JPH02177243A - 放射線ガス式検出器 - Google Patents
放射線ガス式検出器Info
- Publication number
- JPH02177243A JPH02177243A JP1107132A JP10713289A JPH02177243A JP H02177243 A JPH02177243 A JP H02177243A JP 1107132 A JP1107132 A JP 1107132A JP 10713289 A JP10713289 A JP 10713289A JP H02177243 A JPH02177243 A JP H02177243A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- voltage
- detector
- spherical
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 32
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 6
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J47/00—Tubes for determining the presence, intensity, density or energy of radiation or particles
- H01J47/06—Proportional counter tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J47/00—Tubes for determining the presence, intensity, density or energy of radiation or particles
- H01J47/008—Drift detectors
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、X線等の電離放射線の検出器に関し、特にガ
ス式検出器、つまり放射線を吸収して電子を発生する物
質が(例えばアルゴン又はキセノンからなる)ガスであ
る検出器に関する。
ス式検出器、つまり放射線を吸収して電子を発生する物
質が(例えばアルゴン又はキセノンからなる)ガスであ
る検出器に関する。
従来の技術とその問題点
この秒の検出器は、例えば物質(金属合金、蛋白質、結
晶構造、生物学的高分子等)の試料を分析してその構造
を決定するのに用いられる。試料は検出器の前方に置か
れ、(通常)横1ノ向からX線源による照射を受ける。
晶構造、生物学的高分子等)の試料を分析してその構造
を決定するのに用いられる。試料は検出器の前方に置か
れ、(通常)横1ノ向からX線源による照射を受ける。
試料は放射線を回折して検出器方向へ戻す。検出器は受
信したX線の入射角、つまり試料による回折角を決定す
る。測定された回折角は試料物質の構造についての情報
を提供する。
信したX線の入射角、つまり試料による回折角を決定す
る。測定された回折角は試料物質の構造についての情報
を提供する。
公知の2次元ガス式検出器は、大略第1図に示される構
造を有する。これは例えば米国特:fTus−A −4
,595,834の第1図に示されているものに対応す
る。
造を有する。これは例えば米国特:fTus−A −4
,595,834の第1図に示されているものに対応す
る。
この検出器は、吸収ガスを収容する気密室10と、背面
に設けられX8に対し透過性の気密入射窓12とからな
る。この窓は、電圧v1に設定される透過性電極14を
担持する。窓12と室10の底部との間には、ガス(多
原子添加物が添加されたアルゴン又はキセノン)が充填
され!ご吸収及びドリフト空間と称される空間16があ
る。
に設けられX8に対し透過性の気密入射窓12とからな
る。この窓は、電圧v1に設定される透過性電極14を
担持する。窓12と室10の底部との間には、ガス(多
原子添加物が添加されたアルゴン又はキセノン)が充填
され!ご吸収及びドリフト空間と称される空間16があ
る。
窓12と反対側の室の底部には、室内のガスの電離によ
り電子量の存在及び位置を検出する働きを有するため「
位置測定検出器」と称される電子検出!s18が設置さ
れる。この検出器18は、電子透過性入力電極19を有
し、電極19はvlより高い電711V2(例えばvl
が−4,000ボルトで電極14と19との距離が約1
0nならばOボルト)に設定される。
り電子量の存在及び位置を検出する働きを有するため「
位置測定検出器」と称される電子検出!s18が設置さ
れる。この検出器18は、電子透過性入力電極19を有
し、電極19はvlより高い電711V2(例えばvl
が−4,000ボルトで電極14と19との距離が約1
0nならばOボルト)に設定される。
物質の試料20は、苗外の窓12の前方に所定距離離間
して配置され、X線!I22より横り向から照射を受け
る。
して配置され、X線!I22より横り向から照射を受け
る。
回折によって光子放射24が、試料から吸収ガス方向へ
検出されるべき入射角で再び出される。
検出されるべき入射角で再び出される。
ガス内に入ると光′fは室の一点で吸収され、この点で
電子又は電子団が放射される。吸収及びドリフト空間に
は電圧差V2−Vlにより電場の力線に沿って検出18
方向へ導かれ、その到着位置が検出される。場の力線は
、電極14及び19に対し垂直な直線である。
電子又は電子団が放射される。吸収及びドリフト空間に
は電圧差V2−Vlにより電場の力線に沿って検出18
方向へ導かれ、その到着位置が検出される。場の力線は
、電極14及び19に対し垂直な直線である。
第1図に示す如く、入射光子が径路の点A又は点Bで吸
収されると、電子検出器18は電子団の到着位[a及び
bを検出する。
収されると、電子検出器18は電子団の到着位[a及び
bを検出する。
これは到着位置からは放射24の入射角を一意的に決定
しえないことを意味する。
しえないことを意味する。
電子を導く電場が人+1FJ線24と同一方向を向いて
いないためいわゆる視差が生じる。
いないためいわゆる視差が生じる。
本発明は、無視差の2次元放射検出を提供することを目
的とする。
的とする。
このy!題の部分的解決は従来提案されている。
前記の特許tJ S −A−4,,595,834にそ
の開示がなされている。
の開示がなされている。
球形の入力電極を有する球形の室と、球形であって入力
電極と同心的な電子位il!測定検出器とを設け、試料
はこれらの球形要素の中心に置くという単純な理論的解
決策がある。この場合電子は入射放射の方向に駆動され
視差は生じない。
電極と同心的な電子位il!測定検出器とを設け、試料
はこれらの球形要素の中心に置くという単純な理論的解
決策がある。この場合電子は入射放射の方向に駆動され
視差は生じない。
しかし、球形の位置測定検出器は非常に複雑な技術を必
要とするので(検出器は平面状に引き出すことはできる
が屈曲して引き出させない非常に細いワイヤからなる)
、充分大きい球形位置測定検出器を製造することは不可
能である。
要とするので(検出器は平面状に引き出すことはできる
が屈曲して引き出させない非常に細いワイヤからなる)
、充分大きい球形位置測定検出器を製造することは不可
能である。
前記の特許tJs −A 4,595,834の第2図
には、球形入力N極と、同心的III極と、これら2つ
の’1fflに画成される吸収及びドリフト空間と、球
形副Ti極と平面状位置測定検出器との間の移送空間と
を用いて半径方向電場くつまり球形の等ポテンシャル面
)を実現することが開示されている。
には、球形入力N極と、同心的III極と、これら2つ
の’1fflに画成される吸収及びドリフト空間と、球
形副Ti極と平面状位置測定検出器との間の移送空間と
を用いて半径方向電場くつまり球形の等ポテンシャル面
)を実現することが開示されている。
2つのN極間の電圧差により、吸収空間に半径方向電場
及び球形等ポテンシャル而が発生する。
及び球形等ポテンシャル而が発生する。
しかし、試料は球の中心に置かれなければならない。
また球形の電極は作成するのが困難である。特に副電極
の場合、電子が位置測定検出器に到達するよう高度の電
子透過性を有さなければならないので製造が困難な薄い
ワイヤグリッドから形成されるため作成が困難である。
の場合、電子が位置測定検出器に到達するよう高度の電
子透過性を有さなければならないので製造が困難な薄い
ワイヤグリッドから形成されるため作成が困難である。
これが、特許U S −A−4,595,835におい
て入力電極と位置測定検出器とを互いにごく接近させガ
ス圧を高めて副電極をなくした理由である。
て入力電極と位置測定検出器とを互いにごく接近させガ
ス圧を高めて副電極をなくした理由である。
電場が略半径方向にある球形入力電極近くでX線が吸収
されるようにすると視差が減少する。これは高圧のキセ
ノンを用いることで行なわれるが、そうするとシステム
は、高すぎないエネルギーのX線に使用が制限され、相
当厚い球形のベリリウムからなる窓を使用しなければな
らない。圧力を相持するため、この窓の寸法を制限する
必要がある。
されるようにすると視差が減少する。これは高圧のキセ
ノンを用いることで行なわれるが、そうするとシステム
は、高すぎないエネルギーのX線に使用が制限され、相
当厚い球形のベリリウムからなる窓を使用しなければな
らない。圧力を相持するため、この窓の寸法を制限する
必要がある。
また、G、ヂャルバク「ニュークリア インスツルメン
ツ アンド メソツズJ 1982年第201号182
〜192頁、ノースホランド パブリッシングカンパニ
ーによれば、球形電極を用いずに半径方向電場を提供す
る別の方法を示されている。その方法では、特許U S
−A 4.595,834の入力球形電極及び球形用
電極をそれぞれが、互いに異なる電圧に設定された平面
電極の組で置き換えられる。
ツ アンド メソツズJ 1982年第201号182
〜192頁、ノースホランド パブリッシングカンパニ
ーによれば、球形電極を用いずに半径方向電場を提供す
る別の方法を示されている。その方法では、特許U S
−A 4.595,834の入力球形電極及び球形用
電極をそれぞれが、互いに異なる電圧に設定された平面
電極の組で置き換えられる。
各個々の電極は、吸収空間全体における等ポテンシャル
面が球面状で中心位置に試料があるよう計算される。こ
の方法によると、種々の導体に応じて電圧を変化させる
ことで等ポテンシャル面の曲率半径を変更しえ、従って
検出器の入射窓に対する試料位置も変更しろる。しかし
、室の中央で適所に配置されたDI電極の組の構成は非
常に複雑であり(それらは電子透過性を有さねばならな
い)、発明者はそれを構成しようと試みたが円筒形であ
って非球形の等ポテンシャル面が得られたのみであった
。ブヤルバクはまた、(出力)ait極を伴なう場合に
おいてのみ側方電極の使用を示唆する。
面が球面状で中心位置に試料があるよう計算される。こ
の方法によると、種々の導体に応じて電圧を変化させる
ことで等ポテンシャル面の曲率半径を変更しえ、従って
検出器の入射窓に対する試料位置も変更しろる。しかし
、室の中央で適所に配置されたDI電極の組の構成は非
常に複雑であり(それらは電子透過性を有さねばならな
い)、発明者はそれを構成しようと試みたが円筒形であ
って非球形の等ポテンシャル面が得られたのみであった
。ブヤルバクはまた、(出力)ait極を伴なう場合に
おいてのみ側方電極の使用を示唆する。
本発明は、従来技術のガス式検出器の欠点を除去し、特
に視差を最小とし製造を単純にしつつズ料の入射窓から
の距離が変えられる新規のX線検出器を提供するもので
ある。
に視差を最小とし製造を単純にしつつズ料の入射窓から
の距離が変えられる新規のX線検出器を提供するもので
ある。
問題点を解決するための手段
本発明によれば、試料が発する放射線のガス式検出器で
あって、放射線を吸収するガスを収容するmvIされた
室と、検出さるべき放射線に対し透過性を有する入射窓
と、入射窓背後の吸収及びトリ゛ノド空間と、この吸収
及びドリフト空間の端部に設けられ、吸収ガス中での光
子衝突により発生する電子の到着点の座標を決定する2
次元平面電子位a’ta定検出器と、入射窓背後に設け
られ放射線に対し高度の透過性を有する入力電極の組と
、吸収及びドリフト空間を包囲する側方N極の組とから
なり、個々の人力電極と個々の側方電極は、互いに異な
り入射窓に対し試料が置かれるべき位置の関数として変
化する電圧に設定され、各電極に対する電圧は、吸収及
びドリフト空間が物理的に分離の画成を行なうN極によ
ることなく2つの部分に分離され、第1の部分における
等ポテンシャル面は球形であるか略球形であって試料の
位置を中心とし、第2の部分における等ポテンシャル面
は分離位置における球形形状から平面電子検出器ごく近
くにお番ノる平面形状へ連続的に変化するよう決定され
る放射線ガス式検出器が提供される。
あって、放射線を吸収するガスを収容するmvIされた
室と、検出さるべき放射線に対し透過性を有する入射窓
と、入射窓背後の吸収及びトリ゛ノド空間と、この吸収
及びドリフト空間の端部に設けられ、吸収ガス中での光
子衝突により発生する電子の到着点の座標を決定する2
次元平面電子位a’ta定検出器と、入射窓背後に設け
られ放射線に対し高度の透過性を有する入力電極の組と
、吸収及びドリフト空間を包囲する側方N極の組とから
なり、個々の人力電極と個々の側方電極は、互いに異な
り入射窓に対し試料が置かれるべき位置の関数として変
化する電圧に設定され、各電極に対する電圧は、吸収及
びドリフト空間が物理的に分離の画成を行なうN極によ
ることなく2つの部分に分離され、第1の部分における
等ポテンシャル面は球形であるか略球形であって試料の
位置を中心とし、第2の部分における等ポテンシャル面
は分離位置における球形形状から平面電子検出器ごく近
くにお番ノる平面形状へ連続的に変化するよう決定され
る放射線ガス式検出器が提供される。
発明の効果
本発明によれば、各駒々のN極が別々に供電されねばな
らず、また高度の電子透過性を有さねばならない複雑な
511電極の組を製造及び配設するという欠点が除去さ
れる。
らず、また高度の電子透過性を有さねばならない複雑な
511電極の組を製造及び配設するという欠点が除去さ
れる。
吸収空間の第1の部分(球形等ポテンシヤル面を伴なう
部分)をできる限り大きくすることができる。従って検
出器の全体寸法を大ぎくすることなく拡げられた吸収領
域を用いることができる。
部分)をできる限り大きくすることができる。従って検
出器の全体寸法を大ぎくすることなく拡げられた吸収領
域を用いることができる。
これは、試料が入力窓から遠ざかっているなら一層容易
である(但し検出される放射線入射角の範囲は狭くなる
)。試料が窓に近い場合、入射窓と電子検出器との間の
距170乃至80%(パーセンテージは、検出器の軸に
沿って測定されている)にわたり延在する第1の部分が
得られる。入力窓と検出器との間の距離を充分大きく、
例えば101に選定すると、実質上全てのXslが大気
圧かそれより僅かに高い圧力にある第1の部分で吸収さ
れる。
である(但し検出される放射線入射角の範囲は狭くなる
)。試料が窓に近い場合、入射窓と電子検出器との間の
距170乃至80%(パーセンテージは、検出器の軸に
沿って測定されている)にわたり延在する第1の部分が
得られる。入力窓と検出器との間の距離を充分大きく、
例えば101に選定すると、実質上全てのXslが大気
圧かそれより僅かに高い圧力にある第1の部分で吸収さ
れる。
従って製造がはるかに単純で、視差を示さず、観測され
る試料の位置の入射窓からの距離が可変である放射線検
出器が得られる。
る試料の位置の入射窓からの距離が可変である放射線検
出器が得られる。
室の側方電極は、吸収及びドリフト空間を側方から画成
する円錐形lI!l壁からなるのが好ましい。
する円錐形lI!l壁からなるのが好ましい。
入力電極は絶縁基体上にシルクスクリーニングを行なっ
て形成され、電極間に蓄積されやすい電1111!荷を
流すような高抵抗物質により互いに分離されるのが好ま
しい。
て形成され、電極間に蓄積されやすい電1111!荷を
流すような高抵抗物質により互いに分離されるのが好ま
しい。
実施例
第2図は本発明による検出器の概略的構造を示す。
検出器はX線に対し透過性を有する(より一般的には検
出さるべきP/j、射線に対し透過性を有する)入射窓
32により前面部が閉鎖された気密外方室からなる。窓
は例えばマイラール又はカプトン(高分子フィルムの0
録商標)又はベリリウム製である。
出さるべきP/j、射線に対し透過性を有する)入射窓
32により前面部が閉鎖された気密外方室からなる。窓
は例えばマイラール又はカプトン(高分子フィルムの0
録商標)又はベリリウム製である。
室30の底部には、従来技術と同様、2次元測定検出器
例えば平行なプレートを有するワイヤ検出器又は他の任
意の種類のガス式検出器等である平面電子検出器34が
設けられる。
例えば平行なプレートを有するワイヤ検出器又は他の任
意の種類のガス式検出器等である平面電子検出器34が
設けられる。
入射窓32の裏側には、通常円形であり、同心的かつ電
子検出器の平面に平行な同一平面内にある入力電極の組
が配置される。入力電極が全て同一平面内にあるため製
造が容易となるが、このことは必須ではなく、例えば球
面上に配置されてもよい。これらの入力?!!極は宿照
番号36で表わされる。入力電極は第4図に平面図とし
てより明瞭に示されている。円形の入力電極の中央は、
システムの全体軸38(電子検出器34に垂直でその中
心を通る軸)上にある。
子検出器の平面に平行な同一平面内にある入力電極の組
が配置される。入力電極が全て同一平面内にあるため製
造が容易となるが、このことは必須ではなく、例えば球
面上に配置されてもよい。これらの入力?!!極は宿照
番号36で表わされる。入力電極は第4図に平面図とし
てより明瞭に示されている。円形の入力電極の中央は、
システムの全体軸38(電子検出器34に垂直でその中
心を通る軸)上にある。
入力電極36は、入射窓32と異なるX線透過性の支持
体により担持されるか、窓が導電性の場合は絶縁層を介
装した上で窓に付設される。
体により担持されるか、窓が導電性の場合は絶縁層を介
装した上で窓に付設される。
窓30には、検出きるべき放射を吸収するガス、例えば
1又は複数の添加物(炭化水素、CO2等)が添加され
たアルゴン又はt:セノン等の位置測定検出器34が正
しく動作し、良好なドリフト特性を示し、電子の収集を
妨げるような高すぎる電子再結合性がないようなガスが
充填される。
1又は複数の添加物(炭化水素、CO2等)が添加され
たアルゴン又はt:セノン等の位置測定検出器34が正
しく動作し、良好なドリフト特性を示し、電子の収集を
妨げるような高すぎる電子再結合性がないようなガスが
充填される。
室内では、吸収及びドリフト空間40が、入力電極36
と電子検出器34との間で検出器の全体軸38を軸とす
る略円鉗形側壁42により物理的に画成される。この壁
42は、電子が入射放射線により発生されて電子検出器
34方向に方向付けられる吸収及びドリフト空間全体を
包囲する。
と電子検出器34との間で検出器の全体軸38を軸とす
る略円鉗形側壁42により物理的に画成される。この壁
42は、電子が入射放射線により発生されて電子検出器
34方向に方向付けられる吸収及びドリフト空間全体を
包囲する。
円錐形状とするのが最も好都合であり所望の目的には最
適であるが、必須ではない。
適であるが、必須ではない。
円錐状側壁42は気密である必要はなく、吸収及びドリ
フト空間40を包囲する側方電極44に対する台として
働けばよい。
フト空間40を包囲する側方電極44に対する台として
働けばよい。
壁42は例えば、電極44をなす導体が例えばシルクス
クリーニング又はプリント回路技術により付着されるガ
ラス繊維シートである。
クリーニング又はプリント回路技術により付着されるガ
ラス繊維シートである。
個々の入力電極36及び個々の側方M捗44は、全て互
いに異なる電圧に設定される。これらの電圧は、入力i
!極36と観測される試料20との距離の同数として変
化する。
いに異なる電圧に設定される。これらの電圧は、入力i
!極36と観測される試料20との距離の同数として変
化する。
側方電極44は、円錐の小径端(入力電極の平面に直接
隣接)と円錐の大径@(電子検出器の平面に直接隣接)
との間で壁42の全長にわたり分布される。
隣接)と円錐の大径@(電子検出器の平面に直接隣接)
との間で壁42の全長にわたり分布される。
側方電極は円形であり、検出器の軸38に中心を有する
。
。
電極36及び44の数は、吸収及びドリフト空間内で望
まれる電場の精度に応じる。
まれる電場の精度に応じる。
側方電極の個々の電圧は、壁42外部の導体46により
、各電極前方の壁に設けられた導体通路を介して導かれ
る。外部導体46は、コネクタ48に接続され、コネク
タ48を介して様々な所要の電圧を供給される。電圧は
、室30外に置かれる抵抗分圧ブリッジにより所望の試
料距離に対する必要に応じ発生されるか、あるいは更に
検出器の使用者により外部から制御されるより複雑な電
圧発生システムにより発生される。
、各電極前方の壁に設けられた導体通路を介して導かれ
る。外部導体46は、コネクタ48に接続され、コネク
タ48を介して様々な所要の電圧を供給される。電圧は
、室30外に置かれる抵抗分圧ブリッジにより所望の試
料距離に対する必要に応じ発生されるか、あるいは更に
検出器の使用者により外部から制御されるより複雑な電
圧発生システムにより発生される。
入力電極についても接続方式は同じであるが第2図を簡
単にするため示されていない。
単にするため示されていない。
様々な入力電極36及び様々な側方電極44に対する電
圧の計算方法を以下第3図を参照して説明する。
圧の計算方法を以下第3図を参照して説明する。
観測される試料20が置かれる距離(試料と入力電極3
6の平面との距wi>をDとし、試料の位置に中心を有
し半径りを有する球面を5PHDとする。
6の平面との距wi>をDとし、試料の位置に中心を有
し半径りを有する球面を5PHDとする。
試料の位置Sに中心を有する仮想球面5PHLの半径に
対応する距離をLとする。この仮想球面は、吸収及びド
リフト空間40の2つの領域Aと8との間の非物理的な
分離個所をなす。
対応する距離をLとする。この仮想球面は、吸収及びド
リフト空間40の2つの領域Aと8との間の非物理的な
分離個所をなす。
電極36及び44へ供給される電圧は次のように選定さ
れる。
れる。
入力電極36と限界球面5PHLとの間の領域Aでは、
点Sに中心を有する半径方向電場とされる。つまり等ポ
テンシャル面は、球面5PHIと同心的な球面となる。
点Sに中心を有する半径方向電場とされる。つまり等ポ
テンシャル面は、球面5PHIと同心的な球面となる。
限界球面5PHLと平面電子検出器34との間の領域B
では、半径方向から電子検出器34の平面に垂直な方向
へ徐々に変わる1183とされる。この領域Bでは、等
ポテンシャル面の形状は、球面5PF(Lのごく近くに
おける略球面形状から検出器34のごく近くにおける平
面形状まで変化する。
では、半径方向から電子検出器34の平面に垂直な方向
へ徐々に変わる1183とされる。この領域Bでは、等
ポテンシャル面の形状は、球面5PF(Lのごく近くに
おける略球面形状から検出器34のごく近くにおける平
面形状まで変化する。
半径方向電場の発生は、球面5PHL内側に位置する側
方電極44のみならず、球面S P HL外側に位置す
る側方電極44の電圧を適切に選択することにもよって
いる。この点は、限界副球面5PHLの位置に物理的な
球形副電極が設けられなないこと、また領域Aと8との
1mに球形電極を励起する平面副電極が設けられないこ
とのために限界球面5PHL外側に位置する側方電極4
4に供給される電圧に特に注意が払われなければならな
いから重要である。限界球面S P H1近傍での球形
容ポテンシャル面は、実際平面検出器近傍で特に敏感で
あり、それらは領域Aと8との間の境界領域に位置する
副1R極が現在まで構成していた静N遮蔽により絶縁さ
れない。
方電極44のみならず、球面S P HL外側に位置す
る側方電極44の電圧を適切に選択することにもよって
いる。この点は、限界副球面5PHLの位置に物理的な
球形副電極が設けられなないこと、また領域Aと8との
1mに球形電極を励起する平面副電極が設けられないこ
とのために限界球面5PHL外側に位置する側方電極4
4に供給される電圧に特に注意が払われなければならな
いから重要である。限界球面S P H1近傍での球形
容ポテンシャル面は、実際平面検出器近傍で特に敏感で
あり、それらは領域Aと8との間の境界領域に位置する
副1R極が現在まで構成していた静N遮蔽により絶縁さ
れない。
簡単な静電気学的方法により、半径りを有する出発球面
5PHDと、半径りを有する限界球面5PHLとの、点
Sに中心を有する2つの同心的導電性球面の間に等ポテ
ンシャル面を決定できる。
5PHDと、半径りを有する限界球面5PHLとの、点
Sに中心を有する2つの同心的導電性球面の間に等ポテ
ンシャル面を決定できる。
球面5PHDに印加される電圧VD及び球面5PHLに
印加される電圧vしについて次の第1の81算がなされ
る。
印加される電圧vしについて次の第1の81算がなされ
る。
一方では領域Aの中間的同心球面の全てについての電圧
値が計算される。半径Rを有する中間的球面での電圧I
mV(R)は V(R)=(VD−VL)xc xD/R(L−D)
+(L xVL−DxVD) /(L−D) (1)
−他方では球面5PHLでの電場の値が計算される。こ
の電場Eは電圧差VL−VDに比例し、E=(VL−V
D) xD/(L−0) xL (2
1同様にして電気影像法を用い第2の計算を行ない一定
電圧VLに設定された球面5PHI−と固定電圧に設定
された検出器34の平面との間の領域Bでの等ポテンシ
ャル面が決定される。球面5PHLにおける電場はVL
及びVFの関数としてn1算される。
値が計算される。半径Rを有する中間的球面での電圧I
mV(R)は V(R)=(VD−VL)xc xD/R(L−D)
+(L xVL−DxVD) /(L−D) (1)
−他方では球面5PHLでの電場の値が計算される。こ
の電場Eは電圧差VL−VDに比例し、E=(VL−V
D) xD/(L−0) xL (2
1同様にして電気影像法を用い第2の計算を行ない一定
電圧VLに設定された球面5PHI−と固定電圧に設定
された検出器34の平面との間の領域Bでの等ポテンシ
ャル面が決定される。球面5PHLにおける電場はVL
及びVFの関数としてn1算される。
VD及びVFの所定値に対し、次の値が略等しくなるよ
うなVLの値が計算される。
うなVLの値が計算される。
−一方では、電圧VD及びVLの2つの球面により画成
される領14Aにおける球形等ポテンシヤル面から計算
される球面5PHLにおける電場。
される領14Aにおける球形等ポテンシヤル面から計算
される球面5PHLにおける電場。
−他方では、球面5PHLの電圧及び電子検出器34の
平面の電圧VFを境界条件として領域Bでの電圧から計
算される球面SF’HLにおける電場。
平面の電圧VFを境界条件として領域Bでの電圧から計
算される球面SF’HLにおける電場。
第1の計算により決定されるffi場は、球面5PHL
全体で一定であり(VL−VDに比例)、第2の計算に
より決定される電場は球面5PH1全体で一定ではない
から、上記の一致条件は厳密には不可能である。しかし
例えばVLの値を、球面5PHLと検出器の軸38との
交差部分における電場が両方の計算で一致するよう選定
できる。
全体で一定であり(VL−VDに比例)、第2の計算に
より決定される電場は球面5PH1全体で一定ではない
から、上記の一致条件は厳密には不可能である。しかし
例えばVLの値を、球面5PHLと検出器の軸38との
交差部分における電場が両方の計算で一致するよう選定
できる。
かかるVLの値により、領域A全体で球面又は略球面が
得られる良好な近似が実現される。
得られる良好な近似が実現される。
VLの最適値が選定されると、第1の計量(2つの球面
での境界条件)により領ti!Aでの電圧をS1算し、
第2の計算(1つの球面と1つの平面での境界条件)に
より領mBでの電圧を計算するのに再び式(1)が用い
られる。こうして次の部分での電圧が計算される。
での境界条件)により領ti!Aでの電圧をS1算し、
第2の計算(1つの球面と1つの平面での境界条件)に
より領mBでの電圧を計算するのに再び式(1)が用い
られる。こうして次の部分での電圧が計算される。
一球形等ポテンシャル面と入力電極36の平面との交差
部分(領域A:第1の計算)。
部分(領域A:第1の計算)。
−領域A全体の球形等ポテンシヤル面と吸収及びドリフ
ト空間の側壁42との交差部分(領域△:第1の計算)
。
ト空間の側壁42との交差部分(領域△:第1の計算)
。
一領域Bの非球形等ポテンシヤル面と限界球面5PHL
外の側壁42との交差部分く領域B:第2の計算)。
外の側壁42との交差部分く領域B:第2の計算)。
球形等ポテンシヤル面と入力電極の平面との交差部分は
、同心的な円をなし、入力′14極はそれらの円の幾つ
かに沿っている。試料からの距wirに置かれる入力電
極36は、選定された値VD及びVLの関数としてこの
距離に対する式(1)により計算される電圧V (r)
に設定される。
、同心的な円をなし、入力′14極はそれらの円の幾つ
かに沿っている。試料からの距wirに置かれる入力電
極36は、選定された値VD及びVLの関数としてこの
距離に対する式(1)により計算される電圧V (r)
に設定される。
V(r)−(VD−VL)xL XD/r(L−DJ
”(L xVL−(lxV[l) /(ly−D)
(1)同様に領域Aの球形等ポテンシヤル面と円錐形側
壁42との交差部分も、軸38を中心とする平行な円で
ある。側方電極44は、これらの円の幾つかに沿い、資
料から距離rに位置する電極はそれぞれ式中から得られ
る電圧V(r)に設定される。
”(L xVL−(lxV[l) /(ly−D)
(1)同様に領域Aの球形等ポテンシヤル面と円錐形側
壁42との交差部分も、軸38を中心とする平行な円で
ある。側方電極44は、これらの円の幾つかに沿い、資
料から距離rに位置する電極はそれぞれ式中から得られ
る電圧V(r)に設定される。
さらに領域Bの等ポテンシャル面と側壁42との交差部
分もやはり円であり(対称性による)、領域Bでの側方
電極はこれらの円のいくつかに沿い、これらの円の位置
の関数として静電影像法(第2の計算)により計算され
る電圧に設定される。
分もやはり円であり(対称性による)、領域Bでの側方
電極はこれらの円のいくつかに沿い、これらの円の位置
の関数として静電影像法(第2の計算)により計算され
る電圧に設定される。
第3図は、領域Aの球形等ポテンシヤル面のほかに点S
に中心を有する球面ではない領tiffiBの中間的等
電位面EQBを示す。
に中心を有する球面ではない領tiffiBの中間的等
電位面EQBを示す。
かかる電圧が、入力電極36及び限界球面5PHLの内
側及び外側の側方電極44に印加されると、電圧が計算
された等ポテンシャル面の良好な近似となる等ポテンシ
ャル面が得られる。
側及び外側の側方電極44に印加されると、電圧が計算
された等ポテンシャル面の良好な近似となる等ポテンシ
ャル面が得られる。
電極36及び44につき前記の如く決定された電圧値に
基き、ラプラス方程式を解く数値コンビ】−タブログラ
ムの助けを48つで等ポテンシャル面の最適化を行なう
ことでより良好な結果が得られる。つまり等ポテンシャ
ル面を領lI!IAでできる限り完全な球面に近付ける
よう電極36及び44の電圧値が反復法により修正され
る。
基き、ラプラス方程式を解く数値コンビ】−タブログラ
ムの助けを48つで等ポテンシャル面の最適化を行なう
ことでより良好な結果が得られる。つまり等ポテンシャ
ル面を領lI!IAでできる限り完全な球面に近付ける
よう電極36及び44の電圧値が反復法により修正され
る。
iJwXB内の側方N極44については、単に球面5P
)−(Lと電極34との間の距離に応じ直接的に変化す
る電圧が印加されるだけでも実際上満足しうる結果が得
られる。この場合は前記の第2の計算は省略されるが、
相互R適化を行なうことは可能である。
)−(Lと電極34との間の距離に応じ直接的に変化す
る電圧が印加されるだけでも実際上満足しうる結果が得
られる。この場合は前記の第2の計算は省略されるが、
相互R適化を行なうことは可能である。
観測される資料が置かれる距離は変更しつる。
その結果、入力電極36及び側方1極44に割り当てる
新たな好ましい電圧分布が生じる。従って、吸収及びド
リフト空間40の最大部分で球形等ポテンシャル面の中
心が試料上にあるようにした:表ま試料の位置を移動し
うる。
新たな好ましい電圧分布が生じる。従って、吸収及びド
リフト空間40の最大部分で球形等ポテンシャル面の中
心が試料上にあるようにした:表ま試料の位置を移動し
うる。
サンプルが入射窓に近付きすぎないなら、領域A内での
実質上球形の等ポテンシャル面が、入力電極と電子検出
器との間の距離(検出器の軸38に沿って測定した距離
)の約90%まで拡がるようにできる。
実質上球形の等ポテンシャル面が、入力電極と電子検出
器との間の距離(検出器の軸38に沿って測定した距離
)の約90%まで拡がるようにできる。
試料が非常に接近している場合には、fr4域Aの拡が
りはこの距離の70%まで減少する。
りはこの距離の70%まで減少する。
第4図は入力電極36の形状を示す9.入力電極は導電
性の円心的通路である。本実施例では入力電極は、絶縁
性の台にカーボン導電性ベース1〜(カーボンにはX線
に対し実質的に透過性を有するという利点がある)をシ
ルクスクリーニングして構成される。
性の円心的通路である。本実施例では入力電極は、絶縁
性の台にカーボン導電性ベース1〜(カーボンにはX線
に対し実質的に透過性を有するという利点がある)をシ
ルクスクリーニングして構成される。
個々の電極は、台の他方の端に設けられる導体から給電
される。台には、導電性ペーストが充填された孔50が
穿設され、袷M導体52はこれらの孔に電気接続される
。給電導体は、絶縁台の他方の側にシルクスクリーニン
グにより形成することができる。それらは、検出される
べき放射線に対しできる限り透過性を有さねばならない
。
される。台には、導電性ペーストが充填された孔50が
穿設され、袷M導体52はこれらの孔に電気接続される
。給電導体は、絶縁台の他方の側にシルクスクリーニン
グにより形成することができる。それらは、検出される
べき放射線に対しできる限り透過性を有さねばならない
。
第5図は、入力導体の入射窓の平面に対し垂直であって
導電通路50の1つのみを通り、この孔に接続される電
流導体52に沿う側断面図を示す。
導電通路50の1つのみを通り、この孔に接続される電
流導体52に沿う側断面図を示す。
絶縁台の参照番号は54である。
電ll136を構成する円形導電性通路の間には、絶縁
基体54と室のガスとの間の境界に蓄積される電荷(イ
オン)を電極36の方へ逃すよう高抵抗付ペースト56
を付着せしめるのが好ましい。
基体54と室のガスとの間の境界に蓄積される電荷(イ
オン)を電極36の方へ逃すよう高抵抗付ペースト56
を付着せしめるのが好ましい。
これらの電荷はガス電離に由来し、絶縁基体に蓄積され
たままだと等ポテンシャル面の形状を検出器入力方向へ
損なう。従って導電性通路間のこの抵抗性の付着物を介
して排出される。抵抗は、数ミリメートル離れた2つの
隣り合う通路間で数メグオームとすればよい。勿論電流
消費が大きくなりすぎてはならず、また隣接する通路は
数十ボルト以上の範囲で変化する電圧に設定されつるよ
うにする必要がある。高抵抗性ペーストは、絶縁樹脂内
に少ない割合でカーボンを有するペーストとじつる。
たままだと等ポテンシャル面の形状を検出器入力方向へ
損なう。従って導電性通路間のこの抵抗性の付着物を介
して排出される。抵抗は、数ミリメートル離れた2つの
隣り合う通路間で数メグオームとすればよい。勿論電流
消費が大きくなりすぎてはならず、また隣接する通路は
数十ボルト以上の範囲で変化する電圧に設定されつるよ
うにする必要がある。高抵抗性ペーストは、絶縁樹脂内
に少ない割合でカーボンを有するペーストとじつる。
導電性電極36を、絶縁性ではなく抵抗性(高い抵抗を
有する)基体上に(例えばシルクスクリニングにより)
付着せしめてもよく、望ましくない?!il’lの排出
については同一のil!i宋が19られる。
有する)基体上に(例えばシルクスクリニングにより)
付着せしめてもよく、望ましくない?!il’lの排出
については同一のil!i宋が19られる。
側方電極44については構成は入力電極の1つと同一と
しうる。ただし、 1、 X線透過性については問題はない。
しうる。ただし、 1、 X線透過性については問題はない。
2、 排出さ・れるべき電荷の問題はそれほど重要では
ない。抵抗性ペースト56は有用ではあるが必須ではな
い。
ない。抵抗性ペースト56は有用ではあるが必須ではな
い。
側方電極44は、側壁42を構成する絶縁可撓性シート
上にシルクスクリーニングにより付着せしめることがで
きる。次いでこの可撓性シートは、円錐台形状に巻かれ
る。電極は可[プリント回路として構成されても、また
絶縁スペーサにより分離される円形電極を積み上げるこ
と″c−構成されてもよい。ただし、側壁42内側の電
場を損なわないよう給電導体との接続は空間40の外側
で行なわれる。
上にシルクスクリーニングにより付着せしめることがで
きる。次いでこの可撓性シートは、円錐台形状に巻かれ
る。電極は可[プリント回路として構成されても、また
絶縁スペーサにより分離される円形電極を積み上げるこ
と″c−構成されてもよい。ただし、側壁42内側の電
場を損なわないよう給電導体との接続は空間40の外側
で行なわれる。
第6図は、物質試料によるxi後方回折を分析を行なう
よう僅かに変形した検出器構造を丞す。
よう僅かに変形した検出器構造を丞す。
線源と検出器が試料に対し同一の側に位置する必要はな
い。
い。
検出器の中心に、試F420方向へ至るX線ビームが通
る軸方向孔(60)が穿設される。試料により後方へ再
生放出されたビームは検出器により捕えられて分析され
る。
る軸方向孔(60)が穿設される。試料により後方へ再
生放出されたビームは検出器により捕えられて分析され
る。
本発明の実現のためには、管60の壁もまた吸収及びド
リフト空間の側壁であり、個々の側方電極44がやはり
設けられることを考える必要がある。これらの電気は、
室の上方領域及び下方領域の両方で他と同じ方法で計算
される電圧に設定される。
リフト空間の側壁であり、個々の側方電極44がやはり
設けられることを考える必要がある。これらの電気は、
室の上方領域及び下方領域の両方で他と同じ方法で計算
される電圧に設定される。
管に沿う異なる電極に電圧を設定するための接続は、#
&l!と同じ制約のちとに行なわれ、また管の周囲で電
極間に抵抗性材料を設けるのが望ましい。
&l!と同じ制約のちとに行なわれ、また管の周囲で電
極間に抵抗性材料を設けるのが望ましい。
以上を要約するに、水用m書に開示されているのはX線
回折を調べて材料の分析を行なうためのX線ガス式検出
器である。製造が困難な1iyl電極によることなく視
差を最小とするために、適切な電圧に設定される入力電
極と個々に適切な電圧に設定される側方電極(44)の
みによりガス室(40)全体で半径方向の場が生成され
る。電圧を変更することで、検出器の入射窓(32)か
らの距離(D)を可変にして試料(20)の視差なく分
析が行なえるよう球形等ポテンシャル而の中心を移動せ
しめろる。
回折を調べて材料の分析を行なうためのX線ガス式検出
器である。製造が困難な1iyl電極によることなく視
差を最小とするために、適切な電圧に設定される入力電
極と個々に適切な電圧に設定される側方電極(44)の
みによりガス室(40)全体で半径方向の場が生成され
る。電圧を変更することで、検出器の入射窓(32)か
らの距離(D)を可変にして試料(20)の視差なく分
析が行なえるよう球形等ポテンシャル而の中心を移動せ
しめろる。
第1図は従来のガス式検出器の一般的構成を示す図、第
2図は本発明の検出器の概略側面図、第3図は本発明に
よる検出器における等ポテンシャル面の概略的な形状を
示す図、第4図は入力il!穫の平面図、第5図は入力
電極及び導電体の拡大側断面図、第6図は試料の逆回折
を分析する中央管検出器の構成を示す図である。 10.30・・・室、12.32・・・窓、14,19
゜36.44・・・電極、16・・・空間、18.34
・・・電子検出器、20・・・試料、22・・・X線源
、24・・・光子放射、38・・・軸、40・・・吸収
及びドリフト空間、42・・・側壁、46・・・導体、
48・・・コネクタ、50・・・孔、52・・・給電導
体、54・・・絶縁台、56・・・抵抗性ペースト、6
0・・・管。 特許出願人 サンドル ナショナル ド ラリシエルシ
エ シャンチフイク 同 ソシエテ イネル Fig ’1 Fig 4 Fig Fig
2図は本発明の検出器の概略側面図、第3図は本発明に
よる検出器における等ポテンシャル面の概略的な形状を
示す図、第4図は入力il!穫の平面図、第5図は入力
電極及び導電体の拡大側断面図、第6図は試料の逆回折
を分析する中央管検出器の構成を示す図である。 10.30・・・室、12.32・・・窓、14,19
゜36.44・・・電極、16・・・空間、18.34
・・・電子検出器、20・・・試料、22・・・X線源
、24・・・光子放射、38・・・軸、40・・・吸収
及びドリフト空間、42・・・側壁、46・・・導体、
48・・・コネクタ、50・・・孔、52・・・給電導
体、54・・・絶縁台、56・・・抵抗性ペースト、6
0・・・管。 特許出願人 サンドル ナショナル ド ラリシエルシ
エ シャンチフイク 同 ソシエテ イネル Fig ’1 Fig 4 Fig Fig
Claims (10)
- (1)試料(20)が発する放射線のガス式検出器であ
つて、放射線を吸収するガスを収容する閉鎖された室(
30)と、検出さるべき放射線に対し透過性を有する入
射窓(32)と、入射窓背後の吸収及びドリフト空間(
40)と、該空間の端部に設けられ、吸収ガス中での光
子衝突により発生する電子の到着点の座標を決定する2
次元平面電子位置測定検出器(34)と、入射窓背後に
設けられ放射線に対し高度の透過性を有する入力電極(
36)の組と、吸収及びドリフト空間を包囲する側方電
極(44)の組とからなり、個々の入力電極(36)と
個々の側方電極(44)は、互いに異なり入射窓に対し
試料が置かれるべき位置の関数として変化する電圧に設
定され、各電極に対する電圧は、吸収及びドリフト空間
が物理的に分離の画成を行なう電極によることなく2つ
の部分に分離され、第1の部分における等ポテンシャル
面は球形であるか略球形であって試料の位置を中心とし
、第2の部分における等ポテンシャル面は分離位置にお
ける球形形状から平面電子検出器ごく近くにおける平面
形状へ連続的に変化するよう決定される放射線ガス式検
出器。 - (2)側方電極(44)は、入力電極(36)を電子検
出器(34)から分離する距離全体に分布されることを
特徴とする請求項1記載の放射線ガス式検出器。 - (3)吸収及びドリフト空間の第1の部分(A)は、電
子検出器(34)の軸に沿つて測定した入力電極(36
)と電子検出器(34)との距離の約70乃至90%の
距離にわたつて拡がることを特徴とする請求項1記載の
放射線ガス式検出器。 - (4)異なる入力電極及び異なる側方電極の電圧値は、
a)試料と吸収及びドリフト空間の2つの部分のうちの
第1の部分との間の距離(L)に対応する半径を有し電
圧VLに設定された球面と、試料と入力窓との間の距離
(D)に対応する半径を有し電圧VDに設定された同心
的な球面との間の等ポテンシャル面の決定を行ない、b
)入力電極(36)及び第1の部分内の側方電極(44
)のポテンシャルを該決定に応じて設定し、c)第2の
部分内の電極のポテンシャルを直線補間により設定する
ようにして行なわれる計算の結果得られることを特徴と
する請求項2記載の放射線ガス式検出器。 - (5)異なる入力電極及び異なる側方電極の電圧値は、
a)試料と吸収及びドリフト空間の2つの部分のうちの
第1の部分との間の距離(L)に対応する半径を有し電
圧VLに設定された球面と、試料と入力窓との間の距離
(D)に対応する半径を有し電圧VDに設定された同心
的な球面との間の等ポテンシャル面の決定を行ない、b
)電圧VLに設定された球面と電圧VFに設定された平
面との間の等ポテンシャル面の決定を行ない、c)異な
る電極が設置される位置でその結果のポテンシャルを決
定し、異なる電極に割り当てられる電圧値はその結果の
電圧であるようにして行なわれる計算の結果得られるこ
とを特徴とする請求項2記載の放射線ガス式検出器。 - (6)異なる電極の電圧値は、電圧VLに設定された球
の一点で電場がa)段階で行なわれる計算によるのとb
)段階で行なわれる計算によるのとで同一の値を有する
よう電圧VLを選定することからなる付加的な計算の結
果得られることを特徴とする請求項5記載の放射線ガス
式検出器。 - (7)入力電極と側方電極との電圧は、コンピュータに
より行なわれる反復計算により最適化されることを特徴
とする請求項4乃至6のいずれか一項記載の放射線ガス
式検出器。 - (8)2つの隣り合う電極間に電荷が蓄積するのを防ぐ
ため入力電極(36)間に高抵抗性物質(56)が付着
されることを特徴とする請求項1記載の放射線ガス式検
出器。 - (9)側方電極(44)は、吸収及びドリフト空間を画
成する円錐形壁(42)上に形成されることを特徴とす
る請求項1記載の放射線ガス式検出器。 - (10)該検出器には、試料の照射及び後方回折の観測
がなされるよう中心に沿つて横断する軸方向管(60)
が設けられ、側方電極が吸収及びドリフト空間内の管の
壁に沿つて分布されることを特徴とする請求項1記載の
放射線ガス式検出器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8806018 | 1988-04-27 | ||
FR8806018A FR2630829A1 (fr) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | Detecteur gazeux pour rayons-x sans parallaxe |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02177243A true JPH02177243A (ja) | 1990-07-10 |
Family
ID=9366001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1107132A Pending JPH02177243A (ja) | 1988-04-27 | 1989-04-26 | 放射線ガス式検出器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4954710A (ja) |
EP (1) | EP0340126B1 (ja) |
JP (1) | JPH02177243A (ja) |
DE (1) | DE68907993T2 (ja) |
FR (1) | FR2630829A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2718633B1 (fr) * | 1994-04-19 | 1996-07-12 | Georges Charpak | Dispositif d'imagerie médicale en rayonnement ionisant X ou gamma à faible dose. |
US6198798B1 (en) * | 1998-09-09 | 2001-03-06 | European Organization For Nuclear Research | Planispherical parallax-free X-ray imager based on the gas electron multiplier |
SE0003390L (sv) * | 2000-09-22 | 2002-03-23 | Xcounter Ab | Parallax-fri detektering av joniserande strålning |
WO2008006198A1 (en) | 2006-07-10 | 2008-01-17 | University Health Network | Apparatus and methods for real-time verification of radiation therapy |
US7639783B1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-29 | Bruker Axs, Inc. | Parallax free and spark protected X-ray detector |
US11385360B2 (en) | 2015-06-05 | 2022-07-12 | University Health Network | Sensors with virtual spatial sensitivity for monitoring a radiation generating device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2363117A1 (fr) * | 1976-08-26 | 1978-03-24 | Anvar | Perfectionnements aux dispositifs de detection et de localisation de rayonnements |
US4595834A (en) * | 1984-05-23 | 1986-06-17 | Burns Ronald E | Low parallax error radiation detector |
-
1988
- 1988-04-27 FR FR8806018A patent/FR2630829A1/fr active Pending
-
1989
- 1989-04-25 DE DE89420149T patent/DE68907993T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-25 EP EP89420149A patent/EP0340126B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-26 JP JP1107132A patent/JPH02177243A/ja active Pending
- 1989-04-27 US US07/343,627 patent/US4954710A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0340126B1 (fr) | 1993-08-04 |
DE68907993T2 (de) | 1994-03-24 |
DE68907993D1 (de) | 1993-09-09 |
EP0340126A1 (fr) | 1989-11-02 |
FR2630829A1 (fr) | 1989-11-03 |
US4954710A (en) | 1990-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN205752094U (zh) | 质谱仪、离子检测器、电子倍增器及其系统 | |
US4707608A (en) | Kinestatic charge detection using synchronous displacement of detecting device | |
US9576776B2 (en) | Apparatus for sensing ionic current | |
US4831260A (en) | Beam equalization method and apparatus for a kinestatic charge detector | |
JP2007529751A (ja) | 一次元配列3−d位置感受性イオン化検出器 | |
CN109613594A (zh) | 中性原子成像单元、成像仪、成像方法及空间探测系统 | |
US4320299A (en) | Position-sensitive neutral particle sensor | |
US4670656A (en) | Process and apparatus for measuring surface distributions of charged particle emitting radionuclides | |
JPH02177243A (ja) | 放射線ガス式検出器 | |
JP4223566B2 (ja) | ガンマ線検出装置 | |
US4317038A (en) | Device for determining the spatial distribution of radiation | |
CN112285757B (zh) | 辐射监测装置与方法 | |
Hailey et al. | An inexpensive, hard x-ray imaging spectrometer for use in x-ray astronomy and atomic physics | |
EP0000271B1 (en) | Cathode plate, position sensitive neutral particle sensor using such a cathode plate, sensing system and camera both using such a sensor | |
US3676676A (en) | Low energy particle counter with two-dimensional position sensing | |
US4999500A (en) | Apparatus for radiographic imaging | |
JP6645709B2 (ja) | 線量分布モニタおよび放射線照射システム | |
US4795909A (en) | High performance front window for a kinestatic charge detector | |
US2696563A (en) | Variable current radioactive source | |
Baron et al. | Crossed-delay line detector for ground-and space-based applications | |
KR910010089B1 (ko) | 하전 입자를 방사하는 방사선 핵종의 표면 분포를 측정하는 방법 및 장치 | |
EP0282665A1 (en) | Process and apparatus for measuring surface distributions of charged particle emitting radionuclides | |
EP0466140A2 (en) | Apparatus for digital imaging | |
Mladjenović | Development of magnetic β-ray spectroscopy | |
US5338938A (en) | Gamma radiation field intensity meter |