JPH02129A - ビフェニル誘導体 - Google Patents
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、筋収縮抑制作用を有する新規なビフェニル
誘導体に関するものであり、医療の分野で利用される。
誘導体に関するものであり、医療の分野で利用される。
[問題点を解決するための手段]
この発明の目的とするビフェニル誘導体は新規であり、
下記一般式[I]で示すことができる。
下記一般式[I]で示すことができる。
[式中、R1およびR3はそれぞれカルボキシ基または
エステル化されたカルボキシ基、R2は水素、ハロゲン
、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シア
ノ基、ハロ(低級)アルキル基またはアル(低級)アル
コキシ基、R4は低級アルキル基、R5はヒドロキシ基
または保護されたヒドロキシ基をそれぞれ意味する] で示されるビフェニル誘導体およびその塩。
エステル化されたカルボキシ基、R2は水素、ハロゲン
、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シア
ノ基、ハロ(低級)アルキル基またはアル(低級)アル
コキシ基、R4は低級アルキル基、R5はヒドロキシ基
または保護されたヒドロキシ基をそれぞれ意味する] で示されるビフェニル誘導体およびその塩。
[式中、RおよびR3はそれぞれカルボキシ基またはエ
ステル化されたカルボキシ基、R2は水素、ハロゲン、
ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ
基、ハロ(低級)アルキル基またはアル(低級)アルコ
キシ基 R4は低級アルキル基、R5はヒドロキシ基ま
たは保護されたヒドロキシ基をそれぞれ意味するコ 目的化合物[I]またはその塩は下記反応式で説明きれ
る製造法によって製造することができる。
ステル化されたカルボキシ基、R2は水素、ハロゲン、
ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ
基、ハロ(低級)アルキル基またはアル(低級)アルコ
キシ基 R4は低級アルキル基、R5はヒドロキシ基ま
たは保護されたヒドロキシ基をそれぞれ意味するコ 目的化合物[I]またはその塩は下記反応式で説明きれ
る製造法によって製造することができる。
製造法1
[Ibコ
またはその塩
[T1コ
またはその塩
[Ia]
またはその塩
製造法2
[1b]
またはその塩
[Iaコ
またはその塩
[Ia]
またはその塩
製造法4
製aS組旦
[IC]
またはその塩
[Id]
またはその塩
[Ieコ
またはその塩
製造法5
[1d]
もしくはカルボキシ
基におけるその反応
性誘導体またはそれ
らの塩
[Ic]
またはその塩
[Ifコ
またはその塩
製造法7
[1g] [Ih]またはそ
の塩 またはその塩[式中、RおよびRb
はそれぞれ異ったエステル化されたカルボキシ基、R3
はエステル化されたカルボキシ基、R5は保護きれたヒ
ドロキシ基、R5′はヒドロキシ保護基、R6およびR
7は、それぞれ低級アルキル基またはアル(低級)アル
キル基を意味するかまたは、R6とR7は隣接する窒素
原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環
基を形成する、Aは低級アルキレン基、Xは脱離基をそ
れぞれ意味し、R1、R2、R3、R4およびR5はそ
れぞれ前と同じ意味である] この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含き
れる種々の定義の・好適な例を以下詳細に述べる。
の塩 またはその塩[式中、RおよびRb
はそれぞれ異ったエステル化されたカルボキシ基、R3
はエステル化されたカルボキシ基、R5は保護きれたヒ
ドロキシ基、R5′はヒドロキシ保護基、R6およびR
7は、それぞれ低級アルキル基またはアル(低級)アル
キル基を意味するかまたは、R6とR7は隣接する窒素
原子と一緒になって、置換基を有していてもよい複素環
基を形成する、Aは低級アルキレン基、Xは脱離基をそ
れぞれ意味し、R1、R2、R3、R4およびR5はそ
れぞれ前と同じ意味である] この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含き
れる種々の定義の・好適な例を以下詳細に述べる。
「低級、とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を有する基を意味するものとする。
を有する基を意味するものとする。
好適な「エステル化されたカルボキシ基」としては、低
級アルフキジカルボニル[例えばメトキシ力ルボニJ呟
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシ
カルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等]、シクロ
(低級)アルフキジカルボニル[例えばシクロプロポキ
シカルボニル クロペンチルオキシカルボニル オキシカルボニル等コ、アル(低級)アルコキシカルボ
ニル[例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオ
キシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル等]
、シアノ(低級)アルコキシカルボニル[例えばシアノ
メトキシ力ルボニJ呟シアノエトキシカルボニル、シア
ノプロポキシカルボニル等コ、ハロ(低級)アルコキシ
カルボニル[例えばクロロメトキシカルボニル、クロロ
エトキシカルボニル J呟 プロモエトキシ力ルボニAy,ブロモプロポキシ
カルボニル等コ、カルボキシ(低級)アルコキシカルボ
ニル[例えばカルボキシメトキシカルボニル、カルボキ
シメトキシカルボニルL カルボキシプロポキシカルボ
ニル等]、低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキ
シカルボニル[例えばメトキシカッしボニルメトキシカ
ルボニルシカルボニルメトキシカルボニル、第三級ブト
キシカルボニルメトキシカルボニル、メトキシカルボニ
ルエトキシカルボニル、エトキシカルボニルエトキシカ
ルボニル、第三級ブトキシ力ルポニルエトキシカルボニ
ノ呟 メトキシカルボニルプロポキシカルボニル ボキシ力ルボニル等]、ヒドロキシ(低級)アルフキジ
カルボニル ルボニj呟 ジヒドロキシエトキシ力ルポニAs,ジヒ
ドロキシプロポキシカルボニル等]、モノまたはジ置換
アミノ(低級)アルコキシカルボニル[例えばモノまた
はジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルコキシカルボ
ニル(例えばジメチルアミノメトキシカルボニル、ジメ
チルアミノエトキシカルボニル、ジメチルアミノプロポ
キシカルボニル エチルアミノエトキシカルボニル N−エチルアミノエトキシカルボニル等)、N−低級ア
ルキル−N−アル(低級)アルキルアミノ(低級)アル
コキシカルボニル(例えばN−ベンジル−N−メチルア
ミノメトキシカルボニル、N−ベンジル−N−メチルア
ミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−エチルア
ミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−プロ、ビ
ルアミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−イソ
プロピルアミノプロポキシカルボニル等)、モノまたは
ジ(ヒドロキシ(低級)アルキル)アミノ(低級)アル
コキシカルボニル(例えばジ(ヒドロキシメチル)アミ
ノメトキシカルボニル、ジ(ヒドロキシエチル)アミノ
エトキシカルボニル、ジ(ヒドロキシエチル)アミノプ
ロポキシカルボニル等)、複素環置換カルボニルアミノ
(低級)アルコキシカルボニル(例えばニコチンアミド
エトキシカルボニル等)等コ、複素環置換(低級)アル
コキシカルボニル、より好ましくはN−含有またはN−
および〇−含有5〜6員複素環置換(低級)アルコキシ
カルボニル[例えばピペリジノメトキシカルボニル、ピ
ペリジノメトキシカルボニル、ビペリジノブロポキシカ
ルボニル、ピペリジノメトキシカルボニル、ピペラジニ
ルメトキシカルボニル、ピペラジニルエトキシカルボニ
ル、ピベラジニルプロボキシ力ルボニル、ピペラジニル
ブトキシカルボニル、モルホリノメトキシカルボニル、
モルホリノエトキシカルボニル、モルホリノプロポキシ
カルボニル ルボニル等]で該複素環基は例えばメチノ呟エチル、プ
ロピル等の低級アルキル、例えばヒドロキシメチル、ヒ
ドロキシエチル、ヒドロキシプロピル等のヒドロキシ(
低級)アルキル、例えばメトキシフェニル等の置換フェ
ニル、例えばピペリジノ等の複素環基のような置換基で
置換きれていてもよい、モノまたはジ(低級)アルキル
アミノ(低級)アルキルオキシ(低級)アルコキシカル
ボニル[例えばジメデルアミノメトキシエトキシカルボ
ニル、ジエチルレアミノエトキシエトキシ力ルポニル等
]、モノまたはジ(低級)アルキルアミノ(低級)アル
キルチオ(低級)アルフキジカルボニル[例えばジメチ
ルアミノメチルチオエトキシカルボニル、ジエチルアミ
ノエチルチオエトキシ力ルポニル等コ、モノまたはジ(
低級)アルキルアミノ(低級)アルキルスルホニル(低
級)アルフキジカルボニル[例えばジメチルアミノメチ
ルスルホニルエトキシカルボニル、ジエチルアミノエチ
ルスルホニルエトキシカルボニル等]、モノまたはジ(
低級)アルキルアミノ(低級)アルキルスルフィニル(
低級)アルフキジカルボニル[例えばジメチルアミノメ
チルスルフィニルエトキシカルボニル ニルエトキシカルボニル (低級)アルフキジカルボニル[例えばフェニルチオメ
トキシカルボニル シカルボニル、フェニルチオプロポキシカルボニル等]
、アリールスルホニル(低級)アルコキシカルボニル[
例えばフェニルスルホニルメトキシカルボニル ル等コ、アリールスルフィニル(低級)アルコキシカル
ボニル[例えばフェニルスルフィニルメトキシカルボニ
ル、フェニルスルフィニルエトキシカルボニル、フェニ
ルスルフィニルプロポキシカルボニル等]、モノまたは
ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルケニルオキシカ
ルボニル[例えばジメチルアミノビニルオキシカルボニ
ル、ジメチルアミノプロペニルオキシカルボニル、ジメ
チルアミノブテニルオキジカルボニル、ジメチルアミノ
ペンテニルオキシカルボニル、ジエチルアミンブテニル
オキシカルボニル、ジエチルアミノペンテニルオキシカ
ルボニル、N−メチル−N−エチルアミノブテニルオキ
シ力ルポニル等コ、モノまたはジ(低級)アルキルアミ
ノ(低級)アルキニルオキシカルボニル[例えばジメチ
ルアミノエチニルオキシカルボニル、ジメチルアミノプ
ロピニルオキシカルボニル、ジメチルアミンブテニルオ
キシカルボニル、ジメチルアミノペンチニルオキシカル
ボニル、ジエチルアミノブチニルオキシ力ルポ二)呟ン
エチルアミノペンチニルオキシ力ルボニル、N−メチル
−N−エチルアミノブテニルオキシカルボニル等コ、複
素環置換(低級)アルキニルオキシカルボニル、より好
ましくはN−含有またはN−および〇ー含有5〜6員複
素環置換(低級)アルキニルオキシカルボニル[イ列え
ばピペリジノブチニルオキシカルボニル、ピペリジノペ
ンチニルオキシ力ルポ二)呟 ピペラジニルブチニルオ
キシカルボニル、ピペラジニルペンチニルオキシカルボ
ニル、モルホリノブチニルオキシカルボニル、モルホリ
ノペンチニルオキシカルボニル等]で該複素環基は例え
ばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキルのような
置換基で置換きれていてもよい、低級アルコキシ(低級
)アルコキシカルボニル[例えばメトキシメトキシカル
ボニル ル、メトキシプロポキシカルボニル、メトキシエトキシ
カルボニル等]、複素環およびヒドロキシ置換(低級)
アルコキシカルボニル、より好ましくはN−含有または
N−および〇ー含有5〜6員複素環およびヒドロキシ置
換(低級)アルコキシカルボニル[例えばピペリジノ(
ヒドロキシ)エトキシカルボニル、ピペリジノ(ヒドロ
キシ)プロポキシカルボニル、ピペラジニル(ヒドロキ
シ)エトキシカルボニル、ピペラジニル(ヒドロキシ)
プロポキシカルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)エト
キシカルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)プロポキシ
カルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)ブトキシカルボ
ニル等コで該複素環基は例えばメチル、エチル、プロピ
ル等の低級アルキルのような置換基で置換されていても
よい、複素環置換オキシカルボニル、より好ましくはN
−含有またはN−および〇ー含有5〜6員複素環置換オ
キシカルボニル[例えばピペリジルオキシカルボニル、
ピペラジニルオキシカルボニル、モルホリニルオキシカ
ルボニル、ピロリジニルオキシカルボニル等]で該複素
環基は例えばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキ
ルのような置換基で置換きれていてもよい、等が挙げら
れる。
級アルフキジカルボニル[例えばメトキシ力ルボニJ呟
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシ
カルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等]、シクロ
(低級)アルフキジカルボニル[例えばシクロプロポキ
シカルボニル クロペンチルオキシカルボニル オキシカルボニル等コ、アル(低級)アルコキシカルボ
ニル[例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオ
キシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル等]
、シアノ(低級)アルコキシカルボニル[例えばシアノ
メトキシ力ルボニJ呟シアノエトキシカルボニル、シア
ノプロポキシカルボニル等コ、ハロ(低級)アルコキシ
カルボニル[例えばクロロメトキシカルボニル、クロロ
エトキシカルボニル J呟 プロモエトキシ力ルボニAy,ブロモプロポキシ
カルボニル等コ、カルボキシ(低級)アルコキシカルボ
ニル[例えばカルボキシメトキシカルボニル、カルボキ
シメトキシカルボニルL カルボキシプロポキシカルボ
ニル等]、低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキ
シカルボニル[例えばメトキシカッしボニルメトキシカ
ルボニルシカルボニルメトキシカルボニル、第三級ブト
キシカルボニルメトキシカルボニル、メトキシカルボニ
ルエトキシカルボニル、エトキシカルボニルエトキシカ
ルボニル、第三級ブトキシ力ルポニルエトキシカルボニ
ノ呟 メトキシカルボニルプロポキシカルボニル ボキシ力ルボニル等]、ヒドロキシ(低級)アルフキジ
カルボニル ルボニj呟 ジヒドロキシエトキシ力ルポニAs,ジヒ
ドロキシプロポキシカルボニル等]、モノまたはジ置換
アミノ(低級)アルコキシカルボニル[例えばモノまた
はジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルコキシカルボ
ニル(例えばジメチルアミノメトキシカルボニル、ジメ
チルアミノエトキシカルボニル、ジメチルアミノプロポ
キシカルボニル エチルアミノエトキシカルボニル N−エチルアミノエトキシカルボニル等)、N−低級ア
ルキル−N−アル(低級)アルキルアミノ(低級)アル
コキシカルボニル(例えばN−ベンジル−N−メチルア
ミノメトキシカルボニル、N−ベンジル−N−メチルア
ミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−エチルア
ミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−プロ、ビ
ルアミノエトキシカルボニル、N−ベンジル−N−イソ
プロピルアミノプロポキシカルボニル等)、モノまたは
ジ(ヒドロキシ(低級)アルキル)アミノ(低級)アル
コキシカルボニル(例えばジ(ヒドロキシメチル)アミ
ノメトキシカルボニル、ジ(ヒドロキシエチル)アミノ
エトキシカルボニル、ジ(ヒドロキシエチル)アミノプ
ロポキシカルボニル等)、複素環置換カルボニルアミノ
(低級)アルコキシカルボニル(例えばニコチンアミド
エトキシカルボニル等)等コ、複素環置換(低級)アル
コキシカルボニル、より好ましくはN−含有またはN−
および〇−含有5〜6員複素環置換(低級)アルコキシ
カルボニル[例えばピペリジノメトキシカルボニル、ピ
ペリジノメトキシカルボニル、ビペリジノブロポキシカ
ルボニル、ピペリジノメトキシカルボニル、ピペラジニ
ルメトキシカルボニル、ピペラジニルエトキシカルボニ
ル、ピベラジニルプロボキシ力ルボニル、ピペラジニル
ブトキシカルボニル、モルホリノメトキシカルボニル、
モルホリノエトキシカルボニル、モルホリノプロポキシ
カルボニル ルボニル等]で該複素環基は例えばメチノ呟エチル、プ
ロピル等の低級アルキル、例えばヒドロキシメチル、ヒ
ドロキシエチル、ヒドロキシプロピル等のヒドロキシ(
低級)アルキル、例えばメトキシフェニル等の置換フェ
ニル、例えばピペリジノ等の複素環基のような置換基で
置換きれていてもよい、モノまたはジ(低級)アルキル
アミノ(低級)アルキルオキシ(低級)アルコキシカル
ボニル[例えばジメデルアミノメトキシエトキシカルボ
ニル、ジエチルレアミノエトキシエトキシ力ルポニル等
]、モノまたはジ(低級)アルキルアミノ(低級)アル
キルチオ(低級)アルフキジカルボニル[例えばジメチ
ルアミノメチルチオエトキシカルボニル、ジエチルアミ
ノエチルチオエトキシ力ルポニル等コ、モノまたはジ(
低級)アルキルアミノ(低級)アルキルスルホニル(低
級)アルフキジカルボニル[例えばジメチルアミノメチ
ルスルホニルエトキシカルボニル、ジエチルアミノエチ
ルスルホニルエトキシカルボニル等]、モノまたはジ(
低級)アルキルアミノ(低級)アルキルスルフィニル(
低級)アルフキジカルボニル[例えばジメチルアミノメ
チルスルフィニルエトキシカルボニル ニルエトキシカルボニル (低級)アルフキジカルボニル[例えばフェニルチオメ
トキシカルボニル シカルボニル、フェニルチオプロポキシカルボニル等]
、アリールスルホニル(低級)アルコキシカルボニル[
例えばフェニルスルホニルメトキシカルボニル ル等コ、アリールスルフィニル(低級)アルコキシカル
ボニル[例えばフェニルスルフィニルメトキシカルボニ
ル、フェニルスルフィニルエトキシカルボニル、フェニ
ルスルフィニルプロポキシカルボニル等]、モノまたは
ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルケニルオキシカ
ルボニル[例えばジメチルアミノビニルオキシカルボニ
ル、ジメチルアミノプロペニルオキシカルボニル、ジメ
チルアミノブテニルオキジカルボニル、ジメチルアミノ
ペンテニルオキシカルボニル、ジエチルアミンブテニル
オキシカルボニル、ジエチルアミノペンテニルオキシカ
ルボニル、N−メチル−N−エチルアミノブテニルオキ
シ力ルポニル等コ、モノまたはジ(低級)アルキルアミ
ノ(低級)アルキニルオキシカルボニル[例えばジメチ
ルアミノエチニルオキシカルボニル、ジメチルアミノプ
ロピニルオキシカルボニル、ジメチルアミンブテニルオ
キシカルボニル、ジメチルアミノペンチニルオキシカル
ボニル、ジエチルアミノブチニルオキシ力ルポ二)呟ン
エチルアミノペンチニルオキシ力ルボニル、N−メチル
−N−エチルアミノブテニルオキシカルボニル等コ、複
素環置換(低級)アルキニルオキシカルボニル、より好
ましくはN−含有またはN−および〇ー含有5〜6員複
素環置換(低級)アルキニルオキシカルボニル[イ列え
ばピペリジノブチニルオキシカルボニル、ピペリジノペ
ンチニルオキシ力ルポ二)呟 ピペラジニルブチニルオ
キシカルボニル、ピペラジニルペンチニルオキシカルボ
ニル、モルホリノブチニルオキシカルボニル、モルホリ
ノペンチニルオキシカルボニル等]で該複素環基は例え
ばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキルのような
置換基で置換きれていてもよい、低級アルコキシ(低級
)アルコキシカルボニル[例えばメトキシメトキシカル
ボニル ル、メトキシプロポキシカルボニル、メトキシエトキシ
カルボニル等]、複素環およびヒドロキシ置換(低級)
アルコキシカルボニル、より好ましくはN−含有または
N−および〇ー含有5〜6員複素環およびヒドロキシ置
換(低級)アルコキシカルボニル[例えばピペリジノ(
ヒドロキシ)エトキシカルボニル、ピペリジノ(ヒドロ
キシ)プロポキシカルボニル、ピペラジニル(ヒドロキ
シ)エトキシカルボニル、ピペラジニル(ヒドロキシ)
プロポキシカルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)エト
キシカルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)プロポキシ
カルボニル、モルホリノ(ヒドロキシ)ブトキシカルボ
ニル等コで該複素環基は例えばメチル、エチル、プロピ
ル等の低級アルキルのような置換基で置換されていても
よい、複素環置換オキシカルボニル、より好ましくはN
−含有またはN−および〇ー含有5〜6員複素環置換オ
キシカルボニル[例えばピペリジルオキシカルボニル、
ピペラジニルオキシカルボニル、モルホリニルオキシカ
ルボニル、ピロリジニルオキシカルボニル等]で該複素
環基は例えばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキ
ルのような置換基で置換きれていてもよい、等が挙げら
れる。
好適な「ハロゲン」としては、ふっ素、塩素、臭素およ
び沃素が挙げられる。
び沃素が挙げられる。
好適な1低級アルキル基」としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、第三級
ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直鎖または分枝
鎖アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい
ものとしてはC1〜C4アルキル基が挙げられ、最も好
ましいものはメチル基である。
プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、第三級
ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直鎖または分枝
鎖アルキル基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい
ものとしてはC1〜C4アルキル基が挙げられ、最も好
ましいものはメチル基である。
好適な′低級アルコキシ基」としては、メトキシ、ニド
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ等のような直鎖または分枝鎖アルコキシ基が挙げら
れ、それらの中できらに好ましいものとしては01〜C
4アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものはメトキ
シ基である。
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ等のような直鎖または分枝鎖アルコキシ基が挙げら
れ、それらの中できらに好ましいものとしては01〜C
4アルコキシ基が挙げられ、最も好ましいものはメトキ
シ基である。
好適な1ハロ(低級)アルキル基」としては、クロロメ
チル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメ
チル、クロロエチル、ジクロロエチル等が挙げられる。
チル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメ
チル、クロロエチル、ジクロロエチル等が挙げられる。
好適な1アル(低級)アルコキシ基」としては、ベンジ
ルオキシ、フェネチルオキシ、ベンズヒドリルオキシ等
が挙げられる。
ルオキシ、フェネチルオキシ、ベンズヒドリルオキシ等
が挙げられる。
好適な「保護されたヒドロキシ基」としては、置換(低
級)アルコキシ[例えば、低級アルコキシ(低級)アル
コキシ(例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ
等)、低級アルコキシ(低級)アルコキシ(低級)アル
コキシ(例えば、メトキシエトキシメトキシ等)、置換
または非置換アル(低級)アルコキシ(例えば、ベンジ
ルオキシ、ニトロベンジルオキシ等)等]、アシルオキ
シ[例えば、低級アルカノイルオキシ(例えば、ホルミ
ルオキジ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ等)、
置換スルホニルオキシ(例えば、メシルオキシ、トシル
オキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等)、置換または非
置換アル(低級)アルフキジカルボニルオキシ(例えば
、ベンジルオキシカルボニルオキシ、ブロモベンジルオ
キシカルボニルオキシ等)等]、トリ(低級)アルキル
シリルオキシ[例えば、トリメチルシリルオキシ等コな
どが挙げられる。
級)アルコキシ[例えば、低級アルコキシ(低級)アル
コキシ(例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ
等)、低級アルコキシ(低級)アルコキシ(低級)アル
コキシ(例えば、メトキシエトキシメトキシ等)、置換
または非置換アル(低級)アルコキシ(例えば、ベンジ
ルオキシ、ニトロベンジルオキシ等)等]、アシルオキ
シ[例えば、低級アルカノイルオキシ(例えば、ホルミ
ルオキジ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ等)、
置換スルホニルオキシ(例えば、メシルオキシ、トシル
オキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等)、置換または非
置換アル(低級)アルフキジカルボニルオキシ(例えば
、ベンジルオキシカルボニルオキシ、ブロモベンジルオ
キシカルボニルオキシ等)等]、トリ(低級)アルキル
シリルオキシ[例えば、トリメチルシリルオキシ等コな
どが挙げられる。
好適な「ヒドロキシ保護基」としては、置換(低級)ア
ルキル[例えば、低級アルコキシ(低級)アルキル(例
えば、メトキシメチル、メトキシエチル等)、低級アル
コキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキル(例えば、
メトキシエトキシメチル等)、置換または非置換アル(
低級)アルキル(例えば、ベンジル、ニトロベンジル等
)等コ、アシル[例えば、低級アルカノイル(例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル等)、置換スルホニ
ル(例えば、メシル、トシル、ベンゼンスルホニル等)
、置換または非置換アル(低級)アルフキジカルボニル
(例えば、ベンジルオキシカルボニル、プロモベンジル
才キシ力ルポニル等)等コ、トリ(低級)アルキルシリ
ル[例えば、トリメチルシリル等]などが挙げられる。
ルキル[例えば、低級アルコキシ(低級)アルキル(例
えば、メトキシメチル、メトキシエチル等)、低級アル
コキシ(低級)アルコキシ(低級)アルキル(例えば、
メトキシエトキシメチル等)、置換または非置換アル(
低級)アルキル(例えば、ベンジル、ニトロベンジル等
)等コ、アシル[例えば、低級アルカノイル(例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル等)、置換スルホニ
ル(例えば、メシル、トシル、ベンゼンスルホニル等)
、置換または非置換アル(低級)アルフキジカルボニル
(例えば、ベンジルオキシカルボニル、プロモベンジル
才キシ力ルポニル等)等コ、トリ(低級)アルキルシリ
ル[例えば、トリメチルシリル等]などが挙げられる。
好適なrアル(低級)アルキル」としては、ベンジル、
フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチ
ル等が挙げられる。
フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチ
ル等が挙げられる。
R6、R7および隣接する窒素原子によって形成きれる
好適なr複素環基」としては、モルホリノ、ピペリジノ
、ピペラジン−1−イル等が挙げられ、該複素環基は例
えばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキル、例え
ばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプ
ロピル等のヒドロキシ(低級)アルキル、例えば、メト
キシフェニル等の置換フェニル、例えばピペリジノ等の
複素環基のような置換基で置換されていてもよい。
好適なr複素環基」としては、モルホリノ、ピペリジノ
、ピペラジン−1−イル等が挙げられ、該複素環基は例
えばメチル、エチル、プロピル等の低級アルキル、例え
ばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプ
ロピル等のヒドロキシ(低級)アルキル、例えば、メト
キシフェニル等の置換フェニル、例えばピペリジノ等の
複素環基のような置換基で置換されていてもよい。
好適な1低級アルキレン基」としては、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、エチルエチレン
、プロピレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直
鎖または分枝鎖アルキレンル基が挙げられる。
レン、トリメチレン、テトラメチレン、エチルエチレン
、プロピレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直
鎖または分枝鎖アルキレンル基が挙げられる。
好適な1脱離基」としてはハロゲン[例えば、塩素、臭
素、ふっ素、沃素等]、スルホニルオキシ[メシルオキ
シ、トシルオキシ、フェニルスルホニルオキシ等コなど
の#残基が挙げられる。
素、ふっ素、沃素等]、スルホニルオキシ[メシルオキ
シ、トシルオキシ、フェニルスルホニルオキシ等コなど
の#残基が挙げられる。
目的化合物[I]の好適な医薬として許容される塩類は
常用の無毒性塩類であり、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネ
シウム塩等のアルカリ土類金属塩またはアンモニウム塩
のような無機塩基塩;例えばトリメチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機アミン塩のような有機塩基塩、例えばギ
酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩部の有機酸付加塩、例えば塩酸塩
、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例
えばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
常用の無毒性塩類であり、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネ
シウム塩等のアルカリ土類金属塩またはアンモニウム塩
のような無機塩基塩;例えばトリメチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機アミン塩のような有機塩基塩、例えばギ
酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩部の有機酸付加塩、例えば塩酸塩
、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例
えばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
この点に関して付言すれば、化合物[Ia]〜[1h]
は化合物[I]の範囲内に含まれ、従ってこれらの化合
物[Ial〜[!h]の好適な塩類については上記目的
化合物[I]で例示したような塩類を参照すればよい。
は化合物[I]の範囲内に含まれ、従ってこれらの化合
物[Ial〜[!h]の好適な塩類については上記目的
化合物[I]で例示したような塩類を参照すればよい。
この発明の目的化合物[1の製造法を以下詳細に説明す
る。
る。
製造法1
目的化合物[1a]またはその塩は、化合物[1[]ま
たはその塩を酸化することにより製造することができる
。
たはその塩を酸化することにより製造することができる
。
化合物[nlの好適な塩としては、化合物[1]につい
て例示したものと同じ塩が挙げられる。
て例示したものと同じ塩が挙げられる。
この酸化反応はシクロヘキセン環またはシクロヘキサジ
エン環のベンゼン環への酸化に利用される常法、例えば
、二酸化マンガン、四節酸鉛、酢酸水銀、ハロゲン[沃
素、臭素等コ、酸素、過酸化水素、過酸化ニッケル、イ
オウ、2.3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−
ベンゾキノン、過マンガン酸カリウム等のような酸化剤
を使用する方法によって行われる。
エン環のベンゼン環への酸化に利用される常法、例えば
、二酸化マンガン、四節酸鉛、酢酸水銀、ハロゲン[沃
素、臭素等コ、酸素、過酸化水素、過酸化ニッケル、イ
オウ、2.3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−
ベンゾキノン、過マンガン酸カリウム等のような酸化剤
を使用する方法によって行われる。
反応は、通常、クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼン
、トルエン、とリジン、酢酸エチル、アセトン、その他
この反応に悪影響を及ぼさない慣用の有機溶媒の存在下
に行うことができる。
、トルエン、とリジン、酢酸エチル、アセトン、その他
この反応に悪影響を及ぼさない慣用の有機溶媒の存在下
に行うことができる。
反応温度は特に限定されることなく室温、加温下ないし
加熱下で行う。
加熱下で行う。
化合物[1[]は次式で示すような互変異性体として存
在する。
在する。
[B]
[式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ前と同
じ意味] これらすべての互変異性体は、この出願の範囲に包含さ
れるが、この明細書中では便宜上それらの異性体は、す
べて式[C]で表わすこととする。
じ意味] これらすべての互変異性体は、この出願の範囲に包含さ
れるが、この明細書中では便宜上それらの異性体は、す
べて式[C]で表わすこととする。
製造法2
目的化合物[Ib]またはその塩は、化合物[1a]ま
たはその塩と化合物CII[]とを反応きせることによ
り製造することができる。
たはその塩と化合物CII[]とを反応きせることによ
り製造することができる。
この反応は、アルカリ金属水素化物[例えば、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等コ、アルカリ土類金属水素
化物[例えば、水素化カルシウム、水素化マグネシウム
等]、アルカリ金属水酸化物[例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等]、アルカリ金属次酸塩[例えば
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等]、アルカリ金属炭
酸水素塩[例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム等]、アルカリ金属アルフキシト[例えば、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−
ブトキシド等]等の塩基の存在下に行うことが好ましい
。
トリウム、水素化カリウム等コ、アルカリ土類金属水素
化物[例えば、水素化カルシウム、水素化マグネシウム
等]、アルカリ金属水酸化物[例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等]、アルカリ金属次酸塩[例えば
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等]、アルカリ金属炭
酸水素塩[例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム等]、アルカリ金属アルフキシト[例えば、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−
ブトキシド等]等の塩基の存在下に行うことが好ましい
。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、N、N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのよう
な慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の
有機溶媒中で行われる。これらの溶媒は、使用される出
発化合物[Ia]、化合物[m]および塩基の種類に応
じて適宜選択することができる。化合物[1[[]が液
体の場合は、それを溶媒として用いることもできる。
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、N、N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのよう
な慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の
有機溶媒中で行われる。これらの溶媒は、使用される出
発化合物[Ia]、化合物[m]および塩基の種類に応
じて適宜選択することができる。化合物[1[[]が液
体の場合は、それを溶媒として用いることもできる。
反応温度は特に限定されず、反応は冷却ないし加熱下に
行われる。
行われる。
1盟豊ユ
目的化合物[Ia]またはその塩は、化合物[I b]
またはその塩をヒトミキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。
またはその塩をヒトミキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。
この反応は加水分解、還元等のような常法によって行わ
れる。
れる。
加水分解は塩基またはルイス酸を含めた酸の存在下に行
うのが好ましい。
うのが好ましい。
好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン等のような無機塩基お
よび有機塩基が挙げられる。
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン等のような無機塩基お
よび有機塩基が挙げられる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等の
無機酸が挙げられる。
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等の
無機酸が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリへ口
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、それらの混合物中で行わ
れるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他
のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。液状の
塩基または酸も溶媒として使用することができる。
ルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、それらの混合物中で行わ
れるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他
のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。液状の
塩基または酸も溶媒として使用することができる。
反応温度は特に限定きれず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
反応が行われる。
脱離反応に適用きれうる還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる。
よび接触還元が挙げられる。
化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有wi酸または無機酸との組合わせである
。
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有wi酸または無機酸との組合わせである
。
接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金黒等の白金触媒、例えばパラジウム黒、パラジウム−
炭素等のパラジウム触媒のような慣用の触媒である。
金黒等の白金触媒、例えばパラジウム黒、パラジウム−
炭素等のパラジウム触媒のような慣用の触媒である。
還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中
で行われる。さらに化学的還元に使用する前記酸が液状
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。さらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒と
しては、前記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の慣用の溶媒、またはそれら
の混合物が挙げられる。
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒中、またはそれらの混合物中
で行われる。さらに化学的還元に使用する前記酸が液状
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。さらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒と
しては、前記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等の慣用の溶媒、またはそれら
の混合物が挙げられる。
この反応の反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し加熱下に反応が行われる。
し加熱下に反応が行われる。
製造法4
目的化合物[Id]またはその塩は、化合物[1c]ま
たはその塩を脱エステル反応に付すことにより製造する
ことができる。
たはその塩を脱エステル反応に付すことにより製造する
ことができる。
脱エステル反応は、いわゆるエステル結合を開裂してカ
ルボキシ官能基に変えるために通常適用されるそれ自体
慣用の方法によって行われ、例えば、アルカリ金属水酸
化物、炭酸塩または炭酸水素塩[水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム等]のような塩基を用いる塩基加水分解ま
たは塩酸、硫酸等の無機酸もしくは蟻酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸もしく
は酸性イオン交換樹脂を用いる酸性条件での加水分解で
行うことができる。
ルボキシ官能基に変えるために通常適用されるそれ自体
慣用の方法によって行われ、例えば、アルカリ金属水酸
化物、炭酸塩または炭酸水素塩[水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム等]のような塩基を用いる塩基加水分解ま
たは塩酸、硫酸等の無機酸もしくは蟻酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸もしく
は酸性イオン交換樹脂を用いる酸性条件での加水分解で
行うことができる。
この反応は、水、アセトン、メタノール、エタノール等
のアルコール、N、N−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフランまたはこれらの混合物等の慣用の溶媒中で
行うことができる。
のアルコール、N、N−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフランまたはこれらの混合物等の慣用の溶媒中で
行うことができる。
反応温度は特に限定されず、室温、加温下ないし加熱下
に反応を行うことができる。
に反応を行うことができる。
製造法5
目的化合物[Ic]またはその塩は、化合物[I d]
もしくはそのカルボキシ基における反応性誘導体または
それらの塩をエステル化反応に付すことにより製造する
ことができる。
もしくはそのカルボキシ基における反応性誘導体または
それらの塩をエステル化反応に付すことにより製造する
ことができる。
このエステル化反応は化合物[1dlもしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体またはそれらの塩を、導
入するアルコールと反応させることにより行なわれる。
ボキシ基における反応性誘導体またはそれらの塩を、導
入するアルコールと反応させることにより行なわれる。
上記のカルボキシ基における反応性誘導体の好適な例と
しては、酸塩化物、酸臭化物などの酸ハロゲン化物、酸
無水物、活性化アミド、エステル等が挙げられる。
しては、酸塩化物、酸臭化物などの酸ハロゲン化物、酸
無水物、活性化アミド、エステル等が挙げられる。
この反応は、通常、塩化メチレン、クロロホルム、メタ
ノール、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トル
エン、ピリジン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチ
ル、N、N−ジメチルホルムアミド、その他この反応に
悪影響を及ぼさない慣用の有機溶媒中で行われる。導入
するアルコールが液体の場合は、これを溶媒としても用
いることができる。化合物[Id]を遊離酸または塩の
形で用いる場合は、N、N’ −ジシクロへキシルカル
ボジイミド、塩化ホスホリル、ビルスマイヤー試薬等の
ような慣用の縮合剤を用いて反応を行うことが好ましい
。
ノール、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トル
エン、ピリジン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチ
ル、N、N−ジメチルホルムアミド、その他この反応に
悪影響を及ぼさない慣用の有機溶媒中で行われる。導入
するアルコールが液体の場合は、これを溶媒としても用
いることができる。化合物[Id]を遊離酸または塩の
形で用いる場合は、N、N’ −ジシクロへキシルカル
ボジイミド、塩化ホスホリル、ビルスマイヤー試薬等の
ような慣用の縮合剤を用いて反応を行うことが好ましい
。
反応温度は特に限定されることなく冷却下、室温ないし
加熱下で行うことができる。
加熱下で行うことができる。
反応は、通常、塩基などの促進剤の存在下あるいは不存
在下で行うことができる。
在下で行うことができる。
製造法6
目的化合物[If]またはその塩は化合物[I e]ま
たはその塩を化合物[IV]またはその塩と反応させる
ことにより製造することができる。
たはその塩を化合物[IV]またはその塩と反応させる
ことにより製造することができる。
化合物[IV]の好適な塩類の例としては、化合物[I
]について例示したものと同じ酸付加塩を挙げることが
できる。
]について例示したものと同じ酸付加塩を挙げることが
できる。
この反応は、通常、水、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール等のアルコール、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、塩化
メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、その他
この反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒またはこれら
の混合物中で行うことができる。
プロピルアルコール等のアルコール、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、塩化
メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、その他
この反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒またはこれら
の混合物中で行うことができる。
反応温度は特に限定きれることはなく室温、加温下ない
し加熱下で行うことができる。
し加熱下で行うことができる。
この反応は、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属水素化物、水素化カルシウム、水素化
マグネシウム等のアルカリ土類金属水素化物、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩
または炭酸水素塩等のような無機塩基、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン等の第
三級アミン類のような有機塩基の存在下に反応を行うこ
ともできる。
等のアルカリ金属水素化物、水素化カルシウム、水素化
マグネシウム等のアルカリ土類金属水素化物、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩
または炭酸水素塩等のような無機塩基、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン等の第
三級アミン類のような有機塩基の存在下に反応を行うこ
ともできる。
この反応はまた、沃化ナトリウム、沃化カリウム等のア
ルカリ金属ハロゲン化物の存在下に行うこともできる。
ルカリ金属ハロゲン化物の存在下に行うこともできる。
1産迭ユ
目的化合物[!h]またはその塩は、化合物[I g]
またはその塩をエステル交換反応に付すことにより製造
することができる。
またはその塩をエステル交換反応に付すことにより製造
することができる。
この反応は、化合物[1g]またはその塩と、R1と異
なったエステル部分を導入するためのアルコールとを反
応させることにより行なわれる。
なったエステル部分を導入するためのアルコールとを反
応させることにより行なわれる。
この反応は、例えばメタンスルホン酸、塩化水素、p−
トルエンスルホン酸、硫酸、ナトリウムアルフキシト、
1.8−ジアザビシクロ[5,40コウンデ力−7−エ
ン、トリエチルアミン等の酸または塩基の存在下で行わ
れる。
トルエンスルホン酸、硫酸、ナトリウムアルフキシト、
1.8−ジアザビシクロ[5,40コウンデ力−7−エ
ン、トリエチルアミン等の酸または塩基の存在下で行わ
れる。
この反応は通常、トルエン、ベンゼン他反応に悪影響を
及ぼさない溶媒中で行なわれ、上記のアルコールもまた
溶媒として使用できる。
及ぼさない溶媒中で行なわれ、上記のアルコールもまた
溶媒として使用できる。
反応温度は限定きれず、この反応は、室温または加温下
または加熱下に行なわれることが好ましい。
または加熱下に行なわれることが好ましい。
出発物質のうち、化合物[I[]は新規であり、以下の
反応式で示される製造法により合成することができる。
反応式で示される製造法により合成することができる。
鼠mmA
またはその塩
[式中、R8はイミノ含有複素環−N−イル基を意味し
、R、R、RおよびR4はそれぞれ前と同じ意味である
コ 好適な「イミノ含有複素環−N−イル基、としては、シ
クロへキサジエン環の炭素原子と結合するイミノ基を含
有する複素環基が挙げられ、より好ましくは、モルホリ
ノ、ピペリジノ等の飽和5〜6負イミノ含有複素環−N
−イル基が例示される。
、R、R、RおよびR4はそれぞれ前と同じ意味である
コ 好適な「イミノ含有複素環−N−イル基、としては、シ
クロへキサジエン環の炭素原子と結合するイミノ基を含
有する複素環基が挙げられ、より好ましくは、モルホリ
ノ、ピペリジノ等の飽和5〜6負イミノ含有複素環−N
−イル基が例示される。
化合物[1コの製造法を以下詳細に説明する。
製造法A
工程1:
化合物[■]またはその塩は、化合物[V]を化合物[
VI]またはその塩と反応させることにより製造するこ
とができる。
VI]またはその塩と反応させることにより製造するこ
とができる。
化合物[V]、[VI]および[■]の好適な塩類の例
としては、化合物[I]について例示したものと同じ塩
類が挙げられる。
としては、化合物[I]について例示したものと同じ塩
類が挙げられる。
この反応は、室温、加温下ないし加熱下で行われる1反
応は通常、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、
シクロヘキサン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチ
レン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、アセトニトリル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、例えばメタノール、エタノール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メタノ
ール等のアルコールの他、反応に悪影響を与えないあら
ゆる溶媒中で行うことができる。
応は通常、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、
シクロヘキサン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチ
レン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、アセトニトリル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、例えばメタノール、エタノール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メタノ
ール等のアルコールの他、反応に悪影響を与えないあら
ゆる溶媒中で行うことができる。
この反応は、好ましくは、共沸状態のような脱水条件下
で行なわれる。
で行なわれる。
更にこの反応は、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、塩化水素、臭化水素等の酸触媒の存在下で行うのが
好ましい。
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、塩化水素、臭化水素等の酸触媒の存在下で行うのが
好ましい。
この製造法の反応形態について、R1およびR3がそれ
ぞれ同一のカルボキシ基またはエステル化されたカルボ
キシ基であってR4がメチル基である化合物[■]を製
造する場合は以下の式で示す方法によっても合成するこ
とができ、これらの方法もこの工程の範囲に包含される
。
ぞれ同一のカルボキシ基またはエステル化されたカルボ
キシ基であってR4がメチル基である化合物[■]を製
造する場合は以下の式で示す方法によっても合成するこ
とができ、これらの方法もこの工程の範囲に包含される
。
[■] またはその塩 またはその塩[式中、R
、RおよびR8はそれぞれ前と同じ意味コ この製造法は、上述のこの工程1と実質的に同様にして
行うことができる。
、RおよびR8はそれぞれ前と同じ意味コ この製造法は、上述のこの工程1と実質的に同様にして
行うことができる。
工程2:
化合物[1[]またはその塩は、化合物[■]またはそ
の塩を力a水分解することにより製造することができる
。
の塩を力a水分解することにより製造することができる
。
この反応は通常、水、アルコール、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、アセトニトリル、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド他、反応に悪影響を与
えない溶媒中で行なわれる。
、ジオキサン、アセトニトリル、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド他、反応に悪影響を与
えない溶媒中で行なわれる。
この反応は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、メタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等
の酸または塩基触媒の存在下で行うのが好ましい。
酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等
の酸または塩基触媒の存在下で行うのが好ましい。
反応温度は限定されず、通常は冷却下ないし加熱下で反
応が行なわれる。
応が行なわれる。
上記の製造法により得られる化合物は、常法、例えば適
切な溶媒を用いての抽出、カラムクロマトグラフィー、
再析出、再結晶等の方法により反応混合物から分離し、
精製することができる。
切な溶媒を用いての抽出、カラムクロマトグラフィー、
再析出、再結晶等の方法により反応混合物から分離し、
精製することができる。
目的化合物[I]および出発化合物のそれぞれは不斉炭
l/:原子および/または炭素−R素二重結合にもとづ
く一つ以上の立体異性体を含むことがあるが、それらの
すべての異性体およびそれらの混合物はこの発明の範囲
に含まれる。
l/:原子および/または炭素−R素二重結合にもとづ
く一つ以上の立体異性体を含むことがあるが、それらの
すべての異性体およびそれらの混合物はこの発明の範囲
に含まれる。
治療のためにこの発明の化合物[11および医薬として
許容されるその塩類は、経口投与、非経口投与、外用投
与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤
のような医薬として許容される担体と混合して、前記化
合物の一種を有効成分として含有する医薬製剤の形で使
用することができる。
許容されるその塩類は、経口投与、非経口投与、外用投
与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤
のような医薬として許容される担体と混合して、前記化
合物の一種を有効成分として含有する医薬製剤の形で使
用することができる。
医薬製剤はカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、懸濁
液、エマルジョン等とすればよい、所望に応じて、これ
らの製剤に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液
およびその他の通常使用される添加剤が含まれていても
よい。
液、エマルジョン等とすればよい、所望に応じて、これ
らの製剤に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液
およびその他の通常使用される添加剤が含まれていても
よい。
化合物[I]の投与量は患者の年齢および状態によって
変化するが、化合物[I]は平均1回投与量約0゜1m
gb 1 ff1g、 10mg、 50mg、 10
0mg、 250mg、 500mg、1000mgで
疾患の治療に有効である。
変化するが、化合物[I]は平均1回投与量約0゜1m
gb 1 ff1g、 10mg、 50mg、 10
0mg、 250mg、 500mg、1000mgで
疾患の治療に有効である。
一般的には、1日当りO,1mg/個体〜約11000
1T1/個体の間の量を投与すればよい。
1T1/個体の間の量を投与すればよい。
[発明の効果]
目的化合物[I]の有用性を示すために、化合物[I]
の代表的化合物数種の薬理試験結果を以下に示す。
の代表的化合物数種の薬理試験結果を以下に示す。
K麺
)試験法
体重的600gの雄モルモットを放血により層殺し、膀
胱の排尿筋のストリップ(約20mmX 5 mm )
を切除し、酸素95%と二酸化炭素5%とのガス混合物
で飽和したタレブス溶液中に初期張力り、Ogで懸垂し
た。浴液温を37”Cに維持した。
胱の排尿筋のストリップ(約20mmX 5 mm )
を切除し、酸素95%と二酸化炭素5%とのガス混合物
で飽和したタレブス溶液中に初期張力り、Ogで懸垂し
た。浴液温を37”Cに維持した。
組織片を約5mm離れて取り巻いた一対の白金電極によ
り排尿筋を電気的に刺激した(電場刺激)、刺激は持続
時間0.5ないし2ミリ秒、周波数10ないし20Hz
の矩型波であり、5分間隔で5秒間適用した。排尿筋の
機械的応答を圧トランスデユーサ−によりポリグラフに
記録した。
り排尿筋を電気的に刺激した(電場刺激)、刺激は持続
時間0.5ないし2ミリ秒、周波数10ないし20Hz
の矩型波であり、5分間隔で5秒間適用した。排尿筋の
機械的応答を圧トランスデユーサ−によりポリグラフに
記録した。
排尿筋の電気刺激に対する応答が安定した時点で試験薬
物を浴液中に加え、試験薬物投与後の排尿筋応答の振幅
を投与前期間のそれと比較した。
物を浴液中に加え、試験薬物投与後の排尿筋応答の振幅
を投与前期間のそれと比較した。
試験は試験薬物の各濃度について幾つかの別の試験試料
について実施し、工C5o値を濃度−活性関係曲線から
計算した。
について実施し、工C5o値を濃度−活性関係曲線から
計算した。
i)試験化合物
(a)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (b)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒトo キ
シ−5−1チル−2′−二トロヒフェニルー2.6−ジ
カルポキシレート (c)2−(2−ジメチルアミンエチル) 6−フェネ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (d)2−(2−ジ、エチルアミノエチル) 6−シク
ロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二ト
ロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (e)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチル] 3−ヒドロキシ5−メチル−2′
−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩
酸塩 (f)2−メチル 6−[2−(N−ベンジル−N−メ
チルアミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニルー2.6−ジカルボキシレート
・塩酸塩 i)試験結果 以上の試験結果から明らかなように、目的化合物[I]
およびその塩類は筋収縮抑制作用を有し、例えば頻尿症
の治療に有用である。
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (b)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒトo キ
シ−5−1チル−2′−二トロヒフェニルー2.6−ジ
カルポキシレート (c)2−(2−ジメチルアミンエチル) 6−フェネ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (d)2−(2−ジ、エチルアミノエチル) 6−シク
ロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二ト
ロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 (e)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチル] 3−ヒドロキシ5−メチル−2′
−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩
酸塩 (f)2−メチル 6−[2−(N−ベンジル−N−メ
チルアミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニルー2.6−ジカルボキシレート
・塩酸塩 i)試験結果 以上の試験結果から明らかなように、目的化合物[I]
およびその塩類は筋収縮抑制作用を有し、例えば頻尿症
の治療に有用である。
原料化合物[1[]中、それらのある種のものもまた筋
収縮抑制作用を有する。
収縮抑制作用を有する。
[実施例]
以下、製造例および実施例により、この発明を更に詳細
に説明する。
に説明する。
11■ユ
アセト酢酸イソプロピル(28,83g ) 、モルホ
ノン(17,42g )および酢酸(0,75g)のシ
クロヘキサン(60m1! )中混合物を水を除去しな
がら1.5時間還流する。溶媒を留去し、残渣を減圧蒸
留して、3−モルホリノクロトン酸イソプロピル(35
,82g )の黄色油状物を得る。
ノン(17,42g )および酢酸(0,75g)のシ
クロヘキサン(60m1! )中混合物を水を除去しな
がら1.5時間還流する。溶媒を留去し、残渣を減圧蒸
留して、3−モルホリノクロトン酸イソプロピル(35
,82g )の黄色油状物を得る。
沸点: 110〜112℃10.15mmHg1盪亘遣
アセト酢酸メチル(23,22g ) 、ピペリジン(
17,03g )およびp−トルエンスルホン酸−水和
物(0,38g)のベンゼン(50mQ )中混合物を
水を除去しながら5時間還流する。溶媒を留去し、残渣
を減圧蒸留して、3−ピペリジノクロトン酸メチル(2
6,33g)の黄色油状物を得る。
17,03g )およびp−トルエンスルホン酸−水和
物(0,38g)のベンゼン(50mQ )中混合物を
水を除去しながら5時間還流する。溶媒を留去し、残渣
を減圧蒸留して、3−ピペリジノクロトン酸メチル(2
6,33g)の黄色油状物を得る。
沸点: 111〜114°C/ 0.10mmHg製J
11互 2−ニトロベンズアルデヒド(1,51g)、アセト酢
酸2−シアノエチル(1,55g)、モルホリン(0,
23m1l )および酢酸(0,15ffiffi >
のベンゼン(5mIl)中混合物を、ディーツ・スター
ク装置により水を連続的に除去しながら1時間還流し、
冷却する。混合物を酢酸エチルで希釈して水および食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下
に留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエンと酢酸エチルとの混液で溶出、精製
して、2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸2−シアノエチルのEおよびZ異性体混合
物(2,43g)を得る。
11互 2−ニトロベンズアルデヒド(1,51g)、アセト酢
酸2−シアノエチル(1,55g)、モルホリン(0,
23m1l )および酢酸(0,15ffiffi >
のベンゼン(5mIl)中混合物を、ディーツ・スター
ク装置により水を連続的に除去しながら1時間還流し、
冷却する。混合物を酢酸エチルで希釈して水および食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下
に留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエンと酢酸エチルとの混液で溶出、精製
して、2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸2−シアノエチルのEおよびZ異性体混合
物(2,43g)を得る。
IR(neat) = 2250 am″″11産■1
製造例3と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸2−クロロエチル。
−プロペン酸2−クロロエチル。
NMR(CDC13,8) ’ 2−23 (3H,s
)、 3−80 (2H1t。
)、 3−80 (2H1t。
J=6Hz>、 4.56 (2H,t、J=6Hz)
、 7.2−8.36(5H,m)、 2.50 (
3H,s)、 3.46 (2H,t、J=6Hz>
。
、 7.2−8.36(5H,m)、 2.50 (
3H,s)、 3.46 (2H,t、J=6Hz>
。
4.30 (2H,t、J=6)1z)、 7.2−
8.36 (5H,n+)(2)2−アセチル−3−(
2−ニトロフェニル)−2−プロペン酸フェネチル (3)2−アセチル−3−(2−フルオロフェニル)−
2−プロペン酸イソプロピル (4)2−アセチル−3−(2−ベンジルオキシフェニ
ル)−2−プロペン酸イソプロピル(5)2−アセチル
−3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペン酸エチル (6)2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸シクaペンチル (7)2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸ベンジル (8) 2−アセテルー3−フェニル−2−プロペン酸
イソプロピル (9)2−アセデル−3−(2−クロロフェニル)−2
−プロペン酸イソプロピル (10) 2−アセチル−3−く2−ニトロフェニル)
−2−プロペン厳第三級ブチル (11) 2−アセチル−3−(3−ニトロフェニル)
−2−プロペン酸イソプロピル (12) 2−アセチル−3−フェニル−2−プロペン
酸2−シアンエチル IR(naat) : 2250.1730.1700
.1660゜1620 am’ 朱m 2−アセチル−3−(2−二トロフェニル)−2−プロ
ペン酸2−シアンエチル(65,6g ) オよび3−
モルホリノ−2−ブテン酸メチル(42,2g)のベン
ゼン(200111Q )中混合物を、ディーツ・スタ
ーク装置により水を連続的に除去しながら30時間還流
し、冷却する。混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、トルエンと酢酸エチ
ルとの混液で溶出して精製する。目的化合物を含む画分
を合わせ、溶媒を減圧下に留去する。残渣をジエチルエ
ーテルで粉砕して得る粉末をインプロパツールとメタノ
ールとの混合物から再結晶して、1−メチル 3−(2
−シアンエチル) 4−メチル−6−モルホツノ−2−
(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート(50,04g )を橙
色粉末として得る。
8.36 (5H,n+)(2)2−アセチル−3−(
2−ニトロフェニル)−2−プロペン酸フェネチル (3)2−アセチル−3−(2−フルオロフェニル)−
2−プロペン酸イソプロピル (4)2−アセチル−3−(2−ベンジルオキシフェニ
ル)−2−プロペン酸イソプロピル(5)2−アセチル
−3−(2−ニトロフェニル)−2−プロペン酸エチル (6)2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸シクaペンチル (7)2−アセチル−3−(2−ニトロフェニル)−2
−プロペン酸ベンジル (8) 2−アセテルー3−フェニル−2−プロペン酸
イソプロピル (9)2−アセデル−3−(2−クロロフェニル)−2
−プロペン酸イソプロピル (10) 2−アセチル−3−く2−ニトロフェニル)
−2−プロペン厳第三級ブチル (11) 2−アセチル−3−(3−ニトロフェニル)
−2−プロペン酸イソプロピル (12) 2−アセチル−3−フェニル−2−プロペン
酸2−シアンエチル IR(naat) : 2250.1730.1700
.1660゜1620 am’ 朱m 2−アセチル−3−(2−二トロフェニル)−2−プロ
ペン酸2−シアンエチル(65,6g ) オよび3−
モルホリノ−2−ブテン酸メチル(42,2g)のベン
ゼン(200111Q )中混合物を、ディーツ・スタ
ーク装置により水を連続的に除去しながら30時間還流
し、冷却する。混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、トルエンと酢酸エチ
ルとの混液で溶出して精製する。目的化合物を含む画分
を合わせ、溶媒を減圧下に留去する。残渣をジエチルエ
ーテルで粉砕して得る粉末をインプロパツールとメタノ
ールとの混合物から再結晶して、1−メチル 3−(2
−シアンエチル) 4−メチル−6−モルホツノ−2−
(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート(50,04g )を橙
色粉末として得る。
融点i 119(20℃
聚泣遭1
2−ニトロベンズアルデヒド(15,11g ) 、ア
セト酢酸メチル(23,22g )、モルホリン(13
,07g)および酢酸(3,00g)のベンゼン(15
0m1l )溶液を15時間還流し、この間生成する水
を共沸により留去する。この混合物を常温に冷却し、2
回水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減
圧下に留去し、次いで残渣を酢酸エチルとジイソプロピ
ルエーテルとの混合物で粉砕し、生成する黄色粉末を濾
取して、ジメチル 4−メチル−6−モルホリノ−2−
(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート(r5.79g )を得
る。
セト酢酸メチル(23,22g )、モルホリン(13
,07g)および酢酸(3,00g)のベンゼン(15
0m1l )溶液を15時間還流し、この間生成する水
を共沸により留去する。この混合物を常温に冷却し、2
回水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減
圧下に留去し、次いで残渣を酢酸エチルとジイソプロピ
ルエーテルとの混合物で粉砕し、生成する黄色粉末を濾
取して、ジメチル 4−メチル−6−モルホリノ−2−
(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート(r5.79g )を得
る。
濾液を減圧濃縮して得る黒色油状生成物(25g)をシ
リカゲル(250g)カラムクロマトグラフィーに付し
、酢酸エチルとトルエンとの混液(1: 10、v/v
)で溶出して精製し、所望の化合物を含む画分を集めて
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルとジイソプロピルエー
テルとの混合物で粉砕して、同じ所望の生成物(4,0
2g)を得る。
リカゲル(250g)カラムクロマトグラフィーに付し
、酢酸エチルとトルエンとの混液(1: 10、v/v
)で溶出して精製し、所望の化合物を含む画分を集めて
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルとジイソプロピルエー
テルとの混合物で粉砕して、同じ所望の生成物(4,0
2g)を得る。
融点j 151−152℃
聚盗贋ユ
製造例5および6と同様にして以下の化合物を得る。
(1)1−エチル 3−(2−クロロエチル) 4−メ
チル−6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点:152.5−154℃ (2)1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−6
−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−
シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 133−134℃ (3)1−イソプロピル 3−メチル 4−メチル−6
−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−
シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 444 (M”)、 38
5(4)1−エチル 3−(2−メトキシエチル)4−
メチル−6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)
−3,5−シクロへキサジエン−1,3−カルボキシレ
ート 融点: 161−162℃ (5)1−メチル 3−[: 2−(N−ベンジル−N
−メテルアミノ)エチル] 4−メチル−6−モルホリ
ノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキ
サジエン−1,3−ジカルボキシレート IR(film> ’ 1730.1680.1530
.1360゜1230 am’ (6)ジメチル 4−メチル−2−(2−ニトロフェニ
ル)−6−ビペリジノー3.5−シクロヘキサジエン−
1,3−ジカルボキシレート融点i 164−165℃ (7) ジメチル 4−メチル−6−モルホリノ−2−
(3−ニトロフェニル)−3,5−シクロへキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート融点: 144.5−ロ
5℃ (8)ビス(2−ニコチンアミドエチル) 4−メチル
−6−モルホリノ−2−(3−ニトロフェニル)−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート IR(film) : 3300.1730.1655
.1525.1480゜1376 cm’ (9)1−メチル 3−フェネチル 2−(2−二トロ
フェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シ
クロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点i 150.5〜151℃ (10) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−フルオロフェニル)−4−メチル−6−モルホツノ−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) : 417 (M”)(11)
1−メチル 3−イソプロピル 2−(2−ベンジル
オキシフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=108〜110℃ (12) 1−メチル 3−エチル 2−(2−ニトロ
フェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シ
クロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:159〜161℃ (13) 1−メチル 3−シクロペンチル 2−(2
−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3
,5−シクロへキサンみソー1.3−ジカルボキシレー
ト 融点:168〜169℃ (14) 1−メチル 3−ベンジル 2−(2−二ト
ロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−
シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:165〜166℃ (15) 1−メチル 3−イソプロピル 2−フェニ
ル−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シクロへキ
サジエン−1,3−ジカルボキシレート融点:125℃ <16) 1−メチル 3−インプロピル 2−(2−
クロロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=117〜118℃ (17) 1−メチル 3−第三級ブチル 2−(2ニ
トロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5
−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:127〜130℃ (18) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(3
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:143〜146℃ (19) 1−メチル 3−(2−クロロエチル)2−
(2−シアノフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ
−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシ
レート 融点:175〜176℃ (20) 1−メチル 3−(2−クロロエチル)2−
(2−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチル−
6−モルホリノ−3,5−シクロへキサジエン−1,3
−ジカルボキシレート 融点:124〜127℃ (21) 1−メチル 3−(3−クロロプロピル)2
−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリ
ノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキ
シレート 融点:161〜167℃ (22)1−(2−シアノエチル) 3−シクロペンデ
ル 2−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モ
ルホリノ−3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカ
ルボキシレート チル) 2−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−
6−モルホリノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3
−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 509 (M )(24)
1−フェネチル 3−(2−シアノエチル) 2
−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリ
ノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキ
シレート Mass (m/e) : 545 (M”)(25)
1−メチル 3−(2−シアノエチ)し)2−フェ
ニル−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シクロへ
キサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=120〜122℃ <26) 1−メチル 3−シクロヘキシル 2−(2
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:148〜150℃ (23) 1−シクロペンチル 3−(2−シアノエ
(27) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−シアノフェニル)−4−メチル−6−モルホリ/ −
3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点:161〜164℃ (28) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(4
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:118〜122℃ (29) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(。
チル−6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点:152.5−154℃ (2)1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−6
−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−
シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 133−134℃ (3)1−イソプロピル 3−メチル 4−メチル−6
−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−
シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 444 (M”)、 38
5(4)1−エチル 3−(2−メトキシエチル)4−
メチル−6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)
−3,5−シクロへキサジエン−1,3−カルボキシレ
ート 融点: 161−162℃ (5)1−メチル 3−[: 2−(N−ベンジル−N
−メテルアミノ)エチル] 4−メチル−6−モルホリ
ノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロヘキ
サジエン−1,3−ジカルボキシレート IR(film> ’ 1730.1680.1530
.1360゜1230 am’ (6)ジメチル 4−メチル−2−(2−ニトロフェニ
ル)−6−ビペリジノー3.5−シクロヘキサジエン−
1,3−ジカルボキシレート融点i 164−165℃ (7) ジメチル 4−メチル−6−モルホリノ−2−
(3−ニトロフェニル)−3,5−シクロへキサジエン
−1,3−ジカルボキシレート融点: 144.5−ロ
5℃ (8)ビス(2−ニコチンアミドエチル) 4−メチル
−6−モルホリノ−2−(3−ニトロフェニル)−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート IR(film) : 3300.1730.1655
.1525.1480゜1376 cm’ (9)1−メチル 3−フェネチル 2−(2−二トロ
フェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シ
クロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点i 150.5〜151℃ (10) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−フルオロフェニル)−4−メチル−6−モルホツノ−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) : 417 (M”)(11)
1−メチル 3−イソプロピル 2−(2−ベンジル
オキシフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=108〜110℃ (12) 1−メチル 3−エチル 2−(2−ニトロ
フェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シ
クロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:159〜161℃ (13) 1−メチル 3−シクロペンチル 2−(2
−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3
,5−シクロへキサンみソー1.3−ジカルボキシレー
ト 融点:168〜169℃ (14) 1−メチル 3−ベンジル 2−(2−二ト
ロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−
シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:165〜166℃ (15) 1−メチル 3−イソプロピル 2−フェニ
ル−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シクロへキ
サジエン−1,3−ジカルボキシレート融点:125℃ <16) 1−メチル 3−インプロピル 2−(2−
クロロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=117〜118℃ (17) 1−メチル 3−第三級ブチル 2−(2ニ
トロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,5
−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:127〜130℃ (18) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(3
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:143〜146℃ (19) 1−メチル 3−(2−クロロエチル)2−
(2−シアノフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ
−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシ
レート 融点:175〜176℃ (20) 1−メチル 3−(2−クロロエチル)2−
(2−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチル−
6−モルホリノ−3,5−シクロへキサジエン−1,3
−ジカルボキシレート 融点:124〜127℃ (21) 1−メチル 3−(3−クロロプロピル)2
−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリ
ノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキ
シレート 融点:161〜167℃ (22)1−(2−シアノエチル) 3−シクロペンデ
ル 2−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モ
ルホリノ−3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカ
ルボキシレート チル) 2−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−
6−モルホリノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3
−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 509 (M )(24)
1−フェネチル 3−(2−シアノエチル) 2
−(2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリ
ノ−3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキ
シレート Mass (m/e) : 545 (M”)(25)
1−メチル 3−(2−シアノエチ)し)2−フェ
ニル−4−メチル−6−モルホリノ−3,5−シクロへ
キサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点=120〜122℃ <26) 1−メチル 3−シクロヘキシル 2−(2
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:148〜150℃ (23) 1−シクロペンチル 3−(2−シアノエ
(27) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−シアノフェニル)−4−メチル−6−モルホリ/ −
3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点:161〜164℃ (28) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(4
ニトロフエニル)−4−メチル−6−モルホリノ−3,
5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:118〜122℃ (29) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(。
−トリル)−4−メチル−6−モルホリノ−3゜5−シ
クロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:97〜99℃ (30) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−メトキシフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−
3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点: 122.5〜123.5℃ (31)1−(2−シアンエチル) 3−メチル2−(
2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 製造例8 1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−6−モル
ホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロ
ヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート(0,98
g)のテトラヒドロフラン(5mQ ) WI液にIN
塩酸(2,4211LQ )を滴下する。コノ混合物を
常温で3.5時間攪拌し、次いで減圧濃縮する。残渣を
酢酸エチルに溶解する。溶液を2回水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して黄色油
状生成物を得る。この生成物を酢酸エチルとジイソプロ
ピルエーテルとの混合物で粉砕し、濾取して粉末(0,
62g)を得る。このようにして得られる粉末(0,6
1g)を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルとの混合
物からの再結晶により精製して、1−メチル 3−イソ
プロピル 4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−
6−オキソ−3−シクロヘキセン−1゜3−ジカルボキ
シレート(0,52g)を結晶として得る。
クロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート 融点:97〜99℃ (30) 1−メチル 3−イソプロピル 2−(2
−メトキシフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−
3,5−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 融点: 122.5〜123.5℃ (31)1−(2−シアンエチル) 3−メチル2−(
2−ニトロフェニル)−4−メチル−6−モルホリノ−
3,5−シクロヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレ
ート 製造例8 1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−6−モル
ホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5−シクロ
ヘキサジエン−1,3−ジカルボキシレート(0,98
g)のテトラヒドロフラン(5mQ ) WI液にIN
塩酸(2,4211LQ )を滴下する。コノ混合物を
常温で3.5時間攪拌し、次いで減圧濃縮する。残渣を
酢酸エチルに溶解する。溶液を2回水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して黄色油
状生成物を得る。この生成物を酢酸エチルとジイソプロ
ピルエーテルとの混合物で粉砕し、濾取して粉末(0,
62g)を得る。このようにして得られる粉末(0,6
1g)を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルとの混合
物からの再結晶により精製して、1−メチル 3−イソ
プロピル 4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−
6−オキソ−3−シクロヘキセン−1゜3−ジカルボキ
シレート(0,52g)を結晶として得る。
融点: 127−130°C
製造例9
製造例8と同様にして以下の化合物を得る。
(1)ジメチル 4−メチル−2−(2−ニトロフェニ
ル)−6−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカ
ルボキシレート 融点: 131−134℃ (2)1−イソプロピル 3−メチル 6−ヒドロキシ
−4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−3,6−
シクロヘキサシエンー1.3−ジカルボキシレート 融点: too−tot℃ (3)3−(2−メトキシエチル) 1−メチル4−メ
チル−2−(2−ニトロフェニル)−6−オキソ−3−
シクロヘキセン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 79−81℃ (4>3−[2−(N−ベンジル−N−メゾルアミノ)
エチル] 1−メチル 6−ヒドロキシ−4−メチル−
2−(2−ニトロフェニル)−3゜5−シクロへキサジ
エン−1,3−ジカルボキシレートおよび3−[2−(
N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチル] 1−メチ
ル 6−ヒドロキシ−4−メチル−2−(2−ニトロフ
ェニル)=3.6−シクロヘキサシエンー1.3−ジカ
ルボキシレートの混合物 NMR(CDC13,8):弓:8茅)郡:(趙罎ムj
’j’、s)。
ル)−6−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカ
ルボキシレート 融点: 131−134℃ (2)1−イソプロピル 3−メチル 6−ヒドロキシ
−4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−3,6−
シクロヘキサシエンー1.3−ジカルボキシレート 融点: too−tot℃ (3)3−(2−メトキシエチル) 1−メチル4−メ
チル−2−(2−ニトロフェニル)−6−オキソ−3−
シクロヘキセン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 79−81℃ (4>3−[2−(N−ベンジル−N−メゾルアミノ)
エチル] 1−メチル 6−ヒドロキシ−4−メチル−
2−(2−ニトロフェニル)−3゜5−シクロへキサジ
エン−1,3−ジカルボキシレートおよび3−[2−(
N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチル] 1−メチ
ル 6−ヒドロキシ−4−メチル−2−(2−ニトロフ
ェニル)=3.6−シクロヘキサシエンー1.3−ジカ
ルボキシレートの混合物 NMR(CDC13,8):弓:8茅)郡:(趙罎ムj
’j’、s)。
6.06 (2/3H,br s)、 7.1−7.
9 (9H,m)り5) ジメチル 6−ヒドロキシ−
4−メチル−2−(3−ニトロフェニル)−3,6−シ
クロヘキサシエンー1.3−ジカルボキシレート融点:
16G−162℃ 叉】0乱上 1−メチル 3−(2−シアンエチル) 4−メチル−
6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5
−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート(
78,51g)のテトラヒドロフラン(390mjl
)溶液にIN塩酸(190m11 )を加え、混合物を
38℃で2時間攪拌し、次いで塩化ナトリウムで飽和せ
しめる。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をエタ
ノールで粉砕して得る1−メチル 3−(2−シアノエ
チル) 4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−6
−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカルボキシ
レート(54,27g )を、それ以上精製せずに次の
反応に使用する。
9 (9H,m)り5) ジメチル 6−ヒドロキシ−
4−メチル−2−(3−ニトロフェニル)−3,6−シ
クロヘキサシエンー1.3−ジカルボキシレート融点:
16G−162℃ 叉】0乱上 1−メチル 3−(2−シアンエチル) 4−メチル−
6−モルホリノ−2−(2−ニトロフェニル)−3,5
−シクロへキサジエン−1,3−ジカルボキシレート(
78,51g)のテトラヒドロフラン(390mjl
)溶液にIN塩酸(190m11 )を加え、混合物を
38℃で2時間攪拌し、次いで塩化ナトリウムで飽和せ
しめる。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をエタ
ノールで粉砕して得る1−メチル 3−(2−シアノエ
チル) 4−メチル−2−(2−ニトロフェニル)−6
−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカルボキシ
レート(54,27g )を、それ以上精製せずに次の
反応に使用する。
上記で得られる化合物(54,27g)のメタノール(
270m1 )とクロロホルム(270II111)ト
ノ混合物中懸濁液に、酢酸ナトリウム(34,5g)お
よび沃素(24゜79g)を加え、混合物を常温で3.
5時間攪拌する。溶媒を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル
で抽出する。抽出液を水および食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
酢酸エチルで粉砕して、2−メチル6−(2−シアノエ
チル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フェニル−2,6−ジカルポキシレート(24,79g
)を得る。
270m1 )とクロロホルム(270II111)ト
ノ混合物中懸濁液に、酢酸ナトリウム(34,5g)お
よび沃素(24゜79g)を加え、混合物を常温で3.
5時間攪拌する。溶媒を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル
で抽出する。抽出液を水および食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
酢酸エチルで粉砕して、2−メチル6−(2−シアノエ
チル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フェニル−2,6−ジカルポキシレート(24,79g
)を得る。
濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、塩
化メチレンで溶出、精製して、さらに目的化合物(6,
22g)を得る。
化メチレンで溶出、精製して、さらに目的化合物(6,
22g)を得る。
融点: 135−137℃
衷轟■1
実施例1と同様にして、1−メチル 3−(2−クロロ
エチル) 4−メチル−2−(2−二トロフェニル)−
6−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカルボキ
シレートおよび2−メチル 6−(2−クロロエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニ
ル−2゜6−ジカルポキシレートを得る。
エチル) 4−メチル−2−(2−二トロフェニル)−
6−オキソ−3−シクロヘキセン−1,3−ジカルボキ
シレートおよび2−メチル 6−(2−クロロエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニ
ル−2゜6−ジカルポキシレートを得る。
(1)l−メチル 3−(2−クロロエチル)4−メチ
ル−2−(2−ニトロフェニル)−6−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 103−107°C (2)2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−ヒド
ロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルポキシレート融点: 124−125℃ 罠盈亘ユ 1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−2−(2
−二トロフェニル)−6−オキソ−3−シクロヘキセン
−1,3−ジカルボキシレート(1,0Og)、沃素(
0,68g)および無水酢酸ナトノウム(0,22g)
のジオキサン(10mQ )溶液を4時間還流する。さ
らに無水酢酸ナトリウム(0,22g)およびテトラヒ
ドロフラン(301M )をこれに加え、混合物をさら
に2時間還流する。混合物を減圧濃縮して残渣を酢酸エ
チルに溶解する。酢酸エチル溶液を水および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧濃縮する。残渣をシリカゲル(30g)カ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとヘキサ
ンとの混液(1:1、v/v)で溶出する。所望の化合
物を含む画分を集め、減圧濃縮して、2−メチル 6−
イソプロピル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(0,6
0g)を黄色粘稠油状物として得る。
ル−2−(2−ニトロフェニル)−6−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1,3−ジカルボキシレート 融点: 103−107°C (2)2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−ヒド
ロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルポキシレート融点: 124−125℃ 罠盈亘ユ 1−メチル 3−イソプロピル 4−メチル−2−(2
−二トロフェニル)−6−オキソ−3−シクロヘキセン
−1,3−ジカルボキシレート(1,0Og)、沃素(
0,68g)および無水酢酸ナトノウム(0,22g)
のジオキサン(10mQ )溶液を4時間還流する。さ
らに無水酢酸ナトリウム(0,22g)およびテトラヒ
ドロフラン(301M )をこれに加え、混合物をさら
に2時間還流する。混合物を減圧濃縮して残渣を酢酸エ
チルに溶解する。酢酸エチル溶液を水および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧濃縮する。残渣をシリカゲル(30g)カ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとヘキサ
ンとの混液(1:1、v/v)で溶出する。所望の化合
物を含む画分を集め、減圧濃縮して、2−メチル 6−
イソプロピル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(0,6
0g)を黄色粘稠油状物として得る。
IR(film) : 1720.1660.1600
.1570.1520゜1440、1350.1220
.1100゜1060 am’ 医」U礼ニ ジメチル 6−ヒドロキシ−4−メチル−2=(2−ニ
トロフェニル”)−3,5−シクロへキサジエン−1,
3−ジカルボキシレート(0,49g)および沃素(0
,18g)をメタノール(30m1! )とテトラヒド
ロランCBIIl+りとの混合物に溶解する。
.1570.1520゜1440、1350.1220
.1100゜1060 am’ 医」U礼ニ ジメチル 6−ヒドロキシ−4−メチル−2=(2−ニ
トロフェニル”)−3,5−シクロへキサジエン−1,
3−ジカルボキシレート(0,49g)および沃素(0
,18g)をメタノール(30m1! )とテトラヒド
ロランCBIIl+りとの混合物に溶解する。
これに無水酢酸ナトリウム(0,11g)を加え、混合
物を3時間還流する。さらに沃素(0,18g)をこれ
に加え、混合物をさらに10.5時間還流する。
物を3時間還流する。さらに沃素(0,18g)をこれ
に加え、混合物をさらに10.5時間還流する。
溶液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸
エチル溶液を2回水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
して減圧濃縮する。残渣をシリカゲル(30g)を使用
するカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンと
ヘキサンとの混液(5: 3. v/v)で溶出する。
エチル溶液を2回水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
して減圧濃縮する。残渣をシリカゲル(30g)を使用
するカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンと
ヘキサンとの混液(5: 3. v/v)で溶出する。
所望の化合物を含む画分を集め、減圧濃縮して微黄色結
晶を得る。
晶を得る。
結晶をジイソプロピルエーテルとヘキサンとの混合物か
ら再結晶して、ジメチル 3−ヒドロキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレー
ト(0,13g)を得る。
ら再結晶して、ジメチル 3−ヒドロキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレー
ト(0,13g)を得る。
融点: 125−126℃
実施例5
実施例1〜4と同様にして以下の化合物を得る。
(1) 2−メチル 6−シクロペンチル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−
ジカルポキシレート 融点=101〜102℃ (2) 2−メチル 6−フェネチル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカ
ルポキシレート 融点:120〜121℃ (3)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−フルオロビフェニル−2,6−ジ
カルポキシレート Mass (m/e) ’ 346 (M”)、 31
4.272(4)2−メチル 6−イソプロピル 3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−ベンジルオキシビフェ
ニル−2,6−ジカルポキシレート 融点: 110.5〜112°C (5) 2−メチル 6−エチル 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′ −二トロビフェニル−2,6−ジカル
ポキシレート 融点:139〜141℃ (6) 2−メチル 6−ベンジル 3−ヒドロキシ−
5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカJ
レボキシレート 融点=123〜125℃ (7)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート融点ニア1〜
73℃ (8)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−クロロビフェニル−2,6−ジカ
ルポキシレート 融点:53〜55℃ (9)2−メチル 6−第三級ブチル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニルー2.6−ジカ
ルボキシレート 融点j 134−136℃ (10) 2−イソプロピル 6−メチル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−二トロピフェニルー2.6−
ジカルボキシレート 融点! 112.5〜113.5℃ (11) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−3′−ニトロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点ニア4〜76℃ (12) 2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−2
,6−ジカルポキシレート融点:96〜97℃ (13) 2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート (14) 2−メチル 6−(3−クロロプロピル)3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−
2,6−ジカルポキシレート融点:108〜112℃ (15) 2−シクロペンチル 6−(2−シアンエチ
ル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート融点:169℃ (16) 2−フェネチル 6−(2−シアノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート融点=98〜99℃ (17) 2−メチル 6−(2−シアノエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチルビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート 融点=93〜96℃ (18)2−(2−シアンエチル) 6−シクロペンチ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート融点=129〜13
1℃ (19) 2−メチル 6−シクロヘキシル 3−ヒド
ロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート 融点:122〜124℃ (20) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点890〜91”C (21) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−4′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点;117〜119℃ (22) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メゾルー21−メチルビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート Mass (m/e) + 342 (23) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′ −メトキシビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート 融点:102〜104℃ (24)2−(2−シアノエチル) 6−メチル3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,
6−ジカルポキシレートク25) ジメチル 3−ヒド
ロキシ−5−メチル−3′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート (26) 2−メチル 6−(2−メトキシエチル)3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート(27)ビス(2−ニコチ
ンアミドエチル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−3′
−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 東101旦 クロロメチルメチルエーテル(4,75g)を2−メチ
ル 6−(2−シアノエチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルポキ
シレート(13,34g)および炭酸カリウム(5,2
8g)のN、N−ジメチルホルムアミド で3時間攪拌後、混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する.抽出液を食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下に留去して、2−メチル 6−(
2−シアンエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2.6−ジカルポキシレ
ート(16.01g)を得る。
キシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−
ジカルポキシレート 融点=101〜102℃ (2) 2−メチル 6−フェネチル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカ
ルポキシレート 融点:120〜121℃ (3)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−フルオロビフェニル−2,6−ジ
カルポキシレート Mass (m/e) ’ 346 (M”)、 31
4.272(4)2−メチル 6−イソプロピル 3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−ベンジルオキシビフェ
ニル−2,6−ジカルポキシレート 融点: 110.5〜112°C (5) 2−メチル 6−エチル 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′ −二トロビフェニル−2,6−ジカル
ポキシレート 融点:139〜141℃ (6) 2−メチル 6−ベンジル 3−ヒドロキシ−
5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカJ
レボキシレート 融点=123〜125℃ (7)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート融点ニア1〜
73℃ (8)2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−クロロビフェニル−2,6−ジカ
ルポキシレート 融点:53〜55℃ (9)2−メチル 6−第三級ブチル 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニルー2.6−ジカ
ルボキシレート 融点j 134−136℃ (10) 2−イソプロピル 6−メチル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−二トロピフェニルー2.6−
ジカルボキシレート 融点! 112.5〜113.5℃ (11) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−3′−ニトロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点ニア4〜76℃ (12) 2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−2
,6−ジカルポキシレート融点:96〜97℃ (13) 2−メチル 6−(2−クロロエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート (14) 2−メチル 6−(3−クロロプロピル)3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−
2,6−ジカルポキシレート融点:108〜112℃ (15) 2−シクロペンチル 6−(2−シアンエチ
ル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート融点:169℃ (16) 2−フェネチル 6−(2−シアノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート融点=98〜99℃ (17) 2−メチル 6−(2−シアノエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチルビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート 融点=93〜96℃ (18)2−(2−シアンエチル) 6−シクロペンチ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート融点=129〜13
1℃ (19) 2−メチル 6−シクロヘキシル 3−ヒド
ロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート 融点:122〜124℃ (20) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点890〜91”C (21) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−4′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート 融点;117〜119℃ (22) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メゾルー21−メチルビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート Mass (m/e) + 342 (23) 2−メチル 6−イソプロピル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′ −メトキシビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート 融点:102〜104℃ (24)2−(2−シアノエチル) 6−メチル3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,
6−ジカルポキシレートク25) ジメチル 3−ヒド
ロキシ−5−メチル−3′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート (26) 2−メチル 6−(2−メトキシエチル)3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート(27)ビス(2−ニコチ
ンアミドエチル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−3′
−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 東101旦 クロロメチルメチルエーテル(4,75g)を2−メチ
ル 6−(2−シアノエチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルポキ
シレート(13,34g)および炭酸カリウム(5,2
8g)のN、N−ジメチルホルムアミド で3時間攪拌後、混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する.抽出液を食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下に留去して、2−メチル 6−(
2−シアンエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2.6−ジカルポキシレ
ート(16.01g)を得る。
融点: 82.5−83.5℃(N.N−ジメチルホル
ムアミドとメタノールとの混 合物から再結晶) 寒星■ユ 実施例6と同様にして以下の化合物を得る。
ムアミドとメタノールとの混 合物から再結晶) 寒星■ユ 実施例6と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−メチル 6−(2−クロロエチル) 3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2.6−ジカルポキシレート融点: 88−89°C
(n−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物から再結晶) (2)2−メチル 6−(2−クロロエチル) 3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチ
ルビフェニル−2.6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 460 (M )、
429(3)2−メチル 6−(2−クロロエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビフ
二二ルー2.6ージカルポキシレート融点:109〜1
10℃ (4)2−メチル 6−(3−クロロプロピル)3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2.6−ジカルボキシレートMass (m/e)
: 445 (−OCH3)(5)2−イソプロピル
6−メチル 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
−二トロビフェニル−2.6−ジカルボキシレート IR (Nujol) : 1710 am−1(6)
2−シクロペンチル 6−(2−シアンエチル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフェニ
ル−2.6−ジカルポキシレート IR (Nujol) :1720. 1710 (肩
) am−1(7)2−フェネテル 6−(2−シアノ
エチル)3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレートIR(n
eat) : 2250.1715 am″″1(8)
2−メチル 6−(2−シアノエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチルビフェニル−2,6−ジカルポキ
シレート IR(Nujol) ’ 1715 am−1X里贋1 2−メチル 6−(2−シアノエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート(14,0g)のメタノール(
70m1l )およびテトラヒドロフラン(35m1
)混合物溶液に、IN水酸化ナトリウム水溶液(361
d )を加え、混合物を常温で30分間攪拌し、次いで
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルで洗浄し、IN塩酸で
酸性にして酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去
する。残渣をエタノールとジイソプロピルエーテルとの
混合物から再結晶して、2−メトキシカルボニル−3−
メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−6−カルボン酸(8,08g)l!る。濾液の溶媒
を減圧下に留去し、残渣の固体を酢酸エチルとジイソプ
ロピルエーテルとの混合物から再結晶して、さらに目的
化合物(0,62g)を得る。
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2.6−ジカルポキシレート融点: 88−89°C
(n−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物から再結晶) (2)2−メチル 6−(2−クロロエチル) 3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチ
ルビフェニル−2.6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 460 (M )、
429(3)2−メチル 6−(2−クロロエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビフ
二二ルー2.6ージカルポキシレート融点:109〜1
10℃ (4)2−メチル 6−(3−クロロプロピル)3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2.6−ジカルボキシレートMass (m/e)
: 445 (−OCH3)(5)2−イソプロピル
6−メチル 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
−二トロビフェニル−2.6−ジカルボキシレート IR (Nujol) : 1710 am−1(6)
2−シクロペンチル 6−(2−シアンエチル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフェニ
ル−2.6−ジカルポキシレート IR (Nujol) :1720. 1710 (肩
) am−1(7)2−フェネテル 6−(2−シアノ
エチル)3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレートIR(n
eat) : 2250.1715 am″″1(8)
2−メチル 6−(2−シアノエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチルビフェニル−2,6−ジカルポキ
シレート IR(Nujol) ’ 1715 am−1X里贋1 2−メチル 6−(2−シアノエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート(14,0g)のメタノール(
70m1l )およびテトラヒドロフラン(35m1
)混合物溶液に、IN水酸化ナトリウム水溶液(361
d )を加え、混合物を常温で30分間攪拌し、次いで
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチルで洗浄し、IN塩酸で
酸性にして酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去
する。残渣をエタノールとジイソプロピルエーテルとの
混合物から再結晶して、2−メトキシカルボニル−3−
メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−6−カルボン酸(8,08g)l!る。濾液の溶媒
を減圧下に留去し、残渣の固体を酢酸エチルとジイソプ
ロピルエーテルとの混合物から再結晶して、さらに目的
化合物(0,62g)を得る。
融点: 150−151.5℃
衷鳳贋上
実施例8と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−メトキシカルボニル−3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−6−カルボン酸 融点:179〜182℃ (2)3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボン酸 融点=221℃(分解) (3)2−メトキシカルボニル−3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビフェニル−
6−カルボン酸 (4)2−メトキシカルボニル−3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−シアノビフェニル−6−カルボン
酸 融点:140〜141℃ (5) 6−シクロペンチルオキシカルボニル−3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2−
カルボン酸 (6)6−42−(N−ベンジル−N−メチルアミン)
エトキシ]カルボニルー3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2−カルボン酸 IR(CHCla) ’ 1720 am″″1(7)
2−メトキシカルボニル− キシ−5−メチルビフェニル−6−カルボン融点: t
3g.s〜140. 5℃ (8)6−メドキシカルボニルー 5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2−カルボン酸 衷m印 五塩化溝(2.72g)を2−メトキシカルボニル−3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ −ニトロビフ
ェニル−6−カルボン酸(2.45g)のクロロホルム
( 75fflQ )溶液に1.5ないし2.5℃で少
量ずつ分割して加える.混合物を5℃未満の温度で30
分間攪拌し、次いでこれに4−ヒドロキシ−1−メチル
ピペリジン(15.0g)のクロロホルム( 25ff
LI! )溶液を−8ないし一4°Cで滴下する.常温
で8日間攪拌後、混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣
を酢酸エチルで抽出する.抽出液を水および食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去
する.残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、クロロホルムとメタノールとの混液で溶
出、精製して得る2−メチル 6−( 1−メチル−4
−ピペリジル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2.6−ジカルポキシレート
(2.55g)をジイソプロピルエーテルから再結晶し
て純物質(2.10g)を得る.濾液を減圧濃縮してさ
らに目的化合物(0.06g)を残渣から得る。
メチル−2′−二トロビフェニル−6−カルボン酸 融点:179〜182℃ (2)3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボン酸 融点=221℃(分解) (3)2−メトキシカルボニル−3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビフェニル−
6−カルボン酸 (4)2−メトキシカルボニル−3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−シアノビフェニル−6−カルボン
酸 融点:140〜141℃ (5) 6−シクロペンチルオキシカルボニル−3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2−
カルボン酸 (6)6−42−(N−ベンジル−N−メチルアミン)
エトキシ]カルボニルー3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2−カルボン酸 IR(CHCla) ’ 1720 am″″1(7)
2−メトキシカルボニル− キシ−5−メチルビフェニル−6−カルボン融点: t
3g.s〜140. 5℃ (8)6−メドキシカルボニルー 5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2−カルボン酸 衷m印 五塩化溝(2.72g)を2−メトキシカルボニル−3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ −ニトロビフ
ェニル−6−カルボン酸(2.45g)のクロロホルム
( 75fflQ )溶液に1.5ないし2.5℃で少
量ずつ分割して加える.混合物を5℃未満の温度で30
分間攪拌し、次いでこれに4−ヒドロキシ−1−メチル
ピペリジン(15.0g)のクロロホルム( 25ff
LI! )溶液を−8ないし一4°Cで滴下する.常温
で8日間攪拌後、混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣
を酢酸エチルで抽出する.抽出液を水および食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去
する.残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、クロロホルムとメタノールとの混液で溶
出、精製して得る2−メチル 6−( 1−メチル−4
−ピペリジル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2.6−ジカルポキシレート
(2.55g)をジイソプロピルエーテルから再結晶し
て純物質(2.10g)を得る.濾液を減圧濃縮してさ
らに目的化合物(0.06g)を残渣から得る。
融点: 104−105℃
因J1牧月。
実施例10と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−メチル 6−(3−ジメチルアミノプロピル
) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 460 (M”)、 44
3.429(2)2−メチル 6−(2−ジメチルアミ
ノエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(neat) : 2800.2750.1730
(肩)。
) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 460 (M”)、 44
3.429(2)2−メチル 6−(2−ジメチルアミ
ノエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(neat) : 2800.2750.1730
(肩)。
1710 am’
(3)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル
) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−21−トリフ
ルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 495 (M )、 46
4(4)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジ
ル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シア
ノピフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 452 (M”)、 42
1(5)2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−シ
クロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニ
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート (6)2−(4−ジエチルアミノ−2−ブチニル)6−
シクロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸
塩 Mass (m/e) : 508 (7)2−メトキシカルボニルメチル 6−シクロペン
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフエ
ニル−2,6−ジカルポキシレート融点:91〜92℃ (8)2−メチル 6−(4−ジエチルアミノ−2−ブ
チニル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(n@at) : 1730 (肩>、 1715
cm−’(9)2−メチル 6−(4−ジエチルアミ
ノプチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
ニトロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート IR(neat) : 1730 (肩>、 1710
cm−1(10) 2−メチル 6−(5−ジエチル
アミノ−3−ペンチニル) 3−メトキシメトキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート Mass (m/e) ’ 513 (M )、
495(11) 2−エチル 6−((E)−4−ジエ
チルアミノ−2−ブテニル) 3−メトキシメトキシ−
5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカル
ボキシレート IR(neat) : 1720 am−’(12)
2−エチル 6−(4−ジメチルアミノ−2−ブチニル
) 3−メトキシメトキシ−5−メゾルー2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(neat) : 1725 am−’(13)
2−メチル 6−ジニチルアミノエチルチオエチル 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/a) : 535 (M”)(14)
2−メチル 6−(4−ピペリジノプテル)3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレートMass (m/e) ’
514 (M”)(15) 2−メチル 6−ジニチ
ルアミノエトキシエチル 3−メトキシメトキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキ
シレート Mass (m/e) : 517 (M”)、 50
3.487(16) 2−メチル 6−(4−ピペリジ
ノ−2−ブチニル) 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート IR(neat) :1730 am−’(17) 2
−メチル 6−[4−(4−メチル−1−ピペラジニル
)−2−ブチニル] 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート Mass (m/e) : 525 (M”)、 50
7(1g) 2−メチル 6−[4−(4−メチル−1
−ピペラジニル)ブチル] 3−メトキシメトキシ−5
−メチル−2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカルボ
キシレート IR(neat) : 1725 am″″1(19)
2−エチル 6−(2,3−エポキシプロピル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 431 (M )、
399. 385. 354(20) 2−メチル
6−(1−アセチル−4−ピペリジル) 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′ニトロビフェニル−2,6−ジ
カルポキシレート 融点=183〜184℃ (21)2−(3−第三級ブトキシカルボニルプロビル
) 6−メチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点:110〜111℃ (22) 2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−
メチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート融点:135℃ (23) 2−メチル 6−(3−第三級ブトキシカル
ボニルプロビル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′ −二トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) + 517 (M”)、 48
6.461(24) 2−エチル 6−第三級ブトキシ
カルボニルメチル 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト IR(Nujol) : 2970.1730.159
0.1520 cm−’(25) 2−メチル 6−(
(R)−1−第三級ブトキシカルポニルエチル) 3−
メトキシメトキシ−5−メチル−2′ −二トロビフェ
ニル−2゜6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 503.401(26)
2−メチル 6−((S)−を−第三級ブトキシカルボ
ニルエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2
′ −ニトロビフェニル−2゜6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 503.401叉】d1聾 2−メチル 6−(2−クロロエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニJレー2
.6−ジカJレボキシレート(2,57g>およびN−
メチルベンジルアミン(1,93g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(7,7mQ ’)中温合物を100℃
に2日間加熱する。冷後、反応混合物を水中に注いで酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液で溶出、精製して、2−メチ
ル 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エ
チル] 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(1,0
7g)を得る。
) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−21−トリフ
ルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 495 (M )、 46
4(4)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジ
ル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シア
ノピフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 452 (M”)、 42
1(5)2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−シ
クロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニ
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート (6)2−(4−ジエチルアミノ−2−ブチニル)6−
シクロペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸
塩 Mass (m/e) : 508 (7)2−メトキシカルボニルメチル 6−シクロペン
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフエ
ニル−2,6−ジカルポキシレート融点:91〜92℃ (8)2−メチル 6−(4−ジエチルアミノ−2−ブ
チニル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(n@at) : 1730 (肩>、 1715
cm−’(9)2−メチル 6−(4−ジエチルアミ
ノプチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′
ニトロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート IR(neat) : 1730 (肩>、 1710
cm−1(10) 2−メチル 6−(5−ジエチル
アミノ−3−ペンチニル) 3−メトキシメトキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート Mass (m/e) ’ 513 (M )、
495(11) 2−エチル 6−((E)−4−ジエ
チルアミノ−2−ブテニル) 3−メトキシメトキシ−
5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカル
ボキシレート IR(neat) : 1720 am−’(12)
2−エチル 6−(4−ジメチルアミノ−2−ブチニル
) 3−メトキシメトキシ−5−メゾルー2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート IR(neat) : 1725 am−’(13)
2−メチル 6−ジニチルアミノエチルチオエチル 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/a) : 535 (M”)(14)
2−メチル 6−(4−ピペリジノプテル)3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレートMass (m/e) ’
514 (M”)(15) 2−メチル 6−ジニチ
ルアミノエトキシエチル 3−メトキシメトキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキ
シレート Mass (m/e) : 517 (M”)、 50
3.487(16) 2−メチル 6−(4−ピペリジ
ノ−2−ブチニル) 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート IR(neat) :1730 am−’(17) 2
−メチル 6−[4−(4−メチル−1−ピペラジニル
)−2−ブチニル] 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート Mass (m/e) : 525 (M”)、 50
7(1g) 2−メチル 6−[4−(4−メチル−1
−ピペラジニル)ブチル] 3−メトキシメトキシ−5
−メチル−2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカルボ
キシレート IR(neat) : 1725 am″″1(19)
2−エチル 6−(2,3−エポキシプロピル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) ’ 431 (M )、
399. 385. 354(20) 2−メチル
6−(1−アセチル−4−ピペリジル) 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′ニトロビフェニル−2,6−ジ
カルポキシレート 融点=183〜184℃ (21)2−(3−第三級ブトキシカルボニルプロビル
) 6−メチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点:110〜111℃ (22) 2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−
メチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート融点:135℃ (23) 2−メチル 6−(3−第三級ブトキシカル
ボニルプロビル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′ −二トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) + 517 (M”)、 48
6.461(24) 2−エチル 6−第三級ブトキシ
カルボニルメチル 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト IR(Nujol) : 2970.1730.159
0.1520 cm−’(25) 2−メチル 6−(
(R)−1−第三級ブトキシカルポニルエチル) 3−
メトキシメトキシ−5−メチル−2′ −二トロビフェ
ニル−2゜6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 503.401(26)
2−メチル 6−((S)−を−第三級ブトキシカルボ
ニルエチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2
′ −ニトロビフェニル−2゜6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 503.401叉】d1聾 2−メチル 6−(2−クロロエチル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニJレー2
.6−ジカJレボキシレート(2,57g>およびN−
メチルベンジルアミン(1,93g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(7,7mQ ’)中温合物を100℃
に2日間加熱する。冷後、反応混合物を水中に注いで酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液で溶出、精製して、2−メチ
ル 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エ
チル] 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(1,0
7g)を得る。
IR(naat) : 1730.1715 cm−1
1直五り 実施例12と同様にして以下の化合物を得る。
1直五り 実施例12と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−メチル 6−(2−ジエチルアミノエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 474 (M”)、 45
7.443(2)2−メチル 6−[2−(4−メチル
−1−ピペラジニル)エチル] 3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカ
ルボキシレート IR(neat) : 1720 am−1(3)2−
メチル 6−(2−モルホリノエチル)3−メトキシメ
トキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレートMass (m/e) : 48
7 (M”)、 456(4)2−メチル 6−[2−
(4−メチル−1−ピペラジニル)エチルコ 3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′ −トリフルオロメチ
ルビフェニル−2,6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 493 (−0CH3)(
5)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ビペラ
ジニル)エチル] 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′−シアノビフェニル−2,6−ジカルポキシレー
ト Mass (m/e) : 450 (−OCRs)(
6)2−エチル 8−42−(4−(2−メトキシフェ
ニル)−1−ピペラジニル−)エチル]3−メトキシメ
トキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート(7)2−メチル 6−[2−(
4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)エ
チル]3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニト
ロビフェニル−2,8−ジカルボキシレートMass
(m/e) : 531 (M )、 514.500
(8)2−メチル 6−[2−(4−(ピペリジノ)ピ
ペリジノ)エテル] 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−21−ニトロビフェニル−2゜6−ジカルポキシレ
ート IR(neat) ’ 1730 (肩)、 1710
am’(9)2−メチル 6−(3−ピペリジノプロ
ピル)3−メトキシメトキシ−5−メチル−21−二ト
ロビフェニル−2,6−ジカルボキシレートIR(CH
CL3) ’ 1715 cm−1(10) 2−メチ
ル 6−(2−ピペリジノエチル)3−メトキシメトキ
シ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジ
カルボキシレートMass (m/e) : 486
(M”)(11) 2−メチル 6−[3−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)プロピルコ 3−メトキシメト
キシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルポキシレート Mass (m/e) : 515 (M )、 49
g東m 2−メチル 6−(2−クロロニブル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート(4,02g)、
チオフェノール(0,95m1l )、沃化ナトリウム
(0,27g)および炭酸カリウム(3,07g)のN
、N−ジメチルホルムアミド(6mm)中温合物を室温
で10時間攪拌する0反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水および食塩水で順次洗浄し、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製して、2−メチル 6−(2−フェニルチオ
エチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
トリフルオロメチルビフエニル−2,6−ジカルボキシ
レート(2,52g)を得る。
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 474 (M”)、 45
7.443(2)2−メチル 6−[2−(4−メチル
−1−ピペラジニル)エチル] 3−メトキシメトキシ
−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカ
ルボキシレート IR(neat) : 1720 am−1(3)2−
メチル 6−(2−モルホリノエチル)3−メトキシメ
トキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレートMass (m/e) : 48
7 (M”)、 456(4)2−メチル 6−[2−
(4−メチル−1−ピペラジニル)エチルコ 3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′ −トリフルオロメチ
ルビフェニル−2,6−ジカルポキシレート Mass (m/e) : 493 (−0CH3)(
5)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ビペラ
ジニル)エチル] 3−メトキシメトキシ−5−メチル
−2′−シアノビフェニル−2,6−ジカルポキシレー
ト Mass (m/e) : 450 (−OCRs)(
6)2−エチル 8−42−(4−(2−メトキシフェ
ニル)−1−ピペラジニル−)エチル]3−メトキシメ
トキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート(7)2−メチル 6−[2−(
4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)エ
チル]3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニト
ロビフェニル−2,8−ジカルボキシレートMass
(m/e) : 531 (M )、 514.500
(8)2−メチル 6−[2−(4−(ピペリジノ)ピ
ペリジノ)エテル] 3−メトキシメトキシ−5−メチ
ル−21−ニトロビフェニル−2゜6−ジカルポキシレ
ート IR(neat) ’ 1730 (肩)、 1710
am’(9)2−メチル 6−(3−ピペリジノプロ
ピル)3−メトキシメトキシ−5−メチル−21−二ト
ロビフェニル−2,6−ジカルボキシレートIR(CH
CL3) ’ 1715 cm−1(10) 2−メチ
ル 6−(2−ピペリジノエチル)3−メトキシメトキ
シ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジ
カルボキシレートMass (m/e) : 486
(M”)(11) 2−メチル 6−[3−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)プロピルコ 3−メトキシメト
キシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルポキシレート Mass (m/e) : 515 (M )、 49
g東m 2−メチル 6−(2−クロロニブル) 3−メトキシ
メトキシ−5−メチル−2′−トリフルオロメチルビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート(4,02g)、
チオフェノール(0,95m1l )、沃化ナトリウム
(0,27g)および炭酸カリウム(3,07g)のN
、N−ジメチルホルムアミド(6mm)中温合物を室温
で10時間攪拌する0反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水および食塩水で順次洗浄し、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製して、2−メチル 6−(2−フェニルチオ
エチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
トリフルオロメチルビフエニル−2,6−ジカルボキシ
レート(2,52g)を得る。
融点:85〜87℃
哀直輿遷
実施例14と同様にして以下の化合物を得る。
(1) 2−メチル 6−(2−フェニルチオエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点=106〜109℃ (2) 2−メチル 6−(2−フェニルチオエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/a) : 511 (M”L 480
来1d」坏 2−メチル 6−(2−フェニルチオエチル)3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート(6,52g)のクロロホ
ルム(30111m ’)溶液に室温でm−クロ口過安
息香#(5,30g)のクロロホルム(40mQ )溶
液を加え、同温で2時間攪拌する0反応混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄し乾燥後溶媒を留去する。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
2−エチル 6−(2−フェニルスルホニルエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−22′ −シアノ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(7,OOg
)を得る。
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点=106〜109℃ (2) 2−メチル 6−(2−フェニルチオエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/a) : 511 (M”L 480
来1d」坏 2−メチル 6−(2−フェニルチオエチル)3−メト
キシメトキシ−5−メチル−2′−シアノビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート(6,52g)のクロロホ
ルム(30111m ’)溶液に室温でm−クロ口過安
息香#(5,30g)のクロロホルム(40mQ )溶
液を加え、同温で2時間攪拌する0反応混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄し乾燥後溶媒を留去する。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
2−エチル 6−(2−フェニルスルホニルエチル)
3−メトキシメトキシ−5−メチル−22′ −シアノ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(7,OOg
)を得る。
Mass (m/e) ’ 523 (M”)、 49
2.464火!JL■ 実施例16と同様にして以下の化合物を得る。
2.464火!JL■ 実施例16と同様にして以下の化合物を得る。
(1) 2−メチル 6−(2−フェニルスルホニルエ
チル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ト
リフルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) : 566 (M”)、 53
5(2) 2−メチル 6−(2−フェニルスルホニル
エチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 543 (M )、
512叉Jl」す 2−メチル 6−(2,3−エポキシプロピル)3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート(0,20g)およびピ
ペリジン(0,05mQ )のジオキサン(1−)溶液
を100℃で7時間攪拌する0反応混合物を濃縮して残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホル
ム:メタノール、15:1v/ν)で精製して、2−メ
チル 6−(2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロピル
)−3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルポキシレート(0,15g
)を得る。
チル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ト
リフルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルポキシレ
ート Mass (m/e) : 566 (M”)、 53
5(2) 2−メチル 6−(2−フェニルスルホニル
エチル) 3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 543 (M )、
512叉Jl」す 2−メチル 6−(2,3−エポキシプロピル)3−メ
トキシメトキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート(0,20g)およびピ
ペリジン(0,05mQ )のジオキサン(1−)溶液
を100℃で7時間攪拌する0反応混合物を濃縮して残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホル
ム:メタノール、15:1v/ν)で精製して、2−メ
チル 6−(2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロピル
)−3−メトキシメトキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルポキシレート(0,15g
)を得る。
Mass (m/e) : 516 (M )、
484叉1己11 2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−シクロペン
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート(0,64g)の
蟻酸(4,5mQ )溶液を室温で6時間放置した後減
圧濃縮して、2−カルボキシメチル 6−シクロペンチ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ −二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレー1− (0,42g
)を得る。
484叉1己11 2−第三級ブトキシカルボニルメチル 6−シクロペン
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルポキシレート(0,64g)の
蟻酸(4,5mQ )溶液を室温で6時間放置した後減
圧濃縮して、2−カルボキシメチル 6−シクロペンチ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ −二トロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレー1− (0,42g
)を得る。
Mass (m/e) : 443
哀直ヱ迎
実施例19と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−(3−カルボキシプロピル
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2.6−ジカルポキシレート融点:169〜17
0℃ (2)2−カルボキシメチル ドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 389 (M”)、 34
2(3)2−メチル 6−(3−カルボキシプロピル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフエニ
ル−2.6−ジカルポキシレート融点:157〜159
°C (4)2−メチル 6−カルボキシメチル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル=2.6ー
ジカルポキシレート 融点:157〜159℃ (5)2−メチル 6−((R)−1−カルボキシエチ
ル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフェ
ニル−2.6−ジカルボキシレートMass (m/e
) : 403. 357(6)2−メチル 6−((
S)−1−カルボキシエチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′ニトロビフェニル−2.6−ジカルポキシ
レートMass (m/a) : 403. 357X
直±里 2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチルー2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート(0,47g)のり
aryホルム(5m)溶液に、メタノール中塩化水素(
0,15g/誠、1−)を加え、溶液を1.5時間還流
する。冷後、溶液を減圧濃縮する。残渣をジエチルエー
テルで粉砕して、2−メチル 6−(1−メチル−4−
ピペリジル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩
(0,35g)を得る。
ニル−2.6−ジカルポキシレート融点:169〜17
0℃ (2)2−カルボキシメチル ドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート Mass (m/e) : 389 (M”)、 34
2(3)2−メチル 6−(3−カルボキシプロピル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフエニ
ル−2.6−ジカルポキシレート融点:157〜159
°C (4)2−メチル 6−カルボキシメチル 3−ヒドロ
キシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル=2.6ー
ジカルポキシレート 融点:157〜159℃ (5)2−メチル 6−((R)−1−カルボキシエチ
ル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフェ
ニル−2.6−ジカルボキシレートMass (m/e
) : 403. 357(6)2−メチル 6−((
S)−1−カルボキシエチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′ニトロビフェニル−2.6−ジカルポキシ
レートMass (m/a) : 403. 357X
直±里 2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル) 3
−メトキシメトキシ−5−メチルー2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート(0,47g)のり
aryホルム(5m)溶液に、メタノール中塩化水素(
0,15g/誠、1−)を加え、溶液を1.5時間還流
する。冷後、溶液を減圧濃縮する。残渣をジエチルエー
テルで粉砕して、2−メチル 6−(1−メチル−4−
ピペリジル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩
(0,35g)を得る。
融点:124°C(分解)
見直血召
2−メチル 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルア
ミノ)エチル〕 3−メトキシメトキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカルボキシレート
(0,89g )のジエチルエーテル(3fflQ)溶
液に、メタノール中塩化水素(0,15g/49m11
)を加える。常温で1時間攪拌後、溶媒を留去する。こ
れに次階水素ナトリウム水溶液を加え(pH9)、酢酸
エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液で溶出、精製して、2−メチル6−[2−
(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチル] 3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−’、5カルボキシレートを得る。
ミノ)エチル〕 3−メトキシメトキシ−5−メチル−
2′−二トロビフェニル−2゜6−ジカルボキシレート
(0,89g )のジエチルエーテル(3fflQ)溶
液に、メタノール中塩化水素(0,15g/49m11
)を加える。常温で1時間攪拌後、溶媒を留去する。こ
れに次階水素ナトリウム水溶液を加え(pH9)、酢酸
エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エ
チルとの混液で溶出、精製して、2−メチル6−[2−
(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチル] 3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,
6−’、5カルボキシレートを得る。
IR(neat) =1720.1665 am″″1
笈凰輿遷 実施例21.22と同様にして以下の化合物を得る。
笈凰輿遷 実施例21.22と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2−メチル 6−(3−ジメチルアミノプロピル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ −ニトロビフ
ェニルル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩 融点:193℃(分解) (2)2−メチル 6−(2−ジメチルアミノエチル)
3−ヒトaキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 融点:183〜185℃(分解) (3)2−メチル 6−(2−ジエチルアミノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 融点:140〜142℃(分解) (4)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチルコ 3−ヒドロキシ−5−メチル−2
′−二トロビフェニJレー2.6−ジカルポキシレート
・二塩酸塩 融点:196〜197℃(分解) (5)2−メチル 6−(2−モルホリノエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2
,6−ジカルボキシレート・塩酸塩融点:197〜19
8℃(分解) (6)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−21−シアノビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 40B (M”)(7)2
−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペラジニル
)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−21−トリ
フルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト・二環酸塩融点:199〜202℃(分解) (8)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2
″−シアノビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・
二塩酸塩 融点:184℃(分解) (9)2−メチル 6−[2−(N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)アミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート・塩酸塩 融点:159〜160℃(分解) (10) 2−メチル 6−[2−(4−(2−メトキ
シフェニル)−1−ピペラジニル)エチル]3−ヒドロ
キシー5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) ’ 549 (M”)、 53
2(11) 2−メチル 6−[2−(4−(2−ヒド
ロキシエチル)−1−ピペラジニル)エチル]3−ヒド
ロキシー5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e): 487 (M >、47
0,456(12) 2−メチル 6−[3−(4−(
2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)プロピル
]3−ヒドロキシー5−メチル−21−ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) ’ 501 (M”)、 48
4.470(13) 2−メチル 6−[3−(4−(
2−メトキシフェニル)−1−ピペラジニル)プロピル
]3−ヒドロキシー5−メチル−2゛−ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) : 563 (M
)、 546(14> 2−メチル 6−[3−(N
、N−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミノ)プロピル]
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩Mass (
m/a) ’ 445 (−OCH3)(15) 2−
メチル 6−[2−(4−(ピペリジノ)ピペリジノ)
エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 融点=201〜203℃(分解) (16) 2−メチル 6−(4−ジエチルアミノ−2
−ブチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩 IR(COCl2) ’ 3350.2300.172
0.1670 am″″1(17) 2−メチル 6−
(4−ジメチルアミノブチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキ
シレート・塩酸塩 融点:146℃(分解) (18) 2−メチル 6−(5−ジエチルアミノ−3
−ペンチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸
塩 Mass (m/e) : 469 (M”−HCl>
、 451(19) 2−メチル 6−((E)−4−
ジエチルアミノ−2−ブテニル) 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート・塩酸塩 IR(CHCL3) i 2430.2350.172
0.1665 cm−1(20) 2−メチル 6−(
4−ジメチルアミノ−2−ブチニル) 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカ
ルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCL3) ’ 2250,1720.166
0 am″″1(21) 2−メチル 6−ジニチルア
ミノエチルチオエチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・
塩酸塩 Mass (m/e) : 491 (M”−HCl>
(22) 2−メチル 6−(3−ピペリジノプロピル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−’)カルボキシレート・塩酸塩 融点=163〜165°C(分解) (23) 2−メチル 6−(2−ピペリジノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩融点:203℃
(分解) (24) 2−メチル 6−[3−(4−メチル−1−
ピペラジニル)プロピル] 3−ヒドロキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート・二塩酸塩 融点:178〜182℃(分解) (25) 2−メチル 6−(4−ピペリジノブチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩IR(CHCL
3) : 2610.2450.2350.1720゜
1670 cm’ (26) 2−メチル 6−ジエチルアミノエトキシエ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCI3) : 3400. 255
0. 2450. 1720゜1670 am″″
1 (27) 2−メチル 6−(4−ピペリジノ−2−
ブチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCI ) ’ 2450.2300.173
0.1670 cm−’(28) 2−メチル 6−[
4−(4−メチル−1−ピペラジニル)−2−ブチニル
] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・二環酸塩融点:1
35〜136℃(分解) (29) 2−メチル a−[4−(4−メチル−1−
ピペラジニル)ブチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト・二塩酸塩 融点:141〜142℃ (30) 2−メチル 6−(2,3−ジヒドロキシプ
ロピル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレートMass (m
/e) : 405 (M”)(31) 2−メチル
6−(2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロピル) 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 一点:183〜184℃(分解) (32) 2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリ
ジル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′トリフルオ
ロメチルビフエニル−2,6−ジカルポキシレート・塩
酸塩 融点885〜91’C 哀直五都 2−メチル 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルア
ミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(1,
50g)、2−(N、N−ジメチルアミノ)エタノール
(3,35g)および触媒量のp−トルエンスルホン酸
・−水化物よりなる混合物を80℃で6時間加熱する。
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ −ニトロビフ
ェニルル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩 融点:193℃(分解) (2)2−メチル 6−(2−ジメチルアミノエチル)
3−ヒトaキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 融点:183〜185℃(分解) (3)2−メチル 6−(2−ジエチルアミノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 融点:140〜142℃(分解) (4)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチルコ 3−ヒドロキシ−5−メチル−2
′−二トロビフェニJレー2.6−ジカルポキシレート
・二塩酸塩 融点:196〜197℃(分解) (5)2−メチル 6−(2−モルホリノエチル)3−
ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2
,6−ジカルボキシレート・塩酸塩融点:197〜19
8℃(分解) (6)2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリジル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−21−シアノビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 40B (M”)(7)2
−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペラジニル
)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−21−トリ
フルオロメチルビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト・二環酸塩融点:199〜202℃(分解) (8)2−メチル 6−[2−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2
″−シアノビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・
二塩酸塩 融点:184℃(分解) (9)2−メチル 6−[2−(N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)アミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート・塩酸塩 融点:159〜160℃(分解) (10) 2−メチル 6−[2−(4−(2−メトキ
シフェニル)−1−ピペラジニル)エチル]3−ヒドロ
キシー5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−
ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) ’ 549 (M”)、 53
2(11) 2−メチル 6−[2−(4−(2−ヒド
ロキシエチル)−1−ピペラジニル)エチル]3−ヒド
ロキシー5−メチル−2′−二トロビフェニル−2,6
−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e): 487 (M >、47
0,456(12) 2−メチル 6−[3−(4−(
2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)プロピル
]3−ヒドロキシー5−メチル−21−ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) ’ 501 (M”)、 48
4.470(13) 2−メチル 6−[3−(4−(
2−メトキシフェニル)−1−ピペラジニル)プロピル
]3−ヒドロキシー5−メチル−2゛−ニトロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 Mass (m/e) : 563 (M
)、 546(14> 2−メチル 6−[3−(N
、N−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミノ)プロピル]
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニ
ル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩Mass (
m/a) ’ 445 (−OCH3)(15) 2−
メチル 6−[2−(4−(ピペリジノ)ピペリジノ)
エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・二塩酸塩 融点=201〜203℃(分解) (16) 2−メチル 6−(4−ジエチルアミノ−2
−ブチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二
トロビフェニル−2,6−ジカルポキシレート・塩酸塩 IR(COCl2) ’ 3350.2300.172
0.1670 am″″1(17) 2−メチル 6−
(4−ジメチルアミノブチル) 3−ヒドロキシ−5−
メチル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキ
シレート・塩酸塩 融点:146℃(分解) (18) 2−メチル 6−(5−ジエチルアミノ−3
−ペンチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸
塩 Mass (m/e) : 469 (M”−HCl>
、 451(19) 2−メチル 6−((E)−4−
ジエチルアミノ−2−ブテニル) 3−ヒドロキシ−5
−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカルボ
キシレート・塩酸塩 IR(CHCL3) i 2430.2350.172
0.1665 cm−1(20) 2−メチル 6−(
4−ジメチルアミノ−2−ブチニル) 3−ヒドロキシ
−5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカ
ルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCL3) ’ 2250,1720.166
0 am″″1(21) 2−メチル 6−ジニチルア
ミノエチルチオエチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−
2′ニトロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・
塩酸塩 Mass (m/e) : 491 (M”−HCl>
(22) 2−メチル 6−(3−ピペリジノプロピル
) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−’)カルボキシレート・塩酸塩 融点=163〜165°C(分解) (23) 2−メチル 6−(2−ピペリジノエチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩融点:203℃
(分解) (24) 2−メチル 6−[3−(4−メチル−1−
ピペラジニル)プロピル] 3−ヒドロキシ−5−メチ
ル−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレ
ート・二塩酸塩 融点:178〜182℃(分解) (25) 2−メチル 6−(4−ピペリジノブチル)
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩IR(CHCL
3) : 2610.2450.2350.1720゜
1670 cm’ (26) 2−メチル 6−ジエチルアミノエトキシエ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフ
ェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCI3) : 3400. 255
0. 2450. 1720゜1670 am″″
1 (27) 2−メチル 6−(4−ピペリジノ−2−
ブチニル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 IR(CHCI ) ’ 2450.2300.173
0.1670 cm−’(28) 2−メチル 6−[
4−(4−メチル−1−ピペラジニル)−2−ブチニル
] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート・二環酸塩融点:1
35〜136℃(分解) (29) 2−メチル a−[4−(4−メチル−1−
ピペラジニル)ブチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル
−2′−二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレー
ト・二塩酸塩 融点:141〜142℃ (30) 2−メチル 6−(2,3−ジヒドロキシプ
ロピル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビ
フェニル−2,6−ジカルボキシレートMass (m
/e) : 405 (M”)(31) 2−メチル
6−(2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロピル) 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 一点:183〜184℃(分解) (32) 2−メチル 6−(1−メチル−4−ピペリ
ジル) 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′トリフルオ
ロメチルビフエニル−2,6−ジカルポキシレート・塩
酸塩 融点885〜91’C 哀直五都 2−メチル 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルア
ミン)エチル] 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−
二トロビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(1,
50g)、2−(N、N−ジメチルアミノ)エタノール
(3,35g)および触媒量のp−トルエンスルホン酸
・−水化物よりなる混合物を80℃で6時間加熱する。
冷後、炭酸水素ナトリウムの水溶液を加え、混合物を酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、クロロ
ホルムとメタノールとの混液でm出、iaして、2−[
2−(N、N−ジメチルアミノ)エテルコ 6−(2−
(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチルコ 3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−21−ニトロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート(0,87g)を得る。
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、クロロ
ホルムとメタノールとの混液でm出、iaして、2−[
2−(N、N−ジメチルアミノ)エテルコ 6−(2−
(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エチルコ 3−ヒ
ドロキシ−5−メチル−21−ニトロビフェニル−2,
6−ジカルボキシレート(0,87g)を得る。
NMR(CDC13,l; ) ’ 2.00−2.5
0 (4H1m)、2.10(9B、s)、 2.20
(3H,s)、 3.40 (2H,s)、 3.5
0−4.15 <4)1.m)、 6.86 (IH,
s)、 7.10−7.60(8H,m)、 7.95
−8.13 (LH,m)X1血邊 実施例24と同様にして以下の化合物を得る。
0 (4H1m)、2.10(9B、s)、 2.20
(3H,s)、 3.40 (2H,s)、 3.5
0−4.15 <4)1.m)、 6.86 (IH,
s)、 7.10−7.60(8H,m)、 7.95
−8.13 (LH,m)X1血邊 実施例24と同様にして以下の化合物を得る。
<1)2−(2−ジメチルアミンエチル) 6−イツブ
ロビル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−’/カルボキシレート 融点=166〜168℃ <2>2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−シクロ
ペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点コ105℃ (3)2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−フェネ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート (4>2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−ベンジ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート(5)2−(2−ジ
メチルアミノエチル) 6−エテル 3−ヒドロキシ−
5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカル
ボキシレート(6)2−(3−ジメチルアミノプロピル
) 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エ
チルコ 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フエニル−2,6−ジカルボキシレート(7)2−(3
−ジメチルアミノプロピル) 6−7クロペンチル 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロピフェニル−
2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 470 (8)2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−シクロ
ヘキシル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ピフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 470 (9)2−(2−ジエチルアミンエチル) 6−シクロ
ペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ピフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e)、 74g4 寒星±遷 2−メチル 6−ジニチルアミノエチルチオエチル 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルポキシレート(0,10g)の塩化メチ
レン(10m1! )溶液に水冷下m−りo口過安息香
酸(37mg)を加え同温で30分間攪拌する0反応混
合物を炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を留去して
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て、2−メチル 6−ジニチルアミノエチルスルフイニ
ルエチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(0,05g
)を得る。
ロビル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフ
ェニル−2,6−’/カルボキシレート 融点=166〜168℃ <2>2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−シクロ
ペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート 融点コ105℃ (3)2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−フェネ
チル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′ニトロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート (4>2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−ベンジ
ル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−ニトロビフェ
ニル−2,6−ジカルボキシレート(5)2−(2−ジ
メチルアミノエチル) 6−エテル 3−ヒドロキシ−
5−メチル−2′−ニトロビフェニル−2,6−ジカル
ボキシレート(6)2−(3−ジメチルアミノプロピル
) 6−[2−(N−ベンジル−N−メチルアミノ)エ
チルコ 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビ
フエニル−2,6−ジカルボキシレート(7)2−(3
−ジメチルアミノプロピル) 6−7クロペンチル 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロピフェニル−
2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 470 (8)2−(2−ジメチルアミノエチル) 6−シクロ
ヘキシル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ピフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e) : 470 (9)2−(2−ジエチルアミンエチル) 6−シクロ
ペンチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ピフェニル−2,6−ジカルボキシレート・塩酸塩 Mass (m/e)、 74g4 寒星±遷 2−メチル 6−ジニチルアミノエチルチオエチル 3
−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル−
2,6−ジカルポキシレート(0,10g)の塩化メチ
レン(10m1! )溶液に水冷下m−りo口過安息香
酸(37mg)を加え同温で30分間攪拌する0反応混
合物を炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を留去して
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
て、2−メチル 6−ジニチルアミノエチルスルフイニ
ルエチル 3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロ
ビフェニル−2,6−ジカルボキシレート(0,05g
)を得る。
IR(neat) : 1720 am−’東五皿互
2− (2−(N、N−ジメチルアミノ)エチルコロ−
[2−(N−ベンジル−N−メチルアミン)エチル]
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート(0,97g)の塩化メ
チレン(2−)溶液に、メタノール中塩化水素(0,1
5g/+nfi、1.5鶴)を加え、溶媒を減圧下に留
去してその二塩酸塩(0,97g)を得る。
[2−(N−ベンジル−N−メチルアミン)エチル]
3−ヒドロキシ−5−メチル−2′−二トロビフェニル
−2,6−ジカルボキシレート(0,97g)の塩化メ
チレン(2−)溶液に、メタノール中塩化水素(0,1
5g/+nfi、1.5鶴)を加え、溶媒を減圧下に留
去してその二塩酸塩(0,97g)を得る。
IR(neat) : 1720 am’″1宜」0九
輩 実施例27と同様にして、2−メチル 6−[2−(N
−ベンジル−N−メチルアミン)エテルコ3−ヒドロキ
シー5−メチル−2′−二トロピフェニル−2,6−ジ
カルボキシレート・塩酸塩を得る。
輩 実施例27と同様にして、2−メチル 6−[2−(N
−ベンジル−N−メチルアミン)エテルコ3−ヒドロキ
シー5−メチル−2′−二トロピフェニル−2,6−ジ
カルボキシレート・塩酸塩を得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1およびR^3はそれぞれカルボキシ基ま
たはエステル化されたカルボキシ基、R^2は水素、ハ
ロゲン、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、シアノ基、ハロ(低級)アルキル基またはアル(低級
)アルコキシ基、R^4は低級アルキル基、R^5はヒ
ドロキシ基または保護されたヒドロキシ基をそれぞれ意
味する] で示されるビフェニル誘導体およびその塩。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8718906 | 1987-08-10 | ||
GB878718906A GB8718906D0 (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Substituted cyclohexadiene compounds |
GB878719441A GB8719441D0 (en) | 1987-08-17 | 1987-08-17 | Biphenyl compounds |
GB8719441 | 1987-08-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02129A true JPH02129A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26292591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63199676A Pending JPH02129A (ja) | 1987-08-10 | 1988-08-10 | ビフェニル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02129A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162936A (en) * | 1990-03-01 | 1992-11-10 | Kokusai Denshin Denwa Company, Ltd. | Apparatus for monitoring the operation of an optical repeater |
EP0698597A3 (de) * | 1994-08-25 | 1996-10-30 | Bayer Ag | Cyclohexadienderivate |
US6103925A (en) * | 1996-03-29 | 2000-08-15 | Bayer Aktiengesellschaft | Dimethyl-substituted cyclohexane diene derivatives |
WO2005004803A3 (en) * | 2003-07-01 | 2005-04-21 | Merck & Co Inc | Phenylcarboxylate beta-secretase inhibitors for the treatment of alzheimer's disease |
JP2008082585A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | 保護スイッチ装置及びこれを備えた空気調和機 |
-
1988
- 1988-08-10 JP JP63199676A patent/JPH02129A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN1062552C (zh) * | 1994-08-25 | 2001-02-28 | 拜尔公司 | 环己二烯衍生物、含有它们的药物及其制备方法与用途 |
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WO2005004803A3 (en) * | 2003-07-01 | 2005-04-21 | Merck & Co Inc | Phenylcarboxylate beta-secretase inhibitors for the treatment of alzheimer's disease |
US7348448B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-03-25 | Merck & Co., Inc. | Phenylcarboxylate beta-secretase inhibitors for the treatment of alzheimer's disease |
JP2008082585A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | 保護スイッチ装置及びこれを備えた空気調和機 |
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