JPH02228493A - Production of zinc alloy electroplated steel sheet - Google Patents

Production of zinc alloy electroplated steel sheet

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JPH02228493A
JPH02228493A JP5082189A JP5082189A JPH02228493A JP H02228493 A JPH02228493 A JP H02228493A JP 5082189 A JP5082189 A JP 5082189A JP 5082189 A JP5082189 A JP 5082189A JP H02228493 A JPH02228493 A JP H02228493A
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JP
Japan
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strip
plating
flow
insoluble
steel sheet
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Application number
JP5082189A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Watanabe
勉 渡辺
Masaru Sagiyama
勝 鷺山
Masaki Kawabe
正樹 川辺
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To regulate current density for plating, to rapidly remove gas and to obtain a plating film having a uniform desired compsn. by controlling the electrode areas of insoluble anodes in accordance with the flow rates of forward and counter flows of a plating soln. and the moving speed of the strip. CONSTITUTION:A plating soln. is allowed to flow between one insoluble anode and a strip in the same direction as the moving direction of the strip. The plating soln. is allowed to flow between another insoluble anode and the strip in the reverse direction to the moving direction of the strip. At this time, the electrode areas of the insoluble anodes on the forward and counter flow sides are controlled by setting shielding plates and the current density of each of the anodes is changed without changing the amt. of electric power impressed. A Zn alloy electroplated steel sheet with a plating film having a uniform desired compsn. is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、亜鉛系合金電気めっき鋼板の製造方法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for manufacturing a zinc-based alloy electroplated steel sheet.

[従来の技術] 2n −Fe等亜鉛系合金電気めっき鋼板は、耐食性を
はじめ、塗装性、加工性および溶接性等価れた諸特性を
有しているため、自動車、家電および建材等の防錆鋼板
として広く使用されている。これらの合金めっき鋼板の
皮膜組成は、めっき陰極界面の物質移動に強く依存する
ため、最適合金組成保持には、めっき条件の厳密な管理
を特徴とする特に、めっき槽(電解槽)内のめっきのス
トリップ界面近傍での流動状態が変動すると、得られる
合金組成の変動をきたし、性能低下にいたる。
[Prior art] Zinc-based alloy electroplated steel sheets such as 2n-Fe have various properties such as corrosion resistance, paintability, workability, and weldability, so they can be used as rust prevention for automobiles, home appliances, building materials, etc. Widely used as steel plate. The film composition of these alloy-plated steel sheets strongly depends on the mass transfer at the plating cathode interface, so maintaining the optimum alloy composition requires strict control of plating conditions. Fluctuations in the flow state near the strip interface cause variations in the resulting alloy composition, leading to performance deterioration.

一方、近年、めっきの生産性を高めるための様々なめっ
き装置が考案されている。例えば、特公昭61−220
40号公報および特開昭61−190094号公報にお
いては、流体クツションを用いた電解槽が提案されてい
る。この装置は、電極とストリップとの間に静圧を形成
し、ストリップを極間中央に復元する力を持たせるもの
で、これにより電極間距離を短縮できる特徴を持ってい
る。
On the other hand, in recent years, various plating apparatuses have been devised to improve plating productivity. For example, Tokuko Sho 61-220
40 and Japanese Patent Laid-Open No. 61-190094, an electrolytic cell using a fluid cushion is proposed. This device creates static pressure between the electrode and the strip, giving it a force to restore the strip to the center between the electrodes, and has the feature that it can shorten the distance between the electrodes.

また、特公昭62−15638号公報においては、縦型
めフきセルにおいて、重力を利用してめっき液を電極上
部よりストリップと陽極との間に供給するもので、この
ときストリップと陽極との間にめっき液を完成するため
、不溶性陽極の使用が不可欠であるが、パスラインが安
定し、極間距離が短縮でき、片面めっき時に、非めっき
面がめつき液に接触することがない利点を持つ。
Furthermore, in Japanese Patent Publication No. 62-15638, in a vertical plating cell, the plating solution is supplied between the strip and the anode from above the electrode using gravity; In order to complete the plating solution in between, it is essential to use an insoluble anode, but it has the advantage that the pass line is stable, the distance between the electrodes can be shortened, and the non-plated surface does not come into contact with the plating solution during one-sided plating. have

特公昭61−22040号公報および特開昭61、−1
90094号公報においては、めっき液の噴流を電極中
央部より吐出しているため、ストリップ進行方向と同方
向の流れ(以下r順流」という)と、反対方向の流れ(
以下「対向流」という)の両方が存在する。即ち、1つ
の電解槽に順流と対向流とが混在する。また、特公昭6
2−15638号公報でも同様である。即ち、重力を利
用しているため、流れは上部から下部に向かってしか存
在しない。また、縦型めっき装置であるから、上から下
に向かうダウンバスと、下から上に向かうアップバスが
存在する。従って、1つの電解槽に順流と対向流とが存
在する。
Japanese Patent Publication No. 61-22040 and Japanese Patent Publication No. 61-22040
In Publication No. 90094, since the jet of plating solution is discharged from the center of the electrode, there is a flow in the same direction as the strip traveling direction (hereinafter referred to as "forward flow") and a flow in the opposite direction (r).
(hereinafter referred to as "counterflow"). That is, a forward flow and a counterflow coexist in one electrolytic cell. In addition, the special public corporation Showa 6
The same applies to the publication No. 2-15638. In other words, since gravity is used, flow only exists from the top to the bottom. Furthermore, since it is a vertical plating apparatus, there is a down bath going from top to bottom and an up bath going from bottom to top. Therefore, a forward flow and a counterflow exist in one electrolytic cell.

上述した順流と対向流とが混在するめっき装置での合金
めっき鋼板の製造は難しく、特に亜鉛系の合金めっきの
ように、合金組成が流速により変動するものは、特に顕
著である。これらのめつき装置での流速依存性のある合
金めっき鋼板の製造のためには、ストリップ移動速度の
変化に伴ない、順流側および対向流側の流速を自由に変
動させることが必要である。
It is difficult to manufacture alloy-plated steel sheets using the above-mentioned plating equipment in which forward flow and counterflow flow coexist, and this is particularly noticeable when the alloy composition fluctuates depending on the flow rate, such as zinc-based alloy plating. In order to manufacture alloy-plated steel sheets that are flow rate dependent using these plating devices, it is necessary to freely vary the flow rates on the upstream and counterflow sides as the strip movement speed changes.

しかしながら、前述した特公昭61−22040号公報
および特開昭61−19’0094号公報に開示された
技術は、電極とストリップとの間に静圧が形成し、スト
リップを極間中央に復元する力を持たせるもので、これ
により電極間距離が短縮するのが主目的であり、順流側
および対向流側の流速を自由に変動させることはできな
いため、製造範囲が限定される欠点を持っている。
However, in the techniques disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-22040 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-19'0094, static pressure is formed between the electrode and the strip, and the strip is restored to the center between the electrodes. The main purpose of this method is to shorten the distance between the electrodes, and because the flow velocity on the forward and counterflow sides cannot be freely varied, the manufacturing range is limited. There is.

また、特公昭62−15638号公報においては1重力
を利用して陽極とストリップとの間のめっき液流速を得
ているため、流速は電極間距離。
In addition, in Japanese Patent Publication No. 15638/1983, the flow rate of the plating solution between the anode and the strip is obtained using 1 gravity, so the flow rate is determined by the distance between the electrodes.

電極の表面抵抗、めっき液物性等によって一義的に決ま
ってしまうため、前述した発明と同様、順流側および対
向流側の流速を自由に変動させることができない欠点を
持つ。さらに1本装置は、不溶性陽極の使用が不可欠で
あるため、前記陽極から発生するガスの迅速除去をしな
ければならないにもかかわらず、噴流方向とガスの上昇
方向が異なるため、陽極とストリップとの間にガスが滞
留し、その部分は電気抵抗が高いため電流が流れなくな
り、不めっきになったり、周囲の局部電流密度の上昇に
より合金組成の不均一化、めっきヤケを引き起こしたり
する。特に、順流側ではストリップの移動方向も電解気
泡の上昇方向と逆であるため、ストリップからの陰極ガ
スまでも滞留し、高ライン速度域で品質が悪化する。
Since this method is uniquely determined by the surface resistance of the electrode, the physical properties of the plating solution, etc., it has the disadvantage that, like the invention described above, the flow velocity on the forward flow side and the counterflow side cannot be freely varied. Furthermore, since this device requires the use of an insoluble anode, the gas generated from the anode must be quickly removed, but since the direction of the jet and the direction of gas rise are different, the anode and the strip are different. Gas stagnates in that area, and current stops flowing in that area due to its high electrical resistance, resulting in poor plating, and an increase in local current density in the surrounding area, resulting in uneven alloy composition and discoloration of the plating. In particular, on the upstream side, the moving direction of the strip is also opposite to the rising direction of the electrolytic bubbles, so even the cathode gas from the strip stays, resulting in poor quality in the high line speed range.

[発明が解決しようとする課題] 上述した問題を解決する電気めっき装置として、順流お
よび対向流が混在する第1図乃至第5図に示す装置が使
用される。第1図は水平型のめっき装置、第2図乃至第
5図は縦型めっき装置である。
[Problems to be Solved by the Invention] As an electroplating apparatus that solves the above-mentioned problems, the apparatus shown in FIGS. 1 to 5, in which forward flow and counterflow are mixed, is used. FIG. 1 shows a horizontal plating device, and FIGS. 2 to 5 show a vertical plating device.

第1図〜第5図に示すめっき装置は、いずれもj@流お
よび対向流が混在するため、コンダクタロール5と不溶
性陽極4.4′との間の距離が短縮できるため、ストリ
ップ3の金属抵抗による電圧ロスを小さくできるメリッ
トを持っている。従って、このような省エネルギーに適
した、順流および対向流が混在するメツキ装置において
の、亜鉛系合金めっき鋼板の製造方法の確立が望まれて
いる。
In the plating apparatus shown in FIGS. 1 to 5, since the j@ flow and the counter flow coexist, the distance between the conductor roll 5 and the insoluble anode 4.4' can be shortened, so that the metal of the strip 3 can be reduced. It has the advantage of reducing voltage loss due to resistance. Therefore, it is desired to establish a method for manufacturing zinc-based alloy coated steel sheets in a plating device that uses both forward flow and counter flow, which is suitable for such energy saving.

この発明の目的は、上述した順流および対向流が混在す
るめっき装置において、均一な、そして所望合金組成の
皮膜を有する亜鉛系合金電気めっき鋼板の製造方法を提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for producing a zinc-based alloy electroplated steel sheet having a uniform film having a desired alloy composition in the above-mentioned plating apparatus that uses a mixture of forward flow and counter flow.

[課題を解決するための手段] 発明者らは、上述の問題を解決すべく鋭意研究を重ねた
。その結果、以下に述べる知見を得た6即ち、めっき液
の順流および対向流の流速、および5ストリツプの移動
速度に応じて、不溶性陽極の電極面積を制御させること
によってめっき電流密度を調整し、これによって、ガス
の迅速な除去を達成し、均一なそして所望合金組成のめ
つき皮膜が得られる。
[Means for Solving the Problems] The inventors have conducted extensive research to solve the above-mentioned problems. As a result, we obtained the findings described below.6 That is, the plating current density was adjusted by controlling the electrode area of the insoluble anode according to the flow rate of the forward flow and countercurrent of the plating solution and the moving speed of the strip. This achieves rapid gas removal and provides a plated film that is uniform and has the desired alloy composition.

この発明は上述の知見に基いてなされたものであり、め
っき液が供給されているめつき槽内に不溶性陽極を複数
配置し、ストリップを連続的に移動し、一方の前記不溶
性陽極と前記ストリップとの間に、前記めっき液を、前
記ストリップの移動方向と同一方向に流し、他方の前記
不溶性陽極と前記ストリップとの間に、前記めっき液を
前記ストリップの移動方向と対向する方向に流し、かく
して前記ストリップの表面をめっきしてなる亜鉛系合金
電気めっき鋼板の製造方法において、各々の前記不溶性
陽極の電極面積を制御することによってめっき電流密度
を調整することに特徴を有するものである。
This invention was made based on the above-mentioned knowledge, and a plurality of insoluble anodes are arranged in a plating bath to which a plating solution is supplied, and the strips are continuously moved, and one of the insoluble anodes and the strip between the insoluble anode and the strip, the plating solution is flowed in the same direction as the moving direction of the strip, and between the other insoluble anode and the strip, the plating solution is flowed in the direction opposite to the moving direction of the strip, Thus, the method for producing a zinc-based alloy electroplated steel sheet by plating the surface of the strip is characterized in that the plating current density is adjusted by controlling the electrode area of each of the insoluble anodes.

次に、この発明を図面を参照しながら説明する。Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は、この発明の製造方法の一実施態様を示す水平
型めっき装置の断面図である。第1図において、1は水
平型めっき装置、2はめっき槽、3は被めっき材のスト
リップ、4.4’ 、 4a、 4a’は不溶性陽極、
5はコンダクタロール、6はバックアンプロール、7は
めっき液、8はダムロール、9はサポートロールおよび
1oは噴流ヘッダである。図面において矢印は、ストリ
ップ3の移動方向を示す。第1図に示すように、不溶性
陽極4と4’ 、4aと48 とは、ストリップ3の上
側および下側に対向して設けられている。ストリップ3
は不溶性陽極4,4′間、4a、 4a’間を矢印に示
す方向に移動する。めっき槽2の中央部に設けられたサ
ポートロール9の上流側には、入側の不溶性陽極4,4
′にめっき液を吐出するための第1噴流ヘッダ10a、
10aが、サポートロール9の下流側には、出側の不溶
性陽極4a、 4a’にめっき液を吐出するための第2
噴流ヘツダ10b。
FIG. 1 is a sectional view of a horizontal plating apparatus showing an embodiment of the manufacturing method of the present invention. In Fig. 1, 1 is a horizontal plating device, 2 is a plating tank, 3 is a strip of material to be plated, 4.4', 4a, 4a' are insoluble anodes,
5 is a conductor roll, 6 is a back unroll, 7 is a plating solution, 8 is a dam roll, 9 is a support roll, and 1o is a jet header. In the drawing the arrow indicates the direction of movement of the strip 3. As shown in FIG. 1, insoluble anodes 4 and 4', 4a and 48 are provided oppositely on the upper and lower sides of the strip 3. strip 3
moves between insoluble anodes 4 and 4' and between 4a and 4a' in the direction shown by the arrow. On the upstream side of the support roll 9 provided in the center of the plating tank 2, there are insoluble anodes 4, 4 on the inlet side.
a first jet header 10a for discharging plating solution to ';
10a is a second plate on the downstream side of the support roll 9 for discharging the plating solution to the insoluble anodes 4a and 4a' on the outlet side.
Jet header 10b.

10bが、それぞれ設けられている。ストリップ3が矢
印の方向に移動し、不溶性陽極4,4′および4 a、
 4 a’ と、 ストリップ3とが形成する極間に対
し、第1噴流へラダ10a、1.Oaからはストリップ
3の移動方向と対向する対向流が、第2噴流ヘッダ10
b、10bからはストリップ3の移動方向と同じ方向の
順流が、それぞれ吐出される。
10b are provided respectively. The strip 3 moves in the direction of the arrow and the insoluble anodes 4, 4' and 4a,
4a' and the strip 3, the rudder 10a, 1. A counterflow opposite to the moving direction of the strip 3 flows from Oa to the second jet header 10.
A forward flow in the same direction as the moving direction of the strip 3 is discharged from b and 10b, respectively.

不溶性陽極4.4’ 、4a、4a’には、不溶性陽極
4.4’ 、4a、4a’  とストリップ3との間の
極間における不溶性陽極の電極面積(以下「電極面積」
という)を変えるための遮蔽板12が設けられている。
The insoluble anodes 4.4', 4a, 4a' have an electrode area (hereinafter referred to as "electrode area") of the insoluble anode between the insoluble anodes 4.4', 4a, 4a' and the strip 3.
A shielding plate 12 is provided to change the

本発明において、順流側および対向流側の電極面積を制
御して、順流側および対向流側の投入電気量を変えるこ
となく、順流側および対向流側の電流密度を変えること
とした理由を以下で説明する。
In the present invention, the reason why we decided to change the current density on the forward and counterflow sides by controlling the electrode areas on the forward and counterflow sides without changing the amount of electricity input to the forward and counterflow sides is as follows. I will explain.

例えば、Zn −Fa合金電気めっき鋼板を例に挙げて
説明する。ストリップの表面に形成されるZn−Fe合
金めっきでは、めっき皮膜の性能は、皮膜中のFe含有
量に依存し、最適Fe含有量は10〜20wt、%とさ
れている。Fe含有量が10wt、%未満では、Znと
似た性質を持ち、Feを含有した効果が薄く。
For example, a Zn-Fa alloy electroplated steel sheet will be described as an example. In the Zn-Fe alloy plating formed on the surface of the strip, the performance of the plating film depends on the Fe content in the film, and the optimum Fe content is said to be 10 to 20 wt.%. When the Fe content is less than 10 wt.%, it has properties similar to Zn, and the effect of containing Fe is weak.

ブリスターの発生が早く、Znめっきに比べて塗装後耐
食性の向上が見られない。一方Fe含有量が20wt、
%を超えると、犠牲防食性が劣化し、対赤錆び性など耐
食性に劣るものとなる、従って、Fe含有量は10〜2
0wt、%の範囲内が好ましい。この範囲内にFe含有
量を限定するためにはめっき条件を厳密に管理しなけれ
ばならない。
Blisters occur quickly and there is no improvement in corrosion resistance after painting compared to Zn plating. On the other hand, the Fe content is 20wt,
If the Fe content exceeds 10 to 2%, sacrificial corrosion resistance deteriorates and corrosion resistance such as red rust resistance deteriorates.
It is preferably within the range of 0 wt.%. In order to limit the Fe content within this range, plating conditions must be strictly controlled.

一方、このZn −Fe合金めっきの合金組成は、流速
等のめっき条件、すなわち、陰極界面の物質移動に強く
依存し、高流速はど拡散律速下のZnの供給が進み、F
e含有量が低下する。
On the other hand, the alloy composition of this Zn-Fe alloy plating strongly depends on plating conditions such as flow rate, that is, mass transfer at the cathode interface.
e content decreases.

順流側と対向流側とでは、ストリップ移動方向に対する
噴流方向が異なるため、ストリップ基準相対速度(順流
側:めっき液流速からストリップ移動速度を減じた値の
絶対値、対向流側:めっき液流速とストリップ移動速度
とを加えた値の絶対値)が異なり、合金組成の流速依存
性のある上述のような亜鉛系合金めっき鋼板の製造は難
しい。
Since the jet direction with respect to the strip movement direction is different between the forward flow side and the counterflow side, the strip reference relative velocity (forward flow side: the absolute value of the value obtained by subtracting the strip movement speed from the plating solution flow rate, and the counterflow side: the plating solution flow rate) It is difficult to manufacture the above-mentioned zinc-based alloy-plated steel sheet in which the flow rate depends on the alloy composition.

つまり、順流側ではストリップ移動速度の増加につれて
相対速度は低下していき、噴流速度と等しくなった時に
ゼロとなり、その後逆に上昇していく、すなわち、皮膜
中のFe含有量は、−度上昇し、相対速度ゼロで最大値
をとりその後低下していく。
In other words, on the downstream side, as the strip moving speed increases, the relative velocity decreases, becomes zero when it becomes equal to the jet velocity, and then increases in the opposite direction.In other words, the Fe content in the film increases by - The value reaches its maximum value when the relative velocity is zero, and then decreases.

一方、対向流側では、ストリップ移動速度の増加につれ
て相対速度は常に上昇していく、このときにFe含有量
は常に低下していく。従って、順流および対向流が混在
するめっき装置においては、ストリップ移動速度の増加
とともに順流側と対向流側とのFe含有量の差は、ゼロ
から増加していき。
On the other hand, on the counter-current side, the relative velocity always increases as the strip moving speed increases, and at this time the Fe content always decreases. Therefore, in a plating apparatus in which forward flow and counterflow flow coexist, as the strip moving speed increases, the difference in Fe content between the forward flow side and the counterflow side increases from zero.

順流側の相対速度ゼロで最大となり、その後減少してい
く。
It reaches a maximum when the relative velocity on the downstream side is zero, and then decreases.

また、1電極当りの通電時間が短い場合(ストリップ移
動速度が早いか、電極長が短い場合)は陰極での拡散層
が成長段階であり薄いため、このZn −Fe合金めっ
きの場合は、拡散律速下にあるZnの供給が進み皮膜中
のFe含有量の低下が起こる6さらに、この領域では充
分に物質移動が高められているので1合金組成の流速依
存性1通電時間依存性が少なくなる。従って、ストリッ
プ移動速度が速くなるほど順流側の相対速度ゼロ時・の
順流側と対向流側とのFe含有量との差は小さ(なる。
In addition, when the current application time per electrode is short (when the strip movement speed is fast or the electrode length is short), the diffusion layer at the cathode is in the growth stage and is thin. The supply of Zn, which is under rate-limiting conditions, progresses and the Fe content in the film decreases.6 Furthermore, since the mass transfer is sufficiently enhanced in this region, the flow rate dependence of the alloy composition (1) and the current application time dependence (1) decrease. . Therefore, as the strip moving speed increases, the difference in Fe content between the upstream side and the countercurrent side becomes smaller (when the relative speed on the upstream side is zero).

さらに、縦型めっき装置においては、陽極および陰極か
ら発生する電解ガスの上昇速度を考慮する必要があり、
特にガスの上昇に対向する順流のときにガス抜は性が低
下し、局部電流の上昇によって合金組成の変動が起こる
Furthermore, in vertical plating equipment, it is necessary to consider the rising speed of electrolytic gas generated from the anode and cathode.
Particularly in the case of downward flow opposing the upward flow of gas, degassing performance decreases, and fluctuations in alloy composition occur due to the increase in local current.

以上のように、順流および対向流が混在するめっき装置
での組成均一な合金めっきの製造は難しく、さらに新た
なる合金組成制御パラメータを必要とする。それが電流
密度である。すなわち、相対速度が低いなどFe含有量
を上昇させる条件では電流密度を下げ、一方Fe含有量
が低下する条件では電流密度を上げることによって解決
される。ここでは、順流側の電流密度は低下させる構造
に、対向流側の電流密度は上昇できる構造とする。この
とき、投入電気量は生産性の低下を招くので、制御せず
、電極面積を変えることにより制御を行なう。
As described above, it is difficult to produce alloy plating with a uniform composition in a plating apparatus that uses both forward and counterflow, and requires new alloy composition control parameters. That is current density. That is, the problem is solved by lowering the current density under conditions where the Fe content increases, such as when the relative speed is low, and increasing the current density under conditions where the Fe content decreases. Here, a structure is used in which the current density on the forward flow side is reduced, and a structure in which the current density on the counterflow side is increased. At this time, the amount of electricity input is not controlled because it causes a decrease in productivity, but is controlled by changing the electrode area.

次に、電極面積の制御方法について具体的に説明する。Next, a method for controlling the electrode area will be specifically explained.

第1図に示す水平型めっき装置においては、必要よりも
大きい電極(不溶性陽極4a、4a’ )をあらかじめ
設置しておき、遮蔽板12をストリップ3と不溶性陽極
4a、 4a’ との間に設け、電極を遮蔽板12によ
って遮蔽し、電極面積を制御する。
In the horizontal plating apparatus shown in FIG. 1, electrodes (insoluble anodes 4a, 4a') larger than necessary are installed in advance, and a shielding plate 12 is provided between the strip 3 and the insoluble anodes 4a, 4a'. , the electrode is shielded by a shielding plate 12 to control the electrode area.

第2図に示す縦型めっき装置において、必要よりも大き
い電極(不溶性陽極4b)  をあらかじめ設置してお
き、遮蔽板12aをストリップ3と不溶性陽極4bとの
間に設け、電極を遮蔽板12aによって遮蔽し、電極面
積を制御する。
In the vertical plating apparatus shown in FIG. 2, an electrode (insoluble anode 4b) larger than necessary is installed in advance, a shielding plate 12a is provided between the strip 3 and the insoluble anode 4b, and the electrode is connected by the shielding plate 12a. Shield and control electrode area.

第3図に示す縦型めっき装置において、必要よりも大き
い電極(不溶性陽極4c)  をあらかじめ順流側に設
置しておき、めっき液7のレベルを上下に移動させて電
極面積を制御する。
In the vertical plating apparatus shown in FIG. 3, an electrode (insoluble anode 4c) larger than necessary is installed in advance on the downstream side, and the level of the plating solution 7 is moved up and down to control the electrode area.

第4図に示す縦型めっき装置において、順流側および対
向流側の各々にストリップ3の両側に対向して分割予備
電極44を設け、分割予備電極44の電極面積を変える
ための複数のスイッチ15をONまたはOFFに切り替
えることにより電極面積を制御する。10cは噴流ヘッ
ダである。
In the vertical plating apparatus shown in FIG. 4, divided preliminary electrodes 44 are provided facing both sides of the strip 3 on each of the forward flow side and the countercurrent side, and a plurality of switches 15 are provided for changing the electrode area of the divided preliminary electrodes 44. The electrode area is controlled by switching ON or OFF. 10c is a jet header.

第5図に示す縦型めっき装置において、順流側のストリ
ップ3の両側に対向して設けられた不溶性陽極4dの各
々に、バルブ14によって開閉式の複数の噴流ヘッダ1
0dを設け、両側の不溶性陽極4d、4dの噴流へラダ
10dをそれぞれ1個づつ開とすることにより噴流へラ
ダ10dの位置を上下に変えて、これにより電極面積を
制御する。
In the vertical plating apparatus shown in FIG. 5, a plurality of jet headers 1 which can be opened and closed by valves 14 are attached to each of the insoluble anodes 4d provided on opposite sides of the strip 3 on the upstream side.
0d, and by opening one ladder 10d to the jet of the insoluble anodes 4d and 4d on both sides, the position of the ladder 10d to the jet can be changed up and down, thereby controlling the electrode area.

以上、電極面積の制御によって電流密度を調整すること
により、順流側および対向流側においてめっきされたZ
n −Fe合金めっき鋼板のめっき皮膜はFa含有量1
0〜20vt、%の許容範囲内で製造することが可能と
なった。
As described above, by adjusting the current density by controlling the electrode area, Z
The plating film of the n-Fe alloy plated steel sheet has an Fa content of 1
It became possible to manufacture within the permissible range of 0 to 20vt,%.

以上は、Zn −Fe合金めっきを例に挙げて説明した
が、Zn −Ni系など亜鉛系合金めっき全般に広く適
用することができる。
Although the above description has been made using Zn-Fe alloy plating as an example, the present invention can be widely applied to general zinc-based alloy plating such as Zn-Ni.

[実施例] 次に、この発明を実施例によって、更に詳しく説明する
[Examples] Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

第1図に示す水平型めっき装置1を用いて、 Zn−F
e合金めっき鋼板を、電極面積を制御することにより電
極長を変化させ、および、ストリップ移動速度を変化さ
せて、中1200nf1のストリップに順流側および対
向流側、各々独立にめっきを施して製造した。なお、制
御したのは順流側の不溶性陽極のみであった。そして、
得られたZn −Fe合金めっき鋼板の皮膜中のFe含
有量を測定し、第1表に示した。比較例として順流側、
対向流側とも制御されていない不溶性陽極を使用して製
造した結果を第2表に示した。そして、許容範囲におい
て均一なめっき皮膜を有する合金めっき鋼板が製造され
たかどうかを調べた。Fe含有量は10〜20tit、
%の範囲が適正範囲であるため、順流側と対向流側との
Fe含有量の差は、少なくともLout。
Using the horizontal plating apparatus 1 shown in Fig. 1, Zn-F
E-alloy plated steel sheets were manufactured by controlling the electrode area, changing the electrode length, and changing the strip movement speed, and plating a medium 1200nf1 strip independently on the forward flow side and the counterflow side. . Note that only the insoluble anode on the upstream side was controlled. and,
The Fe content in the film of the obtained Zn-Fe alloy plated steel sheet was measured and shown in Table 1. As a comparative example, on the downstream side,
Table 2 shows the results produced using an insoluble anode that was not controlled on either side of the counterflow. Then, it was investigated whether an alloy-plated steel sheet having a uniform plating film within an allowable range was manufactured. Fe content is 10-20tit,
Since the range of % is an appropriate range, the difference in Fe content between the upstream side and the counterflow side is at least Lout.

%以下でなければならないので、前記Fe含有量の差を
表示した。
% or less, the difference in Fe content is shown.

なお、めっき条件は、以下の通りであった。Note that the plating conditions were as follows.

(1)めっき浴組成 第1浴 硫酸第1鉄:325g/Q、 硫酸亜鉛:175g/ffi、 硫酸ソーダ:60  g/f2゜ 第2浴 硫酸第1鉄:275g/Ill、 硫酸亜鉛:225g/R5 硫酸ソーダ:60  g/Ω、 (2) pl(= 1.5 第1表、第2表から明らかなように、本発明の製造方法
により製造されためっき鋼板は、順流と対向流のFe含
有量の差が少なく、許容範囲において均一な皮膜を有し
ていた。これに対して、本発明外の製造方法により製造
されためっき鋼板は、順流と対向流のFe含有量の差が
大きかった。
(1) Plating bath composition First bath ferrous sulfate: 325g/Q, zinc sulfate: 175g/ffi, sodium sulfate: 60 g/f2゜Second bath ferrous sulfate: 275g/Ill, zinc sulfate: 225g/ R5 Sodium sulfate: 60 g/Ω, (2) pl (= 1.5 As is clear from Tables 1 and 2, the plated steel sheet manufactured by the manufacturing method of the present invention has Fe The difference in Fe content was small and the film was uniform within the allowable range.On the other hand, the plated steel sheets manufactured by the manufacturing method other than the present invention had a large difference in Fe content between forward flow and counter flow. Ta.

[発明の効果コ 以上説明したように、この発明によれば、順流および対
向流が混在するめっき装置において、均
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, uniform

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の製造方法の一実施態様を示す水平型
めっき装置の断面図、第2図乃至第5図は他の実施態様
を示す縦型めっき装置の断面図である1図面において、 1・・・水平型めっき装置、 2・・・めっき槽、 3・・・ストリップ 4、4’ 、4a、4a’ 4b、4c、4d−不溶性
陽極、5・・・コンダクタロール、 6・・・バックアップロール、 7・・・めっき液、 8・・・ダムロール、 9・・・サポートロール、 10.10a、10b、10c、10cl・・噴流ヘッ
ダ、11・・・縦型めっき槽、 12.12a・・・遮蔽板、 13・・・ボトムロール、 14・・・バルブ、 15・・・スイッチ、 44・・・分割予備電極。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a horizontal plating apparatus showing one embodiment of the manufacturing method of the present invention, and FIGS. 2 to 5 are cross-sectional views of a vertical plating apparatus showing other embodiments. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Horizontal plating device, 2... Plating tank, 3... Strip 4, 4', 4a, 4a' 4b, 4c, 4d-Insoluble anode, 5... Conductor roll, 6... Backup roll, 7... Plating solution, 8... Dam roll, 9... Support roll, 10.10a, 10b, 10c, 10cl... Jet header, 11... Vertical plating tank, 12.12a. ...Shielding plate, 13...Bottom roll, 14...Valve, 15...Switch, 44...Divided preliminary electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 めっき液が供給されているめっき槽内に、不溶性陽
極を複数配置し、ストリップを連続的に移動し、一方の
前記不溶性陽極と前記ストリップとの間に、前記めっき
液を、前記ストリップの移動方向と同一方向に流し、他
方の前記不溶性陽極と前記ストリップとの間に、前記め
っき液を、前記ストリップの移動方向と対向する方向に
流し、かくして前記ストリップの表面をめっきしてなる
亜鉛系合金電気めっき鋼板の製造方法において、各々の
前記不溶性陽極の電極面積を制御することによってめっ
き電流密度を調整することを特徴とする亜鉛系合金電気
めっき鋼板の製造方法。
1. A plurality of insoluble anodes are arranged in a plating tank to which a plating solution is supplied, and a strip is continuously moved, and the plating solution is placed between one of the insoluble anodes and the strip while the strip is being moved. and the plating solution is flowed between the other insoluble anode and the strip in a direction opposite to the moving direction of the strip, thereby plating the surface of the strip. A method for producing an electroplated steel sheet using a zinc-based alloy, characterized in that the plating current density is adjusted by controlling the electrode area of each of the insoluble anodes.
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Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7854829B2 (en) 2006-07-04 2010-12-21 Tdk Corporation Method of plating and method of manufacturing a micro device

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