JPH0199633A - 排ガスの処理方法 - Google Patents
排ガスの処理方法Info
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- JPH0199633A JPH0199633A JP62253807A JP25380787A JPH0199633A JP H0199633 A JPH0199633 A JP H0199633A JP 62253807 A JP62253807 A JP 62253807A JP 25380787 A JP25380787 A JP 25380787A JP H0199633 A JPH0199633 A JP H0199633A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は排ガス中に含まれるＮＯｘ及びＳＯｘを電磁波
あるいは電子ビームを利用して除去する方法に関する。
あるいは電子ビームを利用して除去する方法に関する。
従来から燃焼排ガス中のＮＯｘ、ＳＯｘ除去方法は多く
の方法が知られているが、なかでもＮＯｘに対しては排
ガス中にアンモニアを注入し、触媒の存在下に接触還元
を行う方法等、乾式の触媒による方法が主流を占めてお
り、また、ＳＯｘに対しては吸収液として石灰水溶液を
用い、副生物として石こうを回収する石灰−石こう法に
よる湿式法等が主流を成している。
の方法が知られているが、なかでもＮＯｘに対しては排
ガス中にアンモニアを注入し、触媒の存在下に接触還元
を行う方法等、乾式の触媒による方法が主流を占めてお
り、また、ＳＯｘに対しては吸収液として石灰水溶液を
用い、副生物として石こうを回収する石灰−石こう法に
よる湿式法等が主流を成している。
このような従来の排ガスの処理方法では、ＮＯｘ。
ＳＯｘの処理は、それぞれ別々のプロセスで実施され、
それぞれに固体の脱硝触媒や吸収媒体としての石灰水溶
液あるいは固体吸着剤等が必要であり、さらにまた、脱
硝と脱硫とを複数の段階で行うため、プロセスは複雑と
なり、したがって、使用する機器の点数も多くなり、そ
の結果、装置費や運私費が多額になるとい５問題点かあ
りた。
それぞれに固体の脱硝触媒や吸収媒体としての石灰水溶
液あるいは固体吸着剤等が必要であり、さらにまた、脱
硝と脱硫とを複数の段階で行うため、プロセスは複雑と
なり、したがって、使用する機器の点数も多くなり、そ
の結果、装置費や運私費が多額になるとい５問題点かあ
りた。
本発明は、かかる事情から上記のような従来の排ガス処
理方法の欠点を改良した排ガスの処理方法、すなわち、
排ガス中のＮＯｘ及びＳＯｘを処理するための触媒や吸
収液及び吸着剤等を必要としないでＮＯｘとＳＯｘとを
単一プロセスで一段階で処理できる新規なＮＯｘ及びＳ
Ｏｘの除去方法を提供することを目的としたものである
。
理方法の欠点を改良した排ガスの処理方法、すなわち、
排ガス中のＮＯｘ及びＳＯｘを処理するための触媒や吸
収液及び吸着剤等を必要としないでＮＯｘとＳＯｘとを
単一プロセスで一段階で処理できる新規なＮＯｘ及びＳ
Ｏｘの除去方法を提供することを目的としたものである
。
本発明は（１１Ｎｏ工及びＳＯｘを含む排ガスの処理方
法において、ＯＨラジカルを発生させる前駆体を徘ガス
中に混合し、この混合ガス全体に電磁波あるいは電子ビ
ームを照射してＯＨラジカルを生成させ、その生成した
ＯＨラジカルによりＮＯｘ及びＳＯｘを同時に分解処理
することを特徴とする排ガスの処理方法。
法において、ＯＨラジカルを発生させる前駆体を徘ガス
中に混合し、この混合ガス全体に電磁波あるいは電子ビ
ームを照射してＯＨラジカルを生成させ、その生成した
ＯＨラジカルによりＮＯｘ及びＳＯｘを同時に分解処理
することを特徴とする排ガスの処理方法。
（２）ＮＯｘ及びＳＯｘを含む排ガスの処理方法におい
て、 ＯＨラジカルを発生する前駆体を含むガスに電磁
波あるいは電子ビームを照射してＯＨラジカルを生成さ
せ、このＯＨラジカルを含ｔｒガスを上記の排ガスに混
合して、そのＯＨラジカルによりＮｏｘ及びＳＯ工を同
時に分解処理することを特徴とする排ガスの処理方法。
て、 ＯＨラジカルを発生する前駆体を含むガスに電磁
波あるいは電子ビームを照射してＯＨラジカルを生成さ
せ、このＯＨラジカルを含ｔｒガスを上記の排ガスに混
合して、そのＯＨラジカルによりＮｏｘ及びＳＯ工を同
時に分解処理することを特徴とする排ガスの処理方法。
を提案するものである。
ＮＯｘ及びＳＯｘを含む排ガスに、メタノール等のＯＨ
５：）カルを発生する前駆体を混合し、電磁波あるいは
電子ビームを照射すると、前駆体や共存する物質からＯ
Ｈラジカルが発生する。このラジカルにより次の反応が
生じる。
５：）カルを発生する前駆体を混合し、電磁波あるいは
電子ビームを照射すると、前駆体や共存する物質からＯ
Ｈラジカルが発生する。このラジカルにより次の反応が
生じる。
Ｎｏ ＋ ４０Ｈ→Ｎ２ ＋ ２Ｈ２０＋ ２０２（１
）上記ｆ７）（１） 、 （２１式に示ｉ！ ５ Ｋ、
Ｎｏ及ヒＳＯ２ハ還元されてそれぞれＮ２及び単体のイ
オウＳＫ分解される。このプロセスで発生するＮ２．
Ｎ２０ 、 Ｏ□は無害であり、後処理の必要はないが
、Ｓは処理ガス中に固体状で含まれるので集塵器で除去
される。
）上記ｆ７）（１） 、 （２１式に示ｉ！ ５ Ｋ、
Ｎｏ及ヒＳＯ２ハ還元されてそれぞれＮ２及び単体のイ
オウＳＫ分解される。このプロセスで発生するＮ２．
Ｎ２０ 、 Ｏ□は無害であり、後処理の必要はないが
、Ｓは処理ガス中に固体状で含まれるので集塵器で除去
される。
またメタノール等のＯＨラジカルを発生する前駆体を含
むガスに、電磁波あるいは電子ビームを照射すると、前
駆体や共存する物質からＯＨラジカルが発生する。この
ラジカルを含むガスを処理対象のＮＯｘ及びＳｏｘを含
む排ガスに注入し混合すると、上記と同様の作用が生じ
る。
むガスに、電磁波あるいは電子ビームを照射すると、前
駆体や共存する物質からＯＨラジカルが発生する。この
ラジカルを含むガスを処理対象のＮＯｘ及びＳｏｘを含
む排ガスに注入し混合すると、上記と同様の作用が生じ
る。
本発明の方法で用いられるＯＨラジカルを発生する前駆
体としては、メタノール、エタノール及びそのアルコー
ル誘導体があげられる。
体としては、メタノール、エタノール及びそのアルコー
ル誘導体があげられる。
また、本発明の方法では、電磁波としては紫外・可視・
赤外光が用いられるが、波長範囲が１５０？Ｉｍ〜１６
μ駕の紫外・可視・赤外光としては、アルゴン、ＣＯ２
１エキシマ等のガスレーザーシステム及びイツトリウム
−アルミニウムーガーネット（ＹＡＧ ）等の固体レー
ザーシステムを用いて出射されるレーザー光が用いられ
る。
赤外光が用いられるが、波長範囲が１５０？Ｉｍ〜１６
μ駕の紫外・可視・赤外光としては、アルゴン、ＣＯ２
１エキシマ等のガスレーザーシステム及びイツトリウム
−アルミニウムーガーネット（ＹＡＧ ）等の固体レー
ザーシステムを用いて出射されるレーザー光が用いられ
る。
さらに、また、マイクロ波を用いる場合は、ＯＨラジカ
ルを発生する前駆体を誘導した空洞共振器内で照射する
。
ルを発生する前駆体を誘導した空洞共振器内で照射する
。
なお、ＯＨラジカルを含むガスは排ガスに対して、排ガ
スが露点に至らない温度、すなわち、５０〜１００℃の
温度範囲でＯＨラジカルとＮＯｘ＋ＳＯｘのモル比が３
：１になるように混合される。
スが露点に至らない温度、すなわち、５０〜１００℃の
温度範囲でＯＨラジカルとＮＯｘ＋ＳＯｘのモル比が３
：１になるように混合される。
關
次に本発明の第１の発明の について行った実験例を
第１図の説明図に基づいて説明する。
第１図の説明図に基づいて説明する。
Ｎｏ 、 ＳＯ２，ＣＨ３０Ｈ、Ｎ２（Ｄ試験、ｆｘが
ソＦＬ、ソｈ別ｋに封入されている試験ガス容器１から
ガス流量調整器２により流量を調整してＣＨ，ＯＨガス
とＮ２ガスとを抜き出して混合して０Ｈ３０Ｈ含有ガス
３の濃度を調整した。ついで、このＣＨ３０Ｈ含有ガス
とＮｏ 、 Ｓｏ□を含むガスをガス流ｆ（３０ＣＣ／
ｓで反応セル４に導入、混合し、 ＡｒＦ−エキシマレ
ーザ−システム５からの波長１９３％慣のレーザー光６
を１００Ｈｚのパルス発振の条件（１〜１００Ｈｚで発
振させてもよい）で連続照射した。レーザー光の照射に
よりＣ３Ｈ７ＯＨは励起されＯＨラジカルが生成し、Ｎ
Ｏｘ、ＳＯｘを分解する。
ソＦＬ、ソｈ別ｋに封入されている試験ガス容器１から
ガス流量調整器２により流量を調整してＣＨ，ＯＨガス
とＮ２ガスとを抜き出して混合して０Ｈ３０Ｈ含有ガス
３の濃度を調整した。ついで、このＣＨ３０Ｈ含有ガス
とＮｏ 、 Ｓｏ□を含むガスをガス流ｆ（３０ＣＣ／
ｓで反応セル４に導入、混合し、 ＡｒＦ−エキシマレ
ーザ−システム５からの波長１９３％慣のレーザー光６
を１００Ｈｚのパルス発振の条件（１〜１００Ｈｚで発
振させてもよい）で連続照射した。レーザー光の照射に
よりＣ３Ｈ７ＯＨは励起されＯＨラジカルが生成し、Ｎ
Ｏｘ、ＳＯｘを分解する。
一方、（Ｈ，ＯＨ含有ガスを調整する場合と同様な方法
で、Ｎｏ 、 ＳＯ２及びＮ２ガスを試験ガス容器１カ
ラ抜キ出シ、Ｎｏ Ｇ度１００ Ｐ 、 Ｓｏ□ａｍ
６００ｐｐｍの供試ガス７を調整し、ＣＨ３０Ｈ含有ガ
スと反応セル４で流速３０ＣＣ／ｓで混合した。
で、Ｎｏ 、 ＳＯ２及びＮ２ガスを試験ガス容器１カ
ラ抜キ出シ、Ｎｏ Ｇ度１００ Ｐ 、 Ｓｏ□ａｍ
６００ｐｐｍの供試ガス７を調整し、ＣＨ３０Ｈ含有ガ
スと反応セル４で流速３０ＣＣ／ｓで混合した。
混合すると同時に供試ガス７中に含まれているＮｏとＳ
Ｏ２はＡｒＦエキシマレーザ−光照射によって生成した
ＯＨラジカルと反応して分解しＮ２とＳに変換した。
Ｏ２はＡｒＦエキシマレーザ−光照射によって生成した
ＯＨラジカルと反応して分解しＮ２とＳに変換した。
反応後のガスをガス組成分析計９に導き、ガス組成を分
析し、Ｎｏ及びＳＯ２の分解率を求めた。
析し、Ｎｏ及びＳＯ２の分解率を求めた。
その結果、Ｎｏ及びＳＯ２の分解率は共に９５係であっ
た。この実験例から第１の発明の方法は排ガス処理に有
効であることを認めた。
た。この実験例から第１の発明の方法は排ガス処理に有
効であることを認めた。
次に本発明の第２の発明の方法について行った実験例を
第２図の説明図に基づいて説明する。
第２図の説明図に基づいて説明する。
Ｎｏ 、 ＳＯ２，０Ｈ３０Ｈ、Ｎ２ノ試ｓカスカツｔ
ｔソｔｔ別ｋに封入されている試験ガス容器１かもガス
流量調整器２により流）を調整してＣＨ３０ＨガスとＮ
２ ガスとを抜き出して混合し０Ｈ３０Ｈ含有ガス３の
濃度を調整した。ついでこのＣＨ３０Ｈ含有ガス３をガ
ス流量３０ＣＣ／ｓで反応セル４に導入し、ＡｒＦ−エ
キシマレーザ−システム５からの波長１９３ ｎｍのレ
ーザー光６を１００Ｈｚのパルス発振の条件（１〜１０
０Ｈｚで発振させてもよい ）で連続照射した。レーザ
ー光の照射によりＣＨ３０Ｈは励起されＯＨニア：）カ
ルが生成する。
ｔソｔｔ別ｋに封入されている試験ガス容器１かもガス
流量調整器２により流）を調整してＣＨ３０ＨガスとＮ
２ ガスとを抜き出して混合し０Ｈ３０Ｈ含有ガス３の
濃度を調整した。ついでこのＣＨ３０Ｈ含有ガス３をガ
ス流量３０ＣＣ／ｓで反応セル４に導入し、ＡｒＦ−エ
キシマレーザ−システム５からの波長１９３ ｎｍのレ
ーザー光６を１００Ｈｚのパルス発振の条件（１〜１０
０Ｈｚで発振させてもよい ）で連続照射した。レーザ
ー光の照射によりＣＨ３０Ｈは励起されＯＨニア：）カ
ルが生成する。
一方、ＣＨ３０Ｈ含有ガスを調整する場合と同様な方法
で、Ｎｏ 、 ＳＯ２及びＮ２ガスを試験ガス容器１か
ら抜き出し混合して、ＮＯ濃度ｔｏｏｐｐｉｓｏ□濃度
６００１１１Ｊ１の供試ガス７を調整した。このように
して調整した供試ガス７をガス流ｇ ３０ ＣＣ／ｓで
ガス混合器８に導き反応セル４からのＯＨラジカルを含
むガスと８０℃で混合した。
で、Ｎｏ 、 ＳＯ２及びＮ２ガスを試験ガス容器１か
ら抜き出し混合して、ＮＯ濃度ｔｏｏｐｐｉｓｏ□濃度
６００１１１Ｊ１の供試ガス７を調整した。このように
して調整した供試ガス７をガス流ｇ ３０ ＣＣ／ｓで
ガス混合器８に導き反応セル４からのＯＨラジカルを含
むガスと８０℃で混合した。
混合すると同時に供試ガス７中に含まれているＮｏとＳ
Ｏ□はＯＨ，ｙジカルと反応して分解し、Ｎ２とＳに変
換した。
Ｏ□はＯＨ，ｙジカルと反応して分解し、Ｎ２とＳに変
換した。
反応後のガスをガス組成分析計９に導きガス組成を分析
し、Ｎｏ及びＳＯ２の分解率を求めた。その結果、ＮＯ
及びＳＯ２の分解率は共に６５俤であった。この実験例
から本発明の方法は排ガス処理に有効であることが認め
られた。なお本実施例の方法によればつぎの効果を奏す
る。
し、Ｎｏ及びＳＯ２の分解率を求めた。その結果、ＮＯ
及びＳＯ２の分解率は共に６５俤であった。この実験例
から本発明の方法は排ガス処理に有効であることが認め
られた。なお本実施例の方法によればつぎの効果を奏す
る。
（１） ＮＯｘとＳＯｘを別々のプロセスでかつ複数
段階で処理する必要がなく、単一プロセスで一段でＮＯ
ｘとＳｏｘとを同時に処理することができ、プロセスが
単純となり、したがって必要とする機器点数も少なくな
る。
段階で処理する必要がなく、単一プロセスで一段でＮＯ
ｘとＳｏｘとを同時に処理することができ、プロセスが
単純となり、したがって必要とする機器点数も少なくな
る。
（２）従来のプロセスで必要とした触媒や吸収液、吸着
剤等を必要としない。
剤等を必要としない。
（３）排ガス中のＮＯｘ及びＳＯｘを処理するために、
第２の発明では処理すべき排ガス全体に電磁波あるいは
電子ビームを照射するのではな（、添加するガスにのみ
電磁波あるいは電子ビームを照射させるので、排ガスに
よる光学系の汚染が防止され、排ガス中の不純物による
エネルギロスを低減することが可能である。
第２の発明では処理すべき排ガス全体に電磁波あるいは
電子ビームを照射するのではな（、添加するガスにのみ
電磁波あるいは電子ビームを照射させるので、排ガスに
よる光学系の汚染が防止され、排ガス中の不純物による
エネルギロスを低減することが可能である。
本発明の排ガスの処理方法によれば次のような効果を奏
する。
する。
＜１） ＮＯｘとＳＯｘを別々のプロセスでかつ複数
段階で処理する必要がなく、単一プロセスで一段でＮＯ
ｘとＳｏｘとを同時に処理することができ、プロセスが
単純となり、したがって、必要とする機器点数も少なく
なる。
段階で処理する必要がなく、単一プロセスで一段でＮＯ
ｘとＳｏｘとを同時に処理することができ、プロセスが
単純となり、したがって、必要とする機器点数も少なく
なる。
（２）従来のプロセスで必要とした触媒や吸収液、吸着
剤等を必要としない。
剤等を必要としない。
第１図は本発明の第１の発明の詳細な説明するための説
明図、第２図は本発明の第２の発明の詳細な説明するた
めの説明図である。 １：試料ガス容器 ２：ガス流量調整器３ ： Ｃ
Ｈ３０Ｈ含有ガス ４：反応セル５ ： ＡｒＦ−エ
キシマレーザ−システム６：レーザー光 ７：供
試ガス
明図、第２図は本発明の第２の発明の詳細な説明するた
めの説明図である。 １：試料ガス容器 ２：ガス流量調整器３ ： Ｃ
Ｈ３０Ｈ含有ガス ４：反応セル５ ： ＡｒＦ−エ
キシマレーザ−システム６：レーザー光 ７：供
試ガス
Claims (2)
- （１）ＮＯ＿ｘ及びＳＯ＿ｘを含む排ガスの処理方法に
おいて、ＯＨラジカルを発生させる前駆体を排ガス中に
混合し、この混合ガス全体に電磁波あるいは電子ビーム
を照射してＯＨラジカルを生成させ、その生成したＯＨ
ラジカルによりＮＯ＿ｘ及びＳＯ＿ｘを同時に分解処理
することを特徴とする排ガスの処理方法。 - （２）ＮＯ＿ｘ及びＳＯ＿ｘを含む排ガスの処理方法に
おいて、ＯＨラジカルを発生する前駆体を含むガスに電
磁波あるいは電子ビームを照射してＯＨラジカルを生成
させ、このＯＨラジカルを含むガスを上記排ガスに混合
して、そのＯＨラジカルによりＮＯ＿ｘ及びＳＯ＿ｘを
同時に分解処理することを特徴とする排ガスの処理方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253807A JP2607548B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253807A JP2607548B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0199633A true JPH0199633A (ja) | 1989-04-18 |
| JP2607548B2 JP2607548B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=17256422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253807A Expired - Lifetime JP2607548B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2607548B2 (ja) |
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| US5284556A (en) * | 1991-05-01 | 1994-02-08 | Plasmachines, Inc. | Exhaust treatment system and method |
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| US6264314B1 (en) | 1991-05-27 | 2001-07-24 | Seiko Epson Corporation | Ink cartridge for ink jet recording apparatus |
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| JPS63287534A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガスの処理方法 |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP62253807A patent/JP2607548B2/ja not_active Expired - Lifetime
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