JPH02135174A - Method and apparatus for forming film - Google Patents

Method and apparatus for forming film

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JPH02135174A
JPH02135174A JP28843788A JP28843788A JPH02135174A JP H02135174 A JPH02135174 A JP H02135174A JP 28843788 A JP28843788 A JP 28843788A JP 28843788 A JP28843788 A JP 28843788A JP H02135174 A JPH02135174 A JP H02135174A
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学 石本
Tsutomu Muto
勉 武藤
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Abstract

PURPOSE:To form uniform film by applying coating liquid while running a substrate with surface velocity higher than peripheral velocity of a roll to the same direction as the rotating direction. CONSTITUTION:Velocity settings for the peripheral velocity V1 of the coat roll 1 and the running velocity V2 of an adsorbing base plate 6 are executed through a control disk 9 so that the relation of V2 to V1 becomes V2=1.05V1-1.20V1. Successively, the coat roll 1 is driven and also the suitable quantity of the coating solution (a) is supplied on the surface of the coat roll 1 with a squeegee 10. At the same time, by passing the adsorbing base plate 6 fixing the substrate 7 through below the coat roll 1, the coating operation of the upper face of the substrate 7 is completed. Successively, the coated sub strate 7 is taken out and only the adsorbing base plate 6 is returned back to the original position and the next coating operation is repeated.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は顔料分散溶液、レジスト溶液などレベリング性
の悪い溶液をガラス基板、金属基板等の基板上に極めて
薄い膜状、例えば3μm以下の均一な膜厚に塗布するた
めの方法および装置に関する。
Detailed Description of the Invention (Industrial Field of Application) The present invention applies a solution with poor leveling properties such as a pigment dispersion solution or a resist solution to a substrate such as a glass substrate or a metal substrate in the form of an extremely thin film, for example, a uniform film of 3 μm or less. The present invention relates to a method and apparatus for coating a film to a certain thickness.

(従来の技術) 従来、例えば半導体回路製造用のレジストパターンを形
成する場合、基板にレジスト溶液を薄膜状に均一に塗布
する必要があり、その塗布方法としてスピンコーティン
グ法が一般に採用されている。
(Prior Art) Conventionally, for example, when forming a resist pattern for semiconductor circuit manufacturing, it is necessary to uniformly apply a resist solution to a substrate in the form of a thin film, and a spin coating method is generally adopted as the application method.

(発明が解決しようとする問題点) しかし、このスピンコーティング法は約90%の塗布溶
液が回転による液切シのため無駄となること、塗布溶液
は粘度が数センチポイズ以内のもので、かつニー−トン
流動に近い流動性を持つものに限られること、角型ガラ
ス基板、に塗布する場合、四隅部分の膜厚が中心部に較
べ厚くなってしまうこと、基板の寸法が大型化するにつ
れ、塗布溶液の膜厚の面内バラツキが大きくなるなどの
問題があっ友。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in this spin coating method, approximately 90% of the coating solution is wasted due to liquid drainage due to rotation, and the viscosity of the coating solution is within a few centipoise, and -Limited to materials with fluidity close to ton flow, when coating on a rectangular glass substrate, the film thickness at the four corners will be thicker than at the center, and as the size of the substrate increases, However, there are problems such as increased in-plane variation in the film thickness of the coating solution.

このような塗布溶液の無駄を軽減する方法としてロール
コータ、フレキソ印刷機の利用による印刷法も考えられ
るが、コーテイング後の溶液のレベリング性が極めて良
いものでなければ均一な膜面が得られず、顔料を分散さ
せたレジスト、インキなどレベリング性の悪い溶液の塗
布にはロール目、板目などが残るため適用することは不
可能とされていた。
Printing methods using a roll coater or flexo printing machine can be considered as a way to reduce waste of coating solution, but a uniform film surface cannot be obtained unless the solution has extremely good leveling properties after coating. It was considered impossible to apply solutions with poor leveling properties, such as resists and inks containing dispersed pigments, because they would leave roll marks, plate marks, etc.

したがって本発明は顔料分散溶液、レゾスト溶液などレ
ベリング性の悪い塗布溶液でもプラス基板、金属基板等
の基板上に塗布溶液の無駄を少なくして3μm以下の極
めて薄い均一な膜に形成し得る方法及びそのための装置
を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention provides a method and method which can form an extremely thin uniform film of 3 μm or less on substrates such as positive substrates and metal substrates by reducing waste of the coating solution even with coating solutions having poor leveling properties such as pigment dispersion solutions and resist solutions. The purpose is to provide a device for that purpose.

(問題点を解決するための手段) すなわち、本発明は基板上に塗布液を、ロールを介して
薄膜状に塗布する方法であって、上記ロールの回転周速
より速い表面速度で上記ロールの回転方向と同一方向に
上記基板を走行させつつ、上記ロール表面に供給された
塗布液を該基板表面に塗布することを特徴とする基板へ
の薄膜塗布方法を提供するものである。
(Means for Solving the Problems) That is, the present invention is a method of applying a coating liquid onto a substrate in a thin film form through a roll, the roll being rotated at a surface speed higher than the peripheral speed of rotation of the roll. The present invention provides a method for coating a thin film on a substrate, characterized in that a coating liquid supplied to the surface of the roll is applied to the surface of the substrate while the substrate is traveling in the same direction as the rotation direction.

さらに、本発明は回転自在に支持されたロールと、該ロ
ールを回転駆動させるためのモータと、該ロールの下方
を横切るようにして走行自在に設けられ、被塗布基板を
載置固定するための基板固定盤と、該基板固定盤を駆動
させるためのモータと、該ロールの回転速度及び基板固
定盤の走行速度をそれぞれ制御するための制御機構と、
該ロール表面に適当量の塗布液を均一に供給するための
機構とを具備してなることを特徴とする基板への薄膜塗
布装置を提供するものである。
Further, the present invention includes a rotatably supported roll, a motor for rotationally driving the roll, and a motor provided so as to be movable across the bottom of the roll, and for mounting and fixing a substrate to be coated. a substrate fixing plate; a motor for driving the substrate fixing plate; and a control mechanism for respectively controlling the rotational speed of the roll and the traveling speed of the substrate fixing plate;
The present invention provides an apparatus for coating a thin film on a substrate, characterized in that it is equipped with a mechanism for uniformly supplying an appropriate amount of coating liquid to the surface of the roll.

なお、上記基板の走行速度(表面速度)は上記ロールの
回転周速より5〜20係速いとき、より好ましい結果が
得られる。
In addition, more preferable results can be obtained when the running speed (surface speed) of the substrate is 5 to 20 times faster than the rotational circumferential speed of the roll.

塗布溶液は厚さ3μm以下の均一な薄膜を形成する九め
には粘度が特定範囲のものであることが望ましboこの
好ましい粘度範囲は第2図に示す如く剪断速度(コータ
ーロールを用いて塗布する場合はその回転速度、tたフ
レキソ印刷方式で塗布するti1M合はアニロックスロ
ールの回転速度)と多少関連するが、一般に5〜150
 cpsである。なお、この第2図は粘度が剪断速度と
の関連で斜線で示す範囲にある場合に良好な薄膜が得ら
れ几ことを示している。この第2図のデータは塗布溶液
としてフジハント・エレクトロニクス・テクノロジー■
製カラーレノスト、CK−改2と東洋インキ製造■製ア
クリルBKインキ(アクリル墨−1)とを含む混合液を
用い、粘度については温度22℃でE型粘度計を用い、
コーティングはマイクロローラーコーター(MRC−4
50、サーマトロニクス貿易■製)を用いてガラス基板
上に上記溶液を塗布することによりおこなった。
It is desirable that the coating solution has a viscosity within a specific range in order to form a uniform thin film with a thickness of 3 μm or less. It is somewhat related to the rotation speed when coating, or the rotation speed of the anilox roll when coating by flexographic printing method, but generally 5 to 150
cps. Note that FIG. 2 shows that a good thin film can be obtained when the viscosity is within the shaded range in relation to the shear rate. The data in Figure 2 is based on Fuji Hunt Electronics Technology ■
Using a mixture containing Color Renost, CK-Kai 2 manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. and acrylic BK ink (acrylic ink-1) manufactured by Toyo Ink Manufacturing ■, the viscosity was measured using an E-type viscometer at a temperature of 22 ° C.
Coating is done using a micro roller coater (MRC-4
This was done by applying the above solution onto a glass substrate using a 50, manufactured by Thermatronics Trading Co., Ltd.).

々お、塗布溶液はニュートン流動性のもの、あるいは粘
度が150 cps以上であってもコーティング時にl
 50 cps以下に低下するチキソトロピー性のもの
であってもよい。また、塗布溶液が懸濁液の場合は固形
分比を40係以下とすることが好ましい。塗布用ロール
表面のゴム硬度は30’〜50°(JIS A )とす
ることが好ましい。
The coating solution must be Newtonian fluid, or even if the viscosity is 150 cps or more, it should not be used during coating.
It may also be thixotropic, with a drop to 50 cps or less. Further, when the coating solution is a suspension, the solid content ratio is preferably 40 parts or less. The rubber hardness of the coating roll surface is preferably 30' to 50° (JIS A).

(作用) 本発明によれば被塗布基板の表面速度をロール回転周速
より大きくした差動方式を採用しeiめ、ロールが塗布
溶液を介して基板表面とのスリップを起し、これが撒布
面でのスムーザとして作用し、これによりレベリング性
の悪い溶液でも薄く、かつ均一な5. OOOえ以上3
0.000え以下の膜厚を形成すること9可能となる。
(Function) According to the present invention, a differential system is adopted in which the surface speed of the substrate to be coated is made larger than the rotational peripheral speed of the roll, so that the roll causes slip with the substrate surface through the coating solution, and this causes slipping on the surface of the substrate. 5. Acts as a smoother, even with solutions with poor leveling properties, it becomes thin and uniform. OOOe more than 3
It becomes possible to form a film thickness of 0.000 mm or less.

(実施例) 本発明に係わる薄膜形成方法は従来のロールコ−ター 
フレギソ印刷機に改良を加えたものを用いて実施するこ
とができる。第3図(4)、(B)はその−例を示すも
ので1局面全体にゴム板を被着させ九円柱状のコートロ
ールIが、装置両側に突設された一対のサイドフレーム
2VC回転自在に軸支されている。このコートロール1
の回転はその一側に配設されたロール駆動モーター3に
よって駆動されるようになっている。
(Example) The thin film forming method according to the present invention can be applied using a conventional roll coater.
It can be carried out using a modified Fregiso printing machine. Figures 3 (4) and (B) show an example of this, in which a nine cylindrical coat roll I with a rubber plate covered on the entire surface is rotated by a pair of side frames 2VC that are protruded from both sides of the device. It is freely supported. This coat roll 1
The rotation of the roller is driven by a roll drive motor 3 disposed on one side of the roller.

装置本体フレーム4内上部には装置の長手方向に沿って
一対のりニアムービングガイド5がコートロール1の両
端部とそれぞれ直交するようにして設けられていて、吸
着定盤6がこれらリニアムービングガイド5上を走行す
るようになっている。
A pair of linear moving guides 5 are provided in the upper part of the apparatus body frame 4 along the longitudinal direction of the apparatus so as to be perpendicular to both ends of the coat roll 1, and a suction surface plate 6 is attached to these linear moving guides 5. It is designed to run on top.

この吸着定盤6Fiその上面に多数の吸引孔6&が形成
されていて、これによυ被塗布基板(例えばガラス基板
又は金属基板)7を吸着固定して、この基板を吸着定盤
6とともにコートロール1下方を横切って通過させるよ
うに彦りている。この吸着定盤6の走行はコートロール
1の下方に設けられ次定盤駆動モーター8によっておこ
なわれる。
A large number of suction holes 6& are formed on the upper surface of this suction surface plate 6Fi, through which a substrate to be coated (for example, a glass substrate or a metal substrate) 7 is suctioned and fixed, and this substrate is coated together with the suction surface plate 6. It is turned so that it passes across below the roll 1. The suction surface plate 6 is moved by a surface plate drive motor 8 provided below the coat roll 1.

コートロール1回転速度及び吸着定盤60走行速度の調
整は装置本体フレーム4の一側に設けられた制御盤9に
よっておこなわれる。コートロール1に対する塗布溶液
の供給、調整はコートロール1に沿い接近して設けられ
たスキー−)10によっておこなわれる。
The rotation speed of the coat roll and the traveling speed of the suction surface plate 60 are adjusted by a control panel 9 provided on one side of the frame 4 of the main body of the apparatus. The supply and adjustment of the coating solution to the coating roll 1 is carried out by means of skis 10 provided close to the coating roll 1.

この装置を用いて基板7上に薄膜を形成する場合、まず
コートロール1の周速V、に対し、吸着定1m 6 (
D 走行速度v s $v、 = 1.05 Vl 〜
1.20 Vtとなるように制御盤9を介してそれぞれ
の速度設定ヲおこない、ついで第1図CA)K示す如、
〈コートロール1を駆動させるとともにスキージ10に
よりて塗布溶液aの適当量をコートロール1表面に供給
する。同時に基板7を固定した吸着定盤6をコートロー
ル1下方けて所定速度で走行させる(第1図(B)参照
)。このようにして吸着定盤6をコートロール1下方を
通過させることにより基板7上面へのコーティング操作
が完了する(第1図(e)参照)。ついで、このコーテ
ィングされた基板7を除去し、吸着定盤6のみを元の位
置に戻し、次のコーティング操作が繰シ返される。
When forming a thin film on the substrate 7 using this device, first, the adsorption constant 1 m 6 (
D Traveling speed vs $v, = 1.05 Vl ~
Set each speed via the control panel 9 so that the voltage becomes 1.20 Vt, and then set the speed as shown in Figure 1 CA)K.
<While driving the coat roll 1, an appropriate amount of the coating solution a is supplied onto the surface of the coat roll 1 using the squeegee 10. At the same time, the suction surface plate 6 on which the substrate 7 is fixed is moved below the coat roll 1 at a predetermined speed (see FIG. 1(B)). In this way, by passing the suction surface plate 6 below the coating roll 1, the coating operation on the upper surface of the substrate 7 is completed (see FIG. 1(e)). Then, the coated substrate 7 is removed, only the suction surface plate 6 is returned to its original position, and the next coating operation is repeated.

第4図(A) 、 (B)は本発明に係わる他のコーテ
ィング装置の例を示すものでコーティングロールとして
フレキソ版12を被着し次ロール1ノが用いられ、又こ
れに対応してアニロックスロール13及びインキロール
14が設けられている。その他の構成については第3図
(4)、 03)に示し次装置と実質的に同一である。
FIGS. 4(A) and 4(B) show an example of another coating apparatus according to the present invention, in which a flexo plate 12 is coated as a coating roll, and a second roll 1 is used, and an anilox plate is used correspondingly. A roll 13 and an ink roll 14 are provided. The rest of the structure is substantially the same as the next device shown in FIG. 3 (4), 03).

したがりて同一符号を付することにより説明を省略する
Therefore, the explanation will be omitted by assigning the same reference numerals.

この装置を用いて基板7上に薄膜を形成する操作は第3
図体)、(ト))の場合と同様であり、まずアニロック
スロール13(又はフレキソ版12)の周速v1に対し
、吸着定盤60走行速度V!をv、 =l、Q 5v、
 〜1.20V1となるように制御盤9を介してそれぞ
れ速度設定し、ついで第5図(4)に示す如くコートロ
ール1を駆動させるとともにアニロックスロール13に
よって塗布溶液の適当量をコートロール1表面に供給す
る。同時に第5図(B)に示す如く吸着定盤6を基板7
とともにロール1ノに向けて所定速度で走行させる。こ
のようにして、吸着基板6をフレキソ版12下方を通過
させることにより基板7上面へのコーティング操作が完
了する(第5図C参照)。ついで、このコーティングさ
れた基板7を除去し、吸着定盤6のみを元の位置に戻し
、次のコーティング操作が繰り返される。このようなフ
レキソ版12を設けたロール11を用いることにより基
板への溶液の部分塗布が可能となる。
The operation of forming a thin film on the substrate 7 using this device is the third step.
It is the same as in the case of Figures) and (G)), and first, with respect to the circumferential speed v1 of the anilox roll 13 (or flexo plate 12), the traveling speed of the suction surface plate 60 V! v, =l, Q 5v,
The speeds are set via the control panel 9 so that the voltage is 1.20V1, and then the coat roll 1 is driven as shown in FIG. supply to. At the same time, as shown in FIG. 5(B), the suction surface plate 6 is
At the same time, it is made to run at a predetermined speed toward roll 1. In this manner, the suction substrate 6 is passed under the flexo plate 12, thereby completing the coating operation on the upper surface of the substrate 7 (see FIG. 5C). Then, the coated substrate 7 is removed, only the suction platen 6 is returned to its original position, and the next coating operation is repeated. By using the roll 11 provided with such a flexo plate 12, it becomes possible to partially apply the solution to the substrate.

実施例1 第3図(A) 、 CB)に示した装置を用い、以下の
条件でガラス基板(厚み1.1 wm、寸法150wX
 150m)への薄膜コーティング処理をおこなった。
Example 1 Using the apparatus shown in FIGS. 3(A) and CB), a glass substrate (thickness: 1.1 wm, size: 150 w×
150m) was subjected to thin film coating treatment.

(条件) コーター:マイクロローラーコーター、MRC−450
(サーマトロニクス貿易■製) 使用ロール: N−Bロール(コ9ム硬度40〜45O
JIS A)コート印圧ニガラス基板表面に対し1.7
諺のニップ印圧を加えた。このとき、ガラス 基板表面速度とロール周速との比は 107.5〜110.0:100でありた。
(Conditions) Coater: Micro roller coater, MRC-450
(Manufactured by Thermatronics Trading Co., Ltd.) Roll used: N-B roll (Co9m hardness 40-45O
JIS A) Coat printing pressure 1.7 for glass substrate surface
The proverbial nip printing pressure was applied. At this time, the ratio of the glass substrate surface speed to the roll circumferential speed was 107.5 to 110.0:100.

塗布溶液組成:5MX−アクリル!−1(東洋インキ■
製)/ブチルセロソルブ(溶剤) =0.571.固形分比16重量係 塗布速度(ガラス基板搬送速度): 4m/分その結果
、ピンホールの全くない平均膜厚0.96μm (平滑
度±0.036 ttm、測定数n = 25 、乾燥
時)の薄膜を得ることができ念。
Coating solution composition: 5MX-acrylic! -1 (Toyo Ink■
)/butyl cellosolve (solvent) = 0.571. Solid content ratio 16 Weight Coating speed (Glass substrate conveyance speed): 4 m/min As a result, average film thickness 0.96 μm with no pinholes (smoothness ±0.036 ttm, number of measurements n = 25, when dry) Just make sure you can't get a thin film.

実施例2 コート印圧、塗布溶液を下記条件に変えた以外は実施例
1と同一条件下、同一装置を用いてガラス基板(厚み1
.1鰭、寸法200曙×260■)への薄膜コーディン
グ処理をおこなった。
Example 2 A glass substrate (thickness 1
.. Thin film coating was applied to one fin (size: 200 Akebono x 260 cm).

(条件) コート印圧ニガラス表面に対し1.9糟のニップ印圧を
加えた。このとき、プラス基板 表面速度とロール周速との比は110 〜115:100であった。
(Conditions) Coat printing pressure A nip printing pressure of 1.9 mm was applied to the glass surface. At this time, the ratio of the positive substrate surface speed to the roll circumferential speed was 110 to 115:100.

塗布溶液:カラーレジスト、CK−改2(フッハント・
エレクトロニクス・テクノ ロジー■製、固形分34重量係) その結果、ピンホールの全くない平均膜厚220pm 
(平滑度±0.0911m 、測定数n=25、乾燥時
)の薄膜が得られた。
Coating solution: Color resist, CK-Kai 2 (Fuchant・
Manufactured by Electronics Technology ■, solid content: 34% by weight) As a result, the average film thickness is 220pm with no pinholes.
(Smoothness: ±0.0911 m, number of measurements n=25, dry) A thin film was obtained.

(発明の効果) 以上詳述の如く、本発明の薄膜形成方法によれば被塗布
基板の走行速度をコーティング用ロールの周速に対し5
〜20%速くしてコーティング処理をおこなうようにし
たから、コーティング用ロール、塗布溶液、被塗布基板
相互間に剪断力が働き、コーティング用ロールは慣しロ
ールの役目を兼ねることになり、レベリングの悪い溶液
に対しレベリング性を促進させる効果をし、粒径100
0に以下の粉体を分散させたレベリングの悪い懸濁液で
もs、ooo1以上30. OOOえ以下の薄い膜をピ
ンホールがなく平滑性が良好な状態で形成させることが
可能となった。また、コーティング操作が終了する毎に
スキージ−又はアニロックスロール等で正確に計量され
九塗布溶液がコーティングロール上に供給される九め、
膜厚精度の向上を図ることができる。
(Effects of the Invention) As detailed above, according to the thin film forming method of the present invention, the traveling speed of the substrate to be coated is set to 5% relative to the circumferential speed of the coating roll.
Since the coating process is performed at ~20% speed, shearing force acts between the coating roll, the coating solution, and the substrate to be coated, and the coating roll doubles as a break-in roll, making leveling faster. It has the effect of promoting leveling properties for bad solutions, and has a particle size of 100
Even a suspension with poor leveling in which the following powders are dispersed in s, ooo1 or more is 30. It has become possible to form a thin film of less than OOOO with no pinholes and good smoothness. In addition, each time the coating operation is completed, the coating solution is accurately measured using a squeegee or an anilox roll, and is supplied onto the coating roll.
It is possible to improve film thickness accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(4)〜(C)は本発明に係わる薄膜形成方法を
工程順に示す模式図、第2図は塗布溶液の粘度とコーテ
ィング用ロールの回転速度との関係を示す図、第3図囚
は本発明の方法を実施するための装置の平面図、第3図
CB)は第3図(A)の装置の側面図、第4図(4)は
本発明に係わる装置の他の例を示す平面図、第4図(r
3)は第4図(A)の装置の側面図、第5図(4)〜(
C)は本発明の薄膜形成方法を工程順に示す模式図であ
る。 図中、J・・・コートロール、2・・・サイドフレーム
、3・・・ロール駆動モータ% 4・・・装置本体フレ
ーム、5・・・リニア龜−ムーピングガイド、6・・・
吸着定盤、2・・・被塗布基板、8・・・定盤駆動モー
ター 10・・・ス中−ジ、1ノ・・・ロール、12・
・・フレキソ版、13・・・アニロックスロール、14
・・・インキロール。 第1図 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦■ 剪断速度 (rpm) 第 図 第4図(A) 第4図CB) 第 図(A) 第 図(B) 第 図
Figures 1 (4) to (C) are schematic diagrams showing the process order of the thin film forming method according to the present invention, Figure 2 is a diagram showing the relationship between the viscosity of the coating solution and the rotation speed of the coating roll, and Figure 3 Figure 3 (CB) is a plan view of the apparatus for carrying out the method of the present invention, Figure 3 (CB) is a side view of the apparatus of Figure 3 (A), and Figure 4 (4) is another example of the apparatus according to the present invention. A plan view showing the
3) is a side view of the device in FIG. 4(A), and FIG. 5(4)-(
C) is a schematic diagram showing the process order of the thin film forming method of the present invention. In the figure, J... Coat roll, 2... Side frame, 3... Roll drive motor%, 4... Device main body frame, 5... Linear pin-moving guide, 6...
Suction surface plate, 2... Substrate to be coated, 8... Surface plate drive motor, 10... Suction surface plate, 1... Roll, 12...
...Flexo version, 13...Anilox roll, 14
...Ink roll. Figure 1 Applicant's agent Takehiko Suzue ■ Shear rate (rpm) Figure 4 (A) Figure 4 CB) Figure (A) Figure (B) Figure

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上に塗布液を、ロールを介して薄膜状に塗布
する方法であって、上記ロールの回転周速より速い表面
速度で上記ロールの回転方向と同一方向に上記基板を走
行させつつ、上記ロール表面に供給された塗布液を該基
板表面に塗布することを特徴とする薄膜形成方法。
(1) A method of applying a coating liquid onto a substrate in the form of a thin film via a roll, the substrate being run in the same direction as the rotational direction of the roll at a surface speed faster than the rotational circumferential speed of the roll. . A method for forming a thin film, comprising applying the coating liquid supplied to the surface of the roll onto the surface of the substrate.
(2)基板の表面速度をロールの回転周速に対し、5〜
20%速くすることを特徴とする請求項1記載の薄膜形
成方法。
(2) The surface speed of the substrate is 5 to
2. The thin film forming method according to claim 1, wherein the method is 20% faster.
(3)塗布液の粘度を5〜150cpsとすることを特
徴とする請求項1記載の薄膜塗布方法。
(3) The thin film coating method according to claim 1, wherein the viscosity of the coating liquid is 5 to 150 cps.
(4)塗布液がニュートン流動を示すか、又は塗布時に
150cps以下の粘度に低下するチキソトロピー性の
ものである請求項1記載の薄膜塗布方法。
(4) The thin film coating method according to claim 1, wherein the coating liquid exhibits Newtonian flow or is thixotropic, with a viscosity that decreases to 150 cps or less during coating.
(5)回転自在に支持されたロールと、該ロールを回転
駆動させるためのモータと、該ロールの下方を横切るよ
うにして走行自在に設けられ、被塗布基板を載置固定す
るための基板固定盤と、該基板固定盤を駆動させるため
のモータと、該ロールの回転速度及び基板固定盤の走行
速度をそれぞれ制御するための制御機構と、該ロール表
面に適当量の塗布液を均一に供給するための機構とを具
備してなることを特徴とする薄膜塗布装置。
(5) A rotatably supported roll, a motor for rotationally driving the roll, and a substrate fixing member provided so as to be movable across the bottom of the roll for mounting and fixing the substrate to be coated. A board, a motor for driving the substrate fixing plate, a control mechanism for controlling the rotational speed of the roll and the running speed of the substrate fixing plate, and uniformly supplying an appropriate amount of coating liquid to the surface of the roll. What is claimed is: 1. A thin film coating device characterized by comprising a mechanism for
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