JPH02124787A - Method for metallizing oxidic ceramics - Google Patents

Method for metallizing oxidic ceramics

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JPH02124787A
JPH02124787A JP5127189A JP5127189A JPH02124787A JP H02124787 A JPH02124787 A JP H02124787A JP 5127189 A JP5127189 A JP 5127189A JP 5127189 A JP5127189 A JP 5127189A JP H02124787 A JPH02124787 A JP H02124787A
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glass
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tungsten
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裕一 谷口
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    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation

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Abstract

PURPOSE:To improve vacuum sealing property and brazing characteristic by further forming a secondary layer by means of a paste containing Ni oxide, etc., on a primary layer prepared by applying a paste containing powdered W, powdered glass, etc., of the prescribed conditions and then burning the above under the prescribed conditions. CONSTITUTION:A paste in which a powder mixture consisting of, by weight, 70-95% W powder of <=10mum average grain size and 30-5% glass powder of 1100-1300 deg.C melting point and <=10mum average grain size is kneaded with an organic vehicle is prepared. This paste is applied to the surface of an oxidic ceramic sintered compact to form a primary layer. Subsequently, a paste containing one or more kinds among the powders, etc., of Ni, Ni oxides, and Ni salts of <=10mum average grain size is applied to the above layer to form a secondary layer. Then, the above sintered compact is burnt at 1200-1400 deg.C in a mixed atmosphere in which the ratio of H2 to H2O is regulated to 1-100000.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はセラミックスのメタライズ方法、詳しくは真空
封止性とろう付け性に優れた酸化物系セラミックスのメ
タライズ方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for metallizing ceramics, and more particularly to a method for metallizing oxide-based ceramics having excellent vacuum sealing properties and brazing properties.

[従来の技術] 金属と酸化物系セラミックスの接合を利用するものの一
例として電子レンジ用マグネトロン碍子や真空スイッチ
の外囲器等の電子管が挙げられる。
[Prior Art] Examples of devices that utilize the bonding of metal and oxide ceramics include electron tubes such as magnetron insulators for microwave ovens and envelopes for vacuum switches.

これらに対して金属とセラミックスの接合を利用する場
合は、接合界面が真空封止性を保持していなければなら
ず、この条件に対応する接合方法として、−船釣にはセ
ラミックスをメタライズし、メタライズ後相手金属と該
セラミックスをろう付けする方法が用いられている。
When using metal-ceramic bonding for these purposes, the bonding interface must maintain vacuum-sealing properties, and bonding methods that meet this condition include: - For boat fishing, metallizing ceramics; A method is used in which the ceramic is brazed to a mating metal after metallization.

メタライズの方法としては、従来より高融点金属法が広
く利用されている。高融点金属法とは、モリブデンまた
はタングステン等の高融点金属粉末とマンガン粉末を混
合し、これを有機溶媒で混合したペーストを酸化物系セ
ラミックス表面に塗布し、焼成してセラミックス表面に
モリブデン層またはタングステン層を形成せしめ、その
後ニッケルメッキを施して表面をニッケルで被覆せしめ
、しかるのち目的金属とろう付けするものである。
Conventionally, high melting point metal methods have been widely used as a metallization method. The high melting point metal method involves mixing high melting point metal powder such as molybdenum or tungsten with manganese powder, applying a paste made by mixing this with an organic solvent to the surface of oxide ceramics, and firing it to form a molybdenum layer on the ceramic surface. A tungsten layer is formed, then nickel plating is applied to coat the surface with nickel, and then the target metal is brazed.

このニッケル被覆がない場合、ろう材の流れ性や耐熱性
が不良となる。そのため高融点金属法では表面をニッケ
ルで被覆することは不可欠である。
Without this nickel coating, the flowability and heat resistance of the brazing filler metal will be poor. Therefore, in the refractory metal method, it is essential to coat the surface with nickel.

しかし、高融点金属法によるメタライズ表面にニンケル
メッキを行うことは非常に困難であり、各種の処理を行
う必要がある。即ち、高融点金属法によるメタライズ表
面は部分的にガラスで被覆されているため、脱ガラス処
理が必要であり、また表面改質のために酸処理や塩化パ
ラジウムによる活性化処理等を行う必要がある。このよ
うに高融点金属法は真空封止性に優れたメタライズ方法
であるが、工程が長く、これに要する製造コストが非常
に大きいという欠点を有していた。
However, it is very difficult to perform nickel plating on a metallized surface using the high melting point metal method, and various treatments are required. In other words, since the metallized surface obtained by the high melting point metal method is partially covered with glass, it is necessary to remove the glass, and to modify the surface, it is necessary to perform acid treatment, activation treatment with palladium chloride, etc. be. As described above, the high melting point metal method is a metallization method with excellent vacuum sealability, but it has the disadvantage that the process is long and the manufacturing cost required for this process is extremely high.

本発明者らは、メタライズ工程とNi付着工程という大
きな2つの工程のうち後者を省略する方法を検討した。
The present inventors investigated a method of omitting the latter of two major steps, the metallization step and the Ni adhesion step.

なぜなら、前者はメタライズの本質の工程であるのに対
し、後者はNiメツキという付与的な工程であるにもか
かわらず、予備処理工程の設備、メツキ設備、水処理設
備等を数多く必要とするからである。以下、モリブデン
やタングステンからなるメタライズ本体部をメタライズ
下部層、その上層部のNiを主成分とする層をNi上部
厄と称する。Ni上部層を形成する工程を削減すること
はメタライズ工程のコスト削減において非常に有利であ
る。本発明者らは、このような観点からNi上部層を形
成するための各種工程を一切省略する方法を検討した。
This is because while the former is the essential process of metallization, the latter is an additional process called Ni plating, but it requires a lot of equipment for the preliminary treatment process, plating equipment, water treatment equipment, etc. It is. Hereinafter, the metallized main body made of molybdenum or tungsten will be referred to as the lower metallized layer, and the layer above it, which is mainly composed of Ni, will be referred to as the Ni upper layer. Reducing the process of forming the Ni upper layer is very advantageous in reducing the cost of the metallization process. From this viewpoint, the present inventors investigated a method of omitting all the various steps for forming the Ni upper layer.

Ni上部層を形成するための各種工程を省略するには、
−度高融点金属法によるメタライズ層を形成させたのち
Niを有機溶媒で混合したペーストを印刷し、再度焼成
してNi層を形成させる2回焼成法が容易に考えられる
。しかし、この方法では、2度焼成を行わねばならず、
メツキ設備は省略できても、焼成工程は依然として2倍
必要であり、コスト削減にならない。そこで、本発明者
らは、メタライズ下部層形成とNi上部層形成を同時に
行うことに着目した。即ち、モリブデンとマンガンの混
合粉末を有機溶媒で混合したペーストをセラミックス表
面に塗布し、その後その上面にニッケルのペーストを印
刷して同時に焼成するという方法を創案した。しかし、
実際に実験を行うと、この2層の金属の融点や焼結速度
が大きく異なるために、同時に焼成を行うとNi層が溶
けてしまったり、下部の高融点金属層の強度値が低いこ
とが判明して失敗に終った。このように、単に高融点金
属ペーストとNiペーストを2度塗りするだけでは健全
なメタライズ層は形成されないことが判明した。また、
2度塗り同時焼成という工程に関しては、メタライズの
分野では多く行われているが、いずれも先に定義したメ
タライズ下部層形成の改善に関するもので、メタライズ
下部層とNi上部層を一度の焼成で形成するという本発
明の目的とは異なる。例えば特公昭36−6542号公
報記載の方法では、第1Nに高融点金属とセラミックス
の混合粉を、第2Nに高融点金属からなる金属層を設け
るものであるが、この方法は本発明でいうメタライズ下
部層形成の改善に関するものであり、Ni上部層を形成
するための各種工程を省略するものではなく、本発明と
その趣旨は全く異なる。また、その方法に関しても、第
1層目の金属と第2層目の金属は同じMoであり、この
ような同一金属の同時焼成方法の場合、INのみの焼成
条件と本質的に変わる所はない。WとNiの如く異なる
金属を同時に焼成することが非常に困難なのである。ま
た、特開昭58−213688号公報には、第1層目に
高融点金属の酸化物粉末を用い、第2層目に高融点金属
を使用し、メタライズ部の抵抗を低減する方法が開示さ
れているが、これも前記特公昭36−6542号公報記
載の発明と同様、メタライズ下部層形成に関するもので
あり、メツキ処理までを包含した本発明とは趣旨が全く
異なる。
To omit various steps for forming the Ni upper layer,
A two-time firing method can be easily considered, in which a metallized layer is formed by a high melting point metal method, a paste containing Ni mixed with an organic solvent is printed, and the paste is fired again to form a Ni layer. However, this method requires firing twice,
Even if the plating equipment could be omitted, the firing process would still be twice as necessary, and the cost would not be reduced. Therefore, the present inventors focused on forming the metallized lower layer and the Ni upper layer at the same time. That is, they devised a method in which a paste made by mixing a mixed powder of molybdenum and manganese in an organic solvent was applied to the ceramic surface, and then a nickel paste was printed on the top surface and fired at the same time. but,
In actual experiments, the melting points and sintering speeds of these two metal layers are significantly different, so if they were fired at the same time, the Ni layer would melt, and the lower high-melting point metal layer would have a low strength value. It turned out to be a failure. In this way, it has been found that a sound metallized layer cannot be formed by simply applying two coats of high melting point metal paste and Ni paste. Also,
The process of two coats and simultaneous firing is often used in the metallization field, but all of them are related to improving the formation of the lower metallized layer as defined above, and the lower metallized layer and the upper Ni layer are formed in one firing. This is different from the purpose of the present invention to do so. For example, in the method described in Japanese Patent Publication No. 36-6542, a mixed powder of a high melting point metal and ceramics is provided in the 1st N, and a metal layer made of a high melting point metal is provided in the 2nd N. This invention relates to improving the formation of the metallized lower layer, and does not omit various steps for forming the Ni upper layer, and its gist is completely different from the present invention. Also, regarding the method, the metal of the first layer and the metal of the second layer are the same Mo, and in the case of such a simultaneous firing method of the same metal, there are essentially no differences from the firing conditions for IN only. do not have. It is extremely difficult to sinter different metals such as W and Ni at the same time. Furthermore, JP-A-58-213688 discloses a method of reducing the resistance of the metallized portion by using an oxide powder of a high-melting point metal in the first layer and using a high-melting point metal in the second layer. However, like the invention described in Japanese Patent Publication No. 36-6542, this also relates to the formation of a metallized lower layer, and is completely different in spirit from the present invention, which includes plating.

即ち、特開昭58−213688号公報記載の方法によ
るメタライズ表面は、Ni化されたものではなく、ろう
付けを行う際には、Ni上部層を形成するため種々の工
程が必要なのである。
That is, the metallized surface obtained by the method described in JP-A-58-213688 is not made of Ni, and various steps are required to form a Ni upper layer when brazing.

本発明は、メタライズ下部層形成とNi上部層形成を同
時に行う抜本的な改善を目的とする2度塗り方法の最適
条件を構成要件とした発明に関するものである。
The present invention relates to an invention in which the optimum conditions for a two-coat method, which aims at a fundamental improvement in simultaneously forming a lower metallized layer and an upper Ni layer, are a constituent feature.

[発明が解決しようとする課題] 前述の如く酸化物系セラミックスをメタライズし、ろう
付け性を得るためには表面がニッケルで被覆されている
必要があり、かつ電子管用材料として使用する場合には
真空封止性に優れている必要がある。しかし、従来の方
法であるメタライズ下部層形成とその後のNi上部層を
形成するための各種工程という2段の工程では、製造コ
ストが高いという欠点を有していた。
[Problems to be Solved by the Invention] As mentioned above, in order to metallize oxide ceramics and obtain brazing properties, the surface must be coated with nickel, and when used as an electron tube material, Must have excellent vacuum sealability. However, the conventional two-step process of forming the metallized lower layer and subsequent various steps for forming the Ni upper layer has the drawback of high manufacturing costs.

そのため、製造コストを削減しつつ、かつ真空封止性が
劣らず、ろう付け性もよいセラミックスのメタライズ方
法の開発が望まれていた。
Therefore, it has been desired to develop a method for metallizing ceramics that reduces manufacturing costs, has comparable vacuum sealing properties, and has good brazing properties.

[課題を解決するための手段] 前記した課題を解決すべく本発明は、酸化物系セラミッ
クス焼結体の表面に、平均粒径が1oIlrn以下のタ
ングステン粉末70〜95重量%と、融点が1100〜
1300℃で、平均粒径が1101I以下のガラス粉末
30〜5重量%からなる混合粉末を有機ビークルで混練
したペーストを塗布したのち乾燥して第1層を形成し、
次いで前記第1M上に、平均粒径が10tIrn以下の
ニッケル、ニッケル酸化物。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides 70 to 95% by weight of tungsten powder having an average particle size of 1oIlrn or less and a melting point of 1100% on the surface of an oxide-based ceramic sintered body. ~
At 1300°C, a paste made by kneading a mixed powder of 30 to 5% by weight of glass powder with an average particle size of 1101I or less in an organic vehicle is applied and then dried to form a first layer,
Next, on the first M, nickel and nickel oxide having an average particle size of 10tIrn or less are placed.

ニッケル塩のうちのいずれか1種、もしくは2種以上を
組合わせた粉末を有機ビークルで混練したペーストを塗
布したのち乾燥して第2層を形成し、しかるのち、12
00〜1400℃の温度範囲で、かっ1<82/II□
0 <100000に調整された混合雰囲気中で焼成す
ることを特徴とする真空封止性とろう付け性に優れた酸
化物系セラミックスのメタライズ方法を要旨とするもの
である。
A paste made by kneading powder of one or more of the nickel salts in an organic vehicle is applied and dried to form a second layer, and then 12
In the temperature range of 00 to 1400℃, 1<82/II□
The gist of the present invention is a method for metallizing oxide-based ceramics with excellent vacuum sealing properties and brazing properties, which is characterized by firing in a mixed atmosphere adjusted to 0 < 100,000.

[作 用] 本発明者らは従来の高融点金属法の製造コストよりも、
大幅に製造コストが低く、がっ完成品が、高融点金属法
で製造されたものと同等、もしくはそれ以上の真空封止
性、ろう付け性を保持するようなアルミナ質セラミック
スのメタライズ方法について検討を重ねてきた。
[Function] The present inventors have realized that the manufacturing cost is lower than that of the conventional high melting point metal method.
Consideration of a metallization method for alumina ceramics that has significantly lower manufacturing costs and that allows the finished product to maintain vacuum sealing and brazing properties equal to or better than those produced using the refractory metal method. I've been repeating it.

従来より各方面で使用されていた高融点金属法の工程を
以下に示す。まず、モリブデンまたはタングステンとい
う高融点金属とマンガンの金属をペースト状にし、アル
ミナ質セラミックス上面に塗布する。次に、マンガンは
酸化されるがモリブデンは酸化されない雰囲気に制御さ
れた炉中に保持する。具体的例としてはN2 :H,=
9 : 1゜露点40℃,1450℃程度の温度の雰囲
気である。
The steps of the refractory metal method, which has been conventionally used in various fields, are shown below. First, a high-melting point metal such as molybdenum or tungsten and manganese are made into a paste and applied to the top surface of the alumina ceramic. Next, it is kept in a furnace in a controlled atmosphere where manganese is oxidized but molybdenum is not oxidized. A specific example is N2 :H,=
9: 1°, dew point of 40°C, and a temperature of about 1450°C.

モリブデンはこの温度で焼結し、金属のネットワークを
形成し、メタライズ層の骨格を形成する。
The molybdenum sinteres at this temperature, forming a metallic network and forming the skeleton of the metallized layer.

しかし、このモリブデンの層の形成直後のままではメツ
キは殆どできない。このため、脱脂や脱ガラス処理、酸
処理2活性化処理等を行う。このような処理を行うのは
メタライズ表面がガラスで被覆されていたり、高融点金
属が薄く酸化されているものと考えられるからである。
However, plating is hardly possible immediately after the formation of this molybdenum layer. For this purpose, degreasing, deglass treatment, acid treatment 2 activation treatment, etc. are performed. The reason why such a treatment is carried out is because the metallized surface is considered to be coated with glass or the high melting point metal is thinly oxidized.

高融点金属法の唯一の欠点は、このようにモリブデンの
層の形成後、予備処理、メツキ等の長い工程、即ちNi
層を表面に形成するための工程を必要とすることである
The only drawback of the refractory metal method is that after the formation of the molybdenum layer, there are long steps such as pretreatment, plating, etc.
It requires a step to form a layer on the surface.

そこで、本発明者らはモリブデンを下塗りし、その上面
にニッケルの上塗りを行った後、同時に焼成を行えば、
工程が一度で済むことに着眼して実験研究を進めた。し
かし、この場合、モリブデン中にニッケルが拡散し、モ
リブデンとニッケルが共晶を作って溶融するか、過焼結
するがして、健全なメタライズ層を得ることができなか
った。
Therefore, the inventors of the present invention undercoated molybdenum, overcoated the top surface with nickel, and then fired at the same time.
The experimental research focused on the fact that the process only needed to be completed once. However, in this case, nickel diffuses into molybdenum, and molybdenum and nickel form a eutectic and melt or oversinter, making it impossible to obtain a sound metallized layer.

これは、焼成中、モリブデン中にニッケルが固溶し、モ
リブデンの自己拡散係数が上昇したことに起因する。即
ら、1回の焼成でニッケルを被覆せしめるには、第1N
の金属の選択が非常に重要な項目となる。そこで、本発
明者らはモリブデンあるいはタングステン等のペースト
を下塗りし、その下塗金属の上にその金属の自己拡散の
活性化エネルギーの0.2倍から0.6倍の範囲の金属
を上塗りすれば、良好なメタライズの可能性が有ること
を知見した。例えば、下塗金属がタングステンの場合、
上塗りはニッケルがよく、また下塗りがモリブデンの場
合には、上塗りは銀が良好であること等である。先述し
たように、本発明でのメタライズ表面はNiである必要
から、下塗金属とじてはタングステンが好ましいことが
判明した。そこでその金属の組合せにおいてメタライズ
の可能性を検討した。
This is due to the fact that nickel was dissolved in molybdenum during firing, and the self-diffusion coefficient of molybdenum increased. That is, in order to coat nickel in one firing, the first N
The selection of metal is a very important item. Therefore, the inventors of the present invention applied a paste such as molybdenum or tungsten as an undercoat, and then overcoated the undercoat metal with a metal having an activation energy of 0.2 to 0.6 times the self-diffusion of that metal. It was found that there is a possibility of good metallization. For example, if the base coat metal is tungsten,
Nickel is good for the topcoat, and if the undercoat is molybdenum, silver is good for the topcoat. As mentioned above, since the metallized surface in the present invention is required to be Ni, it has been found that tungsten is preferable as the undercoat metal. Therefore, we investigated the possibility of metallization in this combination of metals.

そこでさらに研究を重ね、上部にニッケルを被覆せしめ
る場合、第1層内に使用する金属はタングステンが最良
であることを見い出し、さらに、タングステンとガラス
を均一混合したものを塗布することによってアルミナ質
セラミックスにおける前記課題を解決できることを知見
した。
After further research, it was discovered that tungsten was the best metal to use in the first layer when coating the top with nickel. It has been found that the above-mentioned problems can be solved.

本発明は、高融点金属法におけるモリブデン層の形成後
の長い工程を、その特性を劣化させることなく省略する
ことを特徴とする。
The present invention is characterized in that the long steps after forming the molybdenum layer in the refractory metal method are omitted without deteriorating its properties.

本発明のメタライズの方法におけるメタライズの機構は
以下の通りである。
The metallization mechanism in the metallization method of the present invention is as follows.

まず、第2図(a)に示すように酸化物系セラミックス
の一つであるアルミナ質のセラミックス焼結体2の表面
に、タングステン粉末とガラス粉末からなる混合粉末を
有機ビークルで混練してなるペーストを塗布したのち乾
燥して第1層301を形成する。タングステン粉末とガ
ラス粉末はそれぞれ平均粒径(特記なき場合、この平均
粒径を以下単に粒径と言う)が10μm以下に調整され
ている。
First, as shown in FIG. 2(a), a mixed powder consisting of tungsten powder and glass powder is kneaded with an organic vehicle on the surface of an alumina ceramic sintered body 2, which is one of the oxide ceramics. After applying the paste, it is dried to form the first layer 301. The tungsten powder and the glass powder are each adjusted to have an average particle size (unless otherwise specified, this average particle size will be simply referred to as particle size hereinafter) of 10 μm or less.

ガラスはその組成により大きくその特性が異なり、その
融点は後述するように1100〜1300℃の範囲でな
ければ健全なメタライズ組織が形成されなかった。その
−例としてAhO+−MnO−5iO□系を用いること
ができる。また有機ビークルの一例としてはエチルセル
ロース等の有機バインダとテルピネオール等の有機溶剤
を混合し、適度な粘度にしたものが適用可能である。次
に第1層301の上面にニッケル、ニッケル酸化物、ニ
ッケル塩のいずれか1種あるいは2種以上を組合わせて
混合したものを前記有機ビークルで混練してなるペース
トを塗布したのち乾燥して第2層302を形成する。ニ
ッケル、ニッケル酸化物、ニッケル塩は粒径が10μm
以下に調整されていればどれを使用してもよい。
The properties of glass vary greatly depending on its composition, and as will be described later, a healthy metallized structure cannot be formed unless the melting point is in the range of 1100 to 1300°C. As an example, the AhO+-MnO-5iO□ system can be used. Further, as an example of the organic vehicle, a mixture of an organic binder such as ethyl cellulose and an organic solvent such as terpineol to obtain an appropriate viscosity can be used. Next, a paste made by kneading one or more of nickel, nickel oxide, and nickel salt in the organic vehicle is applied to the upper surface of the first layer 301, and then dried. A second layer 302 is formed. The particle size of nickel, nickel oxide, and nickel salt is 10 μm.
You can use any one as long as it is adjusted as follows.

第2図(b)はこれらを模式的に示したものである。FIG. 2(b) schematically shows these.

このようにして第1層301と第2層302を形成した
のち、セラミックス焼結体2を1200〜1400℃の
範囲で、しかも後述する雰囲気条件で焼成する。この焼
成の際、第3図の模式図に示すように第1層301のタ
ングステン粉末はある程度焼結する。これに対し前記ペ
ースト中のガラス粉末は溶融し、その一部分はセラミッ
クス焼結体2の表面に流動しアルミナと反応する。ガラ
スの残部はタングステンの空隙部分を隙間なく充填し、
タングステンとガラス混合層を形成する。一方、第2層
302中のニッケル、ニッケル酸化物、ニッケル塩は焼
成雰囲気中ではニッケル金属に還元され十分焼結し、タ
ングステン層を被覆し、自らはニッケル層を形成する。
After forming the first layer 301 and the second layer 302 in this manner, the ceramic sintered body 2 is fired at a temperature in the range of 1200 to 1400°C under atmospheric conditions described below. During this firing, the tungsten powder of the first layer 301 is sintered to some extent, as shown in the schematic diagram of FIG. On the other hand, the glass powder in the paste melts, and a part of it flows onto the surface of the ceramic sintered body 2 and reacts with the alumina. The remainder of the glass fills the voids in the tungsten without any gaps.
Form a tungsten and glass mixed layer. On the other hand, nickel, nickel oxide, and nickel salt in the second layer 302 are reduced to nickel metal in the firing atmosphere and are sufficiently sintered to cover the tungsten layer and form a nickel layer by themselves.

第1図はこのようにしてセラミックス焼結体2の表面に
生成されたメタライズ層3の断面を示すもので、セラミ
ックス焼結体2の表面に前述したタングステン−ガラス
の混合層31が、またこの混合層31の上面にニッケル
層32が形成され、メタライズ層3を構成している。こ
の場合、ニッケル層32にはタングステンがその固溶限
(約40重量%)まで固溶し得るが、ろう付け性には影
響を及ぼさない。このようにしてセラミックス焼結体2
上に、強固に接着されたメタライズ層3が形成される。
FIG. 1 shows a cross section of the metallized layer 3 thus generated on the surface of the ceramic sintered body 2. The above-mentioned tungsten-glass mixed layer 31 is also present on the surface of the ceramic sintered body 2. A nickel layer 32 is formed on the upper surface of the mixed layer 31 and constitutes the metallized layer 3. In this case, tungsten can be dissolved in the nickel layer 32 up to its solid solubility limit (approximately 40% by weight), but this does not affect the brazing properties. In this way, the ceramic sintered body 2
A strongly bonded metallized layer 3 is formed on top.

冷却後はアルミナとガラスは連続相となり、タングステ
ンとガラスはアンカー効果により強固に接着する。かく
して、アルミナとタングステンはガラスを媒介として、
タングステンとニッケルは相互拡散によりそれぞれ接着
して、メタライズされたアルミナ体1が完成する。
After cooling, alumina and glass become a continuous phase, and tungsten and glass are strongly bonded due to the anchor effect. Thus, alumina and tungsten can be used as a medium through glass.
Tungsten and nickel are bonded to each other by mutual diffusion, and the metallized alumina body 1 is completed.

ガラス粉末は融点が1100〜1300℃のものに限定
される。このようなガラスとしてはA7z03−MnO
3iO□系が望ましいが、前記融点を有するものであれ
ばこの限りではない。
Glass powder is limited to those having a melting point of 1100 to 1300°C. Such glass is A7z03-MnO
3iO□ type is preferable, but it is not limited to this as long as it has the above-mentioned melting point.

即ち、融点が1100℃未満では力゛ラス自体の強度が
低くなり、またガラスの流動が起こりすぎ、メタライズ
後の強度が著しく低下する。逆に融点が1300℃を超
えるとガラスの流動性が悪くなり、タングステンの空隙
を完全には充填せず、十分な真空封止性が得られない。
That is, if the melting point is less than 1100° C., the strength of the glass itself will be low, and the glass will flow too much, resulting in a significant decrease in strength after metallization. On the other hand, if the melting point exceeds 1300° C., the fluidity of the glass deteriorates, and the voids in the tungsten are not completely filled, making it impossible to obtain sufficient vacuum sealing properties.

またタングステン粒は粒径が10μm以下のものに限定
される。この範囲を外れるとタングステン粒間距離の大
小差が大きくなりすぎ、毛管現象によりガラスがタング
ステン粒間径の狭い部位へ移動し、粒間径の広い部分に
ガラスが存在し得なくなるため、真空封止性が得られな
い。ガラスの粒径も粒径が10μm以下のものに限られ
るが、この理由は前記のタングステン粒径限定理由と同
じである。即ち、粒径が10μmを超えるガラスが溶融
した場合、ガラスはタングステン粒間径の小さい部位に
吸い取られ、ガラスが存在していた部分は空隙となるか
らである。
Further, the tungsten grains are limited to those having a grain size of 10 μm or less. Outside this range, the difference in distance between tungsten grains becomes too large, and glass moves to areas with narrower tungsten grains due to capillary action, making it impossible for glass to exist in areas with wider grains, resulting in vacuum sealing. No stopping properties are obtained. The particle size of the glass is also limited to 10 μm or less for the same reason as the above-mentioned reason for limiting the tungsten particle size. That is, when glass having a particle size of more than 10 μm is melted, the glass is absorbed into the area where the tungsten particle size is small, and the area where the glass was present becomes a void.

タングステン粉末とガラス粉末の混合比は、タングステ
ンが70〜95重量%、ガラスが30〜5重量%に限定
される。この比からタングステンが多い側に外れるとガ
ラスの絶対量が少なくなりすぎ、ガラスがタングステン
のネットワークを充填できず真空封止性が保証できない
。逆にタングステンが少ない側にずれるとタングステン
がネットワークを形成できず、十分な強度が得られない
からである。
The mixing ratio of tungsten powder and glass powder is limited to 70 to 95% by weight of tungsten and 30 to 5% by weight of glass. If this ratio deviates from the side with more tungsten, the absolute amount of glass becomes too small, and the glass cannot fill the tungsten network, making it impossible to guarantee vacuum sealability. On the other hand, if the amount of tungsten is shifted to the side where there is less tungsten, the tungsten will not be able to form a network and sufficient strength will not be obtained.

ニッケル源、即ちニッケル、ニッケル酸化物。Nickel sources: nickel, nickel oxide.

ニッケル塩も粒径が10μm以下に限定される。これを
外れると焼結が十分に進まず、混合層31(タングステ
ン−ガラス層)表面を完全に被覆できないためろう付け
性が悪(なる。またタングステンとニッケルの接触サイ
ト数が減少し強度低下を招く。またニッケル、ニッケル
酸化物、ニッケル塩は後述の雰囲気で焼成した場合、い
ずれもニッケル金属に還元されるものであり、これらの
種類の中での有意差は認められない。
The particle size of nickel salt is also limited to 10 μm or less. If it is outside this range, sintering will not progress sufficiently and the surface of the mixed layer 31 (tungsten-glass layer) will not be completely covered, resulting in poor brazing properties.Also, the number of contact sites between tungsten and nickel will decrease, resulting in a decrease in strength. Further, when nickel, nickel oxide, and nickel salt are fired in the atmosphere described below, they are all reduced to nickel metal, and no significant difference is observed among these types.

焼成温度は1200〜1400℃に限定される。120
0℃未満ではアルミナとガラスの反応量が少なく、また
ガラスの流動性も悪いため、十分な強度と真空封止性が
得られない。1400”Cを超えると、タングステンが
過焼結してガラスが充填するべき空隙が少なくなり、ガ
ラスとタングステンのアンカー効果が少なくなり、強度
が低下する。焼成雰囲気については、水素と水蒸気の比
(H,/H20)が1を超え、100000未満(1<
H□/1lzO<100000)に限られる。 1以下
になった場合はタングステンが酸化され、100000
以上の場合はガラスが還元されて金属が析出し、かつア
ルミナの変色が激しくなる。
The firing temperature is limited to 1200-1400°C. 120
At temperatures below 0°C, the amount of reaction between alumina and glass is small, and the fluidity of the glass is also poor, making it impossible to obtain sufficient strength and vacuum sealability. When the temperature exceeds 1400"C, tungsten is oversintered and there are fewer voids to be filled with glass, which reduces the anchoring effect between glass and tungsten, resulting in a decrease in strength. Regarding the firing atmosphere, the ratio of hydrogen to water vapor ( H, /H20) is greater than 1 and less than 100000 (1<
H□/1lzO<100000). If it becomes less than 1, tungsten is oxidized and becomes 100,000
In the above case, the glass is reduced and metal is precipitated, and the alumina becomes more discolored.

このように水素と水蒸気の比が所定の範囲内にあれば、
NZ+八rへ tie  等の不活性ガスを混合させる
ことができる。例えば露点20℃1Hz : Nt= 
10=90のガス気流が好ましい。
In this way, if the ratio of hydrogen and water vapor is within the specified range,
An inert gas such as a tie can be mixed into NZ+8r. For example, dew point 20℃ 1Hz: Nt=
A gas flow of 10=90 is preferred.

本発明の条件によるメタライズ後のMi織の特徴を以下
に述べる。本発明では特にNi層に特徴がある。第一の
特徴はNiペーストをスクリーン印刷等により塗布して
いるがために、メツキ法に比較して製品でのNi層の厚
みが10μm以上あり耐熱性等の面で有利であることで
ある。即ち、Niは本来耐熱性金属でありNi層の厚み
が厚いほどメタライズ面の耐熱性が改善される。しかし
従来のメツキ方法ではNi層の厚みを増すのは非常にコ
ストがかかり、また厚みを増す程強度が低下してくると
いう問題があり、通常2〜4μmにせざるを得ない。こ
れは耐熱性の観点からすると非常に不利である。即ち、
650℃の空気中保持テストでは数分で酸化されてしま
い、真空封止性が無くなり、強度も初期の173程度に
低下してしまう。
The characteristics of the Mi weave after metallization under the conditions of the present invention will be described below. The present invention is particularly characterized by the Ni layer. The first feature is that since the Ni paste is applied by screen printing or the like, the thickness of the Ni layer in the product is 10 μm or more, which is advantageous in terms of heat resistance, etc., compared to the plating method. That is, Ni is originally a heat-resistant metal, and the thicker the Ni layer, the better the heat resistance of the metallized surface. However, in the conventional plating method, increasing the thickness of the Ni layer is very costly, and there is also the problem that the strength decreases as the thickness increases, so the thickness must usually be 2 to 4 μm. This is very disadvantageous from the viewpoint of heat resistance. That is,
In an air retention test at 650°C, it was oxidized in a few minutes, losing its vacuum sealing properties and reducing its strength to the initial level of about 173.

方、本発明品では60分間保持しても真空封止性。On the other hand, the product of the present invention has vacuum sealability even after being held for 60 minutes.

強度に変化はなかった。There was no change in strength.

このように、本発明ではNi層を塗布し焼結しているた
めに、耐熱性が優れかつ厚さがあるにもかかわらず非常
に強度があり、厚みに対するコストアンプが少ない。
As described above, in the present invention, since the Ni layer is applied and sintered, it has excellent heat resistance and is very strong despite its thickness, and the cost increase with respect to the thickness is small.

次に、本発明の方法の場合、同時焼成のため、第1層と
第2層の間で金属の相互拡散が起こり、Ni層中に最大
40重量%までのタングステンを固溶することが特徴で
ある。本発明の実施例ではタングステンの固溶量は通常
20〜40重量%程度である。一方、従来のMo−Mn
法とメツキ処理のメタライズ方法では、N1Jl中の固
溶金属量は5重量%以下であり明確な組織の差が現れる
Next, in the case of the method of the present invention, due to simultaneous firing, interdiffusion of metal occurs between the first layer and the second layer, resulting in solid solution of up to 40% by weight of tungsten in the Ni layer. It is. In the examples of the present invention, the amount of solid solution of tungsten is usually about 20 to 40% by weight. On the other hand, conventional Mo-Mn
In the metallization methods of metallization and plating, the amount of solid solution metal in N1Jl is 5% by weight or less, and a clear difference in structure appears.

タングステンの固溶によりNi層の強度が増し、部品の
ハンドリング時の疵がつきにくく非常に有利である。
The solid solution of tungsten increases the strength of the Ni layer, which is extremely advantageous in that it is less prone to scratches during handling of parts.

以上のように本発明では、諸特性値のみならず組織にも
大きな特徴を有しており、このことは断面のEPMAや
SEM写真より容易に判断できる。
As described above, the present invention has significant characteristics not only in the various characteristic values but also in the structure, and this can be easily determined from EPMA or SEM photographs of the cross section.

以上の実験例で使用したセラミックスはアルミす系(/
’jz(h)であったが、その他の各種セラミックスに
ついても種々実験検討を行った。その結果、ムライト(
2A7z(h・2SiO□)、ステアタイト(MgO・
5in2) +フォルステライト(2MgO・5iO2
)lコージエライト(2MgO・2 y 20 y・5
SiO□)でも同等の強度及び真空封止性が得られた。
The ceramics used in the above experimental examples are aluminum-based (/
'jz(h), but we also conducted various experimental studies on other types of ceramics. As a result, mullite (
2A7z (h・2SiO□), steatite (MgO・
5in2) + forsterite (2MgO・5iO2
) l cordierite (2MgO・2 y 20 y・5
Similar strength and vacuum sealability were obtained with SiO□).

このことは、メタライズ下部層形成ペースト中のガラス
成分と反応しやすい成分を含有したセラミックス系に対
し、本発明のメタライズ方法が特に有用であることを示
すものである。即ち、酸化物を含有したセラミックスに
本発明は特に有効である。上記のセラミックスの中でも
、ステアタイトやフォルステライトではその耐熱温度が
Al2O2より低く 、1450℃前後で焼成する従来
のメタライズ法では健全なメタライズ層が形成すること
が困難であった。しかし、本発明によれば、その焼成温
度が1200〜1400’Cと低いにも拘らず、これら
の低耐熱温度セラミックスについても十分メタライズで
きる。
This shows that the metallization method of the present invention is particularly useful for ceramic systems containing components that easily react with the glass component in the metallization lower layer forming paste. That is, the present invention is particularly effective for ceramics containing oxides. Among the above-mentioned ceramics, steatite and forsterite have a lower heat resistance temperature than Al2O2, and it has been difficult to form a sound metallized layer using the conventional metallization method of firing at around 1450°C. However, according to the present invention, although the firing temperature is as low as 1200 to 1400'C, even these low heat-resistant temperature ceramics can be sufficiently metalized.

第1層のタングステンや第2層のNiには通常99%程
度の純度のものが用いられる。
Tungsten for the first layer and Ni for the second layer usually have a purity of about 99%.

[実施例] 実施例1 第4図の斜視図に示す内径12胴φ×外径16mmφ×
高さio+nmのセラミックス焼結体である円筒体20
に、第5図に示す如く銅管6を接合する際に本発明を実
施した。
[Example] Example 1 Inner diameter 12 cylinder φ x outer diameter 16 mm φ shown in the perspective view of Fig. 4
Cylindrical body 20 which is a ceramic sintered body with a height of io+nm
The present invention was carried out when joining copper pipes 6 as shown in FIG.

円筒体20はlV2O,の含有量92%のアルミナ系で
あり、この円筒体20の上端20aに、先ずそれぞれ粒
径が5μm以下に調整されたlV2O3:MnO;5i
Qz=26 : 34 : 40重量比のIVzOt−
MnO5iO□系ガラスの粉末とタングステン粉末を、
第1表に示すような比率で混合した混合粉末を、有機ビ
ークルで混練し、得られたペーストをスクリーン印刷に
より塗布した。ペーストを塗布した後、オーブン内で2
00℃X120分間、乾燥処理を行い、第6図に示すよ
うに第1層311を形成した。次いでこの第1層311
の表面311aに、粒径5μm以下に調整されたニッケ
ル酸化物粉末を、前述した有機ビークルで混練し、得ら
れたペーストをスクリーン印刷により塗布した。塗布後
、オーブン内で200°cx120分間乾燥処理を行い
、第21321を形成させた。しかる後、露点20℃の
窒素90体積%、水素10体積%の混合ガス気流中で昇
温速度10℃/分で第1表に示す温度まで加熱し、60
分保持した。次いで10℃/分で冷却し、メタライズ層
30を形成させ、アルミナ体10を得た。
The cylindrical body 20 is made of alumina containing 92% lV2O, and at the upper end 20a of this cylinder 20, lV2O3:MnO;
Qz=26:34:40 weight ratio IVzOt-
MnO5iO□ based glass powder and tungsten powder,
Mixed powders mixed in the proportions shown in Table 1 were kneaded using an organic vehicle, and the resulting paste was applied by screen printing. After applying the paste, put it in the oven for 2
A drying process was performed at 00° C. for 120 minutes to form a first layer 311 as shown in FIG. Next, this first layer 311
Nickel oxide powder adjusted to a particle size of 5 μm or less was kneaded using the above-mentioned organic vehicle, and the resulting paste was applied to the surface 311a by screen printing. After coating, a drying process was performed in an oven at 200°C for 120 minutes to form No. 21321. Thereafter, the mixture was heated to the temperature shown in Table 1 at a heating rate of 10°C/min in a mixed gas flow of 90% by volume of nitrogen and 10% by volume of hydrogen with a dew point of 20°C.
It was held for a minute. Next, it was cooled at a rate of 10° C./min to form a metallized layer 30, thereby obtaining an alumina body 10.

このアルミナ体10に、第5図に示すように銅管6を接
合し、真空封止性と接合強度を測定した。
A copper tube 6 was bonded to this alumina body 10 as shown in FIG. 5, and the vacuum sealability and bonding strength were measured.

銅管6との接合は前記メタライズN30と銅管6の間ニ
ロウ材5(本実施例ではJIS Z 3261 BAg
−8を用いた)を介在せしめ、水素雰囲気中でろう付け
して接合体を得た。接合体を得た後、アルミナ体10の
底面20bに、十分な封止性を保持する接着剤を用いて
、鉄製治具を装着した。
The connection with the copper tube 6 is made using a Nilow material 5 (in this example, JIS Z 3261 BAg) between the metallized N30 and the copper tube 6.
-8) was interposed and brazed in a hydrogen atmosphere to obtain a joined body. After obtaining the bonded body, an iron jig was attached to the bottom surface 20b of the alumina body 10 using an adhesive that maintains sufficient sealing properties.

真空封止性はヘリウムリーク検出器を用い、銅管6の先
端部からのリーク量を測定した。評価の基準はI X 
10−10Torr−1/ sec以下の封止性を示す
ものを合格とした。接合強度は鉄製治具を固定し、銅管
6を上方に引張り、測定した。第1表は前記のガラス粉
末とタングステン粉末の混合比と、焼成温度をパラメー
タとした調査結果の一例を示すものである。焼成温度が
1200〜1400℃で、タングステンとガラスの重量
比が70:30〜95:5の範囲であれば良好な特性を
有する接合体が得られた。
The vacuum sealability was determined by measuring the amount of leakage from the tip of the copper tube 6 using a helium leak detector. The evaluation criteria is I
Those exhibiting a sealing property of 10-10 Torr-1/sec or less were passed. The bonding strength was measured by fixing an iron jig and pulling the copper tube 6 upward. Table 1 shows an example of the results of an investigation using the mixing ratio of the glass powder and tungsten powder and the firing temperature as parameters. As long as the firing temperature was 1200 to 1400°C and the weight ratio of tungsten to glass was in the range of 70:30 to 95:5, a bonded body with good properties was obtained.

次に前記第5図に示す胴管接合品を50℃から600℃
まで加熱し、その状態を10分間維持したのち、50℃
まで冷却する熱サイクル試験を実施した。昇温速度は3
4℃/mln+降温速度は37°(/minで、この昇
温、降温を繰り返し実施して前述した真空封止性と引張
強度の変化を調査した。この結果、従来法のモリブデン
−マンガン法では10回の熱サイクルで真空封止性が劣
化し引張強度も100kgf以下に低下した。
Next, the body tube joint product shown in Fig. 5 was heated at 50°C to 600°C.
After heating to 50℃ and maintaining that state for 10 minutes,
A thermal cycle test was conducted to cool down to The heating rate is 3
The temperature drop rate was 4°C/mln + 37°/min, and the above-mentioned changes in vacuum sealability and tensile strength were investigated by repeating this heating and cooling process.As a result, it was found that the conventional molybdenum-manganese method After 10 thermal cycles, the vacuum sealability deteriorated and the tensile strength also decreased to below 100 kgf.

これに対し本発明に基づくものでは10回の熱サイクル
後でも真空封止性I X 10−” Torr−j2/
sec以下を確保し、しかも引張強度は350 kgf
以上(銅管6が破壊)であった。
On the other hand, the device based on the present invention has vacuum sealability I x 10-” Torr-j2/
sec or less, and the tensile strength is 350 kgf.
That is all (the copper pipe 6 was destroyed).

実施例2 次にガラスの融点による影響を調査するために、前記実
施例1においてタングステン粉末とガラス粉末の混合比
率を80 : 20で一定とし、この中でガラス粉末の
融点を調整し、その他の条件は実施例1と同様にしてメ
タライズ1i30を形成して、真空封止性と接合強度を
測定した。
Example 2 Next, in order to investigate the influence of the melting point of glass, the mixing ratio of tungsten powder and glass powder was kept constant at 80:20 in Example 1, the melting point of the glass powder was adjusted, and other Metallized 1i30 was formed under the same conditions as in Example 1, and the vacuum sealability and bonding strength were measured.

第2表はその調査結果の一例を示すもので、良好な特性
を得るには、焼成温度を1200〜1400℃。
Table 2 shows an example of the results of the investigation. In order to obtain good characteristics, the firing temperature should be 1200 to 1400°C.

ガラスの融点を1100〜1300’Cの範囲内に制御
する必要のあることが確認された。
It was confirmed that it was necessary to control the melting point of the glass within the range of 1100 to 1300'C.

実施例3 実施例1と同様にしてタングステン、ガラス。Example 3 Tungsten and glass were prepared in the same manner as in Example 1.

ニッケル等の粒径の影響を調査した。The influence of particle size of nickel, etc. was investigated.

実施例2と同様にして、タングステンの粒径の影響はガ
ラスとニッケルの粒径を5μmで一定とし、またガラス
の粒径の影響はタングステンとニッケルの粒径を5μm
に、ニッケルの粒径の影響はタングステンとガラスの粒
径を51にそれぞれ一定止して行った。ガラスは前記実
施例1と同一の組成とした。第3表はその調査結果の一
例を示すものである。良好な特性を得るには、タングス
テン。
In the same manner as in Example 2, the effect of the particle size of tungsten was determined by keeping the particle sizes of glass and nickel constant at 5 μm, and the effect of the particle size of glass was determined by changing the particle size of tungsten and nickel to 5 μm.
In order to examine the influence of the particle size of nickel, the particle sizes of tungsten and glass were fixed at 51, respectively. The glass had the same composition as in Example 1 above. Table 3 shows an example of the survey results. Tungsten for good properties.

ガラス、ニッケル粉末のいずれも10μm以下に調整す
る必要性のあることが判った。
It was found that it was necessary to adjust the thickness of both glass and nickel powder to 10 μm or less.

第3表 × :真空封止性が判断基準値 (IXIO伺0 Torr ゛ ffi/5ec)以下を満足せず。Table 3 × : Vacuum sealability is the criterion value (IXIO visit 0 Torr゛ ffi/5ec) or less.

Δ:真空封止性は上記基準を満足するが、引張強度が1
50 kgf未満。
Δ: Vacuum sealability satisfies the above criteria, but tensile strength is 1
Less than 50 kgf.

○:真空封止性は上記基準を満足し、かつ引張強度が1
50〜350 kgfの範囲。
○: Vacuum sealability satisfies the above criteria and tensile strength is 1
Range from 50 to 350 kgf.

◎:真空封止性は上記基準を満足し、かつ引張強度が3
50 kgf超。
◎: Vacuum sealability satisfies the above criteria and tensile strength is 3
Over 50 kgf.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、アルミナ質セラ
ミックス焼結体をメタライズする際の設備コストが従来
の高融点金属法と比較して50%も削減され、かつコス
トが削減されたにも拘らず従来法によって得られていた
特性に対して全く劣らないものを製造することが可能と
なった。また、従来Mo−Mn法で困難とされていた融
点の低いセラミックスに対しても、本発明を適用するこ
とができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the equipment cost when metalizing an alumina ceramic sintered body is reduced by 50% compared to the conventional high melting point metal method, and the cost is also reduced. Despite the reduction, it has become possible to manufacture products with properties that are not inferior to those obtained by conventional methods. Furthermore, the present invention can also be applied to ceramics with a low melting point, which has been difficult to produce using the Mo--Mn method.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に基づき形成されたメタライズ層を示す
断面図、第2図はアルミナ質セラミックス焼結体表面に
ペーストが塗布された状態を示すもので、第2図(a)
は断面図、第2図(b)は模式図である。第3図はアル
ミナ質セラミックス焼結体表面に塗布されたペーストが
焼付けられた状態を示す模式図、第4図は本発明の具体
的実施例を示すもので円筒状アルミナ質セラミックス焼
結体の斜視図、第5図は前記第4図のアルミナ体に鋼管
を接合した状態を示す断面図、第6図は第5図のアルミ
ナ体におけるメタライズ層を示す断面図である。 1.10・・・アルミナ体、2.20・・・アルミナ質
セラミックス焼結体、3,30・・・メタライズ層、3
1・・・タングステン−ガラスの混合層、32・・・ニ
ッケル層、301,311・・・第1層、302゜32
1・・・第2N、5・・・ろう材、6・・・銅管。 第 図 第2図 (b) 第3図 第4図
Fig. 1 is a cross-sectional view showing a metallized layer formed according to the present invention, and Fig. 2 shows a state in which paste is applied to the surface of an alumina ceramic sintered body. Fig. 2 (a)
is a sectional view, and FIG. 2(b) is a schematic diagram. Fig. 3 is a schematic diagram showing the state in which the paste applied to the surface of the alumina ceramic sintered body is baked, and Fig. 4 shows a specific embodiment of the present invention. A perspective view, FIG. 5 is a sectional view showing a state in which a steel pipe is joined to the alumina body of FIG. 4, and FIG. 6 is a sectional view showing a metallized layer in the alumina body of FIG. 5. 1.10... Alumina body, 2.20... Alumina ceramic sintered body, 3,30... Metallized layer, 3
1... Tungsten-glass mixed layer, 32... Nickel layer, 301, 311... First layer, 302°32
1... 2nd N, 5... Brazing metal, 6... Copper tube. Figure 2 (b) Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  酸化物系セラミックス焼結体の表面に、平均粒径が1
0μm以下のタングステン粉末70〜95重量%と、融
点が1100〜1300℃で、平均粒径が10μm以下
のガラス粉末30〜5重量%からなる混合粉末を有機ビ
ークルで混練したペーストを塗布したのち乾燥して第1
層を形成し、次いで前記第1層上に、平均粒径が10μ
m以下のニッケル、ニッケル酸化物、ニッケル塩のうち
のいずれか1種、もしくは2種以上を組合わせた粉末を
有機ビークルで混練したペーストを塗布したのち乾燥し
て第2層を形成し、しかるのち、1200〜1400℃
の温度範囲で、かつ1<H_2/H_2O<10000
0に調整された混合雰囲気中で焼成することを特徴とす
る真空封止性とろう付け性に優れた酸化物系セラミック
スのメタライズ方法。
On the surface of the oxide ceramic sintered body, an average grain size of 1
A mixed powder consisting of 70 to 95% by weight of tungsten powder of 0 μm or less and 30 to 5% of glass powder with a melting point of 1100 to 1300°C and an average particle size of 10 μm or less is kneaded in an organic vehicle and then dried. first
layer, and then on said first layer, particles having an average particle size of 10μ
After applying a paste made by kneading powder of any one or a combination of two or more of nickel, nickel oxide, and nickel salt with an organic vehicle and drying it to form a second layer, Later, 1200-1400℃
and 1<H_2/H_2O<10000
A method for metallizing oxide ceramics having excellent vacuum sealing properties and brazing properties, characterized by firing in a mixed atmosphere adjusted to zero.
JP5127189A 1988-07-20 1989-03-03 Method for metallizing oxidic ceramics Granted JPH02124787A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008137850A (en) * 2006-12-01 2008-06-19 Tokyo Ceramics Co Ltd Ceramics metallized component and production method thereof

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