JPH02110424A - Laser exposing method for picture scanning and recording device - Google Patents

Laser exposing method for picture scanning and recording device

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JPH02110424A
JPH02110424A JP1032499A JP3249989A JPH02110424A JP H02110424 A JPH02110424 A JP H02110424A JP 1032499 A JP1032499 A JP 1032499A JP 3249989 A JP3249989 A JP 3249989A JP H02110424 A JPH02110424 A JP H02110424A
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laser
scanning
image
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田坂 和孝
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雅英 岡崎
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Abstract

PURPOSE:To attain exposure and recording with an optimum exposing method in correspondence to picture quality, which is requested to a pattern to be drawn, by arbitrarily selecting the exposing method to execute the exposure and recording with overlapping one part of a multibeam and the exposing method to execute the exposure and recording without overlapping the multibeam. CONSTITUTION:To a cross point data processing circuit 21 and a memory controller 22, a mode designating signal to designate a recording mode is given as a control signal from a picture data preparing part 10. As the recording mode, there are a mode (overlap presence mode) to execute the exposure and recording with overlapping one part of an adjacent beam spot and a mode (overlap absence mode) to execute the exposure and recording with making the respective beam spots adjacent. These exposing methods are switched and selected in correspondence to the picture quality, which is requested to the picture to be recorded, and the exposure and recording is executed. Thus, when the high picture quality is desired to be obtained, the overlap presence mode can be selected and on the other hand, a drawing speed is desired to be preferential rather than the picture quality, the overlap absence mode can be selected.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えばプリント配線基板製造用のレーザプロ
ッタや製版用カラースキャナ、あるいはレーザプリンタ
などの画像走査記録装置に適用されるレーザ露光方法に
係り、特に、複数のレーザ記録ビーム(マルチビーム)
により画像記録面を並列走査するレーザ露光方法に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is applicable to a laser exposure method applied to an image scanning recording device such as a laser plotter for manufacturing printed wiring boards, a color scanner for plate making, or a laser printer. In particular, multiple laser recording beams (multibeam)
This invention relates to a laser exposure method for scanning an image recording surface in parallel.

〈従来の技術〉 第17図は、従来のレーザ露光方法を使用した一例とし
てのレーザプロッタの概略ブロック図である。
<Prior Art> FIG. 17 is a schematic block diagram of a laser plotter as an example using a conventional laser exposure method.

レーザプロッタは、大別すると画像データ作成部10、
データ変換部70および画像記録部80がら構成されて
いる。画像データ作成部ioは、CADデータから図形
の輪郭辺ベクトルデータを作成するもので、ベクトルデ
ータを算出するためのミニコンピユータ11、CRT1
2、キーボード13、CADデータを格納しておく磁気
テープ14や磁気ディスク15などから構成されている
。データ変換部70は、画像データ作成部10から与え
られたベクトルデータをドントデータに変換するもので
ある。画像記録部80は、データ変換部70から与えら
れた複数個のドントデータに基づいてマルチビームを個
別に0N10FF制御しつつ、感光材料上を帯状に走査
することによって2値画像を焼き付けるもので、レーザ
ユニット81や、感光材料F(画像記録面)が貼り付け
られた状態で回転駆動される記録用シリンダ(あるいは
平面駆動されるテーブル)82などから構成されている
The laser plotter can be roughly divided into an image data creation section 10;
It is composed of a data converting section 70 and an image recording section 80. The image data creation unit io creates contour side vector data of a figure from CAD data, and includes a minicomputer 11 and a CRT 1 for calculating the vector data.
2, a keyboard 13, and a magnetic tape 14 and a magnetic disk 15 for storing CAD data. The data conversion section 70 converts vector data given from the image data creation section 10 into don't data. The image recording section 80 prints a binary image by scanning the photosensitive material in a band shape while individually controlling the multi-beams 0N10FF based on the plurality of dont data given from the data converting section 70. It is composed of a laser unit 81, a recording cylinder (or a table driven in a plane) 82 which is rotatably driven with a photosensitive material F (image recording surface) pasted thereon, and the like.

このようなマルチビームによって同時記録を行う装置で
は、通常、第18図に示したように、各ビームスポット
BSを、記録用シリンダ82の軸方向(副走査方向)に
隣接した状態になるように配列し、記録用シリンダ82
を回転させることによって、前記ビームスポット列を記
録用シリンダ82の周方向(主走査方向)に相対変位さ
せて記録を行っている。
In an apparatus that performs simultaneous recording using such multi-beams, the beam spots BS are usually placed adjacent to each other in the axial direction (sub-scanning direction) of the recording cylinder 82, as shown in FIG. array and recording cylinder 82
By rotating the beam spot array, the beam spot array is relatively displaced in the circumferential direction (main scanning direction) of the recording cylinder 82 to perform recording.

ところで、レーザ記録ビームの光強度分布は一様ではな
く、その周縁部において光強度が極度に低下したガウス
分布になっているため、上述のようにビームスポットを
隣接配列したビームスポット列で感光材料主走査すると
、各ビームスポットの隣接部分で露光量が不足して、そ
の部分の412が低くなるという、いわゆる走査線ワレ
が生じやすい。また、第19図に示すように記録画像の
副走査方向の境界線にガタッキが生じるといった、画像
品質の低下が避けられない。
By the way, the light intensity distribution of the laser recording beam is not uniform, but has a Gaussian distribution in which the light intensity is extremely reduced at the periphery. When main scanning is performed, the exposure amount is insufficient in adjacent portions of each beam spot, and 412 in that portion is likely to be low, which is a so-called scanning line crack. Further, as shown in FIG. 19, a deterioration in image quality is unavoidable, such as wobbling occurring at the boundary line in the sub-scanning direction of the recorded image.

そこで、マルチビームによる記録画像の品質を向トさせ
るために、第20図に示すように隣合うレーザ記録ビー
ムを互いに直交偏光の対をなすようにして、これらのビ
ームスポットBSの一部を相互に重ね合わせて露光する
方法や、第21図に示すように複数個のビームスポット
BSをいわゆる千鳥状に配列して走査し、焼き付は後の
状態では、ビームスポットBSの一部が重なり合うよう
にしたレーザ露光方法が提案されている。このような重
ね焼き露光によると、第22図に示すように、記録画像
に走査線ワレが生じるこきがなく、しかも、滑らかな境
界線を得ることができる。
Therefore, in order to improve the quality of images recorded by multi-beams, adjacent laser recording beams are made to form pairs of orthogonal polarization, as shown in FIG. There is a method in which multiple beam spots BS are scanned by arranging them in a so-called staggered pattern as shown in FIG. A laser exposure method has been proposed. With such overprint exposure, as shown in FIG. 22, there is no scanning line cracking in the recorded image, and smooth border lines can be obtained.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、上述したようなビームスポット列を重ね
合わせて記録するレーザ露光方法によると、例えば、隣
合うビームスポットBSの半分ずつが重なり合うように
した場合、ビームスポット列を重ね合わせないで記録す
る方法に比較して、記録用シリンダが1回転する間に記
録される副走査方法の画像幅が半分になり、換言すれば
、描画速度が半分に低下する。
<Problem to be Solved by the Invention> However, according to the laser exposure method described above in which beam spot rows are recorded by superimposing them, for example, when half of the adjacent beam spots BS are overlapped, the beam spot row Compared to a method of recording without overlapping, the image width of the sub-scanning method, which is recorded during one rotation of the recording cylinder, is halved, in other words, the drawing speed is reduced by half.

ところで、現実的には、記録すべき画像の全てについて
高い画像品質が要求されるわけではなく、画像品質を多
少犠牲にしてもよいから描画速度を高くしたいという要
請もある。このような要請を考慮すれば、あらゆる描画
対象を重ね合わせのビームスポット列で露光記録するの
は不都合である。
However, in reality, high image quality is not required for all images to be recorded, and there is also a desire to increase the drawing speed even if some image quality is sacrificed. Considering these requirements, it is inconvenient to expose and record every drawing target using overlapping beam spot arrays.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、記録すべき画像について要求される画像品質に応じ
た、レーザ露光方法を選択することができる画像走査記
録装置のレーザ露光方法を揚供することを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a laser exposure method for an image scanning recording device that allows selecting a laser exposure method according to the image quality required for an image to be recorded. It is intended for deep-frying.

〈課題を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、次のような構成
をとる。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

部ち、本発明は、それぞれ独立して制御されるマルチビ
ームを画像記録面に照射して直列状のビームスポット列
を形成し、画像記録面に対してマルチビームをスポット
配列方向と交差する方向に相対走査(主走査)させると
ともに、スポット配列方向に相対走査(副走査)させる
ことにより、記録媒体に露光記録するようにした画像走
査記録装置のレーザ露光方法において、 相前後する主走査において、後に主走査されるビームス
ポット列の後半部分が、先に主走査されたビームスポッ
ト列の前半部分のビームスポット間を埋めるように、マ
ルチビームを副走査する第1露光方法と、 相前後する主走査において、後に主走査されるビームス
ポット列の最後尾ビームスポットが、先に主走査された
ビームスポット列の先頭ビームスポットと隣合うように
、マルチビームを副走査する第2露光方法とを、 記録すべき画像に要求される画像品質に応じて切り換え
選択して露光記録するものである。
Particularly, the present invention irradiates an image recording surface with independently controlled multi-beams to form a serial beam spot array, and directs the multi-beams toward the image recording surface in a direction intersecting the spot arrangement direction. In a laser exposure method of an image scanning recording device that performs exposure recording on a recording medium by relative scanning (main scanning) in the direction of spot arrangement and relative scanning (sub-scanning) in the spot arrangement direction, in successive main scanning, A first exposure method in which the multi-beams are sub-scanned so that the latter half of the beam spot row that is main-scanned later fills the space between the beam spots of the first half of the beam spot row that is main-scanned first; In scanning, a second exposure method of sub-scanning the multi-beams so that the last beam spot of the beam spot row to be main-scanned later is adjacent to the first beam spot of the beam spot row to be main-scanned first; The exposure recording is performed by switching and selecting depending on the image quality required for the image to be recorded.

具体的には、マルチビームが奇数本のレーザ記録ビーム
で構成される場合と、偶数本のレーザ記録ビームで構成
される場合とがあるが、それぞれの内容は後述する実施
例の説明において明らかにする。
Specifically, there are cases where the multi-beam is composed of an odd number of laser recording beams and cases where it is composed of an even number of laser recording beams. do.

なお、本明細書において、ビームスポット列の前半部分
とは、ビームスポットが配列される副走査方向に対して
、先行する前半分のビーム群を意味し、ビームスポット
列の後半部分とは後ろ半分のビーム群を意味する。
Note that in this specification, the first half of a beam spot row refers to the leading front half of the beam group in the sub-scanning direction in which the beam spots are arranged, and the second half of the beam spot row refers to the rear half of the beam group. beam group.

く作用〉 本発明によれば、高い画像品質を得たい場合には第1露
光方法が選択され、一方、画像品質よりも描画速度を優
先させたい場合には第2露光方法が選択される。
Effects> According to the present invention, the first exposure method is selected when high image quality is desired, and the second exposure method is selected when priority is given to drawing speed over image quality.

第1露光方法によれば、相前後する主走査において、後
に主走査されるビームスポット列の後半部分が、先に主
走査されたビームスポット列の前半部分のビームスポッ
ト間を埋めるように、マルチビームが副走査されるので
、走査線ワレが生しることがなく、しかも、副走査方向
の境界線のガタッキが軽減される。
According to the first exposure method, in successive main scans, multiple beam spots are scanned so that the latter half of the beam spot row that is scanned later fills the space between the beam spots of the first half of the beam spot row that is scanned first. Since the beam is sub-scanned, cracks in the scanning line do not occur, and wobbling on the boundary line in the sub-scanning direction is reduced.

第2露光方法によれば、相前後する主走査において、後
に主走査されるビームスポット列の最後尾ビームスポッ
トが、先に主走査されたビームスポット列の先頭ビーム
スポットと隣合うように、マルチビームが副走査される
ので、高い描画速度が得られる。
According to the second exposure method, in successive main scans, multiple beam spots are scanned so that the last beam spot of the beam spot row that is scanned later is adjacent to the first beam spot of the beam spot row that is scanned first. Since the beam is sub-scanned, a high drawing speed can be obtained.

〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。<Example> Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

男ff1例 本実施例に係るレーザ露光方法は、奇数本のレーザ記録
ビームからなるマルチビームを用いて露光記録する方法
で、ビームスポットの配列ピッチをP、ビームスポット
の数をNとした場合に、高い画像品質の露光記録を行う
ときは、マルチビームを略(P×N)/2のピッチで副
走査し、描画速度を優先させるときは、マルチビームを
略P×Nのピッチで副走査するものである。
Male FF 1 Example The laser exposure method according to this embodiment is a method of exposure recording using a multi-beam consisting of an odd number of laser recording beams, and when the array pitch of the beam spots is P and the number of beam spots is N, When performing exposure recording with high image quality, the multi-beam is sub-scanned at a pitch of approximately (P x N)/2, and when priority is given to writing speed, the multi-beam is sub-scanned at a pitch of approximately P x N. It is something to do.

以下、マルチビームを9本のレーザ記録ビームで構成し
た例について説明する。
An example in which the multi-beam is composed of nine laser recording beams will be described below.

第1図は、本実施例に係る露光方法を使用した画像記録
装置の一例としてのレーザプロッタの概略ブロンク図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram of a laser plotter as an example of an image recording apparatus using the exposure method according to the present embodiment.

このレーザプロッタは、画像データ作成部10、データ
変換部20、画像記録部30から構成されており、この
うち、画像データ作成部10は、第17図において説明
した従来装置と同様の構成であるから、ここでの説明は
省略する。
This laser plotter is composed of an image data creation section 10, a data conversion section 20, and an image recording section 30. Of these, the image data creation section 10 has the same configuration as the conventional device explained in FIG. Therefore, the explanation here will be omitted.

データ変換部20は、次のように構成されている。The data converter 20 is configured as follows.

画像データ作成部IOで作成されたベクトルデータは、
交点データ処理回路21で描画バクーンと各走査線との
交点を示す交点データに変換されたのち、メモリコント
ローラ22に与えられる。メモリコントローラ22は、
交点データのバッファメモリ回路23への書き込み/読
み出しなどを制御するためのものである。
The vector data created by the image data creation unit IO is
The intersection data processing circuit 21 converts the data into intersection data indicating the intersections between the drawing background and each scanning line, and then provides the data to the memory controller 22 . The memory controller 22 is
This is for controlling writing/reading of intersection data to/from the buffer memory circuit 23.

交点データ処理回路21およびメモリコントローラ22
には、画像データ作成部lOから制御信号として、記録
モードを指定するためのモード指定信号が与えられる。
Intersection data processing circuit 21 and memory controller 22
A mode designation signal for designating the recording mode is given as a control signal from the image data creation section 1O.

記録モードとしては、隣合うビームスポットの一部を重
ね合わせて露光記録するモード(以下、「重ね有りモー
ドAと称する)と、各ビームスポットを隣接させて露光
記録するモード(以下、r重ね無しモード」と称する)
とがある。
The recording modes include a mode in which adjacent beam spots are partially overlapped for exposure recording (hereinafter referred to as ``overlapping mode A''), and a mode in which each beam spot is exposed and recorded in a manner that they are adjacent to each other (hereinafter referred to as ``non-overlapping mode A''). (referred to as "mode")
There is.

バッファメモリ回路23は、第2図に示すように、メモ
リコントローラ22によって個別に制御される3個のバ
ッファメモリ23A、 23B、 23Cから構成され
ている。各バッファメモリ23A、 23B、 23C
は、マルチビームの各レーザ記録ビームに対応する9ラ
インのラインメモリ1〜9をそれぞれ備えている。各ラ
インメモリには、−走査線に含まれる画素数と同じ数の
ビットデータ(交点データ)を記19できるだけの領域
が設定されている。
As shown in FIG. 2, the buffer memory circuit 23 is composed of three buffer memories 23A, 23B, and 23C that are individually controlled by the memory controller 22. Each buffer memory 23A, 23B, 23C
is equipped with nine line memories 1 to 9 corresponding to each laser recording beam of the multi-beam. Each line memory is provided with an area large enough to store the same number of bit data (intersection data) as the number of pixels included in the -scanning line.

ドツトデータ作成回路24は、バッファメモリ回路23
から読み出された交点データをドツトデータに変換する
ための回路で、ラインメモリ1〜9に対応したANDゲ
ー)C1,G2.・・・、C9と、各ANDゲートに接
続されるJKフリンプ・フロ2プFF1.FF2.・・
・、FF9から構成されている。
The dot data creation circuit 24 includes a buffer memory circuit 23
This is a circuit for converting the intersection point data read from the line memories 1 to 9 into dot data (AND games corresponding to line memories 1 to 9) C1, G2 . . . , C9 and the JK flimp float FF1 . . . connected to each AND gate. FF2.・・・
・It is composed of FF9.

変調器制御回路25は、ドy)データ作成回路24から
与えられた9ライン分のドツトデータに基づいて、後述
する画像記録部30に備えられた9チヤンネルの音響光
学変調器を個別に0N10FF制御するための信号を出
力する。
The modulator control circuit 25 individually performs 0N10FF control of the 9-channel acousto-optic modulator provided in the image recording section 30, which will be described later, based on the 9 lines of dot data given from the data creation circuit 24. Outputs a signal for

画像記録部30は、次のように構成されている。The image recording section 30 is configured as follows.

画像記録部30に備えられた露光ヘッド31は、第3図
(a)に示すように、レーザ光源32から照射されたレ
ーザビームを9本のレーザ記録ビームに分割する枠数ビ
ーム分割器33、前記変調器制御回路25から与えられ
たビットデータによって各レーザ記録ビームを個別にO
N10 F F制御する9チヤンネルの音響光学変調器
(AOM)34、反射ミラー35、変調されたマルチビ
ームを集束して画像記録面に照射する光学系36などか
ら構成されている。
As shown in FIG. 3(a), the exposure head 31 provided in the image recording unit 30 includes a frame number beam splitter 33 that splits the laser beam irradiated from the laser light source 32 into nine laser recording beams; Each laser recording beam is individually controlled by the bit data given from the modulator control circuit 25.
It is comprised of a 9-channel acousto-optic modulator (AOM) 34 controlled by N10FF, a reflecting mirror 35, an optical system 36 that focuses a modulated multi-beam and irradiates it onto an image recording surface.

第3図ら)は上述の光学手段で得られたマルチビームの
ビームスポット列を示す。ビームスポットの配列ピッチ
Pは、ビームスポット径りと略等しく設定されている。
Figures 3 and 3) show a beam spot array of multiple beams obtained by the above-mentioned optical means. The beam spot arrangement pitch P is set to be approximately equal to the beam spot diameter.

ここで、ビームスポット径りは、ガウス分布をなすレー
ザ記録ビームの場合、例えばビーム中心部の光強度に対
し1/e”  (約13.5%)の光強度分布に相当す
るビーム直径で規定される。換言すれば、ビームスポッ
トの配列ピッチPは、隣合うレーザ記録ビームが干渉し
ない距離に設定されており、この点で後述する第2実施
例においても同様である。
Here, in the case of a laser recording beam with a Gaussian distribution, the beam spot diameter is defined as a beam diameter corresponding to a light intensity distribution of 1/e" (approximately 13.5%) with respect to the light intensity at the center of the beam, for example. In other words, the array pitch P of the beam spots is set to a distance at which adjacent laser recording beams do not interfere with each other, and this also applies to the second embodiment described later.

露光へラド31は螺子捧37に取り付けられ、螺子13
7をモータ38で回転駆動することによって、露光へラ
ド31を記録用シリンダ40の軸方向に間欠または連続
的にピッチ送りするように構成されている。モータ38
は、メモリコントローラ22からスピード指令パルスを
与えられるモータ制御回路39によって、その回転速度
が制御される。
The exposure head 31 is attached to the screw holder 37, and the screw 13
By rotationally driving 7 with a motor 38, the exposing rod 31 is pitch-fed intermittently or continuously in the axial direction of the recording cylinder 40. motor 38
The rotational speed of the motor is controlled by a motor control circuit 39 which receives a speed command pulse from the memory controller 22.

記録用シリンダ40は、図示しない駆動機構によって、
一定の速度で回転駆動され、その回転数がロークリエン
コーダ41で検出される。ロータリエンコーダ41の検
出信号はタイミング発生回路42に与えられる。タイミ
ング発生回路42は、この検出信号に基づき出力タイミ
ング信号を作成して、メモリコントローラ22に出力す
る。
The recording cylinder 40 is driven by a drive mechanism (not shown).
It is rotated at a constant speed, and the rotational speed is detected by a low-return encoder 41. The detection signal of the rotary encoder 41 is given to a timing generation circuit 42. The timing generation circuit 42 creates an output timing signal based on this detection signal and outputs it to the memory controller 22.

次に、本実施例の動作を説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

まず、各記録モーl゛について共通するパンツアメモリ
回路23への交点データの書き込み/読み出し動作につ
いて説明し、続いて、重ね存りモードおよび重ね無しモ
ードにおける具体的な動作を説明する。
First, the writing/reading operation of intersection data to the panzer memory circuit 23 common to each recording mode will be explained, and then the specific operation in the overlap mode and the non-overlap mode will be explained.

第4図を参照する。同図(alは交点データの算出処理
を模式的に示した図であり、同図(b)は算出された交
点データが格納されるバッファメモリ23内のラインメ
モリを模式的に示した図である。
Please refer to FIG. The same figure (al is a diagram schematically showing the calculation process of intersection point data, and the same figure (b) is a diagram schematically showing the line memory in the buffer memory 23 in which the calculated intersection data is stored. be.

画像データ作成部10から描画パターンのベクトルデー
タを与えられた交点データ処理回路21は、走査線(1
)、 (2)、 (31,・・・と、図中斜辺領域で示
した描画パターンとの交差点(白/黒変化点)のYアド
レスを算出し、これを交点データとしてメモリコントロ
ーラ22に出力する。走査線(1)、 (21,(3)
・・・の間隔は、指定された記録モードに応じて可変さ
れる。本実施例では、重ね有りモード時の走査線の間隔
は、重ね無しモード時の半分に設定されている。
The intersection data processing circuit 21, which is given the vector data of the drawing pattern from the image data creation unit 10, processes the scanning line (1
), (2), (31,...) and the drawing pattern indicated by the hypotenuse area in the figure. Calculate the Y address of the intersection (white/black change point) and output this as intersection data to the memory controller 22. .Scanning line (1), (21, (3)
The intervals between... are varied depending on the designated recording mode. In this embodiment, the interval between scanning lines in the overlapping mode is set to half that in the non-overlapping mode.

メモリコントローラ22(第2図参照)は、交点データ
処理回路21から伝送されてくるデータ・リクエスト信
号(DReq)に基づいて、交点データを取り込み、パ
ンツアメモリ回路23の該当ラインメモリ上の該当アド
レスに、rllのビットデータを書き込むとともに、交
点データ処理回路21に対してデータ・リクエスト・ア
クノリッジ信号(DReqAck)を出力する。DRe
qAck信号を受は取った交点データ処理回路21は、
次の交点データをDReq信号とともに出力する。
The memory controller 22 (see FIG. 2) takes in the intersection data based on the data request signal (DReq) transmitted from the intersection data processing circuit 21, and stores the data at the corresponding address on the corresponding line memory of the panzer memory circuit 23. The bit data of rll is written to , and a data request acknowledge signal (DReqAck) is output to the intersection data processing circuit 21 . DRe
The intersection data processing circuit 21 that received the qAck signal,
The next intersection data is output together with the DReq signal.

1547分の交点データが交点データ処理回路21から
出力されると、交点データ処理回路21はエンド信号(
END)を出力する。このEND13号を受けたメモリ
コントローラ22は、パンツアメモリ回路23のライン
を改行して、次のラインメモリに書き込みを行う、改行
を行うと、メモリコントローラ22は、交点データ処理
回路21に対してエンド・アクノリッジ信号(ENDA
ck)を出力する。
When 1547 minutes of intersection data is output from the intersection data processing circuit 21, the intersection data processing circuit 21 outputs an end signal (
END). The memory controller 22 that received this END13 line feeds the line in the panzer memory circuit 23 and writes to the next line memory. End acknowledge signal (ENDA)
ck) is output.

このE N D Ack信号を受は取ることにより、交
点データ処理回路21は次のラインの交点データの出力
を開始する。
By receiving this E N D Ack signal, the intersection data processing circuit 21 starts outputting the intersection data of the next line.

パンツアメモリ回路23からの交点データの読み出しは
、次のようなタイミングで行われる。以下、主に第5閏
を参照して説明する。
Reading of the intersection data from the panzer memory circuit 23 is performed at the following timing. The following description will be made mainly with reference to the fifth leap.

メモリコントローラ22は、タイミング発生回路42か
ら第5図(a)に示すような出力タイミング信号を入力
している。この出力タイミング信号の1サイクルは、画
素ピッチに対応する。メモリコントローラ22は、交点
データを読み出すべきバッツァメモリをC3信号(第2
図参照)で指定するとともに、前記出力タイミング信号
に同期して、ラインメモリのアドレスを指定する(第5
図(b)参照)。
The memory controller 22 receives an output timing signal as shown in FIG. 5(a) from the timing generation circuit 42. One cycle of this output timing signal corresponds to a pixel pitch. The memory controller 22 uses a C3 signal (second
(see figure), and also specifies the line memory address in synchronization with the output timing signal (5th
(See figure (b)).

そして、第5図(C)に示すR/W信号がrl(Jレベ
ルのときに、それぞれ指定されたアドレスに従って、交
点データが順に読み出される(第5図(d)参照)、な
お、交点データの読み出しは、指定されたバッファメモ
リ内の各ラインメモリ1〜9について並列的に行われる
Then, when the R/W signal shown in FIG. 5(C) is at the rl (J level), the intersection data are read out in order according to the respective designated addresses (see FIG. 5(d)). Reading is performed in parallel for each line memory 1 to 9 within the designated buffer memory.

読み出された各交点データは、ドツトデータ作成回路2
4のANDゲートG(C;1−G9)の一方入力として
与えられる。ANDゲートGは、メモリコントローラ2
2から与えられたタイミングパルス(第5図(e))に
従って開放する結果、次段のJKフリップ・フロップF
F(FFI〜FF9)に、第5図(f)に示すような交
点データが入力される。
Each read intersection data is sent to the dot data creation circuit 2.
It is given as one input of the AND gate G (C; 1-G9) of 4. AND gate G is memory controller 2
As a result of opening according to the timing pulse given from 2 (FIG. 5(e)), the next stage JK flip-flop F
Intersection data as shown in FIG. 5(f) is input to F (FFI to FF9).

その結果、JKフリップ・フロップFFの出力Qは、第
5図(鎖に示すように、データの変化点ごとにそのレベ
ルが切り替わることになる。
As a result, the level of the output Q of the JK flip-flop FF switches at each data change point, as shown in FIG. 5 (chain).

即ち、第5図(d)に示した最初のビットデータr13
が、描画パターンが白から黒へ変化する変化点てあり、
次のビットデータr1.aが、黒から白へ変化する変化
点であるとすると、第5図(g)に示したJKフリンプ
・フロップFFのQ出力のrH3レベル頭域は、レーザ
記録ビームをON状態(露光状B)にする期間に対応す
る。このようにして得られた各JKフリップ・フロップ
FFの出力Qがドツトデータとして、次段の変111W
s制御回路25に与えられるのである。
That is, the first bit data r13 shown in FIG. 5(d)
However, there is a change point where the drawing pattern changes from white to black,
Next bit data r1. Assuming that a is the point of change from black to white, the rH3 level head range of the Q output of the JK flimp flop FF shown in FIG. ) corresponding to the period. The output Q of each JK flip-flop FF obtained in this way is used as dot data for the next stage's transformer 111W.
s control circuit 25.

交点データがバッファメモリ回路23の各ラインメモリ
から読み出されている間、メモリコントローラ22は、
そのラインメモリに第5図(h)に示すようにr□Jを
入力する。その結果、交点データが読み出されたのちで
、第5図(C)に示したR/W信号のrLjレベルの期
間に、そのアドレス内のデータがrQ3に書き換えられ
る。
While the intersection data is being read from each line memory of the buffer memory circuit 23, the memory controller 22
r□J is input to the line memory as shown in FIG. 5(h). As a result, after the intersection data is read out, the data in that address is rewritten to rQ3 during the rLj level period of the R/W signal shown in FIG. 5(C).

次に、各記録モードの動作を具体的に説明する。Next, the operation of each recording mode will be specifically explained.

(1)重ね有りモード 以下、第6図を参照して、オペレータが画像データ作成
部lOのキーボード13を操作することによって、重ね
有りモードが指定された場合の動作を説明する。
(1) Overlapping mode Hereinafter, with reference to FIG. 6, the operation when the overlapping mode is designated by the operator operating the keyboard 13 of the image data creation unit 10 will be described.

第6図は、バッファメモリ23A、23B、23Cへの
ラインデータの入出力を模式的に示した説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing the input/output of line data to the buffer memories 23A, 23B, and 23C.

ここで、ラインデータとは、l走査分の交点データを総
称したもので、図中、■、■、■。
Here, line data is a general term for intersection data for l scans, and in the figure, ■, ■, ■.

・・・で示されている。...is shown.

バッファメモリ回路23へのデータ書き込みに際して、
第1Q(a)に示すように、まず、バッファメモリ23
Aの1〜4のラインメモリの内容を全てrO」に初期ク
リアする。そして、交点データ処理回路21から順に得
られた■から■までのラインデータのうち、奇数番のラ
インデータ■、■9■。
When writing data to the buffer memory circuit 23,
As shown in the first Q(a), first, the buffer memory 23
The contents of line memories 1 to 4 of A are initially cleared to "rO". Among the line data from ■ to ■ sequentially obtained from the intersection data processing circuit 21, odd numbered line data ■ and ■9■.

■、■をバッフ1メモリ23Aの5.6,7.8゜9の
各ラインメモリに書き込み、偶数番のラインデータ■、
■、■、■をバッファメモリ23Bの1゜2.3.4の
各ラインメモリに書き込む。
Write ■, ■ to each line memory of 5.6, 7.8°9 of buffer 1 memory 23A, even numbered line data ■,
■, ■, ■ are written in each line memory of 1°2.3.4 of the buffer memory 23B.

以上のデータ書き込みによって描画率6々が完了し、以
下、ラインデータを読み出して描画すると同時に、次の
ラインデータの書き込みを行う。
By writing the data as described above, the drawing ratios 6 are completed, and the next line data is written at the same time as the line data is read out and drawn.

即ち、i 6 < (b)に示すように、バッファメモ
リ23Aのラインメモリ1〜9の内容が読み出されてて
いる間、バッファメモリ23Bのラインメモリ5〜9に
ラインデータ[相]、0.0.■、■が、バッファメモ
リ23Cのラインメモリ1〜4にラインデータ■、0.
■、■が、それぞれ書き込まれる。
That is, as shown in i 6 < (b), while the contents of the line memories 1 to 9 of the buffer memory 23A are being read, the line data [phase], 0 is stored in the line memories 5 to 9 of the buffer memory 23B. .0. ■, ■ are line data ■, 0. in line memories 1 to 4 of the buffer memory 23C.
■ and ■ are written respectively.

そして、1回目の主走査が終わると、2回目の主走査の
ために、第6図(C)に示すように、バッファメモリ2
3Bからのラインデータ■、■、・・・、@の読み出し
が行われるとともに、バッファメモリ23Cおよび23
Aに次のラインデータの書き込みが行われる。以後、同
様にバッファメモリ23A、 23B、23Cへのライ
ンデータの読み出しと書き込みとが並列的に行われてい
(。
When the first main scan is completed, the buffer memory 2 is opened for the second main scan as shown in FIG. 6(C).
Line data ■, ■, ..., @ are read from 3B, and the buffer memories 23C and 23
The next line data is written to A. Thereafter, reading and writing of line data to the buffer memories 23A, 23B, and 23C are similarly performed in parallel (.

なお、各主走査は記録用シリンダ40の一回転に対応じ
ているわけであるが、記録用シリンダ40が一回転する
間に、露光ヘッド31が略4.5XP(Pは、ビームス
ポットの配列ピッチ)だけ進むように、換言すれば、マ
ルチビームが略4.5XPのピッチで副走査されるよう
に、メモリコントローラ22からモータ制御回路39に
対してスピード指令パルスが出力される。
Note that each main scan corresponds to one rotation of the recording cylinder 40, and during one rotation of the recording cylinder 40, the exposure head 31 moves approximately 4.5XP (P is the beam spot arrangement In other words, the memory controller 22 outputs a speed command pulse to the motor control circuit 39 so that the multi-beam is sub-scanned at a pitch of approximately 4.5XP.

その結果、第7図(a)に示すように、相前後する主走
査において、後に主走査されるビームスポット列の後半
部分が、先に主走査されたビームスポット列の前半部分
のビームスポット間を埋めるように露光記録される(第
22図参照)。但し、第7図(alでは、理解の容易の
ために各主走査に対応したマルチビームは上下にずらし
て描かれている。
As a result, as shown in FIG. 7(a), in successive main scans, the latter part of the beam spot row to be main scanned later is located between the beam spots of the first half of the beam spot row to be main scanned first. Exposure recording is performed so as to fill in the area (see FIG. 22). However, in FIG. 7 (al), for ease of understanding, the multi-beams corresponding to each main scan are drawn shifted vertically.

また、第7図中の数字は、第6図に示したラインデータ
に対応じている。
Further, the numbers in FIG. 7 correspond to the line data shown in FIG. 6.

(II)重ね無しモード 重ね無しモードが指定された場合は、バッファメモリ2
3Aと23Bとが使用される。まず、交点データ処理回
路21から出力された■〜■のラインデータtよ、バッ
ファメモリ23Aの1〜9のラインメモリに格納される
。描画が開始されて、バッファメモリ23Aのラインデ
ータ■〜■が並列的に読み出されている間に、バッファ
メモリ23Bの1〜9のラインメモリに次のラインデー
タ[相]〜[相]が書き込まれる。そして、バッファメ
モリ23Bからラインデータ[相]〜■が読み出されて
いる間に、次の主走査に必要なラインデータがバッファ
メモリ23Aに書き込まれる。以後、同様にバッファメ
モリ23A、23Bへのラインデータの書き込みと読み
出しが同時に行われてい(。
(II) No-overlap mode When the no-overlap mode is specified, the buffer memory 2
3A and 23B are used. First, line data t of ■ to ■ output from the intersection data processing circuit 21 are stored in line memories 1 to 9 of the buffer memory 23A. While drawing is started and the line data ■ to ■ in the buffer memory 23A are being read out in parallel, the next line data [phase] to [phase] are stored in the line memories 1 to 9 of the buffer memory 23B. written. Then, while line data [phase] to {circle around (2)} are being read out from the buffer memory 23B, line data necessary for the next main scan is written into the buffer memory 23A. Thereafter, writing and reading of line data to and from the buffer memories 23A and 23B are performed simultaneously (.

一方、メモリコントローラ22は、モータ制御回路39
に与える単位時間当たりのスピード指令パルスの数を重
ね無しモードのときの2倍にして、記録用シリンダ40
が一回転する間に、露光へラド31が略9XPだけ進む
ように、換言すれば、マルチビームが略9XPのピッチ
で副走査されるように制御する。
On the other hand, the memory controller 22 includes a motor control circuit 39
The number of speed command pulses given per unit time to the recording cylinder 40 is doubled as compared to the non-overlap mode.
Control is performed so that the exposure radar 31 advances by about 9XP during one rotation of the multi-beam, in other words, the multi-beam is sub-scanned at a pitch of about 9XP.

その結果、第7図(b)に示すように、相前後する主走
査において、後に主走査されるビームスポット列の最後
尾ビームスポットが、先に主走査されたビームスポット
列の先頭ビームスポットと隣合うように露光記録され(
第19図参照)、このときの描画速度は重ね有りモード
時の2倍になる。
As a result, as shown in FIG. 7(b), in successive main scans, the last beam spot of the beam spot row to be main scanned later is the first beam spot of the beam spot row to be main scanned first. Exposures are recorded next to each other (
(See FIG. 19), the drawing speed at this time is twice that of the overlapping mode.

気)災隻± 本実施例に係るレーザ露光方法は、偶数本のし一ザ記録
ビームからなるマルチビームを用いて露光記録する方法
で、ビームスポットの配列ピッチをP1ビームスポット
の数をNとした場合に、重ね有りモード時には、分割部
分で隣合うビームスポットの中心間距離が略1.5XP
になるようにマルチビームをそれぞれ同数のビーム群か
らなる前半部分と後半部分とに分割し、これらのビーム
群を略(P×N)/2のピッチで副走査し、重ね無しモ
ード時には、前後半のビーム群のビームスポット列を直
列状に隣合わせた状態で、略P×Nのピッチで副走査す
るものである。
The laser exposure method according to this embodiment is a method of exposure recording using a multi-beam consisting of an even number of recording beams, and the array pitch of the beam spots is set to P1, the number of beam spots is N. In this case, in the overlapping mode, the distance between the centers of adjacent beam spots in the divided portion is approximately 1.5XP.
The multi-beam is divided into a first half and a second half each consisting of the same number of beam groups, and these beam groups are sub-scanned at a pitch of approximately (P×N)/2. In the non-overlapping mode, the front Sub-scanning is performed at a pitch of approximately P×N with the beam spot rows of the latter beam group being arranged adjacent to each other in series.

以下、マルチビームを10本のレーザ記録ビームで構成
した場合を例に採って説明する。
Hereinafter, a case will be described using as an example a case where the multi-beam is composed of 10 laser recording beams.

装置の概略構成は第1図に示した第1実施例の構成と概
ね同じであるから図示を省略し、ここでは第1実施例と
相違する部分を説明する。
Since the schematic structure of the device is almost the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1, illustration is omitted, and only the parts different from the first embodiment will be explained here.

この実施例では、10本のレーザ記録ビームを使用して
いるから、バッファメモリ23A、 23B、 23C
は、それぞれ10個のラインメモリを備え、これに対応
じてドツトデータ作成回路24は、10個のANDゲー
トと、10個のJKフリップ・フロップを備えている。
In this embodiment, since 10 laser recording beams are used, the buffer memories 23A, 23B, 23C
are each equipped with 10 line memories, and correspondingly, the dot data creation circuit 24 is equipped with 10 AND gates and 10 JK flip-flops.

また、重ね有りモードでは、マルチビームをそれぞれ5
本づつのビーム群に分割するため、露光ヘッド31は第
8図に示すように構成されている。
In addition, in the overlapping mode, each multi-beam is
In order to divide the beam into individual beam groups, the exposure head 31 is constructed as shown in FIG.

レーザ光源32から照射されたレーザビームBlは、ビ
ーム分割器51で二つのレーザビームB2゜B3に分割
される。一方のレーザビームB2は、反射ミラー52で
反射されたのち、複数ビーム分割H53で5本のレーザ
記録ビームに分割される。分割されたビーム群B4ば音
響光学変調器54でそれぞれ個別に0N10FFIII
御される。音響光学変調器54から射出したビーム群B
5は反射ミラー55で反射されて、偏光ビームスプリッ
タ56に入射される。
A laser beam Bl emitted from a laser light source 32 is split into two laser beams B2 and B3 by a beam splitter 51. One laser beam B2 is reflected by a reflection mirror 52 and then divided into five laser recording beams by a plurality of beam division H53. The divided beam group B4 is individually 0N10FFIII by the acousto-optic modulator 54.
be controlled. Beam group B emitted from the acousto-optic modulator 54
5 is reflected by a reflecting mirror 55 and incident on a polarizing beam splitter 56.

一方、ビーム分割器51で分割された他方のレーザビー
ムB3は、反射ミラー57および58で反射されること
によって、偏光面が90度変位されたのち、複数ビーム
分割器59で5本のレーザ記録ビームに分割される。分
割されたビーム群B6は音響光学変調器60でそれぞれ
個別に0N10FFi!il+御される。音響光学変調
器60から出射されたビーム群B7は反射ミラー61で
反射されたのち、ビームシフタ62を介して偏光ビーム
スプリッタ56に入射される。
On the other hand, the other laser beam B3 split by the beam splitter 51 is reflected by reflection mirrors 57 and 58, so that the plane of polarization is displaced by 90 degrees, and then the multiple beam splitter 59 records five laser beams. divided into beams. The divided beam group B6 is individually 0N10FFi! by the acousto-optic modulator 60. il + controlled. The beam group B7 emitted from the acousto-optic modulator 60 is reflected by a reflecting mirror 61, and then enters the polarizing beam splitter 56 via a beam shifter 62.

ビームシフタ62は、第9図に示すような透明な平行平
面板で構成され、その平面の法線Nとレーザ記録ビーム
Bとのなす角度θを次式で規定する角度に設定すること
により、所要の距離L(ここではP/2)だけその射出
光を入射光に対して平行にずらすことできる。
The beam shifter 62 is composed of a transparent parallel plane plate as shown in FIG. The emitted light can be shifted parallel to the incident light by a distance L (in this case, P/2).

L = む ・  (1−cos   θ /、r−−
〒i−フーーs−丁)71r下乙r)−sin  θ但
し、tは平行平面板の厚み、nはその屈折率を示す。
L = m ・ (1-cos θ /, r--
〒i-hoo-s-ding)71r下子r)-sin θwhere, t is the thickness of the parallel plane plate, and n is its refractive index.

したがって、第101Mに示すように、ロータリーソレ
ノイドやパルスモータのような回動可能なアクチュエー
タ63(第8図参照)でビームシフタ62を所定の角度
θだけ回転させることによって、入射ビーム群B7をP
/2だけ変位させたビーム群B7’ として射出するこ
とができる。
Therefore, as shown in No. 101M, by rotating the beam shifter 62 by a predetermined angle θ using a rotatable actuator 63 such as a rotary solenoid or a pulse motor (see FIG. 8), the incident beam group B7 is
It can be emitted as a beam group B7' displaced by /2.

第11図(alは、ビームシフタ62の回転角θを略零
度に設定したときに得られるマルチビームのビームスポ
ット列の配列状態を示す。このマルチビームは後述する
重ね無しモード時に使用される。
FIG. 11 (al) shows the arrangement of beam spot arrays of multi-beams obtained when the rotation angle θ of the beam shifter 62 is set to approximately zero degrees. This multi-beam is used in the non-overlap mode, which will be described later.

方、第11図(b)は、ビームシフクロ2を所定角度θ
に設定したときに得られるマルチビームのビームスポッ
ト列の配列状態を示す。このマルチビームは後述する重
ね有りモード時に使用される。第11図(b)に示すよ
うに、入射ビーム群B7をP/2だけ副走査方向に変位
させることにより、分割部分で隣合うビーム群B5.B
7’の最も近いビームスポットの中心間距離は、略1.
5XPになる。
On the other hand, in FIG. 11(b), the beam shifter 2 is set at a predetermined angle θ.
This shows the arrangement of the multi-beam beam spot rows obtained when the setting is set to . This multi-beam is used in the overlapping mode, which will be described later. As shown in FIG. 11(b), by displacing the incident beam group B7 by P/2 in the sub-scanning direction, adjacent beam groups B5. B
The distance between the centers of the nearest beam spots of 7' is approximately 1.
It becomes 5XP.

なお、第8回では、偏光ビームスプリッタ56に入射す
る二つのビーム群85.B7の各偏光面を直交させて、
偏光ビームスプリッタ56における光量損失が少なくな
るようにした。しかし、光ff1tJ4失が許容できる
場合には、通常のビームスプリフタを使用してもよく、
この場合には偏光面を直交変位させるための反射ミラー
57などを設ける必要はない。
Note that in the eighth session, two beam groups 85. By making each polarization plane of B7 orthogonal,
The light amount loss in the polarizing beam splitter 56 is reduced. However, if the loss of light ff1tJ4 is acceptable, a normal beam splitter may be used.
In this case, there is no need to provide a reflecting mirror 57 or the like for orthogonally displacing the plane of polarization.

第12図は、露光ヘッド31のその他の構成例の要部を
示した斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing the main parts of another configuration example of the exposure head 31.

第8図ではビームシフタ62の角度を変えることによっ
て、一方のビーム群B7を半ピツチだけずらすようにし
たが、この例では、反射ミラー55をガイドレール64
に沿って摺動可能に構成し、この反射ミラー55をプッ
シュプル・ソレノイドなどの往復動可能なアクチエエー
タ65で駆動するように構成している。この例によれば
、反射ミラー55をビームスポット列の半ピツチだけ移
動させることによって、ビーム群B5を半ピッチだけ変
位させることができる。
In FIG. 8, one beam group B7 is shifted by half a pitch by changing the angle of the beam shifter 62, but in this example, the reflecting mirror 55 is moved to the guide rail 64.
The reflective mirror 55 is configured to be slidable along the reflecting mirror 55, and is configured to be driven by an actuator 65 capable of reciprocating, such as a push-pull solenoid. According to this example, by moving the reflecting mirror 55 by a half pitch of the beam spot row, the beam group B5 can be displaced by a half pitch.

次に、第り図を参照して、各バッファメモリ23A、2
3B、23Cへのラインデータの入出力について説明す
る。
Next, referring to FIG. 2, each buffer memory 23A, 2
The input/output of line data to 3B and 23C will be explained.

(1)重ね有り千−ド 重ね有りモードが指定されると、そのモード指定信号が
、交点データ処理回路21およびメモリコントローラ2
2に与えられるとともに、露光へラド31に与えられる
ことにより、第8図において説明したビームシフタ62
(あるいは第121mにおいて説明した反射ミラー55
)が駆動されて、ビームスポット列の配列状態が第11
図(b)に示した状態になる。
(1) When the overlap mode is specified, the mode designation signal is transmitted to the intersection data processing circuit 21 and the memory controller 2.
2 and the exposure radar 31, the beam shifter 62 explained in FIG.
(Or the reflecting mirror 55 explained in No. 121m)
) is driven, and the array state of the beam spot row is the 11th
The state shown in Figure (b) is reached.

重ね有りモードでは、第1実施例と同様にバッファメモ
リ23A、23B、23Cが使用される。各バッファメ
モリへのラインデータの書き込み/読み出し手順は、第
1実施例と同様に行われるから、第13図にその順序を
示し、ここでの説明は省略する。なお、第13図(a)
は初期データの取り込みを示し、第13図働)、 (C
)、 (d)は、1回目、2回目、3回目の各主走査に
おけるラインデータの読み出しと書き込み状態を模式的
に示している。
In the overlapping mode, buffer memories 23A, 23B, and 23C are used as in the first embodiment. The procedure for writing/reading line data into each buffer memory is performed in the same manner as in the first embodiment, so the order is shown in FIG. 13 and the explanation here will be omitted. In addition, Fig. 13(a)
indicates the initial data acquisition, and Figure 13), (C
) and (d) schematically show the read and write states of line data in the first, second, and third main scans.

また、重ね有りモード時には、記録用シリンダ40の一
回転光たりの露光ヘッド31の移動量、即ら、副走査ピ
ッチが略5XPになるように、メモリコントローラ22
からモータ制御回路39ヘスピード指令パルスが出力さ
れる。
In addition, in the overlapping mode, the memory controller 22 controls the movement amount of the exposure head 31 per one revolution of the recording cylinder 40, that is, the sub-scanning pitch, to be approximately 5XP.
A speed command pulse is output from the motor control circuit 39 to the motor control circuit 39.

その結果、第14図(a)に示すにように、相前後する
主走査において、後に主走査されるビームスポット列の
後半部分が、先に主走査されたビームスポット列の前半
部分のビームスポット間を埋めるように露光記録される
(第22図参照)、なお、第14図(a)は、理解の容
易のために各主走査に対応したマルチビームは上下にず
らして搭かれており、図中の数字は第13図に示したラ
インデータに対応じている。
As a result, as shown in FIG. 14(a), in successive main scans, the latter half of the beam spot row that is scanned later is replaced by the beam spot of the first half of the beam spot row that is scanned first. Exposure recording is performed to fill in the gaps (see Figure 22). In Figure 14 (a), for ease of understanding, the multi-beams corresponding to each main scan are mounted vertically shifted. The numbers in the figure correspond to the line data shown in FIG.

(II)重ね無しモードの動作 重ね無しモードが指定された場合、ビームシフタ62(
あるいは反射ミラー55)が、もとの位置に復帰するよ
うに駆動される。その結果、ビームスポット列は、第1
1図(alに示したように、分割されたビーム群B5.
B7が直列状に隣合わせた状態になる。
(II) Operation in non-overlapping mode When the non-overlapping mode is specified, the beam shifter 62 (
Alternatively, the reflecting mirror 55) is driven to return to its original position. As a result, the beam spot row is
As shown in Figure 1 (al), the divided beam group B5.
B7 are placed next to each other in series.

そして、第1実施例の重ね無しモードと同様に、バッフ
ァメモリ23Aへ■〜[相]のラインデータが書き込ま
れ、これらのラインデータが読み出されている間に、バ
ッファメモリ23Bへ■〜[相]のラインデータが書き
込まれ、以後、同様にバッファメモリ23A、23Bへ
のラインデータの書き込みと読み出しが同時に行われて
いく。
Then, as in the non-overlap mode of the first embodiment, the line data of ■~[phase] are written to the buffer memory 23A, and while these line data are being read, the line data of ■~[phase] are written to the buffer memory 23B. After that, line data is written to and read from the buffer memories 23A and 23B at the same time.

また、第1実施例で説明したと同様に、スピード指令パ
ルスの数が重ね有りモードの2倍に設定されることによ
り、マルチビームの副走査ピッチが略10XPになる。
Further, as described in the first embodiment, the number of speed command pulses is set to twice that in the overlapping mode, so that the sub-scanning pitch of the multi-beam becomes approximately 10XP.

その結果、第14図(b)に示すように、相前後する主
走査において、後に主走査されるビームスポット列の最
後尾ビームスポットが、先に主走査されたビームスポッ
ト列の先頭ビームスポットと隣合うように露光記録され
(第19図参照)、このときの描画速度は重ね有りモー
ド時の2倍になる。
As a result, as shown in FIG. 14(b), in successive main scans, the last beam spot of the beam spot row to be main scanned later is the first beam spot of the beam spot row to be main scanned first. Exposure recording is performed so that they are adjacent to each other (see FIG. 19), and the drawing speed at this time is twice that of the overlapping mode.

なお、本発明は次のように変形実施することもできる。Note that the present invention can also be modified as follows.

(1)第1実施例では9本のレーザ記録ビームからなる
マルチビームを使用し、第2実施例では10本のレーザ
記録ビームからなるマルチビームを使用して、露光記録
する例を説明したが、本発明においてマルチビームを構
成するレーザ記録ビームの数は限定されないことは言う
までもない。
(1) In the first embodiment, a multi-beam consisting of nine laser recording beams is used, and in the second embodiment, a multi-beam consisting of ten laser recording beams is used to perform exposure recording. It goes without saying that the number of laser recording beams constituting a multi-beam in the present invention is not limited.

(2)上述の各実施例では、重ね無しモード時のマルチ
ビームを構成するレーザ記録ビームの本数、即ち、ビー
ムスポットの数を、重ね有りモードのそれと同一に設定
したが、本発明は必ずしもこれに限定されない。
(2) In each of the above-described embodiments, the number of laser recording beams constituting the multi-beam in the non-overlapping mode, that is, the number of beam spots, was set to be the same as that in the overlapping mode, but this is not necessarily the case in the present invention. but not limited to.

即ち、第1実施例の場合、重ね有りモード時のビームス
ポットの数が奇数であれば、重ね無しモード時のビーム
スポットの数は任意であり、重ね無しモード時のビーム
スポットの数を、重ね有りモードにおけるビームスポッ
トの数とは異なる奇数に設定してもよく、あるいは偶数
に設定してもよい。例えば、第1実施例を次のように変
形実施することもできる。
That is, in the case of the first embodiment, if the number of beam spots in the overlapping mode is an odd number, the number of beam spots in the non-overlapping mode is arbitrary, and the number of beam spots in the non-overlapping mode is The number of beam spots may be set to an odd number different from the number of beam spots in the presence mode, or may be set to an even number. For example, the first embodiment can be modified as follows.

市販されている複数ビーム分割器や音響光学変調器(A
OM)は、通常、偶数チャンネル(例えば、10チヤン
ネル)である。この場合、重ね有りモードでは、奇数本
のレーザ記録ビームで記録する必要があるから、AOM
の端部のチャンネルの一つを常にOFF状態として、9
本のレーザ記録ビームで記録し、一方、重ね無しモード
ではAOMの全チャンネルを使用して、10本のレーザ
記録ビームで記録するようにすれば、重ね無しモード時
の記録速度を上記第1実施例よりも速めることができる
。この場合、第1図に示した副走査送りのモータ制御回
路39に与えるスピード指定パルスの数を適宜に変更し
て、副走査送りのピッチを重ね有りモードでは(Px9
)/2に、重ね無しモードではPXIOにそれぞれ設定
する。また、バッファメモリ23などは、それぞれ10
チヤンネルのものを使用することはいうまでもない。
Commercially available multiple beam splitters and acousto-optic modulators (A
OM) is typically an even number of channels (eg, 10 channels). In this case, in the overlapping mode, it is necessary to record with an odd number of laser recording beams, so the AOM
9 with one of the channels at the end always in the OFF state.
If you record with one laser recording beam, and on the other hand, in non-overlap mode, use all channels of the AOM and record with 10 laser recording beams, the recording speed in non-overlap mode can be reduced by the first implementation described above. It can be made faster than the example. In this case, the number of speed designation pulses given to the sub-scan feed motor control circuit 39 shown in FIG.
)/2 and PXIO in non-overlapping mode. In addition, the buffer memory 23 etc. each have 10
Needless to say, use one from Channel.

同様に、第2実施例について言えば、重ね有りモード時
のビームスポットの数が偶数であれば、重ね無しモード
時のビームスポットの数は任意であり、重ね無しモード
時のビームスポットの数を、重ね有りモードにおけるビ
ームスポットの数とは異なる偶数に設定してもよく、あ
るいは奇数に設定してもよい。例えば、最大11本のレ
ーザ記録ビームで記録することができるように構成した
場合、重ねをりモードでは10本のレーザ記録ビームで
記録し、重ね無しモードでは11本のレーザ記録ビーム
で記録するようにしてもよい。
Similarly, regarding the second embodiment, if the number of beam spots in the overlapping mode is an even number, the number of beam spots in the non-overlapping mode is arbitrary, and the number of beam spots in the non-overlapping mode is , may be set to an even number different from the number of beam spots in the overlapping mode, or may be set to an odd number. For example, if the configuration is configured so that recording can be performed with a maximum of 11 laser recording beams, recording will be performed with 10 laser recording beams in overlapping mode, and recording will be performed with 11 laser recording beams in non-overlapping mode. You can also do this.

(3)また、マルチビームを構成するレーザ記録ビーム
の本数は必ずしも一定にする必要はなく、その本数(チ
ャンネル数)を、描画対象となるパターンの複雑さに応
じて、任意に指定できるように構成してもよい。このよ
うにすれば、例えば、描画対象となるパターンが複雑で
ベクトルデータなどを算出する時間が長くなるために、
画像データ作成部10からデータ変化部20ヘデータを
リアルタイムで伝送できなくなるおそれがあるような場
合において、レーザ記録ビームの本数を減らして描画速
度を遅くすることにより、データの作成に要する時間と
描画時間とのマンチングをとることができる。
(3) In addition, the number of laser recording beams that make up a multi-beam does not necessarily need to be constant; the number (number of channels) can be specified arbitrarily depending on the complexity of the pattern to be drawn. may be configured. If you do this, for example, the pattern to be drawn is complex and it takes a long time to calculate vector data.
In cases where there is a possibility that data cannot be transmitted in real time from the image data creation section 10 to the data change section 20, the time required for data creation and the writing time can be reduced by reducing the number of laser recording beams and slowing down the writing speed. You can take munching with.

具体的には、第1実施例に適用する場合、重ね有りモー
ドでは、チャンネル数を9.7.5.3(または、これ
らのうちの幾つかの数)のいずれかに切り換え指定でき
るようにし、重ね無しモードでは、チャンネル数を9〜
2 (または、これらのうちの幾つかの数)までの任意
の数に切り換え指定できるように構成することもできる
。この場合、チャンネル数の切り換えに連動して、モー
タ制御回路39に与えるスピード指定パルスの数を可変
させればよい。
Specifically, when applied to the first embodiment, in the overlapping mode, the number of channels can be switched and specified to any of 9.7.5.3 (or some number of these). , in non-overlapping mode, increase the number of channels from 9 to
It is also possible to configure it so that it can be switched to any number up to 2 (or some of these numbers). In this case, the number of speed designation pulses given to the motor control circuit 39 may be varied in conjunction with switching the number of channels.

一方、第2実施例の場合、次のようにしてチャンネル数
を変えることができる。例えば、重ね有りモードでは、
チャンネル数を10.8,6,4゜2(または、これら
のうちの幾つかの数)に切り換えできるようにする。こ
の場合、各チャンネル数に応じて、ビームスポットは第
15図(al〜(e)に斜線で示すように、二つのビー
ム群の中央側から同数ずつ選択すればよい。重ね無しモ
ードでは、チャンネル数を10〜2(または、これらの
うちの幾つかの数)までの任意の数に切り換え指定でき
るように構成するとともに、前後半のビーム群を隣合わ
せる。この場合にも、上述したと同様にチャンネル数の
切り換えに連動して、モータ制御回路39に与えるスピ
ード指定パルスの数を可変させればよい。
On the other hand, in the case of the second embodiment, the number of channels can be changed as follows. For example, in overlapping mode,
The number of channels can be switched to 10.8, 6, 4°2 (or some number of these). In this case, depending on the number of channels, the same number of beam spots may be selected from the center of the two beam groups, as indicated by diagonal lines in Fig. 15 (al to (e)). The configuration is such that the number can be switched to any number from 10 to 2 (or some of these numbers), and the front and rear beam groups are placed next to each other. The number of speed designation pulses given to the motor control circuit 39 may be varied in conjunction with switching the number of channels.

ただし、最大チャンネル数が10チヤンネルであって、
重ね無しモードを5チヤンネル以下で記録する場合には
、第8回に示したビームシフタ62や、第12図に示し
た反射ミラー55などを変位させることによって、一方
のビーム群をずらせて、前後半のビームスポット群を隣
合わせるという手法を、必ずしも採る必要はない。例え
ば、重ね無しモードを4チヤンネルで行う場合、第16
図に示すように、一方のビーム群において隣接している
ビームスポットB5l−B54を用いて記録してもよい
However, the maximum number of channels is 10 channels,
When recording in the non-overlapping mode with 5 channels or less, one beam group is shifted by displacing the beam shifter 62 shown in Part 8 or the reflecting mirror 55 shown in Fig. 12, so that the front and rear halves are It is not necessarily necessary to adopt the method of arranging the beam spot groups of 2 adjacent to each other. For example, when performing the non-overlap mode with 4 channels, the 16th
As shown in the figure, recording may be performed using adjacent beam spots B5l-B54 in one beam group.

(4)以上の説明から理解されるように、マルチビーム
を構成するレーザ記録ビームのチャンネル数は、露光す
べき画像の複雑さによって適宜に設定されるものであり
、重ねをりモードと重ね無しモードは、要求される画像
品質によって適宜に設定されるものである。従って、ビ
ームスポットの重ねの有無と、ビームスポットの数とは
全く無関係であり、それぞれ独立して設定することがで
きる。
(4) As can be understood from the above explanation, the number of channels of the laser recording beam that makes up the multi-beam is set appropriately depending on the complexity of the image to be exposed, and there are two modes: overlap mode and non-overlap mode. The mode is appropriately set depending on the required image quality. Therefore, whether or not the beam spots overlap is completely unrelated to the number of beam spots, and can be set independently.

例えば、第1実施例のように重ね有りモードを、奇数本
のレーザ記録ビームで記録する方式を第1方式、第2実
施例のように重ね有りモードを、偶数本のレーザ記録ビ
ームで記録する方式を第2方式とすると、これらの方式
は、描画対象となる画像の複雑さ、および要求される品
質に応じて、例えば次表に示すようにチャンネルl (
CH)の切り換えを行うことができる。なお、この例で
は、チャンネル数を最大10チヤンネルまで任意に選択
できるものとしている。
For example, the first method records the overlapping mode using an odd number of laser recording beams as in the first embodiment, and the overlapping mode uses an even number of laser recording beams as in the second embodiment. If the method is the second method, these methods can be used depending on the complexity of the image to be drawn and the required quality, for example, as shown in the table below.
CH) can be switched. In this example, it is assumed that the number of channels can be arbitrarily selected up to a maximum of 10 channels.

(以下、余白) (5)さらに、上述の実施例では、レーザプロッタを例
にとって説明したが、本発明は製版用カラースキャナや
レーザプリンタのようなその他の画像走査記録装置にも
適用することができる。
(Hereinafter, blank space) (5) Furthermore, in the above embodiment, a laser plotter was used as an example, but the present invention can also be applied to other image scanning and recording devices such as a color scanner for plate making and a laser printer. can.

(6)また、上記実施例では、記録用シリンダ40を使
用して画像記録面を曲面としたが、平面駆動されるテー
ブルを使用して画像記録面を平面としても良い。
(6) Furthermore, in the above embodiment, the recording cylinder 40 is used to make the image recording surface a curved surface, but a table driven in a plane may be used to make the image recording surface a flat surface.

〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、マル
チビームの一部を重ね合わせて露光記録する露光方法と
、重ね合わせないで露光記録する露光方法を、任意に選
択できるように構成したから、描画すべきパターンに要
求される画像品質に応じた最適の露光方法でもって露光
記録することができ、極めて実用的である。
<Effects of the Invention> As is clear from the above description, according to the present invention, it is possible to arbitrarily select an exposure method in which a portion of the multi-beams are overlapped for exposure recording and an exposure method in which exposure recording is performed without overlapping. Since the present invention is constructed in such a manner that exposure recording can be performed using the optimum exposure method according to the image quality required for the pattern to be drawn, it is extremely practical.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第7図は本発明の第1実施例の説明図で、
第1図はレーザプロッタの概略ブロック図、第2図はバ
ッファメモリ回路周辺の詳細ブロック図、第3図(a)
は露光ヘッドの構成例を示した斜視図、第3図(blは
ビームスポットの配列状態の説明図、第4図はラインメ
モリへの交点データの書き込み動作の説明図、第5図は
ラインメモリからの交点データの読み出し動作のタイミ
゛ングチャート、第6図は重ね有りモードにおけるバッ
ファメモリへのラインデータの書き込み/読み出し動作
の説明図、第7図はマルチビームの走査状態の説明図で
あり、第7図(a)は重ね有りモード、第7図(b)は
重ね無しモードをそれぞれ示している。 第8図ないし第14図は本発明の第2実施例の説明図で
、第8図は露光ヘッドの構成例を示した斜視図、第9図
および第1O図はビームシフタの説明図、第11図は重
ね無しモードおよび重ね有りモードにおける各ビームス
ポットの配列状態の説明図、第12図は露光ヘッドのそ
の他の構成例の要部斜視図、第13図は重ね有りモード
におけるバッファメモリへのラインデータの書き込み/
読み出し動作の説明図、第14図はマルチビームの走査
状態の説明図であり、第14図(a)は重ね有りモード
、第14図(b)は重ね無しモードをそれぞれ示してい
る。 第15閃および第16図は第2実施例の変形例の説明図
であり、第15図は重ね有りモード時のチャンネル数の
切り換えの説明図、第16図は重ね無しモード時のチャ
ンネル設定の説明図である。 第17図ないし第22図は従来例の説明図で、第17図
は従来例に係るレーザプロッタの概略ブロック図、第1
8図は一般的な重ね無しビームスポット列の配列状態の
説明図、第19図は重ね無しビームスポットよって露光
された記録画像の一例の説明図、第20図は重ね有りビ
ームスポット列の配列状態の説明図、第21図は千鳥状
に配列されたビームスポット列の説明図、第22図は重
ね有りビームスポット列によって露光された記録画像の
一例を示している。 lO・・・画像データ作成部 20・・・データ変化部 21・・・交点データ処理回路 22・・・メモリコントローラ 23・・・バ・ノファメモリ回路 23A、23B、23C・・・バッファメモリ24・・
・ドツトデータ作成回路 25・・・変調器制御回路 30・・・画像記録部 31・・・露光ヘッド 40・・・記録用シリンダ 出願人 大日本スクリーン製造株式会社代理人 弁理士
  杉  谷   勉 工η 第 図 第 1゜ 図 第 1] 図 第15図 第16図 第18 図 第19 図
1 to 7 are explanatory diagrams of the first embodiment of the present invention,
Figure 1 is a schematic block diagram of the laser plotter, Figure 2 is a detailed block diagram around the buffer memory circuit, and Figure 3 (a).
3 is a perspective view showing an example of the configuration of an exposure head, FIG. 3 is an explanatory diagram of the arrangement state of beam spots, FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of writing intersection data to the line memory, and FIG. 6 is an explanatory diagram of the writing/reading operation of line data to the buffer memory in the overlapping mode. FIG. 7 is an explanatory diagram of the multi-beam scanning state. , FIG. 7(a) shows the overlapping mode, and FIG. 7(b) shows the non-overlapping mode. FIGS. 8 to 14 are explanatory diagrams of the second embodiment of the present invention. The figure is a perspective view showing an example of the configuration of the exposure head, FIG. 9 and FIG. 1O are explanatory diagrams of the beam shifter, FIG. The figure is a perspective view of main parts of another configuration example of the exposure head, and FIG.
FIG. 14 is an explanatory diagram of the readout operation, and FIG. 14 is an explanatory diagram of the scanning state of the multi-beams. FIG. 14(a) shows the overlapping mode, and FIG. 14(b) shows the non-overlapping mode. Figures 15 and 16 are explanatory diagrams of a modification of the second embodiment. Figure 15 is an explanatory diagram of switching the number of channels in overlapping mode, and Figure 16 is an explanatory diagram of channel settings in non-overlapping mode. It is an explanatory diagram. 17 to 22 are explanatory diagrams of a conventional example, and FIG. 17 is a schematic block diagram of a laser plotter according to the conventional example.
Figure 8 is an explanatory diagram of a general array of non-overlapping beam spot arrays, Figure 19 is an explanatory diagram of an example of a recorded image exposed by non-overlapping beam spots, and Figure 20 is an explanatory diagram of an array of overlapping beam spot arrays. FIG. 21 is an explanatory diagram of a beam spot array arranged in a staggered manner, and FIG. 22 shows an example of a recorded image exposed by an overlapping beam spot array. lO...Image data creation unit 20...Data changing unit 21...Intersection data processing circuit 22...Memory controller 23...Banofa memory circuits 23A, 23B, 23C...Buffer memory 24...
・Dot data creation circuit 25...Modulator control circuit 30...Image recording unit 31...Exposure head 40...Recording cylinder Applicant Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Agent Patent attorney Tsutomu Sugitani η Figure 1゜Figure 1] Figure 15 Figure 16 Figure 18 Figure 19

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)それぞれ独立して制御される複数本のレーザ記録
ビーム(以下、マルチビームと称する)を画像記録面に
照射して直列状のビームスポット列を形成し、画像記録
面に対してマルチビームをスポット配列方向と交差する
方向に相対走査(以下、主走査と称する)させるととも
に、スポット配列方向に相対走査(以下、副走査と称す
る)させることにより、記録媒体に露光記録するように
した画像走査記録装置のレーザ露光方法において、相前
後する主走査において、後に主走査されるビームスポッ
ト列の後半部分が、先に主走査されたビームスポット列
の前半部分のビームスポット間を埋めるように、マルチ
ビームを副走査する第1露光方法と、 相前後する主走査において、後に主走査されるビームス
ポット列の最後尾ビームスポットが、先に主走査された
ビームスポット列の先頭ビームスポットと隣合うように
、マルチビームを副走査する第2露光方法とを、 記録すべき画像に要求される画像品質に応じて切り換え
選択して露光記録する、画像走査記録装置のレーザ露光
方法。
(1) Multiple independently controlled laser recording beams (hereinafter referred to as multi-beams) are irradiated onto the image recording surface to form a series of beam spots, and the multi-beam beams are directed onto the image recording surface. An image that is exposed and recorded on a recording medium by performing relative scanning (hereinafter referred to as main scanning) in a direction crossing the spot arrangement direction and relative scanning (hereinafter referred to as sub-scanning) in the spot arrangement direction. In a laser exposure method for a scanning recording device, in successive main scans, the latter part of the beam spot row that is main scanned later fills the space between the beam spots of the first half of the beam spot row that is main scanned first. A first exposure method in which multi-beams are sub-scanned, and in successive main scans, the last beam spot of the beam spot row that is main-scanned later is adjacent to the first beam spot of the beam spot row that is main-scanned first. A laser exposure method for an image scanning and recording apparatus that performs exposure recording by switching and selecting a second exposure method of sub-scanning a multi-beam according to the image quality required for the image to be recorded.
(2)請求項(1)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第1露光方法は、マルチビームを奇数本のレーザ記録ビ
ームとし、そのマルチビームのビームスポットの配列ピ
ッチをP、ビームスポットの数をNとした場合に、略(
P×N)/2のピッチでマルチビームを副走査するもの
であり、 第2露光方法は、マルチビームのビームスポットの配列
ピッチをP、ビームスポットの数をMとした場合に、略
P×Mのピッチでマルチビームを副走査するものである
、画像走査記録装置のレーザ露光方法。
(2) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (1), in the first exposure method, the multibeam is an odd number of laser recording beams, and the arrangement pitch of the beam spots of the multibeam is P, When the number of beam spots is N, approximately (
The second exposure method sub-scans the multi-beam at a pitch of P x N)/2, and the second exposure method is approximately P x A laser exposure method for an image scanning recording device that performs sub-scanning with a multi-beam at a pitch of M.
(3)請求項(2)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは、第1露
光方法におけるビームスポットの数Nと同一である、画
像走査記録装置のレーザ露光方法。
(3) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (2), the number M of beam spots in the second exposure method is the same as the number N of beam spots in the first exposure method. Laser exposure method for recording equipment.
(4)請求項(2)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは、第1露
光方法におけるビームスポットの数Nとは異なる奇数で
ある、画像走査記録装置のレーザ露光方法。
(4) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (2), the number M of beam spots in the second exposure method is an odd number different from the number N of beam spots in the first exposure method. Laser exposure method for image scanning recording device.
(5)請求項(2)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは偶数であ
る、画像走査記録装置のレーザ露光方法。
(5) The laser exposure method for an image scanning and recording apparatus according to claim (2), wherein the number M of beam spots in the second exposure method is an even number.
(6)請求項(1)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第1露光方法は、マルチビームを偶数本のレーザ記録ビ
ームとし、そのマルチビームのビームスポットの配列ピ
ッチをP、ビームスポットの数をNとした場合に、分割
部分で隣合うビームスポットの中心間距離が略1.5×
Pになるように前記マルチビームをそれぞれ同数のビー
ム群からなる前半部分と後半部分とに分割し、これらの
ビーム群を略(P×N)/2のピッチで副走査するもの
であり、 第2露光方法は、マルチビームのビームスポットの配列
ピッチをP、ビームスポットの数をMとして、ビームス
ポット列を直列状に隣合わせた状態で、略P×Nのピッ
チで副走査するものである、画像走査記録装置のレーザ
露光方法。
(6) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (1), in the first exposure method, the multi-beam is an even number of laser recording beams, and the array pitch of the beam spots of the multi-beam is P, When the number of beam spots is N, the distance between the centers of adjacent beam spots in the divided portion is approximately 1.5×
The multi-beam is divided into a first half and a second half each consisting of the same number of beam groups so that P, and these beam groups are sub-scanned at a pitch of approximately (P×N)/2. The second exposure method is to perform sub-scanning at a pitch of approximately P×N with the beam spot array pitch of the multi-beam being P and the number of beam spots being M, with the beam spot arrays being arranged next to each other in series. Laser exposure method for image scanning recording device.
(7)請求項(6)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは、第1露
光方法におけるビームスポットの数Nと同一である、画
像走査記録装置のレーザ露光方法。
(7) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (6), the number M of beam spots in the second exposure method is the same as the number N of beam spots in the first exposure method. Laser exposure method for recording equipment.
(8)請求項(6)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは、第1露
光方法におけるビームスポットの数Nとは異なる偶数で
ある、画像走査記録装置のレーザ露光方法。
(8) In the laser exposure method for an image scanning recording device according to claim (6), the number M of beam spots in the second exposure method is an even number different from the number N of beam spots in the first exposure method. Laser exposure method for image scanning recording device.
(9)請求項(6)に記載の画像走査記録装置のレーザ
露光方法において、 第2露光方法におけるビームスポットの数Mは奇数であ
る、画像走査記録装置のレーザ露光方法。
(9) The laser exposure method for an image scanning and recording apparatus according to claim (6), wherein the number M of beam spots in the second exposure method is an odd number.
JP1032499A 1988-06-20 1989-02-10 Laser exposure method for image scanning recording apparatus Expired - Lifetime JPH0812335B2 (en)

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DE68921101T DE68921101T2 (en) 1988-06-20 1989-06-19 Method and apparatus for recording images on photosensitive material using multiple photo rays.
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