JPH0217639B2 - - Google Patents

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JPH0217639B2
JPH0217639B2 JP29846886A JP29846886A JPH0217639B2 JP H0217639 B2 JPH0217639 B2 JP H0217639B2 JP 29846886 A JP29846886 A JP 29846886A JP 29846886 A JP29846886 A JP 29846886A JP H0217639 B2 JPH0217639 B2 JP H0217639B2
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JP
Japan
Prior art keywords
processing
transfer device
tank
processing tank
objects
Prior art date
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JP29846886A
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Japanese (ja)
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JPS63153300A (en
Inventor
Shizuhiro Yamada
Masakatsu Nanbu
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YAMADA METSUKI KOGYOSHO KK
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YAMADA METSUKI KOGYOSHO KK
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Publication date
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Priority to US07/254,656 priority patent/US4932427A/en
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Priority to DE8888900089T priority patent/DE3773382D1/en
Priority to EP88900089A priority patent/EP0303699B1/en
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は処理ラインに沿つて被処理物を順次移
送する被処理物搬送装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a processing object conveying device that sequentially transports processing objects along a processing line.

(従来の技術) この種の装置は、例えばメツキ工場において被
メツキ物(被処理物)を順次搬送するために使用
される。メツキ処理は周知の通り多種の処理工程
を繰返して実行されるため、処理ラインは各処理
工程のための多数の専用処理槽を一例に並べて構
成されている。従つて、被メツキ物は搬送装置に
より各処理槽毎に上方から出し入れしながら順次
移送される。この被処理物搬送装置の具体例とし
ては、次に述べる一括移送装置あるいはエレベー
ター方式と称されるものがある。
(Prior Art) This type of device is used, for example, in a plating factory to sequentially transport objects to be plated (workpieces). As is well known, the plating process is performed by repeating various processing steps, so the processing line is configured by arranging, for example, a large number of dedicated processing tanks for each processing step. Therefore, the objects to be plated are sequentially transferred into and out of each processing tank from above by the transfer device. As a specific example of this processing object conveyance device, there is a device called a batch transfer device or an elevator system, which will be described below.

このものでは、被メツキ物が多数のキヤリアバ
ーに夫々吊下げられており、各キヤリアバーがキ
ヤリアバー支持体によつて支持されることにより
被メツキ物が各処理槽内に1個ずつの収納状態と
なる。一方、処理ラインに沿つてエレベーターフ
レームが上下移動可能に設けられ、これが所定時
間ごとに昇降動作するようになつている。エレベ
ーターフレームが上昇するとキヤリアバーを持ち
上げてエレベーターフレーム設置領域の全ての被
メツキ物が処理槽内から同時に引上げられ、下降
すると全ての被メツキ物が処理槽内に収納され
る。また、このエレベーターフレームは処理ライ
ンに沿つた方向に往復移動可能に構成され、被メ
ツキ物を処理槽から引上げた状態で次の処理槽方
向に処理槽の配置ピツチ(被メツキ物の相互間隔
に等しい)に相当する送りピツチだけ横移動して
1個分の被メツキ物を次の処理槽の上方に移動さ
せ、その後、下降して被メツキ物をその処理槽内
に収納させた後、キヤリアバーから離れて元の位
置に戻るべく横に戻り移動する。このような「上
昇→横移動→下降→戻り移動」の1サイクルで被
メツキ物が1個分ずつ送り方向に搬送され、この
サイクルを所定時間毎に繰り返すことにより被メ
ツキ物が順次隣の処理槽に収納されるように移送
されて行くのである。
In this system, the objects to be plated are suspended from a number of carrier bars, and each carrier bar is supported by a carrier bar support, so that one object to be plated is stored in each processing tank. . On the other hand, an elevator frame is provided along the processing line so as to be movable up and down, and is designed to move up and down at predetermined intervals. When the elevator frame goes up, the carrier bar is lifted and all the objects to be plated in the area where the elevator frame is installed are simultaneously pulled up from the processing tank, and when the elevator frame descends, all the objects to be plated are stored in the processing tank. In addition, this elevator frame is configured to be able to reciprocate in the direction along the processing line, and when the object to be plated is pulled up from the processing tank, it is moved toward the next processing tank at the arrangement pitch of the processing tank (according to the mutual spacing of the objects to be plated). The object to be plated is moved horizontally by a feed pitch corresponding to Move away from it and move back to the side to return to the original position. In this one cycle of "ascending → lateral movement → descending → return movement", the object to be plated is conveyed one by one in the feeding direction, and by repeating this cycle at predetermined intervals, the object to be plated is sequentially transferred to the next process. It is transported to be stored in a tank.

上述の一括移送装置では、エレベーターフレー
ムが「上昇→横移動→下降→戻り移動」の1サイ
クルだけ動作すると、その配置領域にある全ての
被メツキ物が同時に一括して移送されることにな
るから、移送効率(1台の1動作当りの移送個
数)が高く、1台の比較的簡単な設備で処理効率
ないしは生産性(時間当りの処理個数)を向上さ
せることができ、特に大量生産に好適する。
In the above-mentioned batch transfer device, when the elevator frame operates just one cycle of "ascending → lateral movement → descending → return movement", all the objects to be plowed in the placement area are simultaneously transferred at once. , has high transfer efficiency (number of items transferred per operation of one machine), can improve processing efficiency or productivity (number of items processed per hour) with one relatively simple equipment, and is particularly suitable for mass production. do.

ところが、次の欠点も有している。これは所定
時間毎に被メツキ物が一定の送りピツチずつ送ら
れてしまうから、処理時間を長く要する処理工程
のための処理槽は処理時間に比例して長くしなく
てはならない。このため、一般に長い処理時間を
要するメツキ処理工程を含む、メツキ処理ライン
ではライン全体が極めて長大化してしまうという
問題がある。例えば電解脱脂処理が10秒、酸洗処
理が20秒、メツキ処理が10分(600秒)の処理時
間を要するとすれば、電解脱脂処理槽の送り方向
長さを例えば50cmとしたときには、10秒間の浸漬
で50cmだけ送られることになるから、酸洗処理槽
は1m、メツキ処理槽は30mにも及ぶことにな
る。
However, it also has the following drawbacks. This is because the object to be plated is fed by a fixed feed pitch every predetermined time, so the processing tank for a processing step that requires a long processing time must be lengthened in proportion to the processing time. For this reason, there is a problem in that the entire line becomes extremely long in a plating process line that includes a plating process that generally requires a long processing time. For example, if electrolytic degreasing takes 10 seconds, pickling takes 20 seconds, and plating takes 10 minutes (600 seconds), then if the length of the electrolytic degreasing tank in the feeding direction is, for example, 50 cm, then Since the material is fed 50 cm in one second of immersion, the length of the pickling tank is 1 m, and the length of the plating tank is 30 m.

また、被メツキ物の種類に応じて処理工程の一
部を省略しようとしても極めて困難である。仮
に、これを例えば特定の処理槽ではエレベーター
フレームの下降にかかわらず被メツキ物が処理槽
内に下降しないように支持して送り方向にだけは
被メツキ物を進めるという機構を付加することに
より可能にしたとしても、全ての被メツキ物が一
定の周期・送りピツチで移送されることには変り
がないから、処理工程の一部を省略することによ
る生産時間の短縮は全く期待できない。
Furthermore, it is extremely difficult to omit some of the processing steps depending on the type of object to be plated. For example, in a specific processing tank, this could be done by adding a mechanism that supports the object to be plated so that it does not fall into the processing tank even when the elevator frame is lowered, and advances the object to be plated only in the feeding direction. Even if it were, all the objects to be plated would still be transferred at a fixed cycle and feed pitch, so there is no hope of shortening the production time by omitting some of the processing steps.

一方、このような一括移送装置とは全く異なる
単位移送装置あるいはキヤリヤー方式と称される
搬送装置も供されている(例えば特公昭62−9491
号参照)。これは、建屋の天井部に処理ラインに
沿つて走る走行レールを配置し、この走行レール
に沿つて任意の位置に走行可能な走行体を設けた
構成である。この走行体は処理槽から被メツキ物
を最小の処理槽に収納可能な数を1単位(一般に
は1〜数個)として吊り上げることができ、その
吊り上げ状態で走行体が次の処理を行う処理槽上
に走行し、そこで被メツキ物を当該処理槽内に下
降させることにより、被メツキ物を少数ずつ搬送
することができる。
On the other hand, there are also conveyance devices called unit transfer devices or carrier systems that are completely different from such bulk transfer devices (for example, Japanese Patent Publication No. 62-9491).
(see issue). This is a structure in which a running rail that runs along the processing line is arranged on the ceiling of the building, and a running body that can run at any position along the running rail is provided. This traveling body can lift the number of objects to be plated from the processing tank as one unit (generally one to several pieces) that can be stored in the smallest processing tank, and in the lifted state, the traveling body performs the next processing. By traveling over the tank and lowering the objects to be plated into the processing tank, the objects to be plated can be transported in small quantities.

この単位移送装置によれば、被メツキ物の一部
を任意の処理槽に移送して任意の時間だけ処理槽
内に浸漬しておくことができるので、多品種少量
生産に適する。また、処理時間を長く要する処理
工程では、処理槽を長くしなくとも、移送した被
メツキ物をそのまま処理槽内に浸漬しておき、そ
の間に処理時間が短い処理槽に浸漬した被メツキ
物を移送しておれば良いから、一括移送装置のよ
うに処理槽の長さを処理時間に合せて決めなくと
も済み、結局、全体の処理ラインの長さを短縮で
きるという利点がある。
According to this unit transfer device, a part of the object to be plated can be transferred to an arbitrary processing tank and immersed in the processing tank for an arbitrary period of time, so that it is suitable for high-mix, low-volume production. In addition, in a processing process that requires a long processing time, the transferred object to be plated can be immersed in the processing tank as it is without making the processing tank longer. Since it is only necessary to transfer the materials, there is no need to decide the length of the processing tank according to the processing time as in the case of a batch transfer device, which has the advantage that the length of the entire processing line can be shortened after all.

しかし、反面これは1動作で被メツキ物を少数
の1単位ずつしか移送できないため、移送効率
(1台の1動作当りの移送個数)に劣る。このた
め、処理効率ないし生産性(時間当りの処理個
数)を向上させようとすれば、走行体を数多く設
けてこれらを同時に動作させることが必要である
が、現実には配置スペースや運用上等の問題から
多数台の走行体によつて多量の被メツキ物を移送
することは相当な困難が伴う。このため、この単
位移送装置では、実際には走行体の設置数等の制
約から十分に処理効率を向上させ得ないというの
が実情であつた。また、単位移送装置の走行体
は、複雑な動きを要求されるからコンピユーター
制御の搬送ロボツトとでもいうべき構造とされ、
前述した一括移送装置に比べて極めて高価である
という欠点もある。
However, on the other hand, this method is inferior in transfer efficiency (number of objects transferred per operation of one machine) because it can only transfer a small number of objects to be plated, one unit at a time, in one operation. Therefore, in order to improve processing efficiency or productivity (number of items processed per hour), it is necessary to install a large number of moving bodies and operate them simultaneously, but in reality, due to space constraints and operational issues. Due to these problems, it is extremely difficult to transport a large amount of objects to be plated using a large number of moving bodies. For this reason, in reality, with this unit transfer device, the processing efficiency cannot be sufficiently improved due to constraints such as the number of installed traveling bodies. In addition, since the traveling body of the unit transfer device requires complex movements, it has a structure that can be called a computer-controlled transfer robot.
Another drawback is that it is extremely expensive compared to the bulk transfer device described above.

(発明が解決しようとする問題点) 以上述べたように、従来のいわゆる一括移送方
式の被処理物搬送装置では、移送効率に優れる反
面、処理ラインの長大化を招くと共に、処理工程
の組合わせの柔軟性に欠けるという欠点があり、
また単位移送方式では処理ラインの短縮化及び処
理工程の組合わせの柔軟性に優れる反面、処理効
率に劣り且つ設備費が相当に高価となるという欠
点があつた。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, while the conventional so-called batch transfer type processing material conveyance device has excellent transfer efficiency, it leads to an increase in the length of the processing line and a combination of processing steps. The disadvantage is that it lacks flexibility,
Furthermore, although the unit transfer method is excellent in shortening the processing line and providing flexibility in combining processing steps, it has the drawbacks of poor processing efficiency and considerably high equipment costs.

そこで、本発明の目的は、ある程度の処理効率
を確保でき且つ安価な設備費で済みながら、処理
ラインの短縮化及び処理工程の組合わせの柔軟性
にも優れる被処理物搬送装置を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a processing material conveying device that can ensure a certain degree of processing efficiency and requires low equipment costs, while also shortening the processing line and providing excellent flexibility in combining processing steps. be.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の被処理物搬送装置は、 処理ラインに沿つて設けた走行用レールと、 この走行用レールを走行可能に設けられ被処理
物を複数の処理槽のうち最小の処理槽に収納可能
な数を1単位としてその1単位ずつ1の処理槽か
ら吊り上げて他の任意の処理槽に走行して該被処
理物を当該処理槽内に下降させる単位移送装置
と、 前記処理ラインに沿つて設けられ所定の領域内
の処理槽に位置する被処理物を同時に一括して上
昇させると共にこれらを次の処理槽側に送つた後
にその処理槽内に下降させる一括移送装置とを設
け、 この一括移送装置の移送領域と前記単位移送装
置の移送領域とが前記処理ラインの少なくとも一
部において重なるようにしたところに特徴を有す
る。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The processing object conveying device of the present invention includes a traveling rail provided along a processing line, and a processing object disposed so as to be able to run on the traveling rail. The number of objects that can be stored in the smallest processing tank among the plurality of processing tanks is taken as one unit, and each unit is lifted from one processing tank and moved to any other processing tank, and the object to be processed is placed in the processing tank. a unit transfer device that lowers the objects to be processed, and a unit transfer device installed along the processing line that simultaneously raises the objects to be processed located in processing tanks within a predetermined area, and sends them to the next processing tank before processing them. The present invention is characterized in that a batch transfer device for lowering into the tank is provided, and a transfer area of the batch transfer device and a transfer area of the unit transfer device overlap in at least a part of the processing line.

(作用) 一括移送装置の移送領域と単位移送装置の移送
領域とが重ねて設けられているから、その重なり
部分においては、必要とされる処理工程に応じて
いずれかの移送装置を選択することができる。例
えば、被処理物の種類に応じて所定の処理工程を
省略する場合には、被処理物を単位移送装置によ
り省略工程に対応する処理槽を通り越して移送す
ればよい。
(Function) Since the transfer area of the batch transfer device and the transfer area of the unit transfer device are provided overlapping each other, it is possible to select one of the transfer devices depending on the required processing process in the overlapping area. Can be done. For example, when a predetermined processing step is omitted depending on the type of the object to be processed, the object to be processed may be transferred by a unit transfer device past the processing tank corresponding to the omitted step.

従つて、全ての領域を一括移送装置によつて搬
送する場合とは異なり、所望の工程を自由に省略
できるようになるから、工程組合わせの柔軟性が
高くなる。また、このように単位移送装置によつ
て被処理物を所定の処理工程を省略して移送した
場合には、全ての区間を一括移送装置によつて移
送する場合に比べて、省略区間を高速で通過させ
ることができるため、工程を省略した分だけ全体
の処理時間を短縮化することが可能になり、ひい
ては処理効率の向上が可能になる。また、処理に
他よりも長時間を要する工程では、そのための処
理槽への被処理物の出し入れを単位移送装置によ
つて行えば、一括移送装置によつて行う場合とは
異なり、処理時間に応じて処理槽を長大化する必
要はなく、処理ライン全体を短くできる。
Therefore, unlike the case where all areas are transported by a batch transport device, desired steps can be freely omitted, resulting in increased flexibility in process combinations. In addition, when a workpiece is transferred by omitting a predetermined processing step using a unit transfer device in this way, the omitted sections can be transferred at a higher speed than when all sections are transferred by a batch transfer device. This allows the entire processing time to be shortened to the extent that the step is omitted, which in turn makes it possible to improve processing efficiency. In addition, for processes that require longer processing times than others, using a unit transfer device to transfer the materials into and out of the processing tank will reduce the processing time, unlike when using a batch transfer device. Accordingly, there is no need to increase the length of the processing tank, and the entire processing line can be shortened.

なお、工程組合わせの柔軟性は全ての領域を単
位移送装置によつて搬送する場合でも得られる
が、これに比べ上記手段によれば比較的安価な設
備費で全体の処理効率(時間当りの処理数)を高
めることが可能である。すなわち、単位移送装置
は移送効率(1台1動作当りの移送個数)が一括
移送装置に比べて低いため、処理ラインの全領域
を単位移送装置によつて搬送しながら処理効率
(時間当りの処理個数)を高めるには、多数台の
走行体を設置してこれらを同時に動作させる必要
がある。しかし、これでは設備費が著しく高額化
するばかりでなく、設置スペースや運用上の問題
があるから、現実には走行体の設置数には限界が
あり、これが処理効率向上の妨げとなる。これに
対し、上記手段のように処理ラインの全領域では
なく一部の領域のみを単位移送装置によつて搬送
し、他を一括移送装置による搬送に任せるように
した場合には、全領域を単位移送装置によつて搬
送する場合に比べてある程度の処理効率を得るに
必要な走行体の数は少なくなる。これは、単位移
送装置にあつて一定の処理効率を得るために必要
な走行体の数は、直列に並ぶ処理槽の数に略反比
例する関係にあるからである。従つて、一部の領
域のみを単位移送装置によつて搬送し、他を一括
移送装置による搬送に任せる構成では、走行体の
数が少なくても、即ち比較的低額の設備費によつ
てある程度の処理効率を確保でき、全ての領域を
単位移送装置によつて搬送する場合に比べて、全
体の処理効率を向上させることができるのであ
る。
Incidentally, flexibility in process combinations can be obtained even when all areas are transported by a unit transport device, but compared to this, the above method increases the overall processing efficiency (per hour) with relatively low equipment costs. It is possible to increase the number of processing steps). In other words, unit transfer devices have lower transfer efficiency (the number of items transferred per unit per operation) than bulk transfer devices, so the processing efficiency (processing per time) is lower when the entire area of the processing line is transferred by unit transfer devices. In order to increase the number of moving bodies, it is necessary to install a large number of running bodies and operate them simultaneously. However, this not only significantly increases equipment costs, but also poses problems in terms of installation space and operation, so in reality there is a limit to the number of running bodies that can be installed, and this impedes improvement in processing efficiency. On the other hand, if only a part of the processing line, rather than the entire area, is transported by the unit transfer device and the rest is transferred by the batch transfer device, as in the above method, the entire area can be transferred. The number of traveling bodies required to achieve a certain level of processing efficiency is smaller than when conveying by a unit conveying device. This is because the number of traveling bodies required to obtain a certain processing efficiency in a unit transfer device is approximately inversely proportional to the number of processing tanks arranged in series. Therefore, in a configuration in which only a part of the area is transported by a unit transfer device and the rest is transferred by a batch transfer device, even if the number of traveling bodies is small, that is, the equipment cost is relatively low, it is possible to The processing efficiency can be ensured, and the overall processing efficiency can be improved compared to the case where all areas are transported by a unit transport device.

(実施例) 以下本発明をメツキ工場における被メツキ物の
搬送装置に適用した一実施例につき第1図ないし
第7図を参照して説明する。
(Embodiment) An embodiment in which the present invention is applied to a conveying device for objects to be plated in a plating factory will be described below with reference to FIGS. 1 to 7.

(1) 処理ラインの概略 まず、第1図は本実施例の処理ライン1の一
部を示しており、ここで2〜14は処理槽で、
順に電解脱脂、水洗、水洗、水洗、酸洗、水
洗、水洗、ソフトエツチング、スプレー水洗、
スプレー水洗、酸洗、水洗及び水洗の各処理の
ためのものである。なお、実際には、メツキ処
理用及び水洗処理用の各処理槽が図示した最後
の水洗用の処理槽14に続いて順に設けられて
いてこれらの全ての処理槽により処理ライン1
が構成されているが、メツキ処理以下の部分は
図示を省略している。
(1) Outline of the processing line First, Fig. 1 shows a part of the processing line 1 of this embodiment, where 2 to 14 are processing tanks;
Electrolytic degreasing, water washing, water washing, water washing, pickling, water washing, water washing, soft etching, spray washing,
It is for spray washing, pickling, water washing and water washing treatments. In reality, treatment tanks for plating and washing are sequentially provided following the last washing tank 14 shown in the figure, and all of these processing tanks complete the processing line 1.
is configured, but the parts below the plating process are omitted from illustration.

(2) 被処理物の支持態様 一方、被処理物に相当する被メツキ物15
は、第2図に示すように処理槽の両側縁部間に
掛渡したキヤリアバー16に吊下げられてい
る。そして、このキヤリアバー16の両端部
は、全処理槽の両側部に沿つて固定的に設けた
キヤリアバーインサレーター17の受け溝17
a(第5図にのみ示す)に支持され、この状態
で被メツキ物15が各処理槽内に位置するよう
になつている。なお、この状態では、1槽につ
き3個の被メツキ物15が収納されている。
(2) Support mode of the object to be processed On the other hand, the object to be plated 15 corresponding to the object to be processed
is suspended from a carrier bar 16 extending between both side edges of the processing tank, as shown in FIG. Both ends of this carrier bar 16 are connected to receiving grooves 17 of carrier bar insulators 17 fixedly provided along both sides of the entire processing tank.
a (shown only in FIG. 5), and in this state, the objects 15 to be plated are positioned in each processing tank. In this state, three objects 15 to be plated are stored in each tank.

(3) 単位移送装置 <構成> 走行用レール 18は一対の走行用レールで、これは処理
ライン1に沿つてその上方に高架状に設けら
れている。
(3) Unit transfer device <Structure> Traveling rails 18 are a pair of traveling rails, which are provided in an elevated manner along and above the processing line 1.

走行体 19は走行体であり、これは走行用レール
18上を転動する車輪20及び図示しない自
走装置を備え、走行用レール18が架設され
た範囲内で予めプログラムされた所望の位置
へ走行できるようになつている。21は昇降
体で、これは走行体18にチエーン22を介
して吊下げられ、走行体19内に設けた図示
しない昇降装置を作動させることにより第2
図において実線で示す上限位置と二点鎖線で
示す下限位置との間で昇降する。尚、昇降体
21は、走行体19の両側部に昇降用ガイド
レールを設けてこれに上下動を案内させるこ
とができる。この昇降体21の両側部には、
例えば3対のフツクアーム23が突設され、
その下端内側に第3図に示すようなキヤリヤ
バーフツク24が設けられている。尚、昇降
体21内には図示はしないが吊下げピツチ変
更装置が設けられていて、フツクアーム23
ひいては被メツキ物15相互間のピツチを変
更することができる。
The traveling body 19 is a traveling body, which is equipped with wheels 20 that roll on the traveling rail 18 and a self-propelled device (not shown), and moves to a desired position programmed in advance within the range where the traveling rail 18 is constructed. It is now ready to run. Reference numeral 21 denotes an elevating body, which is suspended from the traveling body 18 via a chain 22, and is lifted up and down by operating a lifting device (not shown) provided in the traveling body 19.
It moves up and down between the upper limit position shown by the solid line and the lower limit position shown by the two-dot chain line in the figure. Incidentally, the elevating body 21 can be guided in vertical movement by providing elevating guide rails on both sides of the traveling body 19. On both sides of this elevating body 21,
For example, three pairs of hook arms 23 are provided protrudingly,
A carrier bar hook 24 as shown in FIG. 3 is provided inside the lower end. Although not shown, a hanging pitch changing device is provided inside the elevating body 21, and the hook arm 23
Furthermore, the pitch between the objects 15 to be plated can be changed.

上述した走行体19、昇降体21及びその関
連機構は本発明にいう単位移送装置25を構成
するものであり、同一の走行用レール18上に
複数台設けられている(1台のみ図示する)。
The above-described traveling body 19, elevating body 21, and related mechanisms constitute the unit transfer device 25 according to the present invention, and a plurality of them are provided on the same traveling rail 18 (only one is shown). .

<動作> この単位移送装置25は、その昇降体21を
下限位置に下降させた状態で走行体19を予め
定められた処理槽の位置まで走行させ、続いて
上限位置に上昇させることによりキヤリヤーバ
ー16の両端部をキヤリヤバーフツク24に引
掛けて3個を1単位として被メツキ物15を処
理槽から吊り上げることができる。ここで1単
位とは、最小の処理槽(水洗用の処理槽3等)
に収納可能な最大個数をいい、単位移送装置2
5は被メツキ物15をその1単位(3個)ずつ
移送する。昇降体21が1単位の被メツキ物1
5を吊り上げると、その状態で走行体19は次
の処理工程を行う処理槽の上方まで走行され、
そこで昇降体21を下限位置に下降させる。こ
れにより、キヤリヤーバー16の両端部が第2
図に示すようにキヤリヤーバーインサレーター
17に受けられて被メツキ物15が当該処理槽
内に収納されることになる。この後、走行体1
9は昇降体21を下限位置に下げたまま、次の
移送を行う被メツキ物15が収納されている処
理槽の上方に走行する。
<Operation> This unit transfer device 25 moves the carrier bar 16 by moving the traveling body 19 to a predetermined treatment tank position with the elevating body 21 lowered to the lower limit position, and then raising it to the upper limit position. The objects 15 to be plated can be lifted out of the processing tank by hooking both ends of the objects to the carrier bar hook 24 and making three objects into one unit. Here, 1 unit means the smallest treatment tank (processing tank 3 for washing, etc.)
This refers to the maximum number of units that can be stored in the unit transfer device 2.
5 transfers the objects 15 to be plated one unit (three pieces) at a time. Object 1 to be plated with one unit of elevating body 21
5 is lifted, the traveling body 19 travels in that state to the upper part of the treatment tank where the next treatment process is performed,
Then, the elevating body 21 is lowered to the lower limit position. This causes both ends of the carrier bar 16 to
As shown in the figure, the object 15 to be plated is received by the carrier bar insulator 17 and stored in the processing tank. After this, running body 1
9 travels above the processing tank in which the object to be plated 15 to be transferred next is stored, with the elevating body 21 lowered to the lower limit position.

このような単位移送装置25の移送領域即ち
処理ライン1における走行用レール18の敷設
領域は、本実施例では、処理ライン1の全域と
なつている。
In this embodiment, the transfer area of the unit transfer device 25, ie, the area where the running rails 18 are laid in the processing line 1, covers the entire area of the processing line 1.

(4) 一括移送装置 <構成> エレベーターフレーム 26はエレベーターフレームで、これは第
2図に示すように所定の処理槽の両側部にキ
ヤリアバーインサレーター17の外側に位置
して上下動可能に設けられている。
(4) Bulk transfer device <Configuration> Elevator frame 26 is an elevator frame, which is installed on both sides of a predetermined processing tank outside the carrier bar insulator 17 so as to be movable up and down, as shown in FIG. It is being

エレベーターフレーム昇降装置 27はメツキ処理装置1の上方に位置して
走行用レール18に取付けたエレベーターフ
レーム昇降装置で、これはワイヤ27aを介
してエレベーターフレーム26を吊り下げて
いる。このエレベーターフレーム昇降装置2
7は所定周期毎に作動され、エレベーターフ
レーム26を第1図実線で示す下限位置から
ワイヤ27aを巻き上げることにより同図二
点鎖線で示す上限位置まで上昇させ、その所
定時間後にワイヤ27aを巻き戻してエレベ
ーターフレーム26を第1図実線で示す下限
位置に再び下降させることができる。
Elevator frame elevating device 27 is an elevator frame elevating device located above the plating processing device 1 and attached to the running rail 18, which suspends the elevator frame 26 via wires 27a. This elevator frame lifting device 2
7 is operated at predetermined intervals to raise the elevator frame 26 from the lower limit position shown by the solid line in FIG. 1 to the upper limit position shown by the two-dot chain line in the figure by winding up the wire 27a, and after a predetermined time, the wire 27a is unwound. Then, the elevator frame 26 can be lowered again to the lower limit position shown by the solid line in FIG.

スライドブロツク及びバー受け体 28は横長形状をなす複数のスライドブロ
ツクで、これは各処理槽毎に2個を一対とし
て第2図に示す左右の各エレベーターフレー
ム26の上面に設けられている。このスライ
ドブロツク28は、それが設けられた処理槽
とその次の処理槽との間の配置ピツチA1
A2、A3に相当する送りピツチだけ往復移動
可能に設けられている。尚、各処理槽間の配
置ピツチA1、A2、A3は各処理槽内における
被メツキ物の配置ピツチB1、B2、B3に応じ
て定められる。
The slide blocks and bar receivers 28 are a plurality of horizontally elongated slide blocks, and a pair of two slide blocks for each processing tank are provided on the upper surface of each of the left and right elevator frames 26 shown in FIG. 2. This slide block 28 has an arrangement pitch A 1 between the processing tank in which it is installed and the next processing tank,
It is provided so that it can reciprocate by the feed pitch corresponding to A 2 and A 3 . Incidentally, the arrangement pitches A 1 , A 2 , and A 3 between the processing tanks are determined according to the arrangement pitches B 1 , B 2 , and B 3 of the objects to be plated in each processing tank.

29は各スライドブロツク28の上面に各
3個宛て設けられたバー受け体で、その上面
には前記キヤリアバー16の端部が進入可能
な受け溝29aが設けられている。この3個
のバー受け体29のうち、中央の1個はスラ
イドブロツク28上の中央に固定されている
が、左右の2個はエレベーターフレーム26
の延長方向に沿つてスライドブロツク28上
を往復移動可能とされている。
Reference numeral 29 denotes three bar receivers provided on the top surface of each slide block 28, and a receiving groove 29a into which the end of the carrier bar 16 can enter is provided on the top surface. Among these three bar receivers 29, the center one is fixed to the center on the slide block 28, while the two on the left and right are fixed to the elevator frame 28.
It is possible to reciprocate on the slide block 28 along the direction of extension of the slide block 28.

スライドブロツク駆動装置 前記スライドブロツク28の下面には第4
図に示すようにラツク部28aが形成され、
一方、前記エレベーターフレーム26には各
スライドブロツク28に夫々対応してそのラ
ツク部28aに噛合する駆動ピニオン30が
設けられている。そして、各駆動ピニオン3
0には同軸に2枚の従動スプロケツト31
(第4図において1軸に1枚のみ現れる)が
設けられ、隣接する各駆動ピニオン30に設
けられた各従動スプロケツト31間にチエー
ン32が夫々掛渡されていて、図示しない駆
動源により各従動スプロケツト31ひいては
駆動ピニオン30を一斉に正転または逆転さ
せることによりラツク部28aを利用してス
ライドブロツク28を横方向に往復移動させ
得るようになつている。従つて、この駆動
源、チエーン32、従動スプロケツト31、
駆動ピニオン30及びラツク部28aがスラ
イドブロツク駆動装置33を構成する。
Slide block drive device A fourth drive unit is provided on the lower surface of the slide block 28.
As shown in the figure, a rack portion 28a is formed,
On the other hand, the elevator frame 26 is provided with drive pinions 30 corresponding to each slide block 28 and meshing with the rack portions 28a thereof. And each drive pinion 3
0 has two coaxial driven sprockets 31
(Only one sprocket appears per shaft in Fig. 4), and a chain 32 is stretched between each driven sprocket 31 provided on each adjacent drive pinion 30, and each driven sprocket is driven by a drive source (not shown). By simultaneously rotating the sprocket 31 and the driving pinion 30 in the forward or reverse direction, the slide block 28 can be reciprocated in the lateral direction using the rack portion 28a. Therefore, this drive source, chain 32, driven sprocket 31,
The drive pinion 30 and the rack portion 28a constitute a slide block drive device 33.

このスライドブロツク駆動装置33の駆動
源は、前記エレベーターフレーム昇降装置2
7によつてエレベーターフレーム26が上限
位置に上昇された後において正転方向に駆動
され、これにてスライドブロツク28が送り
方向に移動する。また、これは次いでエレベ
ーターフレーム昇降装置27によつてエレベ
ーターフレーム26が下限位置に下降された
後に逆方向に駆動され、これにてスライドブ
ロツク28が送り方向とは反対方向に戻り移
動する。
The drive source of this slide block drive device 33 is the elevator frame lifting device 2.
After the elevator frame 26 is raised to the upper limit position by the lever 7, it is driven in the forward rotation direction, thereby moving the slide block 28 in the feeding direction. Further, after the elevator frame 26 is lowered to the lower limit position by the elevator frame lifting device 27, it is driven in the opposite direction, thereby moving the slide block 28 back in the opposite direction to the feeding direction.

この場合、スライドブロツク28の移動距
離は、そのラツク部28aに噛合する駆動ピ
ニオン30の径寸法に依存するが、本実施例
では第4図に示すようにその径寸法を当該ス
ライドブロツク28が設けられた処理槽とそ
の次の処理槽との間の配置ピツチに応じて異
ならせてあり、各処理槽の送り方向寸法のい
かんにかかわらず常にスライドブロツク28
が次の処理槽の中央に位置されるようにして
いる。
In this case, the moving distance of the slide block 28 depends on the diameter of the drive pinion 30 that meshes with the rack portion 28a, but in this embodiment, as shown in FIG. The slide block 28 is different depending on the arrangement pitch between the processed tank and the next processing tank, and regardless of the size of each processing tank in the feeding direction,
is located in the center of the next treatment tank.

配置ピツチ変更装置 また、図面の理解を容易にするために第1
図及び第4図には図示を省略したが、エレベ
ーターフレーム26に設けたスライドブロツ
ク28には第5図及び第6図に示すような配
置ピツチ変更装置34が設けられている。同
図に基きこれを詳述するに、前述したように
スライドブロツク28上に設けた3個のバー
受け体29のうち中央に位置するものはスラ
イドブロツク28に固定され、両側に位置す
る2個のバー受け体29はスライドブロツク
28に沿つて移動可能であり、特に両側のバ
ー受け体29は図示しないスプリングにより
常に中央のバー受け体29から離間する方向
に付勢されている。35は2本の可撓ワイヤ
で、これの一方の先端部は図示左側及び中央
のバー受け体29を貫通して右側のバー受け
体29に固着され、他方の先端部は図示右側
及び中央のバー受け体29を貫通して左側の
バー受け体29に固着されている。そして、
各可撓ワイヤ35の他端部はガイドプーリー
36によりスライドブロツク28内に案内さ
れてここに設けた巻取ドラム37に巻回され
ている。この巻取ドラム37は前記スライド
ブロツク28の移動時に図示しないモータに
より回転駆動されて可撓ワイヤ35を巻取る
ようになつており、このようにして可撓ワイ
ヤ35が巻取られると両側のバー受け体29
が中央のバー受け体29に近接するように移
動し、逆に巻取ドラム37が逆転すると両側
のバー受け体29がスプリング力により中央
のバー受け体29から離間する方向に移動す
る。その巻取ドラム37の回転量は、当該ス
ライドブロツク28が設けられた処理槽にお
ける被メツキ物15の相互間隔とその次の処
理槽における被メツキ物15の相互間隔との
差に応じて異なるように設定され、結局、両
相互間隔差が大きい処理槽間を移動するスラ
イドブロツク28については巻取ドラム37
の回転量は大きく、逆に、両相互間隔差が小
さな処理槽間を移動するスライドブロツク2
8については巻取ドラム37の回転量は少な
くなるようになつている。
Arrangement pitch changing device Also, in order to make the drawings easier to understand,
Although not shown in the drawings and FIG. 4, the slide block 28 provided on the elevator frame 26 is provided with an arrangement pitch changing device 34 as shown in FIGS. 5 and 6. To explain this in detail based on the same figure, as mentioned above, among the three bar receivers 29 provided on the slide block 28, the one located in the center is fixed to the slide block 28, and the two bar receivers located on both sides are fixed to the slide block 28. The bar receivers 29 are movable along the slide block 28, and in particular, the bar receivers 29 on both sides are always urged away from the central bar receiver 29 by springs (not shown). Reference numeral 35 denotes two flexible wires, one tip of which passes through the bar receivers 29 on the left side and the center in the figure and is fixed to the bar receiver 29 on the right side, and the other tip end passes through the bar receivers 29 on the right side and the center in the figure. It passes through the bar receiver 29 and is fixed to the left bar receiver 29. and,
The other end of each flexible wire 35 is guided into the slide block 28 by a guide pulley 36 and wound around a winding drum 37 provided therein. This winding drum 37 is rotationally driven by a motor (not shown) when the slide block 28 moves, and winds up the flexible wire 35. When the flexible wire 35 is wound up in this way, the bars on both sides are rotated. Receptor 29
moves close to the center bar receiver 29, and conversely, when the winding drum 37 reverses, the bar receivers 29 on both sides move away from the center bar receiver 29 due to the spring force. The amount of rotation of the winding drum 37 varies depending on the difference between the distance between the objects 15 to be plated in the processing tank in which the slide block 28 is installed and the distance between the objects 15 to be plated in the next processing tank. As a result, for the slide block 28 that moves between processing tanks with a large mutual gap difference, the winding drum 37
The amount of rotation of the slide block 2 is large, and conversely, the slide block 2 moves between processing tanks with a small difference in mutual spacing.
8, the amount of rotation of the winding drum 37 is reduced.

以上述べたエレベーターフレーム26、スラ
イドブロツク28、バー受け体29、エレベー
ターフレーム昇降装置27、スライドブロツク
駆動装置33及び配置ピツチ変更装置34は本
発明にいう一括移送装置38を構成するもので
ある。
The elevator frame 26, slide block 28, bar receiver 29, elevator frame elevating device 27, slide block drive device 33, and arrangement pitch changing device 34 described above constitute a batch transfer device 38 according to the present invention.

<動作> ステツプ 所定周期毎にエレベーターフレーム昇降装
置27が作動し、まずワイヤ27aを巻き上
げることによりエレベーターフレーム26を
第1図実線で示す下限位置から同図二点鎖線
で示す上限位置まで上昇させる。この過程
で、エレベーターフレーム26が下限位置か
ら少し上昇すると、キヤリアバーインサレー
ター17に支持されている全てのキヤリアバ
ー16の両端部が各バー受け体29の受け溝
29aに進入するようになり、キヤリアバー
16をキヤリアバーインサレーター17から
離脱させるように持上げることになる。そし
て、さらにエレベーターフレーム26が上昇
すると、全てのキヤリアバー16に吊り下げ
られた被メツキ物15が全ての処理槽から引
き上げられ、その状態でエレベーターフレー
ム26が上限位置まで上昇される。
<Operation> Step The elevator frame elevating device 27 operates at predetermined intervals, and first, by winding up the wire 27a, the elevator frame 26 is raised from the lower limit position shown by the solid line in FIG. 1 to the upper limit position shown by the two-dot chain line in the same figure. In this process, when the elevator frame 26 rises a little from the lower limit position, both ends of all the carrier bars 16 supported by the carrier bar insulators 17 enter the receiving grooves 29a of each bar receiver 29, and the carrier bars 16 will be lifted to separate it from the carrier bar insulator 17. Then, when the elevator frame 26 further rises, the objects to be plated 15 suspended from all the carrier bars 16 are lifted up from all the processing tanks, and in this state, the elevator frame 26 is raised to the upper limit position.

ステツプ エレベーターフレーム26が上限位置に至
ると、スライドブロツク駆動装置33が作動
し、まずその駆動源によつてチエーン32を
介して全ての従動スプロケツト31が回転さ
れる。すると、これと共に全ての駆動ピニオ
ン30が正転するため、これに噛合するラツ
ク部28aを有するスライドブロツク28が
エレベーターフレーム26に対しその送り方
向に移動する。この各スライドブロツク28
には各キヤリアバー16を支持するバー受け
体29が設けられているから、各スライドブ
ロツク28の移動に併せて全てのキヤリアバ
ー16ひいては全ての被メツキ物15が処理
槽から引き上げられたまま送り方向に移動す
る。この際、駆動ピニオン30の径寸法は当
該スライドブロツク28が設けられた処理槽
とその次の処理槽との間の配置ピツチA1
A2、A3に応じて異ならせてあるから、各ス
ライドブロツク28の送りピツチはその配置
ピツチと等しくなり、結局、各スライドブロ
ツク28は各処理槽の中央上方に位置するよ
うになる。
Step When the elevator frame 26 reaches the upper limit position, the slide block drive device 33 is activated, and first all driven sprockets 31 are rotated via the chain 32 by its drive source. At the same time, all the drive pinions 30 rotate in the forward direction, so that the slide block 28 having the rack portion 28a that meshes therewith moves in the sending direction with respect to the elevator frame 26. Each slide block 28
is provided with a bar receiver 29 that supports each carrier bar 16. Therefore, as each slide block 28 moves, all the carrier bars 16 and, by extension, all the objects to be plated 15 are moved in the feeding direction while being pulled up from the processing tank. Moving. At this time, the diameter dimension of the drive pinion 30 is determined by the arrangement pitch A 1 between the processing tank in which the slide block 28 is installed and the next processing tank,
Since A 2 and A 3 are made different, the feed pitch of each slide block 28 is equal to its arrangement pitch, and each slide block 28 is eventually located above the center of each processing tank.

さらに、このようなスライドブロツク28
の送り移動に際しては、必要に応じて配置ピ
ツチ変更装置34のモータに通電されて巻取
ドラム37が、被メツキ物15が各処理槽内
における配置ピツチB1、B2、B3に対応する
量だけ回動される。この結果、各スライドブ
ロツク28に配置された3個のバー受け体2
9の相互間隔は、両処理槽の送り方向寸法が
等しい部分のスライドブロツク28について
は変化せず、次に位置する処理槽の送り寸法
が大きい部分のスライドブロツク28につい
ては移動後に広がり、次に位置する処理槽の
送り寸法が小さい部分のスライドブロツク2
8については移動後に狭くなる。
Furthermore, such a slide block 28
When feeding and moving, the motor of the arrangement pitch changing device 34 is energized as necessary to cause the winding drum 37 to adjust the object to be plated 15 to the arrangement pitch B 1 , B 2 , B 3 in each processing tank. It is rotated by the amount. As a result, the three bar receivers 2 disposed on each slide block 28
9 does not change for the slide blocks 28 in the part where the feed direction dimensions of both processing tanks are equal, and widens after the movement for the slide blocks 28 in the part where the feed direction of the next processing tank is large, and then Slide block 2 of the part where the feed size of the processing tank is small
8 becomes narrower after moving.

このように各バー受け体29は次に位置す
る処理槽内の被メツキ物配置ピツチB1、B2
B3に応じて相互間隔を伸縮させ、各バー受
け体29にはキヤリアバー16が支持されて
いるから、結局、被メツキ物15は相互の間
隔を広くすべき処理槽、例えばスプレー水洗
用の処理槽10,11では相互間隔を拡げて
送られ、例えば酸洗、水洗用の処理槽12,
13では相互間隔を狭めて各処理槽の中央に
送られることになる。
In this way, each bar receiver 29 is placed at the next plating object arrangement pitch B 1 , B 2 ,
Since the mutual spacing is expanded or contracted in accordance with B 3 and the carrier bars 16 are supported on each bar receiver 29, the objects 15 to be plated can be used in processing tanks where the mutual spacing should be widened, for example, for spray washing. In the tanks 10 and 11, the mutual interval is widened and the water is sent, for example, a processing tank 12 for pickling and water washing,
In step 13, the mutual spacing between them is narrowed and they are sent to the center of each processing tank.

ステツプ 次にエレベーターフレーム昇降装置27が
作動し、ワイヤ27aを巻き戻すことにより
エレベーターフレーム26を第1図二点鎖線
で示す上限位置から同図実線で示す下限位置
まで下降させる。この過程において、エレベ
ーターフレーム26がキヤリアバーインサレ
ーター17の横を通過すると、全てのキヤリ
アバー16が各バー受け体29の受け溝29
aから離脱してキヤリアバーインサレーター
17によつて支持されるようになり、その
後、エレベーターフレーム26が下限位置に
至る。
Step Next, the elevator frame elevating device 27 is activated, and by rewinding the wire 27a, the elevator frame 26 is lowered from the upper limit position shown by the two-dot chain line in FIG. 1 to the lower limit position shown by the solid line in the same figure. In this process, when the elevator frame 26 passes by the carrier bar insulator 17, all the carrier bars 16 are inserted into the receiving grooves 29 of each bar receiver 29.
a and comes to be supported by the carrier bar insulator 17, after which the elevator frame 26 reaches the lower limit position.

このように各キヤリアバー16がキヤリア
バーインサレーター17によつて支持される
状態では、各キヤリアバー16に吊り下げら
れた被メツキ物15が処理槽内に収納状態に
なつている。
In this state where each carrier bar 16 is supported by the carrier bar insulator 17, the object to be plated 15 suspended from each carrier bar 16 is stored in the processing tank.

ステツプ ここではステツプとは全く逆の動作が行
われる。即ち、まずスライドブロツク駆動装
置33が作動し、全ての従動スプロケツト3
1が逆転されて各スライドブロツク28がエ
レベーターフレーム26に対しその送り方向
とは反対方向に移動する。この際、駆動ピニ
オン30の径寸法は当該スライドブロツク2
8が設けられた処理槽とその次の処理槽との
間の配置ピツチに応じて異ならせてあるか
ら、各スライドブロツク28の戻り方向の送
りピツチも処理槽間の配置ピツチに対応し、
各スライドブロツク28は必ずそれが設けら
れた処理槽の略中央に位置するように戻り移
動される。これにて、ステツプの当初の状
態に戻る。
Step This is the exact opposite of the step. That is, the slide block drive device 33 operates first, and all driven sprockets 3
1 is reversed so that each slide block 28 moves relative to the elevator frame 26 in a direction opposite to its feeding direction. At this time, the diameter of the drive pinion 30 is the same as that of the slide block 2.
Since the pitch of each slide block 28 in the return direction is different depending on the pitch between the processing tank in which the slide block 8 is provided and the next processing tank, the pitch of the return direction of each slide block 28 also corresponds to the pitch between the processing tanks.
Each slide block 28 is moved back so that it is always positioned approximately at the center of the processing tank in which it is installed. This returns the step to its original state.

以下、上記ステツプ〜ステツプのサイク
ルが所定周期で繰り返され、これに基づき被メ
ツキ物15が1サイクルに3個ずつ送り方向に
順次搬送される。
Thereafter, the cycle from step to step described above is repeated at a predetermined period, and based on this, three objects 15 to be plated are sequentially conveyed in the feeding direction in each cycle.

さて、このような一括移送装置38の移送領
域即ち処理ライン1におけるエレベーターフレ
ーム26の配置領域は、本実施例では第1回目
の酸洗処理を行う処理槽6からメツキ処理の直
前の水洗処理を行う処理槽14までの区間と、
メツキ処理後の水洗処理槽(図示せず)からア
ンロード地点までの区間となつている。第7図
にこの一括移送装置38の移送領域と、前記単
位移送装置25の移送領域とを矢印にて表わす
が、両移送装置25,38の各移送領域は、第
1回目の酸洗処理用の処理槽6からメツキ処理
前の水洗処理用の処理槽14までの区間と、メ
ツキ処理後の水洗用の処理槽からアンロード地
点までの区間とにおいて重なるようになつてい
る。
Now, in this embodiment, the transfer area of the bulk transfer device 38, that is, the arrangement area of the elevator frame 26 in the processing line 1, is the area from the processing tank 6 where the first pickling process is carried out to the water washing process immediately before the plating process. The section up to the processing tank 14 to be carried out,
This is the section from the washing tank (not shown) after the plating process to the unloading point. In FIG. 7, the transfer area of the batch transfer device 38 and the transfer area of the unit transfer device 25 are indicated by arrows. The section from the processing tank 6 to the processing tank 14 for washing before plating overlaps with the section from the processing tank for washing after plating to the unloading point.

次に、本実施例の作用につき説明する。 Next, the operation of this embodiment will be explained.

(1) 全ての処理を行う場合 被メツキ物15の種類によつては、希ではあ
つても、第7図に示した全ての処理工程が要求
されることがある。この場合の被メツキ物15
の移送方式を第7図Aに示す。尚、処理工程欄
の括弧内の数字は当該処理の処理時間を示す。
また、同図においては、実行される処理は白丸
を付して表わすと共に、単位移送装置25によ
り被メツキ物15を移送する区間を破線にて示
し、一括移送装置38にて移送する区間を実線
にて示している。
(1) Case in which all treatments are performed Depending on the type of the object to be plated 15, all the treatment steps shown in FIG. 7 may be required, even if it is rare. Object to be plated 15 in this case
The transfer method is shown in FIG. 7A. Note that the numbers in parentheses in the processing step column indicate the processing time of the processing.
In addition, in the same figure, the processes to be executed are indicated by white circles, and the section in which the objects 15 to be plated are transferred by the unit transfer device 25 is shown by a broken line, and the section in which the objects to be plated 15 are transferred by the batch transfer device 38 is shown by a solid line. It is shown in

被メツキ物15はロード地点から単位移送装
置25により、まず電解脱脂用の処理槽2に送
られ、以下、酸洗用の処理槽6までは同様に単
位移送装置25により順次送られる。この領域
における搬送のため、本実施例の単位移送装置
25にあつては2台の走行体19が投入可能
で、これらの運用上の相互干渉を避けるために
ロード地点の左側及び一括移送装置38の設置
領域の左端に退避ゾーン(図示せず)が設定さ
れ、2台の走行体19が協働して被メツキ物1
5を移送する。
The object to be plated 15 is first sent from the loading point to the processing tank 2 for electrolytic degreasing by the unit transfer device 25, and then sequentially sent by the unit transfer device 25 to the processing tank 6 for pickling. For conveyance in this area, two traveling bodies 19 can be inserted into the unit transfer device 25 of this embodiment, and in order to avoid mutual interference in operation, one is placed on the left side of the loading point, and the other is placed on the bulk transfer device 38. An evacuation zone (not shown) is set at the left end of the installation area, and the two traveling bodies 19 work together to remove the object 1
Transfer 5.

この後、被メツキ物15は一括移送装置38
により、酸洗用の処理槽6から水洗用の処理槽
14に順次移送され、この水洗用の処理槽14
からは単位移送装置25によつてメツキ処理用
の処理槽に供給される。そして、このメツキ処
理用の処理槽内に15分浸漬された後、単位移送
装置25により水洗処理用の処理槽に移送さ
れ、ここからアンロードされるまでは一括移送
装置38により移送される。
After this, the objects 15 to be plated are transferred to the bulk transfer device 38.
The process is sequentially transferred from the pickling treatment tank 6 to the washing treatment tank 14.
From there, it is supplied to a processing tank for plating processing by a unit transfer device 25. After being immersed in this processing tank for plating processing for 15 minutes, it is transferred by unit transfer device 25 to a processing tank for washing treatment, and from there, it is transferred by batch transfer device 38 until it is unloaded.

ところで、このように異なる種類の移送装置
を直列に組合わせた場合、ライン全体の処理効
率(時間当りの移送個数)は、処理効率が悪い
方の移送装置によつて律せられてしまう。上例
では、ロード地点から酸洗用の処理槽6までを
一括移送装置38よりも移送効率が悪い単位移
送装置25によつて移送していることから、ラ
イン全体の処理効率は、その部分の処理効率と
等しくなる。しかし、上例のように処理ライン
1の一部領域を一括移送装置38によつて移送
するように構成すれば、全領域を単位移送装置
25のみによつて移送する構成に比べて単位移
送装置25が負担する領域は短くなる。
By the way, when different types of transfer devices are combined in series, the processing efficiency of the entire line (number of transferred items per hour) is controlled by the transfer device with lower processing efficiency. In the above example, since the transfer from the loading point to the pickling treatment tank 6 is carried out by the unit transfer device 25, which has a lower transfer efficiency than the batch transfer device 38, the processing efficiency of the entire line is It is equal to processing efficiency. However, if a part of the processing line 1 is configured to be transferred by the batch transfer device 38 as in the above example, the unit transfer device The area covered by 25 becomes shorter.

単位移送装置にあつて一定の処理効率を得る
ために必要な走行体の数は、直列に並ぶ処理槽
の数に略反比例する関係にあるから、移送すべ
き領域が短くなれば直列に並ぶ処理槽の数が少
なくなつて少数の走行体にてある程度の処理効
率をあげることができるようになる。因みに、
本実施例における処理槽2〜14の間を全て単
位移送装置によつて移送する構成とすると、そ
の間に直列に並ぶ処理槽は計13槽あるから、理
論上相当数の走行体を設置しなくては被メツキ
物を第7図の浸漬時間で搬送して行くことがで
きない。しかし、現実には設置スペースや運用
上の問題から、被メツキ物を第7図の浸漬時間
で搬送して行くに足る数の走行体を設置するこ
とは不可能であるため、実際には全体の処理効
率は全領域を一括移送装置によつて移送する構
成に比べて相当に低下せざるを得ない。
The number of traveling bodies required to obtain a certain processing efficiency in a unit transfer device is approximately inversely proportional to the number of processing tanks arranged in series, so if the area to be transferred becomes shorter, the number of processing units arranged in series will be reduced. The number of tanks is reduced, and a certain degree of processing efficiency can be achieved with a small number of moving bodies. By the way,
In this embodiment, if all processing tanks 2 to 14 are transferred by a unit transfer device, there will be a total of 13 processing tanks lined up in series between them, so theoretically a considerable number of traveling bodies will not be installed. Therefore, the object to be plated cannot be transported within the soaking time shown in FIG. However, in reality, due to installation space and operational issues, it is impossible to install a sufficient number of moving bodies to transport the object to be plated within the immersion time shown in Figure 7. The processing efficiency is inevitably lowered considerably compared to a configuration in which the entire area is transferred by a batch transfer device.

これに対し、本実施例では単位移送装置25
によつて移送される領域には5槽しか存在しな
いから、2台の走行体19によつてある程度の
処理効率(全領域を一括移送装置によつて移送
する構成に比べれば小さいが)を確保すること
ができ、しかも走行体19の設置数が少なくて
済む分、設備費を低廉化できる。
In contrast, in this embodiment, the unit transfer device 25
Since there are only five tanks in the area to be transferred by the two moving bodies 19, a certain degree of processing efficiency is ensured by the two traveling bodies 19 (although it is small compared to a configuration in which the entire area is transferred by a batch transfer device). Moreover, since the number of running bodies 19 to be installed is small, the equipment cost can be reduced.

尚、この実施例では、電解脱脂処理を希にし
か行わない工場での適用例を示しているが、電
解脱脂処理を頻繁に行う場合には、一括移送装
置38を電解脱脂用の処理槽2の領域まで延長
して設け、処理槽2から処理槽14までを一括
移送装置38によつて移送できるようにすれば
ライン全体の処理効率を一層高めることができ
る。
Although this embodiment shows an example of application in a factory where electrolytic degreasing is rarely performed, if electrolytic degreasing is frequently performed, the batch transfer device 38 may be moved to the treatment tank 2 for electrolytic degreasing. The processing efficiency of the entire line can be further improved by extending the processing tank 2 to the region of 1 and making it possible to transfer from the processing tank 2 to the processing tank 14 by the batch transfer device 38.

(2) 電解脱脂処理を行わない場合 この工場では、多くの被メツキ物15は電解
脱脂処理を実行しない。電解脱脂処理を実行し
ない工程組合わせにおける被メツキ物15の移
送方式を第7図Bに示す。
(2) When electrolytic degreasing is not performed In this factory, many objects 15 to be plated are not subjected to electrolytic degreasing. FIG. 7B shows a method of transporting the object to be plated 15 in a process combination in which electrolytic degreasing is not performed.

この場合は、被メツキ物15はロード地点か
ら単位移送装置25により電解脱脂処理用の処
理槽2及び水洗処理用の処理槽3〜5の上方を
通り越して直ちに酸洗用の処理槽6に移送さ
れ、この後、酸洗用の処理槽6からメツキ処理
前の水洗用の処理槽14まで一括移送装置38
により送られ、処理槽14からは単位移送装置
25によつてメツキ処理用の処理槽に供給され
る。そして、このメツキ処理用の処理槽内に15
分浸漬された後、単位移送装置25により水洗
処理用の処理槽に移送され、ここからアンロー
ドされるまでは一括移送装置38により移送さ
れる。
In this case, the object to be plated 15 is immediately transferred from the loading point by the unit transfer device 25 to the processing tank 6 for pickling, passing over the processing tank 2 for electrolytic degreasing and the processing tanks 3 to 5 for washing with water. After that, a bulk transfer device 38 is carried out from the processing tank 6 for pickling to the processing tank 14 for washing with water before plating processing.
From the processing tank 14, it is supplied to a processing tank for plating processing by a unit transfer device 25. Then, in the processing tank for this plating process, 15
After being immersed in portions, they are transferred by unit transfer device 25 to a processing tank for washing with water, and from there, they are transferred by batch transfer device 38 until unloaded.

このように被メツキ物15をロード地点から
単位移送装置25により処理槽2〜5の上方を
通り越して直ちに処理槽6に移送するようにす
れば、ライン全体の移送を一括移送装置によつ
て行うものに比べ、省略区間(処理槽2〜5)
を高速で通過させることができるため、工程を
省略した分だけ全体の処理時間を短縮でき、ひ
いては処理効率の向上を可能にできる。勿論、
このように特定の処理工程のみを省略するに
は、従来のようにライン全体を単位移送装置に
よつて移送する構成でも可能であるが、これで
は既に述べたように処理効率の大幅な低下を免
れ得ない。また、逆に、できるだけ高い処理効
率を確保すべく、ライン全体を一括移送装置に
よつて移送する構成とすれば、本実施例のよう
に特定の工程を省略することは困難である。換
言すれば、ある程度の処理効率を確保しなが
ら、本実施例のように工程組合わせの柔軟性を
得ることは、2種の移送装置25,38を一部
において重なるよう設けたことにより初めて達
成し得ることである。
If the object to be plated 15 is transferred from the loading point to the processing tank 6 immediately after passing over the processing tanks 2 to 5 by the unit transfer device 25, the entire line can be transferred by the batch transfer device. Compared to the above, the omitted section (processing tanks 2 to 5)
can be passed through at high speed, the overall processing time can be shortened by the amount of the omitted step, and it is possible to improve processing efficiency. Of course,
In this way, it is possible to omit only a specific processing step by using a conventional configuration in which the entire line is transferred using a unit transfer device, but as already mentioned, this results in a significant drop in processing efficiency. I can't escape it. On the other hand, if the entire line is transferred by a batch transfer device in order to ensure the highest processing efficiency possible, it would be difficult to omit specific steps as in this embodiment. In other words, flexibility in process combinations as in this embodiment can be achieved only by providing two types of transfer devices 25 and 38 so as to partially overlap while ensuring a certain degree of processing efficiency. It is possible.

(3) 1回目の酸洗処理及びソフトエツチング処理
を行わない場合 この場合の被メツキ物15の移送方式を第7
図Cに示す。被メツキ物15はロード地点から
単位移送装置25により処理槽2〜5内を順に
浸漬されながら移送され、この後、やはり単位
移送装置25により処理槽6〜11の上方を通
り越して酸洗処理用の処理槽12まで移送さ
れ、さらに酸洗処理用の処理槽12及び水洗処
理用の処理槽13,14内を一括移送装置38
により移送され、そして、メツキ処理用の処理
槽内を単位移送装置25により送られながら通
過し、その後、水洗処理用の処理槽を通過して
アンロードされるまで一括移送装置38により
移送される。
(3) When the first pickling treatment and soft etching treatment are not performed.
Shown in Figure C. The object to be plated 15 is transferred from the loading point by the unit transfer device 25 while being immersed in the processing tanks 2 to 5 in order, and then passed above the processing tanks 6 to 11 by the unit transfer device 25 for pickling treatment. The processing tank 12 for pickling processing and the processing tanks 13 and 14 for water washing processing are transferred to a bulk transfer device 38.
Then, it passes through the processing tank for plating processing while being sent by the unit transfer device 25, and then passes through the processing tank for water washing processing and is transferred by the batch transfer device 38 until it is unloaded. .

本例は、この様な工程組合わせも可能である
ことを示すために、参考的に示したものであ
る。この場合の処理効率は処理槽2〜12間に
おける単位移送装置25の移送効率に律せられ
るから、第7図Aの場合と同様にあまり高くは
ない。しかし、一部を一括移送装置38による
移送に任せている分、全領域を単位移送装置に
よつて移送する構成に比べれば処理効率は高
く、且つ設備費を低く抑えることができる。但
し、この様な工程組合わせを頻繁に実行する工
場では、一括移送装置38を処理槽2から処理
槽14まで延びるように設置することが好まし
い。これによれば、処理槽2〜5間は一括移送
装置38によつて移送できるようになるため、
移送効率は飛躍的に向上するからである。
This example is shown for reference to show that such a process combination is also possible. Since the processing efficiency in this case is determined by the transfer efficiency of the unit transfer device 25 between the processing tanks 2 to 12, it is not very high as in the case of FIG. 7A. However, since a part of the area is transferred by the batch transfer device 38, the processing efficiency is higher and the equipment cost can be kept low compared to a configuration in which the entire area is transferred by the unit transfer device. However, in a factory that frequently performs such process combinations, it is preferable to install the batch transfer device 38 so as to extend from the processing tank 2 to the processing tank 14. According to this, since it becomes possible to transfer between the processing tanks 2 to 5 by the batch transfer device 38,
This is because the transfer efficiency is dramatically improved.

このように本実施例によれば、上述の作用説明
から明らかなように、処理ライン1の一部におい
て単位移送装置25の移送領域と一括移送装置3
8の移送領域とが重なるように設けられているか
ら、全ての処理を一連に行う場合でも、一部の処
理を省略する場合でも被メツキ物15を合理的に
移送することができる。そして、このような処理
工程の組合わせにおける柔軟性があるので、必要
とされる処理が異なる各種の被メツキ物15を混
在させて処理ライン1中を移送することができて
多品種少量形の生産にも好適する。
In this way, according to this embodiment, as is clear from the above explanation of the operation, the transfer area of the unit transfer device 25 and the batch transfer device 3 are separated in a part of the processing line 1.
Since the transfer areas 8 and 8 are provided so as to overlap with each other, the object 15 to be plated can be transferred rationally even when all processes are performed in series or when some processes are omitted. Since there is flexibility in the combination of processing steps, it is possible to mix and transport various objects 15 that require different treatments through the processing line 1, which allows for high-mix, low-volume production. Also suitable for production.

また、このように工程組合わせの柔軟性があり
ながら、必要な領域でのみ単位移送装置25によ
る移送に任せるものであるから、単位移送装置2
5の負担が軽く、ライン全域を単位移送装置によ
つて移送するものに比べれば全体の移送効率を高
めることができ、しかも高価な単位移送装置25
の走行体19を少数台数で済ませ得ることから設
備費の低廉化を可能にできる。更には、処理時間
が長いメツキ処理用の処理槽中は単位移送装置2
5により被メツキ物15を移送するものであるか
ら、処理時間に応じてメツキ処理用の処理槽を長
大化する必要がなく、処理ラインを短く済ますこ
とができるようになる。
In addition, although there is flexibility in process combinations, the unit transfer device 25 is allowed to transfer only the necessary areas, so the unit transfer device 2
The load on the unit transfer device 25 is lighter, and the overall transfer efficiency can be improved compared to transferring the entire line using a unit transfer device 25, which is expensive.
Since the number of running bodies 19 can be reduced to a small number, equipment costs can be reduced. Furthermore, the unit transfer device 2 is used in the processing tank for plating processing which takes a long processing time.
Since the object to be plated 15 is transported by the plating device 5, there is no need to increase the length of the processing tank for plating according to the processing time, and the processing line can be shortened.

尚、上記実施例では、単位移送装置25の移送
領域と一括移送装置38の移送領域とが重なる区
間を複数の処理槽に跨がつて設けるようにした
が、本発明はこれに限られず、処理ラインの構成
によつては単一の処理槽にのみ移送領域の重なり
区間を設けるようにしても良い。また、単位移送
装置25は本実施例では3本のキヤリヤーバー1
6を1単位として移送するようにしたが、1単位
を構成するキヤリヤーバー16の数はこれに限ら
ず、1本でも或はそれ以外の本数であつても良い
ことは勿論で、要するに複数の処理槽のうち最小
の処理槽に収納可能な数を1単位とすれば良い。
また、走行用レールは必ずしも処理ラインの全域
に設けずとも、必要部分に設ければ足る。更に
は、走行用レールは必ずしも処理槽の上方に設け
ずとも、処理槽の側方或いは下方に設けるように
してもよい。
In the above embodiment, a section where the transfer area of the unit transfer device 25 and the transfer area of the batch transfer device 38 overlap is provided across a plurality of processing tanks, but the present invention is not limited to this. Depending on the configuration of the line, the overlapping section of the transfer area may be provided only in a single processing tank. Further, in this embodiment, the unit transfer device 25 includes three carrier bars 1.
6 is transferred as one unit, but the number of carrier bars 16 constituting one unit is not limited to this, and it goes without saying that the number of carrier bars 16 constituting one unit may be one or another number. One unit may be the number that can be stored in the smallest processing tank among the tanks.
Furthermore, the running rails do not necessarily need to be provided over the entire processing line; it is sufficient to provide them in the necessary portions. Furthermore, the running rail does not necessarily need to be provided above the processing tank, but may be provided on the side or below the processing tank.

また、特に本実施例のスライドブロツク駆動装
置33では、エレベーターフレーム26に設けた
駆動スプロケツト30の径寸法を異ならせること
によりスライドブロツク28の送りピツチを異な
らせるようにしたが、本発明は必ずしもこれに限
られない。例えば、第8図の通りに構成したスラ
イドブロツク駆動装置40でもスライドブロツク
41の送りピツチを異ならせることができる。
Further, in particular, in the slide block drive device 33 of this embodiment, the feed pitch of the slide block 28 is varied by varying the diameter of the drive sprocket 30 provided on the elevator frame 26, but the present invention is not necessarily limited to this. Not limited to. For example, even in the slide block drive device 40 constructed as shown in FIG. 8, the feeding pitch of the slide block 41 can be varied.

同図に基づきスライドブロツク駆動装置の変形
例を説明するに、エレベーターフレーム26の下
部には各スライドブロツク41に対応して支持板
42が固定され、この支持板42に駆動レバー4
3が回動可能に枢支されている。各駆動レバー4
3の上端部はスライドブロツク41に突設したピ
ン41aを長孔43aに通して連結され、下端部
はエレベーターフレーム26に沿つて設けた駆動
シヤフト44にやはり長孔43bを介して連結さ
れている。そして、各駆動レバー43が支持板4
2に枢支される支点位置は必要な送りピツチに応
じて異ならせてあり、駆動シヤフト44を例えば
図示しないシリンダー装置により往復移動させる
ことにより、駆動レバー43の支点位置に応じた
量だけ各スライドブロツク41が移動するように
なる。このように構成しても、第4図の構成と同
様に一括移送装置38における送りピツチを場所
により異ならせることが可能になる。
To explain a modification of the slide block drive device based on the same figure, a support plate 42 is fixed to the lower part of the elevator frame 26 in correspondence with each slide block 41, and a drive lever 4 is attached to this support plate 42.
3 is rotatably supported. Each drive lever 4
The upper end of the elevator shaft 3 is connected to the slide block 41 through a pin 41a protruding through a long hole 43a, and the lower end is connected to a drive shaft 44 provided along the elevator frame 26 through a long hole 43b. . Each drive lever 43 is connected to the support plate 4.
The fulcrum position of the drive lever 43 is varied depending on the required feed pitch, and by reciprocating the drive shaft 44 using, for example, a cylinder device (not shown), each slide is moved by an amount corresponding to the fulcrum position of the drive lever 43. Block 41 begins to move. Even with this configuration, it is possible to vary the feed pitch in the batch transfer device 38 depending on the location, similar to the configuration shown in FIG.

また、配置ピツチ変更装置34は必ずしもスプ
リングで付勢したバー受け体29を可撓ワイヤ3
5により引張る構成に限らず、油圧駆動方式、カ
ム駆動方式或いはスクリユーシヤフト駆動方式に
て構成することも可能である。また、配置ピツチ
変更装置34は必ずしもスライドブロツク28に
設けずとも、例えばエレベーターフレーム26の
外側方に専用に設けるようにしても良い。
Further, the arrangement pitch changing device 34 does not necessarily have to change the bar receiver 29 biased by a spring to the flexible wire 3.
The structure is not limited to the one in which it is pulled by 5, but it is also possible to use a hydraulic drive system, a cam drive system, or a screw shaft drive system. Further, the arrangement pitch changing device 34 does not necessarily have to be provided on the slide block 28, but may be provided exclusively on the outside of the elevator frame 26, for example.

さらに、一括移送装置38における送りピツチ
を異ならせる必要がない場合には、第9図に示す
ように、エレベーターフレーム26の全域上に設
けたチエーン45にバー受け体46を多数固着
し、このチエーン45を所定量ずつ移動させるよ
うに構成することもできる。あるいは、このよう
に送りピツチを一定とする場合には、図示はしな
いがエレベーターフレームにバー受け体を一体化
してエレベーターフレームの上昇時にこれを1送
りピツチ分移動させ、加工してキヤリアバー16
がキヤリアバーインサレータ17に受けられてか
らエレベーターフレームを元位置に戻すように構
成しても良い。なお、かかる構成ではエレベータ
ーフレームを直接に駆動したり、これを吊持する
エレベーター昇降装置27ごと移動させたりする
ことができる。
Furthermore, if it is not necessary to vary the feed pitch in the batch transfer device 38, as shown in FIG. 45 may be moved by a predetermined amount. Alternatively, if the feed pitch is to be constant in this way, a bar receiver (not shown) is integrated into the elevator frame and moved by one feed pitch when the elevator frame rises, and the carrier bar 16 is machined.
The elevator frame may be configured to be returned to its original position after being received by the carrier bar insulator 17. In addition, with this configuration, the elevator frame can be directly driven, or the elevator lifting device 27 that suspends the frame can be moved together.

その他、本発明は上記し且つ図面に示す実施例
に限定されるものではなく、例えばアルマイト処
理や静電塗装のために被処理物を移送する場合に
も使用できることは勿論である。
In addition, the present invention is not limited to the embodiments described above and shown in the drawings, and can of course be used, for example, when transporting objects to be treated for alumite treatment or electrostatic coating.

[発明の効果] 本発明は以上述べたように、単位移送装置の移
送領域と一括移送装置の移送領域とを重ねるよう
に設けたところに特徴を有し、この結果、処理工
程の組合わせの柔軟性に優れると共に処理ライン
の短縮化も併せて図ることができ、しかもそれで
いながらある程度の処理効率を確保でき且つ安価
な設備費で済ませることができるという産業上優
れた効果を奏するものである。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention is characterized in that the transfer area of the unit transfer device and the transfer area of the batch transfer device are provided so as to overlap, and as a result, the combination of processing steps can be improved. It has excellent flexibility and can also shorten the processing line, while still ensuring a certain level of processing efficiency and requiring low equipment costs, which is an excellent industrial effect. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第7図は本発明の一実施例を示
し、第1図は処理ラインの部分側面図、第2図は
同断面図、第3図はフツクアームの斜視図、第4
図は一括移送装置の部分拡大側面図、第5図は一
括移送装置におけるスライドブロツク部分の拡大
平面図、第6図は同拡大側面図、第7図は処理工
程と移送方式との関係を示す工程図である。第8
図は一括移送装置における配置ピツチ変更装置の
変形例を示す第4図相当図、第9図は一括移送装
置の更に異なる変形例を示す部分斜視図である。 図面中、1は処理ライン、2〜14は処理槽
(処理部)、15は被メツキ物(被処理物)、18
は走行用レール、25は単位移送装置、34は配
置ピツチ変更装置、38は一括移送装置である。
1 to 7 show one embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a partial side view of the processing line, FIG. 2 is a sectional view of the same, FIG. 3 is a perspective view of the hook arm, and FIG.
The figure is a partially enlarged side view of the batch transfer device, Figure 5 is an enlarged plan view of the slide block portion of the batch transfer device, Figure 6 is an enlarged side view of the same, and Figure 7 shows the relationship between processing steps and transfer method. It is a process diagram. 8th
This figure is a view corresponding to FIG. 4 showing a modification of the arrangement pitch changing device in the batch transfer device, and FIG. 9 is a partial perspective view showing still another modification of the batch transfer device. In the drawing, 1 is a processing line, 2 to 14 are processing tanks (processing section), 15 is an object to be plated (an object to be processed), and 18
25 is a traveling rail, 25 is a unit transfer device, 34 is an arrangement pitch changing device, and 38 is a batch transfer device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一列に並べた複数の処理槽から成る処理ライ
ンに沿つて被処理物を順次搬送するためのもので
あつて、 前記処理ラインに沿つて設けた走行用レール
と、 この走行用レールを走行可能に設けられ前記被
処理物を前記複数の処理槽のうち最小の処理槽に
収納可能な数を1単位としてその1単位ずつ1の
処理槽から吊り上げて他の任意の処理槽に走行し
て該被処理物を当該処理槽内に下降させる単位移
送装置と、 前記処理ラインに沿つて設けられ所定の領域内
の処理槽に位置する被処理物を同時に一括して上
昇させると共にこれらを次の処理槽側に送つた後
にその処理槽内に下降させる一括移送装置とを設
け、 この一括移送装置の移送領域と前記単位移送装
置の移送領域とが前記処理ラインの少なくとも一
部において重なるようにしたことを特徴とする被
処理物搬送装置。 2 一括移送装置における送りピツチは処理槽に
応じて異なるように構成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の被処理物搬送
装置。 3 一括移送装置には、被処理物の配置ピツチを
変更するための配置ピツチ変更装置が設けられて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は
第2項に記載の被処理物搬送装置。
[Claims] 1. A device for sequentially transporting objects to be processed along a processing line consisting of a plurality of processing tanks arranged in a row, comprising: a traveling rail provided along the processing line; The objects to be processed are provided so as to be able to travel on a running rail, and the number of objects to be processed that can be stored in the smallest processing tank among the plurality of processing tanks is taken as one unit, and each unit is lifted from one processing tank and subjected to other arbitrary processing. a unit transfer device that travels to the tank and lowers the objects to be processed into the processing tank; and a unit transfer device that is installed along the processing line and simultaneously raises the objects to be processed located in the processing tank within a predetermined area. and a batch transfer device that sends these to the next processing tank and then lowers them into the processing tank, and the transfer area of the batch transfer device and the transfer area of the unit transfer device are at least part of the processing line. A processing object conveying device characterized in that the objects to be processed are overlapped with each other. 2. The processing object transfer device according to claim 1, wherein the feed pitch in the batch transfer device is configured differently depending on the processing tank. 3. Processing object conveyance according to claim 1 or 2, characterized in that the batch transfer device is provided with an arrangement pitch changing device for changing the arrangement pitch of the processing objects. Device.
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