JPH0217016B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可撓性支持体層と除去可能なカバーシ
ートとの間に光感受性組成物をサンドイツチ化せ
しめた改善された光感受性エレメントに関する。

米国特許第3469982号明細書は光感受性層が一
時的支持体フイルムと一時的カバーシートとの間
にサンドイツチ化されているネガとして働く光重
合性フイルムレジストを開示している。このフイ
ルムはカバーフイルムを除去し、光重合性層を熱
および圧力によつて基材表面例えば銅上に積層さ
せて永久的に変性させ、層を活性線放射に像様露
光させ、フイルム支持体を除去し、層の未露光部
分を溶媒洗去（現像）により除去しそして得られ
た銅表面の裸の部分を例えばエツチングまたは金
属の沈着によつて永久的に変性させる印刷回路製
造において広い利用性を得ている。

前記米国特許は支持体フイルム上への光重合性
組成物の溶液コーテイング、それに続く乾燥およ
び次いで表面のホトレジスト過程を実施するため
の表面例えば銅被覆印刷回路板への得られた乾燥
層の積層を開示している。しかしながら、工業的
実施においては、保存および出荷の間は支持体に
接着保持させておかなくてはならないこの乾燥光
重合性層は支持体フイルムとカバーシートとの間
のサンドイツチとして供給される。このことはサ
ンドイツチエレメントをホトレジスト製造業者が
それ自体巻き上げそして使用者例えば印刷回路製
造業者にロール取扱いの容易なコンパクトとして
供給することを可能ならしめる。このカバーフイ
ルムは光重合性層が出荷および保存の間に支持体
フイルムの裏側に接着するのを阻止する。使用に
当つてはカバーフイルムを剥離して捨て、次いで
前記のようにホトレジスト過程を実施する。

米国特許第4193793号明細書は一時的支持体フ
イルムと一時的カバーフイルムとの間に光重合性
層をサンドイツチ化せしめたその光重合性組成物
がネガとしてではなくポジとして働くものである
点を除いては同様の光重合性フイルムレジストを
開示している。

本発明は、光感受性組成物の少くとも一つの層
を有しそして光感受性エレメントを形成するため
にカバーシートよりも一層大なる接着性を有する
可撓性支持体および除去可能なカバーシートを包
含する光感受性エレメントにおいて、光感受性組
成物から遠い方に面しているその表面上に粗荒化
されたフイニツシユを有するカバーシートを包含
している改善に関する。

本発明の光感受性エレメントのタイプは従来技
術において周知であり、そしてこれらは支持体層
とカバーシートとの間に光感受性組成物を有する
サンドイツチ構造のものである。一般に光重合性
重合体を含有するこのタイプの光感受性エレメン
トは例えば印刷回路板の製造におけるレジストお
よびはんだマスクとしての一般的な商業的使用を
有している。

ロール状の軟質光感受性レジストおよびはんだ
マスクは３つの主なる品質的問題の少くとも一つ
を欠点としている。第１にロール中のラツプ（巻
き）中に一般に最初均一に分布されていた空気
は、ロールとされた後では局所的応力（外的接
触、厚さ変動、張力変動、収縮変動）により徐々
に移動してポケツトまたは泡になる可能性があ
る。これらの泡は軟質光感受性組成物中に二次流
れを誘発させて、表面的および機能的欠陥（薄い
スポツト）を生ぜしめる。光感受性組成物の厚さ
が減少すると光感受性層の機能が悪くなる。

第２にどちらも収縮する傾向は最も高いが支持
体またはカバーシートがロール中で収縮すると複
合体構造中に徐々にしわが発生する可能性があ
る。このしわの発生はまた２次流れを誘発させて
光感受性組成物の厚さが局所的に変動することに
なる。

第３に、保存中に受重合体の重合は特定の部分
のフイルムラツプから空気を排除させる硬質バン
ド部分または生成物厚さのゲージ変動部分におい
て発生する可能性がある。本発明のカバーシート
を用いると、これらの硬質バンドの表面が粗くな
るために空気が絶えず存在してこの種の化学的不
安定性に強い阻害作用を及ぼす。

粗荒化されたフイニツシユのカバーシートを使
用するとロールのラツプ間に存在する空気が比較
的容易に移動して均一に分布するので関連する２
次流れの問題がなくなるかまたは少なくなる。こ
の粗荒性は光感受性エレメントの厚さの変動を補
償する均一な圧縮性クツシヨン効果を与えうる。
このクツシヨン作用は薄い生成物部分のソフトス
ポツト形成を最小化させそして次いでしわ形成の
傾向を減少させうる。更にこのクツシヨン作用は
より厚い部分での欠陥も減少させる。またごみま
たはその他のハイスポツトのラツプからラツプに
拡がる欠陥傾向もまた減少させうる。

その他の利点は粗荒表面が硬いロールバンド
（高い応力領域）においてさえもラツプの間に酸
素補給を保持していることである。この酸素は保
存の間感受性の光重合体の自動重合を阻止しう
る。この変性は生成物の貯蔵寿命を増大させると
同時に、最終使用時のセンシトメトリーと性能に
悪影響を及ぼしかねないコーテイング処方への大
量の阻害剤を添加する必要が少なくなる。

カバーシート表面の粗荒程度は広範な限度内で
変動させうる。臨界的特性は光感受性エレメント
をロールに巻きあげた時に空気の存在を可能なら
しめる程度の粗荒性を存在させることである。固
有的にいくらかの表面変化を有している通常の平
滑カバーシートは本発明の定義から除外される。
一般に少くとも2μ平均そしてより好ましくは少
くとも4μ平均のピーク−バレー（くぼみ）距離
の表面粗荒性が適当である。一般に40μまで、そ
してより好ましくは10μまでのピーク−バレー表
面粗荒性上限が適当である。カバーシートの厚さ
が増加するにつれて、より大なる例えば40μ以上
の粗荒度が適当であることが理解される。要求さ
れる不等性（disparities）の頻度はヤングモジユ
ラスおよびカバーシートの厚さに依存する。より
高いモジユラスの厚いカバーシートに関しては同
一効果に対してより少い不等性が要求される。表
面粗荒性が増大するにつれて、その光感受性エレ
メントをロールに巻いた時により大なる直径が一
般に得られる。等しい光感受性組成物に対してよ
り大なる貯蔵面積を占めることの不利点は本発明
の利点に比べればわずかなものと考えられる。例
えば印刷回路板製造におけるより大なる収率は粗
荒化カバーシートの使用により直接実現されう
る。適当な粗荒化表面の例はテクスチヤー処理、
マツト化およびエンボスフイニツシユである。

好ましい様式においては、光感受性層から遠い
方に向いている粗荒化カバーシート表面は実質的
に平滑なその反対側表面、すなわち光感受性組成
物に面している表面を有している。カバーシート
の両方の表面が粗荒化されている場合は、光感受
性組成物の不均一性が生じうるがこれは一般に望
ましくない。しかしながら例えばはんだマスク適
用における使用のための比較的厚い光感受性組成
物に関しては、二つの粗荒表面を有するカバーシ
ートも容認できる。

本発明の好ましい具体例はロールの形にそのサ
ンドイツチ構造を存在せしめた光感受性エレメン
トに関する。ロールのラツプ中に存在する酸素の
拡散を可能ならしめて光重合性組成物の自動重合
を遅延化させるカバーシートまたは可撓性支持体
を使用しうる。カバーシートはエレメントをロー
ルに巻きあげた時にラツプ中で空気の移動を可能
ならしめる空気用チヤンネルを有しうる。これら
空気チヤンネルは一部ラツプ中に入りうるし、ま
たは空気をロール幅全体にわたつてすなわち遠い
方のエツジからロールを越えた端まで完全に通過
することを可能ならしめうる。

このカバーシートは支持体に比べてより少い接
着を光感受性組成物に対して有していなくてはな
らない。その理由はカバーシートは支持体つき光
感受性組成物の基材への積層の前に除去されるか
らである。本発明の粗荒化カバーシートの代りに
粗荒化支持体が使用される場合には生成物の性能
は保持できない。支持体を通して光感受性組成物
を活性線放射に露光させた場合、粗荒な支持体表
面の存在によつて光が散乱されそしてこの散乱は
写真の解像および画像品質を劣化させる。粗荒化
された支持体表面の粗荒性は精巧な回路板の製造
またはグラフイツクアーツ適用において臨界的な
正確なドツトスケール再生の達成において像形成
可能なラインおよび空間のコンパクト性に機能的
限界を課しうる。

適当な除去可能な保護カバーシートは当技術分
野では周知であるがしかしそれは表面粗荒性なし
である。それらは好ましくは高度の寸法的安定性
を有しており、そしてこれは高度重合体例えばポ
リアミド、ポリオレフイン、ポリエステル、ビニ
ル重合体およびセルロースエステルよりなる広汎
な種々のシート物質から選ぶことができ、そして
これは0.00025インチ（0.0006cm）〜0.008インチ
（0.02cm）またはそれ以上の厚さを有しうる。特
に適当なカバーシートは前記範囲、好ましくは約
0.001インチ（0.0025cm）厚さのポリエチレンで
ある。

適当な支持体物質は一般に剥離可能でありそし
て前記と同一の高度重合体から選ぶことができそ
して従つて0.00025インチ（0.0006cm）〜0.008イ
ンチ（0.02cm）またはそれ以上の同一の広い範囲
の厚さを有しうる。露光が剥離性支持体の除去の
前に実施される場合には、それは勿論照射される
活性線放射の実質的部分を透過させなくてはなら
ない。剥離性支持体が露光の前に除去される場合
には、そのような規制は適用されない。特に適当
な支持体は前記厚さ範囲そして好ましくは約
0.001インチ（0.0025cm）の透明ポリエチレンテ
レフタレートフイルムである。

光感受性組成物は一般に約0.0003インチ
（0.0008cm）〜約0.01インチ（0.0025cm）の乾燥コ
ーテイング厚さで存在せしめられる。より厚い層
も使用できる。

本発明の実施に当つては種々のタイプの光感受
性フイルムレジストエレメントを使用することが
できる。一般に光硬化性のネガとして働くエレメ
ントは米国特許第3469982号明細書に開示のタイ
プの光重合性エレメントおよび米国特許第
3526504号明細書に開示のタンプの光交叉結合性
エレメントである。ポジとして働くレジストエレ
メントは光可溶性タイプのもの例えば米国特許第
3837860号明細書のｏ−キノンジアジドエレメン
ト、または光減感可能なタイプのもの例えば米国
特許第3778270号明細書のビスジアゾニウム塩ま
たは英国特許第1547548号明細書のニトロ芳香族
組成物でありうる。有用な難燃性はんだマスク組
成物は米国特許第4278752号明細書中に開示され
ている。

光硬化性層は重合体成分（結合剤）、単量体成
分、開始剤および阻害剤から例えばヨーロツパ特
許願第81164014.6号明細書または前記参照特許に
記載のようにして製造される。

単一結合剤または他との組合せとして使用する
ことのできる適当な結合剤としてはポリアクリレ
ートおよびα−アルキルポリアクリレート、エス
テル例えばポリメチレンメタクリレートおよびポ
リエチルメタクリレート、ポリビニルエステル例
えばポリビニルアセテート、ポリビニルアセー
ト／アクリレート、ポリビニルアセテート／メタ
クリレートおよび水解ポリビニルアセテート、エ
チレン／ビニルアセテート共重合体、ポリスチレ
ン重合体および例えばマレイン酸無水物およびエ
ステルとの共重合体、ビニリデンクロリド共重合
体例えばビニリデンクロリド／アクリロニトリ
ル、ビニリデンクロリド／メタクリレートおよび
ビニリデンクロリド／ビニルアセテート共重合
体、ポリ塩化ビニルおよび共重合体例えばポリ塩
化ビニル／アセテート、飽和および不飽和ポリウ
レタン、合成ゴム例えばブタジエン／アクリロニ
トリル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレ
ン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジ
エン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン
−１，３−重合体、塩素化ゴムおよびスチレン／
ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／
スチレンブロツク共重合体、約4000〜1000000の
平均分子量を有するポリグリコールの高分子量ポ
リエチレンオキシド、エポキシド例えばアクリレ
ートまたはメタクリレート基含有エポキシド、コ
ポリエステル、例えば式HO（CH₂）ｎ−OH（式
中ｎは２−10の全数である）のポリエチレングリ
コールと(1)ヘキサヒドロテレフタル酸、セバシン
酸およびテレフタル酸、(2)テレフタル酸、イソフ
タル酸およびセバシン酸、(3)テレフタル酸および
セバシン酸、および(4)テレフタル酸およびイソフ
タル酸との反応生成物から製造されたもの、そし
て(5)前記グリコールと）テレフタル酸、イソフ
タル酸およびセバシン酸および）テレフタル
酸、イソフタル酸、セバシン酸およびアジピン酸
から製造されたコポリエステル混合物、ナイロン
またはポリアミド例えばＮ−メトキシメチルポリ
ヘキサメチレンアジパミド、セルロースエステル
例えばセルロースアセテート、セルロースアセテ
ートサクジネートおよびセルロースアセテートブ
チレート、セルロースエーテル例えばメチルセル
ロース、エチルセルロースおよびベンジルセルロ
ース、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
例えばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリホルムアルデヒドがあげられる。

この結合剤は水性現像液中で組成物を処理可能
なものとするに充分な酸性またはその他の基を含
有しうる。有用な水性処理可能な結合剤としては
米国特許第3458311号および英国特許第1507704号
各明細書に開示のものがあげられる。有用な両性
重合体としてはＮ−アルキルアクリルアミドまた
はメタクリルアミド、酸性のフイルム形成性共単
量体およびアルキルまたはヒドロキシアルキルア
クリレートから導かれたインターポリマー例えば
米国特許第3927199号明細書に開示のものがあげ
られる。

単独単量体としてかまたは他との組合せにおい
て使用しうる適当な単量体としては第３級ブチル
アクリレート、１，５−ペンタンジオールジアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ヘキサメチレン
グリコールジアクリレート、１，３−プロパンジ
オールジアクリレート、デカメチレングリコール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジメタ
クリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ
アクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジ
アクリレート、グリセロールジアクリレート、ト
リプロピレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロー
ルプロパントリアクリレートおよびトリメタクリ
レート、および米国特許第3380831号明細書に開
示の同様の化合物、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシ
フエニル）−プロパンジアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、２，２−ジ−
（ｐ−ヒドロキシフエニル）−プロパンジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリオキシエチル、２，２−ジ−（ｐ−ヒド
ロキシフエニル）−プロパンジメタクリレート、
ビスフエノールＡのジ−（３−メタクリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフエ
ノールＡのジ−（２−メタクリルオキシエチル）
エーテル、ビスフエノールＡのジ−（３−アクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、
ビスフエノールＡのジ−（２−アクリルオキシエ
チル）エーテル、テトラクロロビスフエノールＡ
のジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピル）エーテル、テトラクロロビスフエノー
ルＡのジ−（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、テトラブロモビスフエノールＡのジ−（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
エーテル、テトラブロモビスフエノールＡのジ−
（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、１，
４−ブタンジオールのジ（３−メタクリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ジフエノ
ール酸のジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリコ
ールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリ
メチロールプロパントリアクリレート（462）、エ
チレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、１，３−プロパンジ
オールジメタクリレート、１，２，４−ブタント
リオールトリメタクリレート、２，２，４−トリ
メチル−１，３−ペンタンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、１−フエニルエチレン−１，２−ジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、１，５−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、ジアリルフマレート、スチレン、１，４−ベ
ンゼンジオールジメタクリレート、１，４−ジイ
ソプロペニルベンゼンおよび１，３，５−トリイ
ソプロペニルベンゼンがあげられる。

前記エチレン性不飽和単量体の他に、この光硬
化性層はまた少くとも300の分子量を有する遊離
ラジカル開始連鎖延長付加重合性エチレン性不飽
和化合物の少くとも１種を含有することができ
る。このタイプの好ましい単量体は２〜15個の炭
素原子数のアルキレングリコールまたは１〜10個
のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコ
ールから製造されたアルキレンまたはポリアルキ
レングリコールジアクリレートおよび米国特許第
2927022号明細書に開示のもの例えば特に末端結
合として存在する場合の複数の付加重合性エチレ
ン結合を有するものである。特に好ましいものは
そのような結合の少くとも１個そして好ましくは
そのほとんどが炭素またはヘテロ原子例えば窒
素、酸素および硫黄との炭素二重結合を含む二重
結合炭素と共役しているものである。顕著なもの
はエチレン性不飽和基特にビニリデン基がエステ
ルまたはアシド構造に共役しているものである。

活性光線により活性化可能でありそして185℃
およびそれ以下では熱的に不活性な好ましい遊離
ラジカル生成性付加重合開始剤としては共役炭素
環系中に２個の環内カルボニル基を有する置換ま
たは非置換の多核キノン例えば９，10−アントラ
キノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロ
アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２
−エチルアントラキノン、２−第３級ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，
４−ナフトキノン、９−10−フエナントレンキノ
ン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベ
ンズアントラキノン、２−メチル−１，４−ナフ
トキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、１，
４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチル
アントラキノン、２−フエニルアントラキノン、
２，３−ジフエニルアントラキノン、アントラキ
ノンα−スルホン酸のナトリウム塩、３−クロロ
−２−メチルアントラキノン、レチンキノン、
７，８，９，10−テトラヒドロナフタセンキノン
および１，２，３，４−テトラヒドロベンズ(a)ア
ントラセン−７，12−ジオンがあげられる。それ
らのあるものは85℃の低い温度でも熱的に活性で
あるにしてもこれまた有用なその他の光開始剤は
米国特許第2760863号明細書に記載されており、
これらとしてはビシナルケトアルドニルアルコー
ル例えばベンゾイル、ピバロイン、アシロインエ
ーテル例えばベンゾインメチルおよびエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−アリルベンゾ
インおよびα−フエニルベンゾインを含むα−炭
化水素置換芳香族アシロインがあげられる。米国
特許第2850445号、同第2875047号、同第3097096
号、同第3074974号、同第3097097号および同第
3145104号各明細書に開示の光還元性染料および
還元剤ならびにフエナジン、オキサジンおよびキ
ノン群の染料、ミヒラーのケトン、ベンゾフエノ
ン、２，４，５−トリフエニルイミダゾリル二量
体と水素ドナーとの組合せ、およびそれらの混合
物で米国特許第3427161号、同第3479185号および
同第3549367号各明細書記載のものを開始剤とし
て使用できる。また米国特許第4162162号明細書
に開示の増感剤も光開始剤および光阻害剤に関し
て有用である。

光重合性組成物中に使用しうる熱重合阻害剤は
ｐ−メトキシフエノール、ヒドロキノンおよびア
ルキルおよびアリール置換ヒドロキノンおよびキ
ノン、第３級ブチルカテコール、ピロガロール、
銅レジネート、ナフチルアミン、β−ナフトー
ル、塩化第１銅、２，６−ジ第３級ブチル−ｐ−
クレゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロ
ベンゼンおよびジニトロベンゼン、ｐ−トルキノ
ンおよびクロラニルである。また米国特許第
4168982号明細書に開示のニトロソ組成物もまた
熱重合の抑制に対して有用である。

種々の染料および顔料を加えてレジスト像の可
視性を上昇させることができる。しかしながら使
用されるすべての着色剤は好ましくは使用される
活性線放射に対して透明であるべきである。

印刷回路の形成を含む本発明の方法に対して一
般に適当な基材（基質）は機械強度、化学的抵抗
性および良好な誘電性を有するものである。すな
わち印刷回路用の大抵の板（ボード）材料は通常
補強剤と組合せた熱硬化性または熱可塑性樹脂で
ある。補強充填剤を伴なう熱硬化性樹脂は通常剛
性板用に使用され、一方補強剤なし熱可塑性樹脂
は通常可撓性回路板に使用される。

典型的な板構造は紙または紙−ガラス複合体上
のフエノールまたはエポキシ樹脂ならびにガラス
上のポリエステル、エポキシ、ポリイミド、ポリ
テトラフルオロエチレンまたはポリスチレンの組
合せを包含する。ほとんどの場合、板は電気伝導
性金属の薄層で被覆されており、その金属の中で
は銅が最も一般的である。

石版印刷プレートの製造を含む本発明の方法に
対して適当な基材は機械的強度およびそこに積層
される像形成光感受性部分の表面とは親水性また
は親油性において異つた表面を有するものであ
る。そのような基材は米国特許第4072528号明細
書に開示されている。多数の基材がこの目的に対
して満足すべきものであるが、薄いアーノド処理
アルミニウムプレート例えば米国特許第3458311
号明細書に開示のものは特に有用である。

表面測定の技術はカバーシートを凍結および破
壊させることによつてカバーシートの断面を走査
電子顕微鏡で検査することを包含する。測定すべ
きカバーシート試料を約１インチ×８インチの長
さの片に切る。次いで破断点制御のためにこれら
の片の一方の端近くにノツチ（切欠け）をつけ
る。試料のノツチづけした端をノツチの上まで液
体窒素に浸す。試料を完全に凍結させた後（２〜
５分）、試料を除去しそして直ちに各手にそれぞ
れの端を握ることにより速やかに折り、次いで両
方の手を相互に３インチ近づけ次いで急に引張つ
て放す。きれいな破断を確実ならしめるためには
窒素から除去した後５秒以内に全操作を完了しな
くてはならない。試料をそのエツジを垂直にして
載置し、そして導体コーテイングでスパツタリン
グさせる。これら試料を次いで走査電子顕微鏡に
載置しそしてロビンソン検出器を使用して大約
500Xで測定を実施する。測定は写真上で測定値
を10μの参照ラインと比較することにより実施さ
れる。この場合の参照ラインは0.6cm長さであつ
た。測定はこの技術を使用して実施例中に使用さ
れたマツト化ポリエチレンについて実施された。
次の結果が得られた。

測定されたピーク高さは裏側から測定した場合
３cmであつた。これを0.6cm当り10μのスケールフ
アクターを乗ずると50μの全ピーク高さを表わ
す。バレー（くぼみ）への距離は0.6cm当り×10μ
の写真上で2.5cmと測定されこれはそれが41.6μで
あることを示す。これは8.4μのピーク−バレー
（高さ）の差を与える。この技術を使用してその
他のマツト化物質が測定された。これは2.8cm×
0.6cm当り10μ＝46.7μのピーク高さであつた。シ
ート裏側からのバレー（くぼみ）の高さは2.4cm
×10μ／0.6cm＝40μであり、その差は6.7μであつ
た。

これらの性質を示さない標準ポリエチレンもま
た測定され、そしてこれは1.6cmのピーク高さを
0.6cm当り10μのスケールフアクターを乗ずると
27.5μのピーク高さを与えることが見出された。
バレー（くぼみ）は1.6cm×10μ／0.6cm、すなわ
ち26.7μであつて、0.8μの不等性高さを与えた。

以下の実施例においては特に記載しない限りは
すべての部は重量基準である。

例 １ 2.2ミルの光重合体を有する0.92ミルの高透明
度ポリエステルの支持体および1.7ミルの平均厚
さを有する8.4μのマツト化に由来するピーク−バ
レー不等性を有するポリエチレンのカバーシート
から光感受性エレメントを製造した。このエレメ
ントを0.8μの測定値のピーク−バレー表面粗荒性
を有し1.5ミル厚さである以外は同一組成の標準
カバーシートを備えた同様の構造物と比較した。
この後者のエレメントは「リストン（Riston 」
Ｔ−168光重合体フイルムレジストとして市販さ
れている。マツト化カバーシートを使用して製造
されたこの物質は優れたロール形成性およびロー
ル安定性を示しそして40℃での４週の促進老化の
後にラツプ中の過剰の空気またはしわ欠陥は存在
しなかつた。標準非マツト化カバーシートを使用
して製造された対照ロールはスリツテイング
（Slitting）約８時間でラツプ中に表面上の空気を
示し、そしてこれは２週間以内のオーブン老化の
間に機能的欠陥を発現した。

例２ （最良の様式） 2.0ミルの高い透明度ポリエステルの支持体シ
ート、3.0ミル厚さの光重合体層および1.7ミルの
平均厚さ、および8.4μのピーク−バレー粗荒性を
有するマツト化ポリエチレンカバーシートから光
感受性エレメントを製造し、そしてこれを1.15ミ
ルの平均厚さおよび0.8μのピーク−バレー粗荒度
を有する以外は標準カバーシートを備えた光感受
性エレメントと比較した。この後者の光感受性エ
レメントは「バクレル（Vacrel 」830はんだマ
スクとして市販されている。この物質を40℃促進
老化で４週間老化させた。マツト化カバーシート
を使用して製造されたフイルムは過剰の空気捕
集、しわおよびゲージバンドタイプの欠陥の形成
を示さなかつた。標準カバーシートを使用して製
造された物質はラツプの中の空気、しわおよびゲ
ージバンドを示し、これらは全体的品質および外
観に寄与した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 可撓性支持体上に担持された光感受性組成物
   の少くとも一つの層および除去可能なカバーシー
   トを包含しており、そして前記カバーシートが光
   感受性組成物から遠い方の表面上においてロール
   の端縁からラツプ中へ空気を移動させることので
   きる粗荒化フイニツシユを有していることを特徴
   とする、ロール状光感受性エレメント。 ２ 粗荒化フイニツシユがロールのラツプの間に
   空気の存在を可能ならしめている、前記特許請求
   の範囲第１項記載のエレメント。 ３ 粗荒化フイニツシユを有する表面が少くとも
   2μのピーク−バレー平均差を有している前記特
   許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ４ 前記のピーク−バレーの平均差が少くとも
   4μである前記特許請求の範囲第１項記載のエレ
   メント。 ５ 前記のピーク−バレーの差が一般に40μ以上
   ではない前記特許請求の範囲第２項または第３項
   記載のエレメント。 ６ 前記のピーク−バレーの差が一般に10μ以上
   ではない前記特許請求の範囲第２または３項記載
   のエレメント。 ７ 粗荒性がロールの幅全体にわたつている前記
   特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ８ 粗荒化フイニツシユがテクスチヤーフイニツ
   シユである前記特許請求の範囲第１項記載のエレ
   メント。 ９ 粗荒化フイニツシユがマツト化フイニツシユ
   である前記特許請求の範囲第１項記載のエレメン
   ト。 １０ 粗荒化フイニツシユがエンボスフイニツシ
   ユである前記特許請求の範囲第１項記載のエレメ
   ント。 １１ カバーシートまたは支持体が光重合性組成
   物の自動重合を遅延化させる酸素の拡散を可能な
   らしめる、前記特許請求の範囲第１項記載のエレ
   メント。 １２ カバーシートが酸素の拡散を可能ならしめ
   る前記特許請求の範囲第１１項記載のエレメン
   ト。 １３ チヤンネルがロールの一方の端縁から反対
   の端縁までのラツプを通して完全に空気を通過せ
   しめる、前記特許請求の範囲第１２項記載のエレ
   メント。