JPH02213490A - Production of high-purity titanium and equipment thereof and high-purity titanium target material - Google Patents

Production of high-purity titanium and equipment thereof and high-purity titanium target material

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JPH02213490A
JPH02213490A JP3384889A JP3384889A JPH02213490A JP H02213490 A JPH02213490 A JP H02213490A JP 3384889 A JP3384889 A JP 3384889A JP 3384889 A JP3384889 A JP 3384889A JP H02213490 A JPH02213490 A JP H02213490A
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Abstract

PURPOSE:To obtain high-purity metallic titanium extremely little in the contents of alkali metal, radioactive elements, heavy metal and oxygen by utilizing a titanium raw material wherein titanium sponge is compressed to a briquette state and utilizing high-purity Ni for the members and parts brought into contact with molten salt and electrolyzing this molten salt. CONSTITUTION:In the production of high-purity titanium by an electrolytic method of molten salt, the parts or the members such as a crucible, a basket made of titanium sponge, an anode and a cathode which are brought into contact with molten salt are constituted of high-purity nickel. In this electrolyzer of molten salt, NaCl is generally utilized as molten salt and a basket housing titanium sponge is connected to the anode side and titanium is electrodeposited on the cathode of the cathode side. In this case, when the average atomic value of titanium in the electrolytic bath is regulated to 2.1-2.3, excellent electrolysis is enabled and electrodeposited dendritic titanium which has high purity and is large in crystal grain contg. a hexagonal plate is obtained. As a result, high purity-titanium is obtained which has sufficiently high purity capable of being utilized even for applications of sputtering in a semiconductor domain and is industrially profitable.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高純度チタンの製造方法及び装置並びに高純
度チタンターゲット材に関するものであり、特には半導
体デバイス製造用の高純度チタンターゲットを製造する
に適する高純度チタン材の製造に関するものである。本
発明を基礎として作製されたチタンターゲットはVLS
 Iの障壁層及びアルミニウムに替わる配線材としての
活用が有望視される。
Detailed Description of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for producing high-purity titanium, and a high-purity titanium target material, and particularly to a high-purity titanium material suitable for producing a high-purity titanium target for manufacturing semiconductor devices. It is related to the production of. The titanium target produced based on the present invention is VLS
The use of I as a barrier layer and as a wiring material in place of aluminum is seen as promising.

免豆立且遣 従来、半導体デバイスにおける眉間の膜バリヤ材として
はシリコン酸化膜が主に用いられてきたが、LSIの高
集積化に伴い、モリブデン、タングステン等の高融点金
属の一つとして特にチタンの活用に関心が高まっている
。また、従来から用いられてきたアルミニウムに替えて
チタンを配線材として用いる試みも進んでいる。こうし
たチタン層間膜バリヤや配線は代表的に、チタン製ター
ゲットをアルゴン中でスパッタすることにより形成され
る。チタンターゲットは、市販のチタン原料を成型、焼
結及び溶解した後、機械加工を行なうことにより製造さ
れている。
Traditionally, silicon oxide films have been mainly used as barrier materials between the eyebrows in semiconductor devices, but with the increasing integration of LSIs, high melting point metals such as molybdenum and tungsten have been used, especially There is growing interest in the use of titanium. Further, attempts are being made to use titanium as a wiring material in place of the conventionally used aluminum. Such titanium interlayer barriers and interconnects are typically formed by sputtering a titanium target in argon. A titanium target is manufactured by molding, sintering, and melting a commercially available titanium raw material, and then performing machining.

半導体デバイス素子の性能の信頼性を向上するために、 (1)  Na、に、Li等のアルカリ金属、(2)U
、Th等の放射性元素、 (3)Fe、Cr等の重金属 (4)酸素 のような不純物の低減化が必要である。Na、に等のア
ルカリ金属は、ゲート絶縁膜中を容易に移動じ、MOS
−LSI界面特性の劣化の原因となる。U等の放射性元
素は該元素より放出するα線によって素子のソフトエラ
ーの原因となる。Fe等の重金属もまた界面接合部のト
ラブルの原因となる。酸素は特性劣化を招(。
In order to improve the reliability of the performance of semiconductor device elements, (1) alkali metals such as Na, Li, etc., (2) U
, radioactive elements such as Th, (3) heavy metals such as Fe and Cr, and (4) impurities such as oxygen. Alkali metals such as Na and Ni easily move in the gate insulating film,
-Causes deterioration of LSI interface characteristics. Radioactive elements such as U cause soft errors in devices due to alpha rays emitted from the elements. Heavy metals such as Fe also cause trouble at interfacial joints. Oxygen causes property deterioration (.

ちなみに、最近のIMDRAM及び4MDRAMで要求
されるチタンターゲットの純度は5N(99、999%
、但しガス成分を除く)となっている。即ち、Nas 
K等のアルカリ金属含有率はそれぞれ0.1 pp−以
下、U、Th等の放射性元素含有率はそれぞれ1 pp
b以下、そしてFe、Cr等の重金属含有率はそれぞれ
0.5 ppm以下とされ、更には酸素含有率は150
 ppm以下、好ましくは100pp履以下であること
が要求されている。
By the way, the purity of the titanium target required for recent IMDRAM and 4MDRAM is 5N (99,999%).
(excluding gas components). That is, Nas
The content of alkali metals such as K is 0.1 pp- or less, and the content of radioactive elements such as U and Th is 1 pp each.
The content of heavy metals such as Fe and Cr must be 0.5 ppm or less, and the oxygen content must be 150 ppm or less.
The content is required to be less than ppm, preferably less than 100 ppm.

現在工業的に製造されている純チタンは上記の重金属元
素、ガス成分の他、アルカリ金属元素も多く含有してお
り、このままの純度では半導体分野に用いることは出来
ない。
The pure titanium currently produced industrially contains a large amount of alkali metal elements in addition to the heavy metal elements and gas components mentioned above, and cannot be used in the semiconductor field at its current purity.

と   の 純チタンを更に高純度化する方法として、特開昭62−
294177及び294179号に記載されるようなチ
タンヨウ化物熱分解法がある。しかし、この方法は精製
純度に限界があり、その実施例によると例えばFeが5
0pp−と要求水準よりはるかに高く、半導体用途に適
さない、更に、チタンヨウ化物熱分解法は元来実験規模
向きの方法であり、工業規模での生産には適さない、そ
の理由はチタン析出速度があまりに小さいためであり、
例えばT i O,225g/h−co+”であり、チ
タン板の直径を10cmとしても10時間で176g、
時間当り析出量は17.6に過ぎない、また、高温度(
1100〜1500℃)の熱分解を維持するために誘導
加熱を用いるが、電力当りのチタン析出量は0.59 
g/kwhと非常に少ない。
As a method for further purifying pure titanium, JP-A-62-
There are titanium iodide pyrolysis processes, such as those described in US Pat. However, this method has a limit in purification purity, and according to its examples, for example, Fe 5
0pp-, which is much higher than the required level, making it unsuitable for semiconductor applications.Furthermore, the titanium iodide thermal decomposition method is originally a method for experimental scale, and is not suitable for industrial scale production.The reason is that the titanium precipitation rate is is too small,
For example, if the diameter of the titanium plate is 10 cm, 176 g in 10 hours,
The amount of precipitation per hour is only 17.6, and the high temperature (
Induction heating is used to maintain thermal decomposition at a temperature of 1,100 to 1,500°C, but the amount of titanium deposited per electric power is 0.59.
g/kwh, which is very small.

このように、チタンヨウ化物熱分解法は、精製純度に限
界があり、生産性が劣りしかも極めて高価となる。
As described above, the titanium iodide thermal decomposition method has a limited purification purity, poor productivity, and is extremely expensive.

別の方法として溶融塩電解法が知られている。Another known method is molten salt electrolysis.

溶融塩電解法はこれまでチタンの電解採取を目的に研究
されたきたが、チタンスポンジの精製も検討されている
0例えば、文献r Bureau of MinesJ
  (1957年)1〜43頁 Report of 
Investlgationには、 rLiCl−KCIの混合塩を鉄製のルツボに入れて溶
融し、この中でまず11条にTiCl4を吹き込んでT
iC1mを生成する0次に、Tiスポンジを入れた鉄製
バスケットとTIカソードに入れ替えて、Tiスポンジ
をアノードとしそしてTiC1□をキャリアーとして電
解を行ない、T1カソードに純チタンを析出させる。」 方法が記載されている。析出チタンのFe含有量は20
0 ppmという非常に高い水準にある。
The molten salt electrolytic method has been studied for the purpose of electrowinning titanium, but purification of titanium sponge is also being considered.For example, see Bureau of Mines J
(1957) pp. 1-43 Report of
For investment, a mixed salt of rLiCl-KCI was melted in an iron crucible, and TiCl4 was first blown into 11 grooves in the crucible to melt T.
Next, the iron basket containing the Ti sponge and the TI cathode are replaced, and electrolysis is performed using the Ti sponge as an anode and TiC1□ as a carrier to deposit pure titanium on the T1 cathode. ” method is described. The Fe content of precipitated titanium is 20
It is at an extremely high level of 0 ppm.

更に、軟鋼容器(cell)を使用して別の装置で同様
の電解精製を行なった結果も析出チタンのFe含有量は
110pp■であった。
Furthermore, when similar electrolytic refining was carried out using another apparatus using a mild steel cell, the Fe content of the precipitated titanium was 110 pp.

いずれも、鉄含有率が極めて高く、こうした方法及び装
置では本発明目的のFe< ippm精製は到底不可能
であった。
In both cases, the iron content was extremely high, and the purification of Fe < ippm, which is the objective of the present invention, was completely impossible with such methods and equipment.

鉄製ルツボ或いは容器に代えて、TiCl4及びTiC
1gを含む溶融塩に耐える構造材料として、ステンレス
鋼、黒鉛等が検討されてきたが、いずれも高温度の(5
00〜850℃)の溶融塩に微量侵食されて溶出し、析
出するチタンを汚染した。
TiCl4 and TiC instead of iron crucibles or containers
Stainless steel, graphite, etc. have been considered as structural materials that can withstand 1g of molten salt;
A small amount of molten salt (00 to 850°C) eroded and eluted, contaminating the precipitated titanium.

更には、チタンスポンジは嵩密度が低いために、装入量
が少量となり、生産性を阻害する。精製物の酸素含有量
も多かった。
Furthermore, since titanium sponge has a low bulk density, the amount charged is small, which hinders productivity. The oxygen content of the purified product was also high.

免豆立11 以上の現状に鑑み、本発明は、半導体分野でのスパッタ
リング用途にでも使用しつるに充分高純度の、しかも工
業的に採算のとれるチタン精製技術を確立することであ
る。
Menzutachi 11 In view of the above-mentioned current situation, the present invention is to establish a titanium purification technology that is sufficiently pure to be used even for sputtering applications in the semiconductor field and is industrially profitable.

特には、本発明は、アルカリ金属、放射性元素及び重金
属のみならず、酸素ガス含有量のきわめて低い、高純度
金属チタンターゲットを製造するに適したチタン材を得
ることを目的とする。
In particular, the present invention aims to obtain a titanium material suitable for producing a high-purity metallic titanium target, which has an extremely low content of oxygen gas as well as alkali metals, radioactive elements, and heavy metals.

I匪皇盟1 本発明者は、基本的に溶融塩電解法がこうした目的に最
適と考え、溶融塩電解法で使用可能な各種材料の検討の
結果、全く以外にも、ニッケルが溶融塩電解設備の各種
部品及び部材を構成する構造材料として適していること
を見出すに至った。
The inventor of the present invention basically believes that molten salt electrolysis is most suitable for this purpose, and as a result of examining various materials that can be used in molten salt electrolysis, the inventor found that nickel is suitable for molten salt electrolysis. It has been discovered that this material is suitable as a structural material for various parts and members of equipment.

ニッケルは、強度が弱いため構造材料としてその使用を
検討されたことはなく、しかも当初責な金属であるため
移行量は少ないが、それでも少量の移行は避けられない
として考えられいたのであるが、以外にも、チタンを汚
染しないことがここに初めて判明したものである。
Due to its low strength, nickel was never considered for use as a structural material, and at first it was thought that the amount of migration would be small because it was a sensitive metal, but a small amount of migration was still unavoidable. In addition, this is the first time that it has been found that it does not contaminate titanium.

斯(して、本発明は、 1)溶融塩電解法により高純度チタンを製造する方法に
おいて、チタンスポンジをプリケット状に圧縮したチタ
ン原料を使用しそして少なくとも溶融塩が接触する部材
乃至部品を高純度ニッケルから構成した溶融塩電解装置
により電解操業することを特徴とする高純度チタン製造
方法、2)溶融塩電解法により高純度チタンを製造する
装置において、少なくとも溶融塩が接触する部材乃至部
品を高純度ニッケルから構成したことを特徴とする高純
度チタン製造装置、 3)カソード乃至アノードと関連するバイブ或いは棒の
摺動シール部位において、ポリテトラフルオロエチレン
製スリーブを挿入して電気絶縁し、該スリーブを上下に
分割しそしてその間にパッキングを介在せしめる2項記
載の装置、及び4)アルカリ金属含有率が0.1 pp
m以下、放射性元素含有率がl ppb以下そして重金
属含有率が0、5 ppm+以下であり、更に酸素含有
率が1100pp以下であることを特徴とする高純度チ
タンターゲット材 を提供するものである。
Thus, the present invention provides: 1) A method for producing high-purity titanium by molten salt electrolysis, in which a titanium raw material obtained by compressing a titanium sponge into a priquet shape is used, and at least the members or parts that come into contact with the molten salt are highly purified. 2) A method for producing high-purity titanium characterized by carrying out electrolytic operation using a molten salt electrolyzer made of pure nickel; A high-purity titanium production apparatus characterized by being constructed from high-purity nickel. 3) A sleeve made of polytetrafluoroethylene is inserted for electrical insulation at the sliding seal portion of the vibrator or rod associated with the cathode or anode. 2. The device according to item 2, in which the sleeve is divided into upper and lower parts and packing is interposed therebetween; and 4) the alkali metal content is 0.1 pp.
The present invention provides a high-purity titanium target material having a radioactive element content of 1 ppb or less, a heavy metal content of 0.5 ppm+ or less, and an oxygen content of 1100 pp or less.

本明細書において、アルカリ金属とは、周期表第1A族
に属する金属を指し、Na、K及びLLをもって代表と
する。放射性元素とは、U、Th等の放射能を有する元
素を指す。重金属とは、比較的原子量の重いFe、Cr
、Ni、Mn等を包括する。
In this specification, the alkali metal refers to a metal belonging to Group 1A of the periodic table, and is represented by Na, K, and LL. The radioactive element refers to an element having radioactivity such as U and Th. Heavy metals are Fe, Cr, which have relatively heavy atomic weights.
, Ni, Mn, etc.

1吸り1盗上11 本発明で用いるニッケルは3N(99,9%)以上に純
度のものである。上に述べたように、ニッケルは重金属
であり、ニッケル自体によるチタン汚染が憂慮され、ま
た特に高純度の材料は構造材としての使用は疑問視され
そして溶融塩に少量は溶出するものと信ぜられていた。
1 Inhalation 1 Theft 11 The nickel used in the present invention has a purity of 3N (99.9%) or higher. As mentioned above, nickel is a heavy metal, and there are concerns about titanium contamination from nickel itself. Also, the use of especially high-purity materials as structural materials is questionable, and it is believed that small amounts can be leached into molten salts. was.

そうした予想とは反対に、ニッケルは溶融塩電解装置の
構成材料として非常に好適なことが判明した。このニッ
ケルで、溶融塩電解装置において用いるルツボ、チタン
スポンジバスケット、アノード、カソード、槽内壁面そ
の他温度計保護管等少な(とも溶融塩に直接接触する部
品或いは部材を構成する。溶融塩蒸気が壁面に液滴とし
て付着し、それが浴内に落下することにより不純物汚染
源となることもあるので、溶融塩蒸気に曝露される装置
内面もニッケルにて構成することが好ましい。ここで「
構成する」とは、部品或いは部材をニッケル自体で作製
することのみならず、その表面を内張する或いはめっき
その他の手段で被覆することをも包括するものである。
Contrary to such expectations, nickel has been found to be highly suitable as a material of construction for molten salt electrolyzers. This nickel is used in the crucible, titanium sponge basket, anode, cathode, tank inner wall surface, thermometer protection tube, etc. used in the molten salt electrolyzer (all components or members that come into direct contact with the molten salt). It is preferable that the inner surface of the device, which is exposed to the molten salt vapor, is also made of nickel, since it can become a source of impurity contamination when it adheres as droplets to the molten salt vapor and falls into the bath.
"Constructing" includes not only making a part or member from nickel itself, but also lining the surface or covering it with plating or other means.

チタン溶融塩電解精製操業は、安定で、融点が低くそし
て導電率の大きな塩化物、一般にNaC1を溶融塩とし
て使用し、スポンジチタンを収納するバスケットをアノ
ード側に接続しそしてカンード側の陰極にチタンを電析
させることにより行なわれる。電解精製を行なうに際し
て、電解浴のTi平均原子価が2.1〜2.3であれば
良好な電解を行なうことが出来、純度の高い六角板を含
む結晶粒の大きな樹枝状電析チタンが得られる。このた
め、チタンスポンジ底部にTiC1,を導入して、洛中
に次の反応 TiCl4 +  Ti  → 2TLC1z    
■TiC1i  ÷TiCl4 → 2TLC1*  
 ■を進行せしめ、NaC1浴中にTiC1*及びTl
C1mを生成せしめる。■が主反応である。これにより
通常浴中のTiC1mは5〜6重量%そしてTiC1m
は1.3〜1.8重量%、平均でTlC1g、 +−x
、 sとされる。この平均原子価2.1〜2.3は電解
精製を行なう上で重要な条件である。
The titanium molten salt electrorefining operation uses a stable, low melting point and high conductivity chloride, generally NaCl, as the molten salt, connects a basket containing sponge titanium to the anode side, and connects the titanium to the cathode on the cand side. This is done by electrodepositing. When performing electrolytic refining, if the average Ti valence of the electrolytic bath is 2.1 to 2.3, good electrolysis can be performed, and dendritic electrodeposited titanium with large crystal grains containing high purity hexagonal plates can be obtained. can get. For this purpose, TiCl4 is introduced into the bottom of the titanium sponge, and the following reaction TiCl4 + Ti → 2TLC1z
■TiC1i ÷TiCl4 → 2TLC1*
③ proceed, TiC1* and Tl in NaCl bath.
C1m is generated. ■ is the main reaction. As a result, TiC1m in the bath is usually 5 to 6% by weight and TiC1m
is 1.3-1.8% by weight, average TlC1g, +-x
, s. This average valence of 2.1 to 2.3 is an important condition for electrolytic refining.

第1図には、溶融塩電解装置の一例が示しである。電解
槽容器1は電気炉2内にセットされ、その上端には容器
蓋3がゴム類0−リング等のシールを介して装着される
。容器蓋3にはゲートバルブ4を介して上チヤンバ−5
が設置されている。
FIG. 1 shows an example of a molten salt electrolyzer. An electrolytic cell container 1 is set in an electric furnace 2, and a container lid 3 is attached to its upper end via a seal such as a rubber O-ring. An upper chamber 5 is connected to the container lid 3 via a gate valve 4.
is installed.

ニッケル調成いはニッケルライニングルツボ6が容器1
内部に装入される。2本のニッケル製アノードバイブ7
で支持した、チタンスポンジ収納のためのニッケル製バ
スケット8が容器1内に吊下される。ニッケル製カソー
ド棒9が容器中央に懸吊支持される。容器内雰囲気を排
気するため或いは不活性ガスを導入する為のバイブlO
が容器蓋の直下に形成されている。アノードバイブ7の
上端にはアノード11が形成され、他方カソード棒、9
の上端にはカソード12が形成される。13aはカソー
ド棒絶縁°シールを表わし、13bはアノードバイブ絶
縁シールを表わす、容器温度は適宜の保護管に挿入した
温度計14で検出される。容器蓋には、チタンスポンジ
の装入補加用のボート15が設けられている0以上が溶
融塩電解装置の概要である0本発明においては、ルツボ
、チタンスポンジバスケット、アノードバイブ、カソー
ド棒、温度計保護管等の溶融塩に直接接触する部品或い
は部材をニッケルで構成する。容器1と蓋3m体はステ
ンレス鋼製とされるが、溶融塩蒸気が壁面に液滴として
付着しやすい容器上方内面、容器蓋内面も好ましくはニ
ッケルライニングを施される。
For nickel preparation, nickel lined crucible 6 is container 1
charged inside. Two nickel anode vibes 7
A nickel basket 8 for storing titanium sponge is suspended in the container 1. A nickel cathode rod 9 is suspended and supported in the center of the container. Vibrator for exhausting the atmosphere inside the container or introducing inert gas
is formed directly under the container lid. An anode 11 is formed at the upper end of the anode vibe 7, and a cathode rod, 9
A cathode 12 is formed at the upper end of. 13a represents a cathode rod insulation seal, 13b represents an anode vibe insulation seal, and the container temperature is detected by a thermometer 14 inserted into a suitable protective tube. The container lid is provided with a boat 15 for charging and adding titanium sponge. 0 The above is an overview of the molten salt electrolyzer 0 In the present invention, a crucible, a titanium sponge basket, an anode vibrator, a cathode rod, Parts or members that come into direct contact with the molten salt, such as the thermometer protection tube, are made of nickel. The container 1 and the lid 3m are made of stainless steel, but the upper inner surface of the container and the inner surface of the container lid, where molten salt vapor tends to adhere as droplets to the wall surface, are also preferably lined with nickel.

第1図の装置に基づいて溶融塩電解操業例を説明する。An example of molten salt electrolysis operation will be explained based on the apparatus shown in FIG.

先ず、ニッケル製ルツボ6に粉状無水精製塩化ナトリウ
ム(NaC1)を所定量装入しそして電解槽容器1に挿
入し、容器蓋3を密閉状態で取付け、これを電気炉2に
セットする。
First, a predetermined amount of powdered anhydrous purified sodium chloride (NaCl) is charged into a nickel crucible 6, and the crucible is inserted into the electrolytic cell container 1, the container lid 3 is attached in a sealed state, and this is set in the electric furnace 2.

粉状NaC1の水分によるチタンスポンジの酸化を避け
るために、前操作として、NaC1は一旦溶融凝固せし
められる。バイブlOから真空ポンプで内部を排気しな
がら電気炉2で約750℃まで加熱する。この加熱によ
りNaC1中の水分は完全に除去される0次に、Arの
ような不活性ガスを大気圧以上に封入し、温度なNaC
1の融点(801”C)以上に上げ、NaC1を溶融す
る。そして後、大気圧以下に圧力が下がらないようにし
つつ冷却して、NaC1を凝固せしめる。
In order to avoid oxidation of the titanium sponge due to moisture in the powdered NaCl, the NaCl is once melted and solidified as a pre-operation. The vibrator 1O is heated to about 750° C. in an electric furnace 2 while evacuating the inside using a vacuum pump. This heating completely removes the moisture in NaC1.Next, an inert gas such as Ar is sealed at a pressure above atmospheric pressure, and the NaC
The temperature is raised to above the melting point of 1 (801''C) to melt NaCl. Afterwards, the temperature is cooled while ensuring that the pressure does not drop below atmospheric pressure to solidify NaCl.

容器蓋3を開放して、チタンスポンジを入れたバスケッ
ト8を支持するニッケル製バイブ7を蓋3に取付け、バ
スケットがNaC1が凝固した上の空間に置かれるよう
蓋3を再セットする。
The container lid 3 is opened, the nickel vibrator 7 supporting the basket 8 containing the titanium sponge is attached to the lid 3, and the lid 3 is reset so that the basket is placed in the space above the solidified NaCl.

次に、再び排気しなからNaC1を再溶融し、不活性ガ
スを封入し、チタンスポンジの入ったニッケルバスケッ
トを降下してNaC1浴内に沈める。
Next, without evacuation again, the NaCl is melted again, an inert gas is filled in, and the nickel basket containing the titanium sponge is lowered and submerged in the NaCl bath.

次の操作として、ニッケルバイブを通してチタンスポン
ジ底部にTlCl4(液体)をマイクロポンプによって
所定の流量で導入して先に示した反応式■及び■を進行
せしめる。■の主反応でNaC1浴中にTiC1□が生
成し、同時に■の反応も一部に起こってTiC1sが生
成する。充分高温に保持してTiC1gの拡散を計るこ
とが必要である。TiCl4注入量は通常浴中のTIC
Imが5〜6重量%そしてTiC1sが1.3〜1.8
重量%、平均でTiC1t、 l−1,8となるよう設
定される。前述したように、この平均原子価2.1〜2
.3は電解精製を行なう上で重要な条件である。
In the next operation, TlCl4 (liquid) is introduced at a predetermined flow rate into the bottom of the titanium sponge using a micropump through a nickel vibrator, thereby allowing the reaction equations (1) and (2) shown above to proceed. The main reaction (2) produces TiC1□ in the NaCl bath, and at the same time, the reaction (2) also partially occurs to produce TiC1s. It is necessary to maintain the temperature at a sufficiently high temperature and measure the diffusion of 1 g of TiC. The amount of TiCl4 injected is the TIC in the normal bath.
Im 5-6% by weight and TiCls 1.3-1.8
The weight percent is set to be TiC1t, l-1.8 on average. As mentioned above, this average valence of 2.1 to 2
.. 3 is an important condition for electrolytic refining.

その後、カソード棒9が上チャンバーの上部から降ろさ
れ、その下端がルツボの底面の少し上となるように設定
して固定する。同じく、バスケットも同様の位置にバイ
ブの調整を通して位置調整する。
Thereafter, the cathode rod 9 is lowered from the upper part of the upper chamber, and is set and fixed so that its lower end is slightly above the bottom surface of the crucible. Similarly, adjust the position of the basket to the same position by adjusting the vibrator.

こうして、アノード11を陽極そしてカソード12を陰
極として電解が行なわれる。カソード電流密度は0.8
〜1.2 A/cがそして 電解摺電圧は一般に1.0
〜1.4V範囲とされる。但しこれら値は条件によって
かなり変化され得る。
In this way, electrolysis is performed using the anode 11 as the anode and the cathode 12 as the cathode. Cathode current density is 0.8
~1.2 A/c and the electrolytic sliding voltage is generally 1.0
~1.4V range. However, these values can vary considerably depending on conditions.

電解により、アノードでは原料のTiと、Tiより電極
電圧が卑であるNa、 K 、 U 、 Th%Mn等
の不純物が溶出する。逆に、TIより電極電圧が責であ
るFe、 Cr、 Ni、 Cu等は溶出しないでスポ
ンジ内に残留するかまたはスライムで沈降する。一方で
、カソードでは、Tiとそれより責な金属だけが析出す
る。本発明では、洛中に溶は出す不純物が実質皆無なの
で、チタン電析に当たってこうした不純物が一緒に析出
することはない。
By electrolysis, the raw material Ti and impurities such as Na, K, U, and Th%Mn whose electrode voltage is less noble than Ti are eluted at the anode. On the other hand, Fe, Cr, Ni, Cu, etc., which are caused by electrode voltage rather than TI, remain in the sponge without being eluted or settle as slime. On the other hand, at the cathode, only Ti and more serious metals are deposited. In the present invention, since virtually no impurities are dissolved into the liquid, these impurities are not deposited together with titanium during electrodeposition.

ある期間電解を継続すると、摺電圧は0.6〜0.8v
に降下し、そうなると第1回電解操作を完了する。
If electrolysis is continued for a certain period of time, the sliding voltage will be 0.6 to 0.8v.
At that point, the first electrolysis operation is completed.

電解浴温度を保持したままカソード棒に電析したチタン
を上チャンバー内に引き上げて、ゲートバルブ4を閉じ
る。電析チタンを酸化防止のため上チャンバーの水冷ジ
ャケットにて急速に冷やし後ゲートバルブ上のフランジ
を外して取り出す。
The titanium electrodeposited on the cathode rod is pulled up into the upper chamber while maintaining the electrolytic bath temperature, and the gate valve 4 is closed. After rapidly cooling the deposited titanium in a water cooling jacket in the upper chamber to prevent oxidation, remove the flange on the gate valve and take it out.

別のカソード捧を替わりにセットし、先と同じ条件で第
2回電解操作を実施する。
Set another cathode instead and perform a second electrolysis operation under the same conditions as before.

原料チタンスポンジの量に応じて、電解操作を繰返す、
原料チタンスポンジの量が減少すると、バスケットを浴
の上に引き上げ、ボート15よりチタンスポンジを装入
して補相する。この際は、電解槽内に不活性ガスを流し
て空気の侵入を防止する。
Repeat the electrolysis operation depending on the amount of raw material titanium sponge.
When the amount of raw material titanium sponge decreases, the basket is pulled up above the bath, and titanium sponge is charged from the boat 15 for supplementation. At this time, inert gas is flowed into the electrolytic cell to prevent air from entering.

こうしてチタンスポンジの補相と、カソード棒の取り替
えを繰り返しながら電解操業が実施される。チタンスポ
ンジの補相毎に、電解浴のTiC1gとTiC1s濃度
を分析して、平均原子価が2.1〜2.3であり、Ti
C1mが5.5〜6%であることを確認するが、゛空気
の侵入がなければ上記の操作においては殆ど変化なく、
チタンスポンジの補相もそのまま電解を継続し得る。
In this way, electrolysis operation is carried out while repeating the replacement of the titanium sponge and the replacement of the cathode rod. For each complementary phase of titanium sponge, the concentration of TiC1g and TiC1s in the electrolytic bath was analyzed, and the average valence was 2.1 to 2.3, and Ti
Confirm that C1m is 5.5 to 6%, but if there is no air intrusion, there will be almost no change in the above operation.
The complementary phase of the titanium sponge can also continue electrolysis as it is.

電解を連続して安定に行ないしかも酸素含有量の少ない
高品質の高純度チタンを得るには、上述の通り侵入空気
による酸化作用を極力回避することが必要である。侵入
空気は原料チタンスポンジに同伴するものと、装置周囲
雰囲気からの漏入酸素が考慮し得る。
In order to perform electrolysis continuously and stably and to obtain high-quality, high-purity titanium with a low oxygen content, it is necessary to avoid the oxidizing effect of invading air as much as possible, as described above. The intruding air can be considered to be the one accompanying the raw material titanium sponge or the leaking oxygen from the atmosphere around the device.

チタンスポンジは嵩密度が0.7〜1 kg/lと小、
さいために電解槽への装入量が少量となり、装置の生産
性を阻害し、チタンスポンジの補相回数を多(し、それ
だけ空気漏入の危険性を増大する。更に、チタンスポン
ジの嵩密度が低いことはそれだけ空間率が大きいため電
解浴への装入の際必然的に空気を同伴し、常時不活性雰
囲気への空気侵入によって電解浴のチタン原子価に悪影
響を与え、また直接電析チタンの酸素含有量を高める原
因となる。従って原料及び補相するチタンスポンジは嵩
密度が大きい程よい結果をもたらす。そこで、本発明に
おいては、チタンスポンジを金型等に入れてプレスによ
りプリケットに成型する対策が採られる。チタンの真空
度4.5に対してスポンジ状で0.7〜1.0のものを
プリケットで3.0以上とすることが好ましい、このよ
うに、チタンスポンジのプリケット成型は漏入酸素防止
対策として有効のみならず、生産性向上及び円滑な連続
操業の観点からも有用である。
Titanium sponge has a small bulk density of 0.7 to 1 kg/l.
Due to the small size, the amount charged to the electrolytic cell is small, which impedes the productivity of the device and increases the number of times the titanium sponge is complemented (which increases the risk of air leakage. Furthermore, the bulk of the titanium sponge The lower the density, the higher the void ratio, which inevitably entrains air when charging the electrolytic bath, and the constant intrusion of air into the inert atmosphere adversely affects the titanium valence of the electrolytic bath. Therefore, the higher the bulk density of the raw material and complementary titanium sponge, the better the result.In the present invention, the titanium sponge is placed in a mold, etc., and made into priquettes by pressing. Measures are taken to form the vacuum.In contrast to the vacuum degree of titanium, which is 4.5, it is preferable to make the sponge-like vacuum degree of 0.7 to 1.0 to 3.0 or higher in the priquet. Molding is not only effective as a measure to prevent oxygen leakage, but is also useful from the viewpoint of improving productivity and smooth continuous operation.

上の操業の説明で述べたように、アノードバイブは浴調
整、チタンスポンジの補相等の際浴から持ち上げられ、
またカソード棒も電析チタンを引き上げる際持ち上げら
れる。従って、アノードバイブ或いはカソード棒の絶縁
シール13a、bの摺動時に空気漏入が起こり易い。
As mentioned in the operation description above, the anode vibrator is lifted out of the bath during bath preparation, titanium sponge complementation, etc.
The cathode rod is also lifted when pulling up the deposited titanium. Therefore, air leakage is likely to occur when the insulating seals 13a, b of the anode vibe or cathode rod slide.

これを防止するために、本発明はアノードバイブ或いは
カソード棒摺動部用の特殊シールを提供する。その実施
例が第2図に示される。ここではアノードバイブ或いは
カソード棒を兼用して16として示しである。この摺動
部は、アノードバイブ或いはカソード棒16とフランジ
接続のバイブ21との間にテフロン(ポリテトラフルオ
ロエチレンの商品名)製スリーブ17を挿入して電気絶
縁するが、この場合該スリーブ17を分割しそしてその
間にゴム製O−リング18のようなパッキングが介在せ
しめらられる。更に、好ましくは、ゴムガスケット19
がバイブ21の上端とスリーブの下部分のフランジとの
間に挿し挟まれる。こうすることによって、バイブ或い
は棒16を上下に動かしても、シールが確保される。ス
リーブ及びO−リングを熱破損から保護するために水冷
ジャケット20を設けることが好ましい。
To prevent this, the present invention provides a special seal for the anode vibe or cathode rod slide. An example thereof is shown in FIG. Here, it is shown as 16, which also serves as an anode vibrator or a cathode rod. This sliding part is electrically insulated by inserting a Teflon (trade name of polytetrafluoroethylene) sleeve 17 between the anode vibe or cathode rod 16 and the flange-connected vibe 21. In this case, the sleeve 17 is The parts are separated and a packing such as a rubber O-ring 18 is interposed therebetween. Furthermore, preferably a rubber gasket 19
is inserted between the upper end of the vibrator 21 and the flange of the lower part of the sleeve. This ensures a seal even when the vibrator or rod 16 is moved up and down. A water cooling jacket 20 is preferably provided to protect the sleeve and O-ring from thermal damage.

取り出した電析チタンは六角板を含む樹枝状結晶であり
、水洗及び酸洗い後、真空乾燥して高純度チタンを得る
The electrodeposited titanium taken out is a dendrite crystal containing hexagonal plates, and after washing with water and pickling, it is vacuum-dried to obtain high-purity titanium.

高純度チタンは、電子ビーム真空溶解等の方法によって
インゴットとなし、鍛造加工などを経てスパッタリング
高純度チタンターゲットに仕上げる。不純物除去効果の
大きな電子ビーム溶解法の採用が好ましい。電子ビーム
溶解に供される成型体は冷間等圧加圧により得ることが
好ましい、得られたインゴットは、最終的に、所望の形
態のターゲットへと加工される。塑性加工、切断及び表
面仕上げは汚染防止に留意しつつ従来の方法により行わ
れる。
High-purity titanium is made into an ingot using methods such as electron beam vacuum melting, and then processed into a sputtering high-purity titanium target through forging and other processing. It is preferable to employ an electron beam melting method, which has a large impurity removal effect. The molded body to be subjected to electron beam melting is preferably obtained by cold isostatic pressing.The obtained ingot is finally processed into a target of a desired shape. Plastic working, cutting, and surface finishing are performed by conventional methods, taking care to prevent contamination.

このターゲットを用いて例えばアルゴンガス中でスパッ
タすることにより膜或いは配線が形成される。
A film or wiring is formed by sputtering using this target in, for example, argon gas.

塞JL泗 第1図及び第2図の装置を用いて高純度チタンを溶融塩
電解精製する実施例を示す。
An example will be shown in which high purity titanium is purified by molten salt electrolysis using the apparatus shown in FIGS. 1 and 2.

ニッケル製ルツボに粉状無水精製塩化ナトリウム40k
gを装入しそしてこれを電解槽容器に挿入し、容器蓋を
密閉状態で取付けて、電気炉にセットした。
Powdered anhydrous purified sodium chloride 40k in a nickel crucible
This was then inserted into the electrolytic cell container, the container lid was attached in a sealed state, and the container was set in an electric furnace.

粉状NaC1の水分によるチタンスポンジの酸化を避け
るために、前操作として、NaC1を真空ポンプで内部
を排気しながら約750℃まで加熱した。
In order to avoid oxidation of the titanium sponge due to moisture in powdered NaCl, as a pre-operation, NaCl was heated to about 750° C. while evacuating the inside using a vacuum pump.

次いで、Arをゲージ圧0.1 kg/cm”まで封入
し、温度を更に850℃に上げ、NaC1を溶融した。
Next, Ar was filled in to a gauge pressure of 0.1 kg/cm'', and the temperature was further raised to 850°C to melt NaCl.

そして後、大気圧以下にAr圧力が下がらないようにし
つつ約500℃まで冷却した。
Thereafter, it was cooled to about 500° C. while ensuring that the Ar pressure did not drop below atmospheric pressure.

蓋開放後、20kgのチタンスポンジを入れた、ニッケ
ル製バスケット(3φ多孔板)を支持するニッケル製バ
イブな蓋に取付け、バスケットがNaC1が凝固した上
の空間に置かれるよう蓋を再セットした。
After opening the lid, a nickel basket (3φ porous plate) containing 20 kg of titanium sponge was attached to a nickel vibrator lid supporting the lid, and the lid was reset so that the basket was placed in the space above the solidified NaCl.

次に、再び排気しなからNaC1を再溶融し、不活性ガ
スを封入し、チタンスポンジの入ったニッケルバスケッ
トを降下してNaC1浴内に沈めた。
Next, without evacuation again, the NaCl was melted again, an inert gas was filled in, and the nickel basket containing the titanium sponge was lowered and submerged in the NaCl bath.

次に、ニッケルバイブを通してチタンスポンジ底部にT
iC14(液体)をマイクロポンプによって毎分15g
づつの流量で2.5時間導入した。これにより、浴中の
TiC1gが5.5重量%そして7iC1mが1.5重
量%、従って平均原子価は2.1〜2.2となった。
Next, pass the nickel vibrator through the T to the bottom of the titanium sponge.
iC14 (liquid) at 15g per minute by micro pump
Each flow rate was introduced for 2.5 hours. This resulted in 5.5% by weight of 1g of TiC and 1.5% by weight of 1m of 7iC in the bath, so the average valence was 2.1-2.2.

カソード棒下端及びバスケットをルツボ底面から3CI
Ilに設定した。
Place the lower end of the cathode rod and the basket 3 CIs from the bottom of the crucible.
It was set to Il.

カソード電流密度は1. OA/cm”そして電解摺電
圧を1,2vとして電解を行なった。
The cathode current density is 1. OA/cm" and the electrolytic sliding voltage was 1.2 V.

約70時間通電したところで、摺電圧は0.6〜0.8
vに降下し、第1回電解操作を停止した。
After being energized for about 70 hours, the sliding voltage was 0.6 to 0.8.
V, and the first electrolysis operation was stopped.

電解浴温度を850℃に保持したままカンード棒に電析
したチタンを上チャンバー内に引き上げて、ゲートバル
ブ4を閉じ、電析チタンを50℃に冷やした後ゲートバ
ルブ上のフランジを外し、取り出した。取り出した電析
チタンは約5kgで、約1cmの六角板を含む樹枝状結
晶であった。水洗及び5%HCI酸洗い後、真空乾燥し
て高純度チタンを得た。
While maintaining the electrolytic bath temperature at 850°C, the titanium deposited on the canned rod is pulled up into the upper chamber, the gate valve 4 is closed, and after cooling the deposited titanium to 50°C, the flange on the gate valve is removed and taken out. Ta. The electrodeposited titanium taken out weighed about 5 kg and was a dendrite crystal containing hexagonal plates of about 1 cm. After washing with water and pickling with 5% HCI, it was vacuum dried to obtain high purity titanium.

こ、うして3回の電解を断続して行ない、Niバスケッ
トを浴の上に引き上げてボートより50mmφチタンプ
リケット15kgを補相した。チタンプリケット補相後
も、・そのまま電解を継続しえた。
Electrolysis was performed intermittently three times in this way, and the Ni basket was lifted onto the bath and 15 kg of 50 mm diameter titanium priquets were complemented from the boat. Even after titanium priquet complementation, electrolysis could be continued as is.

チタンスポンジ及び電析チタンの分析値は次表の通りで
あった: 表 (単位ppm a g I e r I u n n h 0.1 < 0.02 <0.1 0.1 0.2 0.2 0.1 〈0.1 くl 〈0,5 <1ppb <1ppb 〈10 <10 6:ルツボ 7:アノードバイブ 8:バスケット 9:カソード棒 10:バイブ 11ニアノード 12:カソード 13a:カソード棒絶縁シール 13bニアノードバイブ絶縁シール 14:温度計 15:チタンスボン・ジ補相用ボート 16:アノードパイブ或いはカソード棒17:スリーブ 18:パッキング 19:ガスケット 20:水冷ジャケット 21:°パイプ 及l臼と火星 本発明によって純度5N乃至6Nの高純度でしかも酸素
含有量100 ppm以下のチタンが得られる。これを
用いることによって、益々高集積化が進みつつある半導
体デバイスにおいて信頼性の高い、LSI用眉間膜バリ
ア材及び配線材等の構成部品の作製を可能とするターゲ
ットを工業規模で低コストで製造することを可能とする
The analysis values of titanium sponge and deposited titanium were as shown in the following table: Table (Unit: ppm a g I e r I u n h 0.1 < 0.02 < 0.1 0.1 0.2 0 .2 0.1 <0.1 cl <0.5 <1ppb <1ppb <10 <10 6: Crucible 7: Anode vibe 8: Basket 9: Cathode rod 10: Vibe 11 Near node 12: Cathode 13a: Cathode rod insulation Seal 13b Near node vibe insulation seal 14: Thermometer 15: Titanium bonnet/complementary boat 16: Anode pipe or cathode rod 17: Sleeve 18: Packing 19: Gasket 20: Water cooling jacket 21: ° pipe and l mill and Mars present invention By using this method, titanium with a purity of 5N to 6N and an oxygen content of 100 ppm or less can be obtained.By using this, a highly reliable glabella film barrier material for LSI can be obtained in semiconductor devices, which are becoming increasingly highly integrated. It also makes it possible to manufacture targets on an industrial scale at low cost, which enable the manufacture of component parts such as wiring materials.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の溶融塩電解装置の一例の正面図であ
る。 第2図は、バイブ及びその摺動部の絶縁シールの断面図
である。 :電解槽容器 :電気炉 :容器蓋 :ゲートバルブ :上チャンバー 第1図
FIG. 1 is a front view of an example of the molten salt electrolyzer of the present invention. FIG. 2 is a sectional view of the vibrator and the insulating seal of its sliding portion. : Electrolytic tank container: Electric furnace: Container lid: Gate valve: Upper chamber Diagram 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)溶融塩電解法により高純度チタンを製造する方法に
おいて、チタンスポンジをプリケット状に圧縮したチタ
ン原料を使用しそして少なくとも溶融塩が接触する部材
乃至部品を高純度ニッケルから構成した溶融塩電解装置
により電解操業することを特徴とする高純度チタン製造
方法。 2)溶融塩電解法により高純度チタンを製造する装置に
おいて、少なくとも溶融塩が接触する部材乃至部品を高
純度ニッケルから構成したことを特徴とする高純度チタ
ン製造装置。 3)カソード乃至アノードと関連するパイプ或いは棒の
摺動シール部位において、ポリテトラフルオロエチレン
製スリーブを挿入して電気絶縁し、該スリーブを上下に
分割しそしてその間にパッキングを介在せしめる特許請
求の範囲第2項記載の装置。 4)アルカリ金属含有率が0.1ppm以下、放射性元
素含有率が1ppb以下そして重金属含有率が0.5p
pm以下であり、更に酸素含有率が100ppm以下で
あることを特徴とする高純度チタンターゲット材。
[Claims] 1) In a method for producing high-purity titanium by molten salt electrolysis, a titanium raw material obtained by compressing a titanium sponge into a priquet shape is used, and at least the members or parts that come into contact with the molten salt are made of high-purity nickel. A method for producing high-purity titanium, characterized by carrying out electrolytic operation using the constructed molten salt electrolyzer. 2) An apparatus for producing high-purity titanium by a molten salt electrolysis method, characterized in that at least members or parts that come into contact with the molten salt are made of high-purity nickel. 3) A claim in which a polytetrafluoroethylene sleeve is inserted into a sliding seal portion of a pipe or rod associated with the cathode or anode for electrical insulation, and the sleeve is divided into upper and lower parts, with packing interposed between them. The device according to paragraph 2. 4) Alkali metal content is 0.1 ppm or less, radioactive element content is 1 ppb or less, and heavy metal content is 0.5 p.
pm or less, and further has an oxygen content of 100 ppm or less.
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