JPH0175318U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の第１実施例を示すものであり
、コンパクトデイスクプレーヤに装備されている
光学式ピツクアツプの光学系部分の原理を示す説
明図、第２図は第１図のハーフミラーにおける反
射面の製造工程を示す説明図、第３図は本考案の
第２実施例に係るハーフミラーの断面図、第４図
は本考案の第３実施例に係るハーフミラーの断面
図、第５図はコンパクトデイスクプレーヤに装備
されている従来の光学式ピツクアツプの光学系部
分の原理を示す説明図、第６図はホトダイオード
によつて検知される受光スポツトを示す説明図、
第７図は従来の問題点を説明する第５図の一部拡
大図である。 １…半導体レーザ、２…ハーフミラー、３…コ
リメートレンズ、４…対物レンズ、５…凹レンズ
、６…シリンドリカルレンズ、７…ホトダイオー
ド、１０…反射面。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 光デイスクに対向し、且つ光デイスクの記
   録面に沿う方向および光軸方向へ補正駆動される
   対物レンズと、この対物レンズの方向へレーザビ
   ームを出力する発光素子と、光デイスクの記録面
   からの反射ビームに対して斜めに配置され且つ反
   射ビームを受光素子の方向へ反射させる半透過式
   の反射板が設けられている光学式ピツクアツプの
   光学装置において、前記半透過式の反射板の表面
   に付着されている反射薄膜は、反射ビームの照射
   部位によつて反射率が異なるように形成されてい
   ることを特徴とする光学式ピツクアツプの光学装
   置。 (2) 反射薄膜は、反射ビームの照射部位によつ
   て厚さが段階的に変化するように形成されている
   実用新案登録請求の範囲第１項記載の光学式ピツ
   クアツプの光学装置。 (3) 反射薄膜は、反射ビームの照射部位によつ
   て厚さが連続的に変化するように形成されている
   実用新案登録請求の範囲第１項記載の光学式ピツ
   クアツプの光学装置。 (4) 反射薄膜は、反射ビームの照射部位に応じ
   て反射率の異なる材質によつて形成されている実
   用新案登録請求の範囲第１項記載の光学式ピツク
   アツプの光学装置。