic parts as a monomolecular film are laminated on a substrate according to the LB method and then dipped in a solution containing a light absorbing component capable of exhibiting a higher electrode potential than an oxidation current build-up potential of the pyrroles in an excited state and anions having a smaller number of oxidation than the oxidation current build-up potential of the pyrroles or anions having a smaller number of oxidation in an oxidation-reduction pair capable of exhibiting the higher standard electrode potential than the electrode potential in the excited state of the light absorbing component. The film is subsequently irradiated with light within an absorption spectrum of the light absorbing component through a mask previously engraved with an optional pattern and an electrically conductive part is then formed into an optional pattern shape to afford the objective polymer film.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、導電性と絶縁性とを併有する改良された導電
性高分子膜の光化学的製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for photochemically producing an improved conductive polymer film having both conductivity and insulation properties.

[従来の技術] パターン状に導電性を有する高分子膜を電気化学的に製
造する方法としては、特開昭61−188414、特願
昭59−101678等が知られている。
[Prior Art] As a method for electrochemically manufacturing a patterned conductive polymer film, Japanese Patent Laid-Open No. 61-188414, Japanese Patent Application No. 59-101678, etc. are known.

さらに、上記高分子分子膜を光化学的に製造する方法と
して、瀬用等の発表(日本化学会第56春季年会講演予
稿集U 1030頁)がある。しかしながら、前者の方
法では、パターン状に導電性を有する電極を用いるため
、その微細加工にはおのずと限界がある。又、後者の方
法では、イオン性光吸収成分をナフィオン膜に吸着させ
ているので、応用範囲が限定される。さらに、これら二
つの方法では、電極、あるいは支持膜を単に溶液層に浸
漬しただけであり、電極、あるいは支持膜の表面に吸着
した単量体分子の配列に規則性が認められない。
Further, as a method for photochemically producing the above-mentioned polymer membrane, there is a presentation by Seyo et al. (Proceedings of the 56th Spring Annual Meeting of the Chemical Society of Japan, p. 1030). However, since the former method uses conductive electrodes in a pattern, there is a natural limit to its microfabrication. Furthermore, in the latter method, the ionic light-absorbing component is adsorbed onto the Nafion membrane, so the range of application is limited. Furthermore, in these two methods, the electrode or support membrane is simply immersed in a solution layer, and no regularity is observed in the arrangement of monomer molecules adsorbed on the surface of the electrode or support membrane.

[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、構造規則性に優れ、かつ、分子レベル
で膜厚の制御された導電性ピロール重合膜を任意のパタ
ーン状に光化学的に製造する方法を提供することである
[Problems to be Solved by the Invention] The purpose of the present invention is to provide a method for photochemically producing a conductive pyrrole polymer film in an arbitrary pattern with excellent structural regularity and a controlled film thickness at the molecular level. It is to provide.

[課題を解決するための手段] 本発明は、相対的に親水性の部分と相対的に疎水性の部
分とを併有するピロール類をラングミュア・ブロシェッ
ト法により単分子膜として基板上に積層した後に、励起
状態でピロール類の酸化電流立上り電位より大きな電極
電位を示す光吸収成分と、ピロール類の酸化電流立上り
電位より小さな標準電極電位を示す酸化還元対のうち大
きな酸化数を有する陰イオン、あるいは光吸収成分の励
起状態での電極電位より大きな標準電極電位を示す酸化
還元対のうち小さな酸化数ををする陰イオンとを含む溶
液に浸漬し、あらかじめ任意のパターンを刻したマスク
を通じて、上記光吸収成分の吸収スペクトル内にある光
を照射することにより、導電性部分を任意のパターン状
に形成することを特徴とする導電性高分子膜の光化学的
製造方法である。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a method for laminating pyrroles having both a relatively hydrophilic part and a relatively hydrophobic part as a monomolecular film on a substrate by the Langmuir-Brochet method. , a light-absorbing component that exhibits an electrode potential greater than the oxidation current rise potential of pyrroles in an excited state, and an anion having a large oxidation number among a redox pair that exhibits a standard electrode potential smaller than the oxidation current rise potential of pyrroles, or The above-mentioned light is immersed in a solution containing an anion with a small oxidation number among redox pairs that exhibits a standard electrode potential higher than the electrode potential in the excited state of the light-absorbing component, and is passed through a mask with an arbitrary pattern carved in advance. This is a method for photochemically producing a conductive polymer film, characterized in that conductive portions are formed in an arbitrary pattern by irradiating light within the absorption spectrum of an absorption component.

本発明で用いる、相対的に親水性の部分と相対的に疎水
性の部分とを併有するピロール類とは、下に示す骨格ピ
ロールにおいて、1位、3位、あるいは4位のいずれか
に親水基が結合し、かつ、3位、4位、あるいは、その
両者に疎水基が結合した置換体をいう。特に、1位に親
水基が結合し、かつ、3位、及び4位に疎水基が結合し
た置換体が望ましい。
The pyrroles having both a relatively hydrophilic part and a relatively hydrophobic part used in the present invention are hydrophilic in either the 1st, 3rd, or 4th position of the pyrrole skeleton shown below. Refers to a substituent in which a group is bonded and a hydrophobic group is bonded to the 3-position, 4-position, or both. Particularly desirable is a substituent in which a hydrophilic group is bonded to the 1-position and a hydrophobic group is bonded to the 3- and 4-positions.

す“ 骨格ピロールとしては、未置換ビロール、或いは、比較
的小さな置換基を有するピロール誘導体が使用される。
As the backbone pyrrole, unsubstituted virol or pyrrole derivatives having relatively small substituents are used.

後者の具体例としては、3−メチルピロール、3−エチ
ルピロール、3n−プロピルビロール、3−n−ブチル
ビロール、3−デシルピロール、8−ベンジルビロール
、3−シクロへキシルビロール、3−メトキシビロール
、3−エトキシビロール、3−クロロピロール、3−ブ
ロモビロール、3−ヨードピロール、N−メチルビロー
ル、N−エチルビロール、N−’n−プロピルビロール
、N −n −ブチルピロール、N−フェノールピロー
ル、及びN−(p−トリル)ビロール等が挙げられる。
Specific examples of the latter include 3-methylpyrrole, 3-ethylpyrrole, 3n-propylpyrrole, 3-n-butylpyrrole, 3-decylpyrrole, 8-benzylpyrrole, 3-cyclohexylpyrrole, and 3-methoxypyrrole. roll, 3-ethoxyvirol, 3-chloropyrrole, 3-bromovirol, 3-iodopyrrole, N-methylvirol, N-ethylvirol, N-'n-propylvirol, N-n-butylpyrrole, N-phenolpyrrole , and N-(p-tolyl)virol.

ピロールのように、孤立電子対を有する原子が存在し、
親水性が充分認められる分子では、親水基は、1位に結
合した水素原子でも構わない。さらに、−船釣に親水基
として機能する置換基を、以下のように挙げることがで
きる。即ち、不飽和炭化水素、ヒドロキシル基、カルボ
キシル基、アミノ基、イミノ基、グアニジン基、ヒドラ
ジン基、ジアゾニウム基、アルデヒド基、ケトン基、ア
ルコキシ基、エステル基、硫酸エステル基、ニトロ基、
ハロゲン基、スルホン酸基、リン酸基、ケイ酸基、アル
ミン酸基、上記の各置換基の可能な金属塩、及びアミン
塩等である。
There are atoms with lone pairs of electrons, such as pyrrole,
In molecules that are sufficiently hydrophilic, the hydrophilic group may be a hydrogen atom bonded to the 1-position. Furthermore, substituents that function as hydrophilic groups for boat fishing can be listed as follows. That is, unsaturated hydrocarbons, hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups, imino groups, guanidine groups, hydrazine groups, diazonium groups, aldehyde groups, ketone groups, alkoxy groups, ester groups, sulfate ester groups, nitro groups,
These include halogen groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, silicic acid groups, aluminic acid groups, possible metal salts of each of the above substituents, and amine salts.

他方、疎水基としては、主鎖の炭素数が5以上の直線状
、及び分岐のある鎖式化合物が好ましい。特に、主鎖が
8ないし25程度の炭素数から成る長鎖アルキル基が望
ましい。
On the other hand, as the hydrophobic group, linear and branched chain compounds having a main chain of 5 or more carbon atoms are preferred. Particularly desirable is a long-chain alkyl group whose main chain has about 8 to 25 carbon atoms.

このような親水基と疎水基とを併有する置換ビロールの
一例として、α−(3,4)−ジオクタデシルピロロ酢
酸を挙げることができる。
An example of a substituted virol having both a hydrophilic group and a hydrophobic group is α-(3,4)-dioctadecylpyrroloacetic acid.

本発明においては、相対的に親水性の部分と相対的に疎
水性の部分とを併有するピロール類を単分子膜として基
板上に構造規則性良く積層するために、ラングミュアφ
プロジェット法(LB法)を用いる。このLB法は、溶
液表面に浮揚した界面活性物質の単分子膜、及びその累
積膜を基板上に移し取る方法であり、分子レベルで、膜
厚、及び構造規則性等を制御することを可能にする。
In the present invention, Langmuir φ
The Prodget method (LB method) is used. This LB method is a method in which a monomolecular film of surfactant suspended on the surface of a solution and its cumulative film are transferred onto a substrate, and it is possible to control the film thickness, structural regularity, etc. at the molecular level. Make it.

本発明において使用される基板としては、ガラス、及び
有機高分子樹脂等が例示できる。さらに、詳述すれば有
機高分子樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリ
アクリロニトリル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リフッ化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリブタジェ
ン、及びポリスチレンテし・フタレート等を挙げること
ができる。
Examples of the substrate used in the present invention include glass, organic polymer resin, and the like. More specifically, organic polymer resins include polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, polycarbonate, polybutadiene, and polystyrene phthalate.

かくして得られたLB膜を、以下に述べる光吸収成分と
陰イオンとを含む溶液に浸漬し、予め任意のパターンを
刻したマスクを通じて光化学的重合を行う。
The LB film thus obtained is immersed in a solution containing a light-absorbing component and anions described below, and photochemical polymerization is performed through a mask in which an arbitrary pattern has been carved in advance.

次に、本発明における光吸収成分としては、励起状態で
ビロール類の酸化電流立上り電位より大きな電極電位を
示し、ビロール類を酸化し得る化合物であれば良い。こ
の具体例としては、メチレンブルー チオニン、プロフ
ラビン、ネオサフラニン、及びトリス(2,2’−ビピ
リジン)ルテニウム(II)イオン等が挙げることがで
きる。
Next, the light-absorbing component in the present invention may be any compound that exhibits an electrode potential higher than the oxidation current rise potential of virols in an excited state and can oxidize virols. Specific examples include methylene blue thionine, proflavin, neosafranin, and tris(2,2'-bipyridine)ruthenium(II) ion.

該光吸収成分の濃度は、用いる化合物の吸収係数によっ
て異なる。−船釣には、吸収度をほぼ1程度にする濃度
が好ましい。吸収度があまり小さ過ぎると、光化学反応
の効率が下がり、他方、吸収度があまり大き過ぎると、
光吸収成分の多量化が起こる事があり、やはり、光化学
反応の効率が下がるiiJ能性がある。
The concentration of the light-absorbing component varies depending on the absorption coefficient of the compound used. - For boat fishing, a concentration that makes the absorbance approximately 1 is preferable. If the absorbance is too small, the efficiency of the photochemical reaction will decrease; on the other hand, if the absorbance is too large,
The amount of light-absorbing components may increase, which also has the potential to reduce the efficiency of photochemical reactions.

本発明において用いられる陰イオンは、ビロール類の酸
化電流立上り電位より小さい標準電極電位を示す酸化還
元対のうち大きな酸化数を有するイオン、あるいは、光
吸収成分の励起状態での電極電位より大きな標準電極電
位を示す酸化還元対のうち小さな酸化数を有するイオン
で、光化学的重合の際に重合膜にドープされるものであ
れば良い。このような陰イオンの具体例としては、遷移
金属錯陰イオンを含めて以下のものを挙げることかで゛
きる。即ち、Cl−Br−,8042−1NO3−01
04−13P4Or(CN)s ”、Cr(ox) 3
3−(OX:シュウ酸イオン)、Cr(cdta) ”
  (edta :エチレンジアミン四酢酸イオン) 
、Cr(mat)  3 ’−(mat :マロン酸イ
オン)、Mn(CN)6 1−  Mn(cdta)″
  Fe(CN)6 ’−re(edta)″、re(
cat) 33−(cat:カテコール酸イオン)  
Co(CN)63−Co(edta)−CoC1(ed
ta)2−   Co  (NO2)  (edta)
’−Co(edta) (ox)″、Co(pdta)
−(pdta:プロピレンジアミン四酢酸イオン)  
 Co(cydta)−(cydta :  1.2−
シクロヘキサンジアミン−N。
The anion used in the present invention is an ion having a large oxidation number among redox pairs that exhibits a standard electrode potential lower than the oxidation current rise potential of virols, or a standard electrode potential higher than the excited state electrode potential of the light-absorbing component. Any ion having a small oxidation number among the redox pairs indicating the electrode potential and doped into the polymer film during photochemical polymerization may be used. Specific examples of such anions include the following, including transition metal complex anions. That is, Cl-Br-, 8042-1NO3-01
04-13P4Or(CN)s”, Cr(ox) 3
3-(OX: oxalate ion), Cr (cdta)”
(edta: ethylenediaminetetraacetic acid ion)
, Cr(mat)3'-(mat: malonate ion), Mn(CN)61-Mn(cdta)''
Fe(CN)6'-re(edta)'', re(
cat) 33-(cat: catecholic acid ion)
Co(CN)63-Co(edta)-CoC1(ed
ta)2-Co(NO2)(edta)
'-Co(edta) (ox)'', Co(pdta)
-(pdta: propylene diamine tetraacetic acid ion)
Co(cydta)-(cydta: 1.2-
Cyclohexanediamine-N.

N、N’、N’四酢酸イオン) 、Go(tnta)″
 (tnta ニトリメチレンジアミン四酢酸イオン) Co(cdtp)’″ (cdtp :エチレンジアミ
ン四プロピオン酸イオン) 、Co(tnta)’″ 
(tnta : )リメチレンジアミン四酢酸イオン)
  Co(dLpa)”(dtpaニジエチレントリア
ミン五酢酸イオン)、Co(ata)(Cox ) 2
−(ataニー=−トリロトリ酢酸イオン) 、Co(
gly)(aia)″(glyニゲリシン)、Co(g
lygly) 2″″ (glyglyニゲリシルグリ
シン酸イオン)   Co(anal)  3 ’−1
TI(caL)  3 ”Cu(pdta)2−  C
u(glygly)2−  Mo(CN)a ’−W(
CN)a ”、及びWCl5−等である。
N, N', N'tetraacetic acid ion), Go(tnta)''
(tnta nitrimethylenediaminetetraacetic acid ion) Co(cdtp)''' (cdtp: ethylenediaminetetrapropionate ion), Co(tnta)'''
(tnta: )rimethylenediaminetetraacetic acid ion)
Co(dLpa)” (dtpa diethylenetriaminepentaacetic acid ion), Co(ata)(Cox) 2
-(ata = -trilotriacetate ion), Co(
gly)(aia)″(gly nigericin), Co(g
lygly) 2″″ (glygly nigericylglycinate ion) Co(anal) 3′-1
TI(caL) 3”Cu(pdta)2-C
u(glygly)2-Mo(CN)a'-W(
CN)a'', and WCl5-, etc.

さらにこれらの陰イオンから成る電解質の具体例として
は、KCI、NaCl、KBr、NaBr、K2 80
4 、 Na2  SO4、Li 2 804  、 
 KNO3、NaNO3LiN0:+    KCl0
<     NaC104(C4Ha  )NBP4 
 、 K3 Cr(ox)3 、  KCr(edta
)、KCo(ctlta)、NaCo(cdta)、K
Co(pdta>、及びKCo(cydta)等がある
Furthermore, specific examples of electrolytes consisting of these anions include KCI, NaCl, KBr, NaBr, K2 80
4, Na2SO4, Li2804,
KNO3, NaNO3LiN0: + KCl0
<NaC104(C4Ha)NBP4
, K3 Cr(ox)3 , KCr(edta
), KCo (ctlta), NaCo (cdta), K
Examples include Co(pdta) and KCo(cydta).

上記陰イオンの溶液中での濃度は、一般に0.001〜
2.0moldm−’、好ましくは、0.05〜0.5
sol dm→である。
The concentration of the above anion in the solution is generally 0.001 to
2.0 moldm-', preferably 0.05 to 0.5
sol dm→.

本発明における溶媒は、光吸収成分と電解質との種類に
従って、種々変化させることができる。一般には、水、
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキ
サン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニト
リル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル、ベンジル
ニトリル、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホアミド、N−
メチルピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホキシド、
ニトロメタン、ベンゼン、ニトロベンゼン、プロピレン
カーボネート、1.2−ジメトキシエタン、アセトン、
スルホラン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン
、塩化メチル、及び四塩化炭素等が使用される。
The solvent used in the present invention can be varied depending on the type of light-absorbing component and electrolyte. Generally, water,
Ethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile, benzylnitrile, formamide, N-methylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoamide, N-
Methylpyrrolidone, pyridine, dimethyl sulfoxide,
Nitromethane, benzene, nitrobenzene, propylene carbonate, 1,2-dimethoxyethane, acetone,
Sulfolane, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl chloride, carbon tetrachloride, and the like are used.

本発明では、光化学的重合反応の効率を高める目的で、
溶存する酸素をできる限り溶媒から除去しても構わない
。このために、溶液にアルゴン、あるいは、窒素等の気
体を通じても良い。
In the present invention, for the purpose of increasing the efficiency of photochemical polymerization reaction,
Dissolved oxygen may be removed from the solvent as much as possible. For this purpose, a gas such as argon or nitrogen may be passed through the solution.

又は凍結−説気一解凍サイクルを必要回数行って゛も良
い。
Alternatively, a freeze-thaw-thaw cycle may be performed as many times as necessary.

本発明で使用されるマスクには、特別な制限はなく、一
般にフォトリソグラフィーで用いられるタイプのもので
良い。即ち、ガラス基板上に、クロム、あるいは酸化ク
ロム等を蒸着させるか、又はリソグラフィー用エマルジ
ョン液をキャスト等した後に、エツチング作用を施し、
所定のパターンを作成すれば良い。
The mask used in the present invention is not particularly limited, and may be of a type generally used in photolithography. That is, after chromium or chromium oxide is deposited on a glass substrate, or an emulsion liquid for lithography is cast, an etching action is applied.
All you have to do is create a predetermined pattern.

照射用の光源としては、光吸収成分の励起種を充分に生
成し得るものであれば良く、一般には水銀ランプ、キセ
ノンランプ、ハロゲンランプ、及び各種レーザー等が例
示できる。これらの光源から発せられる光は、連続光で
もパルス光でも良い。さらに不必要な波長成分を除去す
る目的で、モノクロメータ−1干渉フイルターカツトフ
イルター、及びこれらを任意に組合せて用いる事もでき
る。
The light source for irradiation may be any source that can sufficiently generate excited species of the light-absorbing component, and general examples include mercury lamps, xenon lamps, halogen lamps, and various lasers. The light emitted from these light sources may be continuous light or pulsed light. Furthermore, for the purpose of removing unnecessary wavelength components, a monochromator-1 interference filter, a cut filter, and any combination of these may be used.

照射時間は一定でなく、特に、光吸収成分、光源の種類
、及び反応条件等により大きく変化する。
The irradiation time is not constant and varies greatly depending on, among other things, the light-absorbing component, the type of light source, and the reaction conditions.

本発明方法によって得られる高分子膜は、例えば電子機
器、電気開閉器、及び特殊電極材料等多くの用途に利用
することができる。
The polymer membrane obtained by the method of the present invention can be used in many applications such as electronic equipment, electrical switches, and special electrode materials.

以下に、本発明を実施例によって、さらに具体的に説明
する。なお、本発明は、これら実施例によって少しも限
定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Note that the present invention is not limited in the least by these Examples.

実施例I LB膜累積層において、5 X 10’ cool d
i−’のCde12水溶液(pH−5,5〜6.0、温
度20℃)の表面に、クロロホルムに溶解したα−(3
,4−ジオクタデシルピロロ)酢酸を単分子膜として展
開した。次いで、これを1.5Nm−”の表面圧力下の
、圧縮した状態に置いた。30分間後、LB法により、
ピロール類単分子膜を表面の洗浄なガラス基板上に形成
した。さらに、この方法を逐次繰返し、ビロール類単分
子膜を併せて80層累積した。充分風乾した後に、フォ
トマスクを基板に密着させ、これを、メチレンブルー(
1,OX 10−6 mol d+e−3)とKCI(
0,1moldg’″3)とを含む溶液に浸漬した。次
にこの試料片に高圧水銀灯からモノクロメータ−を通し
て発せられた波長805tvの光を0.5時間照射した
。溶液から基板を取出し、光学顕微鏡でパターン像を観
AIJ した。
Example I In the LB film cumulative layer, 5 X 10' cool d
α-(3
, 4-dioctadecylpyrrolo)acetic acid was developed as a monolayer. This was then placed in a compressed state under a surface pressure of 1.5 Nm-''. After 30 minutes, by the LB method,
A pyrrole monolayer was formed on a glass substrate with a clean surface. Furthermore, this method was repeated one after another to accumulate a total of 80 layers of virol monolayers. After thoroughly air-drying, attach the photomask to the substrate and coat it with methylene blue (
1, OX 10-6 mol d+e-3) and KCI (
The sample piece was immersed in a solution containing 0.1 moldg'''3).Next, this sample piece was irradiated with light with a wavelength of 805 tv emitted from a high-pressure mercury lamp through a monochromator for 0.5 hours.The substrate was removed from the solution and optically The pattern image was viewed with a microscope.

第1図にそのスケッチを示した。光来照射部分を隔てて
隣接する二本の光照射部分を任意に選び、その間の電気
抵抗を測定したところ、20Ωであった。他方、光照射
部分を隔てて隣接する二本の光来照射部分を任意に選び
、その間の電気抵抗を測定したところ、20MΩであっ
た。
Figure 1 shows the sketch. Two adjacent light irradiated parts were randomly selected with the light irradiated part in between, and the electrical resistance between them was measured and found to be 20Ω. On the other hand, two adjacent light-irradiated parts were randomly selected with the light-irradiated part in between, and the electrical resistance between them was measured and found to be 20 MΩ.

実施例2 pHが3となるように緩衝液を加えた、チオニン(lx
 1o−f+ dol di−3)とKCI (0,1
mold「’ )とを含む溶液を0.1dm’調整した
。以下、この溶液を用いて波長602 n mの光を照
射する外は、実施例1と同じ条件で重合反応を行った。
Example 2 Thionin (lx
1o-f+ dol di-3) and KCI (0,1
A solution containing mold "') was adjusted to 0.1 dm'. Hereinafter, using this solution, a polymerization reaction was carried out under the same conditions as in Example 1, except that light with a wavelength of 602 nm was irradiated.

溶液から基板を取出し、光学顕微鏡で観Ip3 したと
ころ、第1図に示した像と同じものが認められた。実施
例1と同様に、導電性部分間と絶縁性部分間との電気抵
抗を測定したところ、それぞれ、25Ωと 20MΩと
であった。
When the substrate was removed from the solution and viewed under an optical microscope, the same image as shown in FIG. 1 was observed. As in Example 1, the electrical resistances between the conductive parts and between the insulating parts were measured to be 25Ω and 20MΩ, respectively.

[発明の効果] 本発明によれば、LB法に従いビロール類の単分子膜を
積層した後に、光化学的重合を行うことによって、分子
レベルで、膜厚、及び、構造規則性等の制御が可能な導
電性ビロール重合膜を簡便に任意のパターン状に作成す
ることができる。従って、この重合膜は、従来よりも多
方向の用途に有用である。
[Effects of the Invention] According to the present invention, film thickness, structural regularity, etc. can be controlled at the molecular level by laminating monomolecular films of viroles according to the LB method and then performing photochemical polymerization. A conductive pyrrole polymer film can be easily created in any pattern. Therefore, this polymeric membrane is useful in more multidirectional applications than before.

【図面の簡単な説明】 第1図は、実施例で得られた導電性高分子膜を光学顕微
鏡で観測して認められたパターン像のスケッチである。 斜線の施された部分と斜線の施されない部分とは、それ
ぞれフォトマイクを通じて光の照射された部分とフォト
マスクによって光の遮られた部分とを表す。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sketch of a pattern image observed by observing the conductive polymer film obtained in the example using an optical microscope. The shaded area and the non-shaded area represent the area irradiated with light through the photomicrophone and the area blocked by the photomask, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  相対的に親水性の部分と相対的に疎水性の部分とを併
有するピロール類をラングミュア・ブロシェット法によ
り単分子膜として基板上に積層した後に、励起状態でピ
ロール類の酸化電流立上り電位より大きな電極電位を示
す光吸収成分と、ピロール類の酸化電流立上り電位より
小さな標準電極電位を示す酸化還元対のうち大きな酸化
数を有する陰イオン、あるいは光吸収成分の励起状態で
の電極電位より大きな標準電極電位を示す酸化還元対の
うち小さな酸化数を有する陰イオンとを含む溶液に浸漬
し、あらかじめ任意のパターンを刻したマスクを通じて
、上記光吸収成分の吸収スペクトル内にある光を照射す
ることにより、導電性部分を任意のパターン状に形成す
ることを特徴とする導電性高分子膜の光化学的製造方法
After laminating pyrroles, which have both a relatively hydrophilic part and a relatively hydrophobic part, as a monolayer on a substrate by the Langmuir-Brochet method, the oxidation current rise potential in the excited state is higher than that of the pyrroles. A light-absorbing component that shows an electrode potential and an anion with a large oxidation number among a redox pair that shows a standard electrode potential that is smaller than the oxidation current rise potential of pyrroles, or a standard that is larger than the electrode potential in the excited state of the light-absorbing component. By immersing the electrode in a solution containing an anion with a small oxidation number among the redox pairs that indicate the electrode potential, and irradiating the electrode with light within the absorption spectrum of the light-absorbing component through a mask with an arbitrary pattern engraved in advance. , a method for photochemically producing a conductive polymer film, which comprises forming a conductive portion in an arbitrary pattern.
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