JPH0154354B2 - - Google Patents

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JPH0154354B2
JPH0154354B2 JP56082828A JP8282881A JPH0154354B2 JP H0154354 B2 JPH0154354 B2 JP H0154354B2 JP 56082828 A JP56082828 A JP 56082828A JP 8282881 A JP8282881 A JP 8282881A JP H0154354 B2 JPH0154354 B2 JP H0154354B2
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group
compound
reaction
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solvent
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JP56082828A
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Japanese (ja)
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Tetsuo Myadera
Masao Sugimura
Teruo Tanaka
Toshihiko Hashimoto
Kimio Iino
Shinichi Sugawara
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 を有する新規なペネム−3−カルボン酸誘導体お
よびその塩の製造法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to the general formula The present invention relates to a method for producing a novel penem-3-carboxylic acid derivative and a salt thereof.

上記式中、R1は水素原子、アルキル基、アル
コキシ基またはR3A−基(式中、R3は水酸基、
アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホ
ニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ト
リアルキルシリルオキシ基、メルカプト基、アル
キルチオ基、アミノ基またはアシルアミノ基を示
し、Aはトリフルオロメチル基若しくはフエニル
基で置換されてもよいアルキレン基を示す。)を
表わし、R2は水素原子またはカルボキシル基の
保護基を表わす。)を表わす。
In the above formula, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an R 3 A- group (wherein R 3 is a hydroxyl group,
It represents an alkoxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a trialkylsilyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an amino group or an acylamino group, and A may be substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group. Indicates a good alkylene group. ), and R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxyl group. ).

前記一般式(1)において、R1は好適には水素原
子例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチルのよ
うな直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル基、
例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、
sec−ブトキシ、tert−ブトキシのような直鎖状
若しくは分枝鎖状の低級アルコキシ基またはR3A
−基(式中、R3は水酸基、例えばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシのよう
な低級アルコキシ基、例えばアセトキシ、プロピ
オニルオキシ、n−ブチリルオキシ、イソブチリ
ルオキシのような低級脂肪族アシルオキシ基若し
くはベンジルオキシカルボニルオキシ、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシのようなアラ
ルキルオキシカルボニルオキシ基などのアシルオ
キシ基、例えばメタンスルホニルオキシ基、エタ
ンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ
のような低級アルキルスルホニルオキシ基、例え
ばベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスル
ホニルオキシのようなアリールスルホニルオキシ
基、例えばトリメチルシリルオキシ、tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシのようなトリ低級アルキ
ルシリルオキシ基、メルカプト基、例えばメチル
チオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロ
ピルチオのような低級アルキルチオ基、アミノ基
または例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミ
ノ、n−ブチリルアミノ、イソブチリルアミノの
ような低級脂肪族アシルアミノ基を示し、Aは例
えばメチレン、エチレン、エチリデン、トリメチ
レン、プロピリデン、テトラメチレン、ブチリデ
ン、ペンタメチレン、ペンチリデン、2,2,2
−トリフルオロエチリデン、3,3,3−トリフ
ルオロプロピリデン、ベンジリデンのようなトリ
フルオロメチル基若しくはフエニル基で置換され
てもよいアルキレン基を示す。)であり、R2は好
適には水素原子、例えばメチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル
のような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル
基、例えば2−ヨードエチル、2,2−ジブロモ
エチル、2,2,2−トリクロロエチルのような
ハロゲノ低級アルキル基、例えばメトキシメチ
ル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、イ
ソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、イソ
ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル
基、例えばアセトキシメチル、プロピオニルオキ
シメチル、n−ブチルオキシメチル、イソブチリ
ルオキシメチル、ピバロイルオキシメチルのよう
な低級脂肪族アシルオキシメチル基、例えば1−
メトキシカルボニルオキシエチル、1−エトキシ
カルボニルオキシエチル、1−n−プロポキシカ
ルボニルオキシエチル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、1−n−ブトキシカルボニ
ルオキシエチル、1−イソブトキシカルボニルオ
キシエチルのような1−低級アルコキシカルボニ
ルオキシエチル基、例えばベンジル、p−メトキ
シベンジル、o−ニトロベンジル、p−ニトロベ
ンジルのようなアラルキシ基、ベンズヒドリル基
またはフタリジル基である。
In the general formula (1), R 1 is preferably a hydrogen atom such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl,
Straight or branched lower alkyl groups such as tert-butyl, n-pentyl, isopentyl,
For example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy,
Straight chain or branched lower alkoxy group such as sec-butoxy, tert-butoxy or R 3 A
- group (wherein R 3 is a hydroxyl group, such as a lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, lower aliphatic acyloxy such as acetoxy, propionyloxy, n-butyryloxy, isobutyryloxy) groups or acyloxy groups such as benzyloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy groups such as p-nitrobenzyloxycarbonyloxy, lower alkylsulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, propanesulfonyloxy, e.g. Arylsulfonyloxy groups such as benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, tri-lower alkylsilyloxy groups such as trimethylsilyloxy, tert-butyldimethylsilyloxy, mercapto groups such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropyl It represents a lower alkylthio group such as thio, an amino group or a lower aliphatic acylamino group such as acetylamino, propionylamino, n-butyrylamino, isobutyrylamino, and A represents, for example, methylene, ethylene, ethylidene, trimethylene, propylidene, Tetramethylene, butylidene, pentamethylene, pentylidene, 2,2,2
- Indicates an alkylene group which may be substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group such as trifluoroethylidene, 3,3,3-trifluoropropylidene, and benzylidene. ), and R 2 is preferably a hydrogen atom, such as a linear or branched lower alkyl group such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, such as 2-iodoethyl, Halogeno lower alkyl groups such as 2,2-dibromoethyl, 2,2,2-trichloroethyl, such as methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propoxymethyl, isopropoxymethyl, n-butoxymethyl, isobutoxymethyl Lower alkoxymethyl groups, e.g. lower aliphatic acyloxymethyl groups such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, n-butyloxymethyl, isobutyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, e.g. 1-
1- such as methoxycarbonyloxyethyl, 1-ethoxycarbonyloxyethyl, 1-n-propoxycarbonyloxyethyl, 1-isopropoxycarbonyloxyethyl, 1-n-butoxycarbonyloxyethyl, 1-isobutoxycarbonyloxyethyl A lower alkoxycarbonyloxyethyl group, for example an aralxy group such as benzyl, p-methoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-nitrobenzyl, a benzhydryl group or a phthalidyl group.

さらに、前記一般式(1)における特に好適な化合
物としてはR1が水素原子、エチル基、α−ヒド
ロキシエチル、α−アセトキシエチル、α−プロ
ピオニルオキシエチル、α−n−ブチリルオキシ
エチル、α−アミノエチル、α−アセチルアミノ
エチル、α−プロピオニルアミノエチル、α−n
−ブチリルアミノエチルのようなα位が水酸基、
アミノ基、炭素数2乃至4個を有する脂肪族アシ
ルオキシ基若しくは炭素数2乃至4個を有する脂
肪族アシルアミノ基で置換されたエチル基または
メトキシ基であり、R2は水素原子またはピバロ
イルオキシメチル基である化合物をあげることが
できる。
Further, particularly preferred compounds in the general formula (1) include R 1 being a hydrogen atom, an ethyl group, α-hydroxyethyl, α-acetoxyethyl, α-propionyloxyethyl, α-n-butyryloxyethyl, α -Aminoethyl, α-acetylaminoethyl, α-propionylaminoethyl, α-n
-Hydroxy group at α position, such as butyryl aminoethyl,
An ethyl group or a methoxy group substituted with an amino group, an aliphatic acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, or an aliphatic acylamino group having 2 to 4 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom or pivaloyloxy. Examples include compounds that are methyl groups.

前記一般式(1)で示しているように、化合物(1)は
通常チオール型 ではなくチオケトン型をとつている。
As shown in the general formula (1) above, compound (1) is usually a thiol type It is not a thioketone type.

なお、前記一般式(1)を有する化合物においては
不斉炭素原子に基く光学異性体および立体異性体
が存在し、これらの異性体がすべて単一の式で示
されているが、これによつて本発明の記載の範囲
は限定されるものではない。しかしながら、好適
には5位の炭素原子がペニシリン類と同一配位す
なわちR配位を有する化合物を選択することがで
きる。
In addition, in the compound having the above general formula (1), there are optical isomers and stereoisomers based on asymmetric carbon atoms, and all of these isomers are represented by a single formula, but this However, the scope of the present invention is not limited. However, it is preferable to select a compound in which the carbon atom at position 5 has the same coordination as that of penicillins, that is, the R coordination.

また、前記一般式(1)において、R2が水素原子
であるカルボン酸化合物は必要に応じて塩の形に
することができる。そのような塩としては、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグ
ネシウムのような無機金属の塩あるいはアンモニ
ウム、シクロヘキシルアンモニウム、ジイソプロ
ピルアンモニウム、トリエチルアンモニウムのよ
うなアンモニウム塩類をあげることができるが、
好適にはナトリウム塩およびカリウム塩である。
Furthermore, in the general formula (1), the carboxylic acid compound in which R 2 is a hydrogen atom can be made into a salt form, if necessary. Such salts include salts of inorganic metals such as lithium, sodium, potassium, calcium, and magnesium, and ammonium salts such as ammonium, cyclohexylammonium, diisopropylammonium, and triethylammonium.
Preferred are sodium and potassium salts.

本発明の前記一般式(1)を有する化合物は、すぐ
れた抗菌活性を表わすペネム化合物の重要合成中
間体である。
The compound having the general formula (1) of the present invention is an important synthetic intermediate for penem compounds that exhibit excellent antibacterial activity.

本発明によつて得られる前記一般式(1)を有する
化合物としては例えば以下に記載する化合物があ
げられる。
Examples of the compound having the general formula (1) obtained by the present invention include the compounds described below.

(1) 2−チオキソペナム−3−カルボン酸あるい
はそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 (2) 2−チオキソペナム−3−カルボン酸p−ニ
トロベンジルエステル (3) 6−(1−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル)−2−チオキソペナム−3−カルボ
ン酸p−ニトロベンジルエステル (4) 6−(1−ヒドロキシエチル)−2−チオキソ
ペナム−3−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル (5) 6−(1−ヒドロキシエチル)−2−チオキソ
ペナム−3−カルボン酸あるいはそのナトリウ
ム塩若しくはカリウム塩 (6) 6−メトキシ−2−チオキソペナム−3−カ
ルボン酸あるいはナトリウム塩若しくはカリウ
ム塩 (7) 6−エチル−2−チオキソペナム−3−カル
ボン酸あるいはナトリウム塩若しくはカリウム
塩 (8) 6−(1−アセトキシエチル)−2−チオキソ
ペナム−3−カルボン酸p−ニトロベンジルエ
ステル (9) 6−(1−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルエチル)−2−チオキソペナム−3−カル
ボン酸p−ニトロベンジルエステル 本例示化合物においては上述したように立体異
性体が存在するが、それらの異性体のうちで好適
なものとしては、(5R,6S)配位および(5R,
6R)配位を有する化合物並びに6位置換基のα
位に水酸基、アセトキシ基、アミノ基、アセトア
ミド基のような置換分を有する場合にはその配位
がR配位である化合物をあげることができる。
(1) 2-thioxopenam-3-carboxylic acid or its sodium salt or potassium salt (2) 2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (3) 6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (4) 6-(1-hydroxyethyl)-2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (5) 6-(1-hydroxyethyl) -2-thioxopenam-3-carboxylic acid or its sodium salt or potassium salt (6) 6-methoxy-2-thioxopenam-3-carboxylic acid or its sodium salt or potassium salt (7) 6-ethyl-2-thioxopenam-3- Carboxylic acid or sodium salt or potassium salt (8) 6-(1-acetoxyethyl)-2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (9) 6-(1-p-nitrobenzyloxycarbonylethyl)- 2-Thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester As mentioned above, this exemplary compound has stereoisomers, but among these isomers, the (5R,6S) coordination is preferable. and (5R,
6R) Compounds with coordination and α of the 6-position substituent
Compounds having a substituent such as a hydroxyl group, an acetoxy group, an amino group, or an acetamido group at the position thereof are R-coordinated.

本発明の目的化合物(1)は以下に示す方法によつ
て製造することができる。
The object compound (1) of the present invention can be produced by the method shown below.

上記式中、R1およびR2は前述したものと同意
義を示し、R4は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基またはR7A−基(式中、R7はアルコキシ
基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ
基、アリールスルホニルオキシ基、トリアルキル
シリルオキシ基、アシルチオ基、アルキルチオ基
またはアシルアミノ基を示し、Aはトリフルオロ
メチル基若しくはフエニル基で置換されてもよい
アルキレン基を示す。)を表わし、R5はメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチルのような低級アルキル基を表わ
し、R6はカルボキシル基の保護基を表わし、X
およびYはハロゲン原子を表わし、Bは単結合、
メチル、エチル、プロピルのような低級アルキル
基を置換分として有していてもよいメチレン、エ
チレンのような低級アルキレン基またはo−フエ
ニレン基を表わす。ここでR4における各置換基
は前述したR1における対応する基に一致するも
のであつて、水酸基若しくはメルカプト基のいず
れかが保護されているものを含み、R6における
カルボキシル基の保護基はR2における対応する
基に一致するものである。
In the above formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an R 7 A- group (wherein R 7 is an alkoxy group, an acyloxy group, an alkyl represents a sulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a trialkylsilyloxy group, an acylthio group, an alkylthio group, or an acylamino group, and A represents an alkylene group which may be substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group. R 5 is methyl,
represents a lower alkyl group such as ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, R 6 represents a carboxyl group protecting group,
and Y represents a halogen atom, B is a single bond,
It represents a lower alkylene group such as methylene or ethylene, which may have a lower alkyl group such as methyl, ethyl, or propyl as a substituent, or an o-phenylene group. Here, each substituent in R 4 corresponds to the corresponding group in R 1 described above, and includes those in which either the hydroxyl group or the mercapto group is protected, and the protecting group for the carboxyl group in R 6 is It corresponds to the corresponding group in R 2 .

本発明の第1工程は一般式(4)を有する化合物を
製造する工程で、一般式(2)を有する化合物に塩基
存在下、二硫化炭素を反応させた後、一般式(3)を
有する化合物を反応させる工程である。
The first step of the present invention is a step of producing a compound having general formula (4), in which a compound having general formula (2) is reacted with carbon disulfide in the presence of a base, and then a compound having general formula (3) is produced. This is a process of reacting compounds.

本工程の反応を実施するにあたつて、反応は前
記一般式(2)を有する化合物を溶剤の存在下で塩基
で処理した後、二硫化炭素を反応させ、次いで一
般式(3)を有する化合物と反応させることによつて
達成される。反応に使用される溶剤としては本反
応に関与しないものであれば特に限定はないが、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのような
エーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミドのような脂肪酸ジ
アルキルアミド類並びにこれらの有機溶剤の混合
溶剤が好適である。本反応に使用される塩基とし
ては、リチウムジイプロピルアミド、リチウムヘ
キサメチルジシラザンのような塩基をあげること
ができる。反応温度は特に限定はなく、通常は−
78゜乃至−20℃で行うのが好適であり、窒素のよ
うな不活性ガスの雰囲気中で行うことができる。
反応に要する時間は塩基との反応時間は約5分乃
至1時間、二硫化炭素との反応時間は10分乃至2
時間、一般式(3)を有する化合物との反応時間は10
分乃至5時間である。
In carrying out the reaction of this step, the reaction is carried out by treating the compound having the general formula (2) with a base in the presence of a solvent, reacting it with carbon disulfide, and then reacting the compound having the general formula (3) with a base. This is achieved by reacting with a compound. The solvent used in the reaction is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but
Tetrahydrofuran, ethers such as diethyl ether, N,N-dimethylformamide,
Fatty acid dialkylamides such as N,N-dimethylacetamide and mixed solvents of these organic solvents are suitable. Examples of the base used in this reaction include bases such as lithium dipropylamide and lithium hexamethyldisilazane. The reaction temperature is not particularly limited and is usually -
It is suitably carried out at a temperature of 78° to -20°C, and can be carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen.
The time required for the reaction is approximately 5 minutes to 1 hour for the reaction with the base and 10 minutes to 2 hours for the reaction with carbon disulfide.
time, the reaction time with the compound having general formula (3) is 10
The duration ranges from minutes to 5 hours.

反応終了後、本工程の目的化合物(4)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物に氷酢酸を加えて反応を終結させた後、酢酸エ
チルのような水と混和しない有機溶剤および水を
加え、有機溶剤層を分取して、希薄炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で順次洗浄し、乾燥剤で乾
燥した後、有機溶剤層より溶剤を留去することに
よつて得ることができる。
After the reaction is completed, the target compound (4) of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, after terminating the reaction by adding glacial acetic acid to the reaction mixture, a water-immiscible organic solvent such as ethyl acetate and water are added, and the organic solvent layer is separated and sequentially treated with dilute aqueous sodium bicarbonate solution and water. It can be obtained by washing, drying with a desiccant, and then distilling off the solvent from the organic solvent layer.

このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。
The target compound thus obtained can be purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

第2工程は一般式(5)を有する化合物を製造する
工程で、化合物(4)をハロゲン化剤で処理してハロ
ゲン化する工程である。
The second step is a step of producing a compound having general formula (5), and is a step of halogenating compound (4) by treating it with a halogenating agent.

本工程の反応を実施するにあたつて、反応は前
記一般式(4)を有する化合物を溶剤の存在下でハロ
ゲン化剤と反応させることによつて達成される。
反応に使用されるハロゲン化剤としては特に限定
はないが、塩素、臭素、スルフリルクロリド、ス
ルフリルブロミドが好適なものとしてあげること
ができる。反応に使用される溶剤としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2
−ジクロロエタン類が好適である。反応温度は特
に限定はないが、副反応を抑えるために比較的低
温が望ましく、−20℃乃至室温付近で行うのが好
適である。反応に要する時間は主に原料化合物の
種類、反応温度によつて異なるが、約1分乃至1
時間である。
In carrying out the reaction of this step, the reaction is achieved by reacting the compound having the general formula (4) with a halogenating agent in the presence of a solvent.
The halogenating agent used in the reaction is not particularly limited, but suitable examples include chlorine, bromine, sulfuryl chloride, and sulfuryl bromide. The solvent used in the reaction is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but examples include methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2
-Dichloroethanes are preferred. Although the reaction temperature is not particularly limited, a relatively low temperature is desirable in order to suppress side reactions, and it is preferable to carry out the reaction at a temperature of -20°C to around room temperature. The time required for the reaction mainly depends on the type of raw material compound and the reaction temperature, but it is about 1 minute to 1 minute.
It's time.

反応終了後、本工程の目的化合物(5)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物より溶媒および過剰の試薬を留去することによ
つて得ることができる。通常、得られた目的化合
物はさらに精製することなしに次の工程の反応に
使用される。
After the reaction is completed, the target compound (5) of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by distilling off the solvent and excess reagent from the reaction mixture. Usually, the obtained target compound is used in the next reaction step without further purification.

なお、このようにして得られる目的化合物(5)に
おいて、置換基Yで表わされるハロゲン原子を公
知の方法によつて他のハロゲン原子に変換するこ
とができる。例えば相当する塩素化合物をエーテ
ル、アセトンのような有機溶剤中で臭化リチウ
ム、ヨウ化カリウムのような無機の臭化物塩また
はヨウ化物塩で処理することによつて、臭素化合
物またはヨウ素化合物にすることができる。
In addition, in the target compound (5) thus obtained, the halogen atom represented by the substituent Y can be converted to another halogen atom by a known method. For example, converting the corresponding chlorine compound into a bromine or iodine compound by treating it with an inorganic bromide or iodide salt such as lithium bromide or potassium iodide in an organic solvent such as ether or acetone. Can be done.

第3工程は本発明の目的化合物である一般式(1)
を有する2−チオキソペナム−3−カルボン酸誘
導体を製造する工程で、一般式(5)を有する化合物
を塩基存在下閉環反応させて一般式(6)を有する化
合物を得て(a段階)、次いで所望に応じて得ら
れた化合物(6)を用いてカルボキシル基の保護基
R6の除去反応並びにR4に含まれるそれぞれ対応
する保護基を除去して水酸基、メルカプト基若し
くはアミノ基を復元する反応に付する工程(b段
階)からなつている。
The third step is the compound of general formula (1) which is the object compound of the present invention.
In the step of producing a 2-thioxopenam-3-carboxylic acid derivative having the formula (5), a compound having the general formula (5) is subjected to a ring-closing reaction in the presence of a base to obtain a compound having the general formula (6) (step a), and then Using the obtained compound (6) as desired, protect the carboxyl group.
It consists of a step (b step) in which R 6 is removed and the corresponding protecting groups contained in R 4 are removed to restore the hydroxyl group, mercapto group, or amino group.

本工程を実施するにあたつて、はじめの前記一
般式(6)を有するペナム誘導体を製造する反応は、
前記一般式(5)を有する化合物を溶剤中塩基と接触
させることによつて達成される。反応に使用され
る溶剤としては特に限定はないが、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ロエタンのようなハロゲン化炭素類、メタノー
ル、エタノール、プロパノールのようなアルコー
ル類、エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
な脂肪酸ジアルキルアミド類、酢酸メチル、酢酸
エチルのようなエステル類並びにこれらの有機溶
剤と水との混合溶剤が好適である。本反応に使用
される塩基としては、チオカボニル結合に対して
求核試薬として働いて、これを開裂するものであ
れば特に限定はないが、例えばメチルアミン、エ
チルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチルア
ミンのような脂肪族第一級アミン、例えばアニリ
ン、p−クロロアニリンのようなアリールアミ
ン、例えばベンジルアミン、フエネチルアミンの
ようなアラルキルアミンなどの有機塩基、アンモ
ニア、例えばナトリウムメトキシド−メタノー
ル、ナトリウムエトキシド−エタノール、カリウ
ム−tert−ブトキシド−tert−ブタノールのよう
なアルカリ金属アルコキシド−アルコール、例え
ば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、苛性カリ、苛性ソーダのような無機塩基
が好適である。反応温度には限定はないが、通常
は−20℃乃至室温付近で行うのが好適である。反
応に要する時間は主に原料化合物の種類、反応温
度などによつて異なるが約30分乃至12時間であ
る。
In carrying out this step, the initial reaction for producing the penam derivative having the general formula (6) is as follows:
This is achieved by contacting the compound having the general formula (5) with a base in a solvent. The solvent used in the reaction is not particularly limited, but includes halogenated carbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane, alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, ethyl ether, Ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, fatty acid dialkylamides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, methyl acetate and ethyl acetate. Esters such as and mixed solvents of these organic solvents and water are suitable. The base used in this reaction is not particularly limited as long as it acts as a nucleophile to thiocarbonyl bonds and cleaves them, but examples include methylamine, ethylamine, n-propylamine, n-butylamine. aliphatic primary amines such as aniline, arylamines such as p-chloroaniline, organic bases such as aralkylamines such as benzylamine, phenethylamine, ammonia such as sodium methoxide-methanol, sodium ethoxide -alkali metal alkoxides such as ethanol, potassium-tert-butoxide-tert-butanol -alcohols, inorganic bases such as sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, caustic potash, caustic soda are preferred. Although there are no limitations on the reaction temperature, it is usually preferable to carry out the reaction at a temperature of -20°C to around room temperature. The time required for the reaction varies mainly depending on the type of raw material compound, reaction temperature, etc., but is approximately 30 minutes to 12 hours.

反応終了後、本工程の目的化合物(6)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物より溶剤を留去して後、残留物に水と混和し
ない有機溶剤および水を加え、有機溶剤を分取し
て水で洗浄し、乾燥剤で乾燥した後、有機溶剤層
より溶剤を留去することによつて得ることができ
る。
After the reaction is completed, the target compound (6) of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, after distilling off the solvent from the reaction mixture, add an organic solvent that is immiscible with water and water to the residue, separate the organic solvent, wash it with water, dry it with a desiccant, and then remove the organic solvent from the organic solvent layer. It can be obtained by distilling off the solvent.

このようにして得られた化合物(6)は、必要なら
ば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグラ
フイー、カラムクロマトグラフイーなどによつて
さらに精製することができる。
Compound (6) thus obtained can be further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

ここで得られる化合物(6)が5S配位の異性体で
ある場合には、例えばトルエン、キシレン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
な有機溶剤中で加熱することによつて、容易に
5R配位の異性体に変換することができる。
When the compound (6) obtained here is a 5S coordination isomer, it can be easily obtained by heating in an organic solvent such as toluene, xylene, dimethylformamide, or dimethylacetamide.
Can be converted to isomer with 5R coordination.

次いで、得られた化合物(6)は必要に応じて常法
に従つてカルボキシル基の保護基R6の除去処理
を行なつて、カルボン酸誘導体に変換することが
できる。保護基の除去はその種類によつて異なる
が、一般にこの分野の技術で知られている方法に
よつて除去される。好適には反応は前記一般式(6)
を有する化合物のうちの置換基R6がハロゲノア
ルキル基、アラルキル基、ベンズヒドリル基など
の還元処理によつて除去し得る保護基である化合
物を還元剤と接触させることによつて達成され
る。本反応に使用される還元剤としてはカルボキ
シル基の保護基が例えば2,2−ジブロモエチ
ル、2,2,2−トリクロロエチルのようなハロ
ゲノアルキル基である場合には亜鉛および酢酸が
好適であり、保護基が例えばベンジル、p−ニト
ロベンジルのようなアラルキル基またはベンズヒ
ドリル基である場合には水素およびパラジウム−
炭素のような接触還元触媒または硫化ナトリウム
若しくは硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化
物が好適である。反応は溶剤の存在下で行なわ
れ、使用される溶剤としては本反応に関与しない
ものであれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸およびこれらの有機溶剤と水との混合
溶剤が好適である。反応温度は通常は0℃乃至室
温付近であり、反応時間は原料化合物および還元
剤の種類によつて異なるが、通常は5分間乃至12
時間である。
Next, the obtained compound (6) can be converted into a carboxylic acid derivative by carrying out a treatment for removing the carboxyl group protecting group R 6 according to a conventional method, if necessary. Removal of the protecting group varies depending on the type of protecting group, but is generally removed by methods known in the art. Preferably, the reaction is performed according to the general formula (6)
This can be achieved by contacting a compound having a reducing agent in which the substituent R 6 is a protecting group that can be removed by reduction treatment, such as a halogenoalkyl group, an aralkyl group, or a benzhydryl group. As the reducing agent used in this reaction, zinc and acetic acid are preferred when the protecting group for the carboxyl group is a halogenoalkyl group such as 2,2-dibromoethyl or 2,2,2-trichloroethyl. , hydrogen and palladium when the protecting group is, for example, an aralkyl group such as benzyl, p-nitrobenzyl, or a benzhydryl group.
Catalytic reduction catalysts such as carbon or alkali metal sulfides such as sodium or potassium sulfide are preferred. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and acetic acid are used. Fatty acids such as and mixed solvents of these organic solvents and water are suitable. The reaction temperature is usually around 0°C to room temperature, and the reaction time varies depending on the raw material compound and the type of reducing agent, but is usually 5 minutes to 12 minutes.
It's time.

反応終了後、カルボキシル基の保護基の除去反
応の目的化合物は常法に従つて反応混合物から採
取される。例えば反応混合物より析出した不溶物
を去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し溶剤を
留去することによつて得ることができる。
After the reaction is completed, the target compound of the carboxyl protecting group removal reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by removing insoluble matter precipitated from the reaction mixture, washing the organic solvent layer with water, drying, and distilling off the solvent.

このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。
The target compound thus obtained can be purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

また、化合物(6)において置換基R7がアシルオ
キシ基、トリアルキルシリルオキシ基、アシルチ
オ基またはアシルアミノ基である時には所望に応
じて、以下に記載するように常法に従つてそれぞ
れの保護基を除去して対応する水酸基、メルカプ
ト基またはアミノ基である化合物に変換し、次い
で得られた化合物を上述したカルボキシル基の保
護基R6の除去反応に付することもできる。
Furthermore, when the substituent R 7 in compound (6) is an acyloxy group, a trialkylsilyloxy group, an acylthio group, or an acylamino group, the respective protecting groups can be removed according to a conventional method as described below, if desired. It is also possible to remove and convert the compound to the corresponding hydroxyl group, mercapto group or amino group, and then subject the obtained compound to the above-mentioned reaction for removing the carboxyl group protecting group R 6 .

すなわち、前記一般式(1)を有する化合物のう
ち、置換基R3が水酸基を表わす化合物を製造す
る反応は、一般式(6)を有する化合物のうちのR7
がアシルオキシ基あるいはトリアルキルシリルオ
キシ基を表わす化合物より水酸基のアシルあるい
はトリアルキルシリル保護基を除去することによ
つて達成される。R7がアセトキシのような低級
脂肪族アシルオキシ基である場合には、反応は相
当する化合物(6)を水性溶剤の存在下で塩基で処理
することにより実施することができる。使用され
る溶剤としては通常の加水分解反応に使用される
溶剤であれば特に限定はないが、水あるいは水と
メタノール、エタノール、n−プロパノールのよ
うなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類などの有機溶剤と
の混合溶剤が好適である。また、使用される塩基
としては化合物の他の部分、特にβ−ラクタム環
に影響を与えないものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩を用いて行なわれる。反
応温度は特に限定はないが、副反応を抑制するた
めに0℃乃至室温付近が好適である。反応に要す
る時間は原料化合物の種類および反応温度などに
よつて異なるが、通常は1乃至6時間である。さ
らに、上記の置換基R7がベンジルオキシカルボ
ニルオキシあるいはp−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシのようなアラルキルオキシカルボ
ニルオキシ基である場合には、反応は相当する化
合物(6)を還元剤と接触させることによつて実施す
ることができる。本反応に使用される還元剤の種
類および反応条件は前述したカルボキシル基の保
護基R6であるアラルキル基を除去する場合と同
様であり、従つてカルボキシル基の保護基R6
同時に除去することができる。
That is, the reaction for producing a compound in which the substituent R 3 represents a hydroxyl group among the compounds having the general formula (1) is the reaction for producing a compound in which the substituent R 3 represents a hydroxyl group.
is achieved by removing the acyl or trialkylsilyl protecting group of the hydroxyl group from a compound representing an acyloxy group or trialkylsilyloxy group. When R 7 is a lower aliphatic acyloxy group such as acetoxy, the reaction can be carried out by treating the corresponding compound (6) with a base in the presence of an aqueous solvent. The solvent used is not particularly limited as long as it is a solvent used in ordinary hydrolysis reactions, but water or water and alcohols such as methanol, ethanol, and n-propanol, or tetrahydrofuran,
A mixed solvent with an organic solvent such as an ether such as dioxane is suitable. The base used is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, especially the β-lactam ring, but alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate are preferably used. It is done using The reaction temperature is not particularly limited, but a temperature of about 0° C. to room temperature is suitable in order to suppress side reactions. The time required for the reaction varies depending on the type of raw material compound, reaction temperature, etc., but is usually 1 to 6 hours. Furthermore, when the above substituent R 7 is an aralkyloxycarbonyloxy group such as benzyloxycarbonyloxy or p-nitrobenzyloxycarbonyloxy, the reaction can be carried out by contacting the corresponding compound (6) with a reducing agent. It can be carried out by The type of reducing agent and reaction conditions used in this reaction are the same as those for removing the aralkyl group, which is the carboxyl group protecting group R 6 described above, and therefore the carboxyl group protecting group R 6 must also be removed at the same time. Can be done.

また、上記の置換基R7がtert−ブチルジメチル
シリルオキシのようなトリ低級アルキルシリルオ
キシ基である場合には、反応は相当する化合物(6)
をフツ化テトラブチルアンモニウムで処理するこ
とにより実施することができる。使用される溶剤
としては特に限定はないが、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類が好適であ
る。反応は室温付近において10乃至18時間処理す
ることによつて好適に行なわれる。
In addition, when the above substituent R 7 is a tri-lower alkylsilyloxy group such as tert-butyldimethylsilyloxy, the reaction is performed with the corresponding compound (6).
This can be carried out by treating with tetrabutylammonium fluoride. The solvent used is not particularly limited, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are suitable. The reaction is suitably carried out by treating at around room temperature for 10 to 18 hours.

前記一般式(1)を有する化合物のうち、置換基
R3がメルカプト基を表わす化合物を製造する反
応は、一般式(6)を有する化合物のうちのR7がア
シルチオ基を表わす化合物よりメルカプト基のア
シル保護基を除去することによつて達成される。
アシルチオ基としては、アセチルチオのような低
級脂肪族アシルチオ基が好適であり、反応は相当
する化合物(6)を水性溶剤の存在下で塩基で処理す
ることによつて実施することができる。本反応の
反応条件は前述した水酸基のアシル保護基を除去
する場合と同様である。
Among the compounds having the general formula (1), substituents
The reaction for producing a compound in which R 3 represents a mercapto group is achieved by removing the acyl protecting group of the mercapto group from a compound having the general formula (6) in which R 7 represents an acylthio group. .
As the acylthio group, a lower aliphatic acylthio group such as acetylthio is suitable, and the reaction can be carried out by treating the corresponding compound (6) with a base in the presence of an aqueous solvent. The reaction conditions for this reaction are the same as those for removing the acyl protecting group of the hydroxyl group described above.

前記一般式(1)を有する化合物のうち、置換基
R3がアミノ基を表わす化合物を製造する反応は、
一般式(6)を有する化合物のうちのR7がアラルキ
ルオキシカルボニルアミノ基を表わす化合物より
アミノ基のアラルキルオキシカルボニル基を除去
することによつて達成される。アラルキルオキシ
カルボニルアミノ基としては、ベンジルオキシカ
ルボニルアミノあるいはp−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノのようなアラルキルオキシカ
ルボニルアミノ基が好適であり、反応は前述した
カルボキシル保護基を除去する場合と同様であ
る。
Among the compounds having the general formula (1), substituents
The reaction for producing a compound in which R 3 represents an amino group is
This is achieved by removing the aralkyloxycarbonyl group of the amino group from a compound having general formula (6) in which R 7 represents an aralkyloxycarbonylamino group. As the aralkyloxycarbonylamino group, an aralkyloxycarbonylamino group such as benzyloxycarbonylamino or p-nitrobenzyloxycarbonylamino is suitable, and the reaction is the same as in the case of removing the carboxyl protecting group described above.

以上の各種の変換反応を実施した後、各反応の
目的化合物は常法に従つて反応混合物から採取さ
れる。例えば反応混合物より減圧下で溶剤を留去
して後、残留物に水と混和しない有機溶剤および
水を加え、有機溶剤層を分取して水で洗浄し、乾
燥剤で乾燥した後、有機溶剤層より溶剤を留去す
ることによつて得ることができる。
After carrying out the various conversion reactions described above, the target compound for each reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, after distilling off the solvent from the reaction mixture under reduced pressure, add an organic solvent that is immiscible with water and water to the residue, separate the organic solvent layer, wash it with water, dry it with a desiccant, and then add the organic solvent to the residue. It can be obtained by distilling off the solvent from the solvent layer.

このようにして得られた目的化合物は必要なら
ば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグラ
フイー、カラムクロマトグラフイーなどによつて
さらに精製することができ、また得られた化合物
を用いて上述した反応と同様にカルボキシル基の
保護基R6の除去反応を実施することもできる。
The target compound thus obtained can be further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc. The reaction for removing the carboxyl group protecting group R 6 can also be carried out in the same manner as the reaction described above.

前記一般式(6)を有する化合物において置換基
R4が水素原子以外の置換基を有する化合物で5
位と6位がシス配位である場合には、所望に応じ
て以下に示す方法でトランス異性体に変換するこ
ともできる。
In the compound having the general formula (6), a substituent
5 in compounds where R 4 has a substituent other than a hydrogen atom
When the position and the 6-position are cis-coordinates, it can be converted into a trans isomer by the method shown below, if desired.

第一工程は一般式(8)を有する化合物を製造する
工程で、化合物(7)をトリフルオロメタンスルホニ
ル化合物で処理してスルホニル化する工程であ
る。
The first step is a step of producing a compound having general formula (8), and is a step of treating compound (7) with a trifluoromethanesulfonyl compound to sulfonylate it.

本工程を実施するにあたつて、反応は前記一般
式(7)を有する化合物を溶剤の存在下でトリフルオ
ロメタンスルホニル化合物と反応させることによ
つて達成される。反応に使用されるスルホニル化
剤としてはトリフルオロメタンスルホニルクロラ
イド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物が好
適なものとしてあげることができる。使用される
溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ジクロロメタン、
クロロホルム、ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類があげられる。本反応は塩基の存在
下で好適に実施されるが、使用される塩基として
はトリエチルアミン、ピリジンのような有機塩基
が好適である。反応温度は特に限定はないが、−
70゜乃至室温付近が好適である。反応に要する時
間は反応温度などによつて異なるが、通常は10分
乃至5時間である。
In carrying out this step, the reaction is achieved by reacting the compound having the general formula (7) with a trifluoromethanesulfonyl compound in the presence of a solvent. Preferred examples of the sulfonylating agent used in the reaction include trifluoromethanesulfonyl chloride and trifluoromethanesulfonic anhydride. The solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, and examples include ether, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, dichloromethane,
Examples include halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloroethane. This reaction is preferably carried out in the presence of a base, and the base used is preferably an organic base such as triethylamine or pyridine. The reaction temperature is not particularly limited, but -
A temperature of about 70° to room temperature is suitable. The time required for the reaction varies depending on the reaction temperature, etc., but is usually 10 minutes to 5 hours.

反応終了後、本反応の目的化合物(8)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶
剤を留去することによつて得られる。得られた目
的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再沈
澱またはクロマトグラフイーなどによつて更に精
製することができる。
After the reaction is completed, the target compound (8) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent that is immiscible with water to the reaction mixture, washing with water, and then distilling off the solvent. The obtained target compound can be further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, reprecipitation, or chromatography.

第二工程は一般式(9)を有する化合物を製造する
工程で、化合物(8)を熱処理して異性化する工程で
ある。
The second step is a step of producing a compound having general formula (9), and is a step of heat-treating compound (8) to isomerize it.

本工程を実施するにあたつて、反応は前記一般
式(8)を有する化合物を溶剤および少量のハイドロ
キノン存在下で加熱することによつて達成され
る。使用される溶剤としては本反応に関与しなけ
れば特に限定はなく、例えばトルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類があげられる。
In carrying out this step, the reaction is achieved by heating the compound having the general formula (8) in the presence of a solvent and a small amount of hydroquinone. The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, and examples include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide. can give.

反応温度は通常120乃至160℃であり、反応時間
は30分乃至20時間である。
The reaction temperature is usually 120 to 160°C, and the reaction time is 30 minutes to 20 hours.

反応終了後、本反応の目的化合物(9)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば化合物(9)
は反応混合物から溶剤を留去することによつて得
ることができる。
After completion of the reaction, the target compound (9) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, compound (9)
can be obtained by distilling off the solvent from the reaction mixture.

このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、カラムクロマトグラフ
イーなどによつて精製することができる。
The target compound thus obtained can be purified by conventional methods such as recrystallization, column chromatography, etc., if necessary.

第三工程は一般式(10)を有する化合物を製造する
工程で、化合物(9)のトリフルオロメタンスルホニ
ル基を除去する工程である。
The third step is a step of producing a compound having general formula (10), and is a step of removing the trifluoromethanesulfonyl group of compound (9).

本工程を実施するにあたつて、反応は前記一般
式(9)を有する化合物を溶剤の存在下で塩基と反応
させることによつて達成される。反応に使用され
る溶剤としては特に限定はないが、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ロエタンのようなハロゲン化炭素類、メタノー
ル、エタノール、プロパノールのようなアルコー
ル類、エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよう
な脂肪酸ジアルキルアミド類、酢酸メチル、酢酸
エチルのようなエステル類並びにこれらの有機溶
剤と水との混合溶剤が好適である。本反応に使用
される塩基としては、チオスルホニル結合に対し
て求核試薬として働いて、これを開裂するもので
あれば特に限定はないが、例えばメチルアミン、
エチルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチル
アミンのような脂肪族第一級アミン、例えばアニ
リン、p−クロロアニリンのようなアリールアミ
ン、例えばベンジルアミン、フエネチルアミンの
ようなアラルキルアミンなどの有機塩基、アンモ
ニア、例えばナトリウムメトキシド−メタノー
ル、ナトリウムエトキシド−エタノール、カリウ
ム−tert−ブトキシド−tert−ブタノールのよう
なアルカリ金属アルコキシド−アルコール、例え
ば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、苛性カリ、苛性ソーゾのような無機塩基
が好適である。反応温度には特に限定はないが、
通常は−20℃乃至室温付近で行うのが好適であ
る。反応に要する時間は主に原料化合物の種類、
反応温度などによつて異なるが約30分乃至12時間
である。
In carrying out this step, the reaction is achieved by reacting the compound having the general formula (9) with a base in the presence of a solvent. The solvent used in the reaction is not particularly limited, but includes halogenated carbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane, alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, ethyl ether, Ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, fatty acid dialkylamides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, methyl acetate and ethyl acetate. Esters such as and mixed solvents of these organic solvents and water are suitable. The base used in this reaction is not particularly limited as long as it acts as a nucleophile to thiosulfonyl bonds and cleaves them, but examples include methylamine,
aliphatic primary amines such as ethylamine, n-propylamine, n-butylamine, arylamines such as aniline, p-chloroaniline, organic bases such as aralkylamines such as benzylamine, phenethylamine, ammonia, Alkali metal alkoxide-alcohols such as sodium methoxide-methanol, sodium ethoxide-ethanol, potassium-tert-butoxide-tert-butanol; Bases are preferred. There are no particular limitations on the reaction temperature, but
Usually, it is preferable to carry out the reaction at a temperature of -20°C to around room temperature. The time required for the reaction mainly depends on the type of raw material compound,
It takes about 30 minutes to 12 hours, although it varies depending on the reaction temperature.

反応終了後、本工程の目的化合物(10)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物より減圧下で溶剤を留去して後、残留物に酢酸
エチル−ヘキサン混合溶剤を加えて析出物を別
し、液より溶剤を留去することによつて得るこ
とができる。
After the reaction is completed, the target compound (10) of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by distilling off the solvent from the reaction mixture under reduced pressure, adding a mixed solvent of ethyl acetate and hexane to the residue to separate the precipitate, and then distilling off the solvent from the liquid.

このようにして得られた化合物(10)は、必要なら
ば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグラ
フイー、カラムクロマトグラフイーなどによつて
さらに精製することができる。
Compound (10) thus obtained can be further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, preparative thin layer chromatography, column chromatography, etc.

本発明の方法により製造される一般式(1)を有す
る2−チオキソペナム誘導体は、すぐれた抗菌作
用を有するペネム−3−カルボン酸誘導体を製造
するための重要中間体である。
The 2-thioxopenam derivative having general formula (1) produced by the method of the present invention is an important intermediate for producing penem-3-carboxylic acid derivatives having excellent antibacterial activity.

次に実施例および参考例をあげて本発明をさら
に具体的に説明する。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Reference Examples.

実施例 1 2−(3,3−ジメチル−2,4−ジオキソ−
1,3−ジチアン−2−イリデン)−2−(4−
メチルチオ−2−オキソアゼチジン−1−イ
ル)酢酸p−ニトロベンジルエステル ヘキサメチルジシラザン(619μ)のテトラ
ヒドロフラン(10ml)溶液にn−ブチルリチウム
のヘキサン溶液(2.08ml,1.63mmole/ml)を室
温にて加え30分間撹拌する。この溶液を−78℃に
冷却した後、2−(4−メチルチオ−2−アゼチ
ジノン−1−イル)酢酸p−ニトロベンジルエス
テル(500mg)のテトラヒドロフラン(10ml)溶
液を加え、20分間撹拌後、二硫化炭素(146μ
),2,2−ジメチルマロン酸ジクロライド
(324mg)を加え、−78℃にて1時間撹拌する。反
応混合液に酢酸(1.5ml)を加えた後、酢酸エチ
ルを加え、水、食塩水の順番で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶剤を減圧下留去し得
られた残渣をカラムクロマトグラフイー(流出溶
剤:ベンゼン−酢酸エチル=2:1)により精製
すると、338mgの目的化合物が得られる。
Example 1 2-(3,3-dimethyl-2,4-dioxo-
1,3-dithiane-2-ylidene)-2-(4-
Methylthio-2-oxoazetidin-1-yl)acetic acid p-nitrobenzyl ester A hexane solution of n-butyllithium (2.08 ml, 1.63 mmole/ml) was added to a solution of hexamethyldisilazane (619 μ) in tetrahydrofuran (10 ml) at room temperature and stirred for 30 minutes. After cooling this solution to -78°C, a solution of 2-(4-methylthio-2-azetidinon-1-yl)acetic acid p-nitrobenzyl ester (500 mg) in tetrahydrofuran (10 ml) was added, and after stirring for 20 minutes, two Carbon sulfide (146μ
), 2,2-dimethylmalonic acid dichloride (324 mg) was added, and the mixture was stirred at -78°C for 1 hour. After adding acetic acid (1.5 ml) to the reaction mixture, add ethyl acetate, wash with water and brine in that order, and dry over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure and the resulting residue was purified by column chromatography (eluent solvent: benzene-ethyl acetate = 2:1) to obtain 338 mg of the target compound.

赤外線吸収スペクトルνCHCl3 naxcm-1: 1782,1715 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 1.52(3H,s),1.61(3H,s),2.13(3H,s),
3.12(1H,dd,J=2.0Hz,15.0Hz),3.37(1H,
dd,J=4.0,15.0Hz),5.28(1H,dd,J=2.0,
4.0Hz),5.34(2H,s),7.54,8.21(4H,A2B2
J=9.0Hz) 実施例 2 2−チオキソペナム−3−カルボン酸p−ニト
ロベンジルエステル 2−(3,3−ジメチル−2,4−ジオキソ−
1,3−ジチアン−2−イリデン)−2−(4−メ
チルチオ−2−オキソアゼチジン−1−イル)酢
酸p−ニトロベンジルエスチル(150mg)のジク
ロロメタン(3ml)溶液に等モルの塩素を含む四
塩化炭素溶液を加え、2−(3,3−ジメチル−
2,4−ジオキソ−1,3−ジチアン−2−イリ
デン)−2−(4−クロロ−2−オキソアゼチジン
−1−イル)酢酸p−ニトロベンジルエステルを
製造する。かくして得られる粗製の4−クロロア
ゼチジノン誘導体をジクロロメタン(2ml)に溶
解し、氷冷撹拌下にトリエチルアミン(47μ)
およびメチルアミンの30%メタノール溶液(98μ
)を加え15分間撹拌する。溶剤を減圧下に留去
し、残渣をカラムクロマトグラフイー(流出溶
剤:酢酸エチル)により精製すると、60mgの目的
化合物が得られる。
Infrared absorption spectrum ν CHCl3 nax cm -1 : 1782, 1715 Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 1.52 (3H, s), 1.61 (3H, s), 2.13 (3H, s),
3.12 (1H, dd, J = 2.0Hz, 15.0Hz), 3.37 (1H,
dd, J=4.0, 15.0Hz), 5.28(1H, dd, J=2.0,
4.0Hz), 5.34 (2H, s), 7.54, 8.21 (4H, A 2 B 2 ,
J=9.0Hz) Example 2 2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester 2-(3,3-dimethyl-2,4-dioxo-
A solution of p-nitrobenzylesteryl 1,3-dithiane-2-ylidene)-2-(4-methylthio-2-oxoazetidin-1-yl)acetate (150 mg) in dichloromethane (3 ml) containing equimolar chlorine was added. Add carbon chloride solution, 2-(3,3-dimethyl-
2,4-Dioxo-1,3-dithian-2-ylidene)-2-(4-chloro-2-oxoazetidin-1-yl)acetic acid p-nitrobenzyl ester is produced. The crude 4-chloroazetidinone derivative thus obtained was dissolved in dichloromethane (2 ml), and triethylamine (47μ) was added under ice-cooling and stirring.
and 30% methanol solution of methylamine (98μ
) and stir for 15 minutes. The solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is purified by column chromatography (eluent solvent: ethyl acetate) to obtain 60 mg of the target compound.

赤外線吸収スペクトルνCHCl3 naxcm-1: 1792,1750 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 3.49(1H,dd,J=16.3,2.0Hz),3.91(1H,dd,
J=16.3,4.0Hz),5.31(2H,s),5.40(1H,
s),5.88(1H,dd,J=4.0,2.0Hz),7.50,8.19
(4H,A2B2,J=9.0Hz) 実施例 3 2−(1,5−ジオキソ−1.5−ジヒドロ−2,
4−ベンゾジチエピン−3−イリデン)−2−
〔3−(1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル)−4−メチルチオ−2−オキソアゼチ
ジン−1−イル〕酢酸p−ニトロベンジルエス
テル 〔3−(1−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル)−4−メチルチオ−2−オキソアゼチ
ジン−1−イル〕酢酸p−ニトロベンジルエステ
ル(2.24g)、ヘキサメチルジシラザン(1.99
ml)、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(5.82
ml,1.63mmol/ml)、二硫化炭素(427μ)、フ
タロイルクロライド(750μ)を用い、実施例
1と同様に反応処理後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフイーを用い精製すると(塩化メチレン)、
3.02gの目的化合物を得る。
Infrared absorption spectrum ν CHCl3 nax cm -1 : 1792, 1750 Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 3.49 (1H, dd, J=16.3, 2.0Hz), 3.91 (1H, dd,
J=16.3, 4.0Hz), 5.31 (2H, s), 5.40 (1H,
s), 5.88 (1H, dd, J=4.0, 2.0Hz), 7.50, 8.19
(4H, A2B2 , J =9.0Hz) Example 3 2-(1,5-dioxo-1.5-dihydro-2,
4-benzodithiepin-3-ylidene)-2-
[3-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-4-methylthio-2-oxoazetidin-1-yl]acetic acid p-nitrobenzyl ester [3-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-4-methylthio-2-oxoazetidin-1-yl]acetic acid p-nitrobenzyl ester (2.24g), hexamethyldisilazane (1.99g)
ml), n-butyllithium hexane solution (5.82
ml, 1.63 mmol/ml), carbon disulfide (427 μ), and phthaloyl chloride (750 μ), and after reaction treatment in the same manner as in Example 1, purification using silica gel column chromatography (methylene chloride),
3.02g of target compound is obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 0.05(6H,s),0.85(9H,s),1.24(3H,d,J
=6.0Hz),2.17(3H,s),3.22(1H,dd,J=
2.5,4.0Hz),4.0〜4.5(1H,m),5.18(1H,d,
J=2.5Hz),5.28,5.47(2H,AB−q,J=13
Hz),7.5〜8.4(8H,m) 実施例 4 (8R,6S,5S)−6−(1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−2−チオキソペナ
ム−3−カルボン酸p−ニトロベンジルエステ
2−(1,5−ジオキソ−1,5−ジヒドロ−
2,4−ベンゾジチエピン−3−イリデン)−2
−〔3−(1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル)−4−メチルチオ−2−オキソアゼチジ
ン−1−イル〕酢酸p−ニトロベンジルエステル
(3.0g)を実施例2と同様に等モルの塩素を用い
クロル化した後、エーテル(120ml)に溶かし、
アンモニアガスを氷冷下10分間通じる。エーテル
を留去後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗
浄する。溶媒を留去し残渣をシリカゲルクロマト
グラフイーにより精製すると(酢酸エチル溶出)、
1.87gの目的化合物を得る。
Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 0.05 (6H, s), 0.85 (9H, s), 1.24 (3H, d, J
= 6.0Hz), 2.17 (3H, s), 3.22 (1H, dd, J =
2.5, 4.0Hz), 4.0~4.5 (1H, m), 5.18 (1H, d,
J = 2.5Hz), 5.28, 5.47 (2H, AB-q, J = 13
Hz), 7.5-8.4 (8H, m) Example 4 (8R, 6S, 5S)-6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester 2-(1,5-dioxo-1,5-dihydro-
2,4-benzodithiepin-3-ylidene)-2
-[3-(1-tert-Butyldimethylsilyloxyethyl)-4-methylthio-2-oxoazetidin-1-yl]acetic acid p-nitrobenzyl ester (3.0 g) was added with an equimolar amount of chlorine in the same manner as in Example 2. After chlorination, dissolve in ether (120 ml),
Pass in ammonia gas for 10 minutes under ice cooling. After distilling off the ether, extract with ethyl acetate and wash with saturated brine. The solvent was distilled off and the residue was purified by silica gel chromatography (ethyl acetate elution).
1.87 g of the target compound is obtained.

核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 0.12(6H,s),0.85(9H,s),1.36(3H,d,J
=6.0Hz),3.83(1H,dd,J=10,4+),4.2付近
(1H,m),5.22(3H,s),5.91(1H,d,J=
4Hz),7.40,8.10(4H,A2B2,J=8.5Hz) 赤外線吸収スペクトルνCHCl3 naxcm-1: 1785,1750,1603,1520,1348 参考例 1 (5S,6S,8R)−2−トリフルオロメタンスル
ホニルチオ−6−(1−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル)ペネム−3−カルボン酸
p−ニトロベンジルエステル (5S,6S,8R)−6−(1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−2−チオキソペナム
−3−カルボン酸p−ニトロベンジルエステル
(500mg)の塩化メチレン(5ml)溶液に氷冷下ト
リエチルアミン(154μ)、トリフルオロメタン
スルホニルクロリド(187mg)を加え、氷冷下1
時間撹拌する。酢酸エチル、水を適量加え有機層
を分散し、水洗、乾燥後溶剤を留去する。残留物
をシリカゲルローバーカラムで分画精製(展開溶
剤;ベンゼン:酢酸エチル=97:3)すると、目
的化合物280mg(44%)が得られる。
Nuclear magnetic resonance spectrum ( CDCl3 ) δ ppn : 0.12 (6H, s), 0.85 (9H, s), 1.36 (3H, d, J
= 6.0Hz), 3.83 (1H, dd, J = 10, 4 + ), around 4.2 (1H, m), 5.22 (3H, s), 5.91 (1H, d, J =
4Hz), 7.40, 8.10 (4H, A 2 B 2 , J = 8.5Hz) Infrared absorption spectrum ν CHCl3 nax cm -1 : 1785, 1750, 1603, 1520, 1348 Reference example 1 (5S, 6S, 8R) -2 -Trifluoromethanesulfonylthio-6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)penem-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (5S,6S,8R)-6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-thioxopenam-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (500 mg) was added to a solution of methylene chloride (5 ml) with triethylamine under ice cooling. (154μ), trifluoromethanesulfonyl chloride (187mg) and cooled on ice for 1 hour.
Stir for an hour. Add appropriate amounts of ethyl acetate and water to disperse the organic layer, wash with water, dry, and then evaporate the solvent. The residue was fractionated and purified using a silica gel Rover column (developing solvent: benzene:ethyl acetate = 97:3) to obtain 280 mg (44%) of the target compound.

赤外線吸収スペクトルνCHCl3 naxcm-1: 1785,1690,1605,1350,1320 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 0.07(3H,s),0.12(3H,s),0.81(9H,s),
1.41(3H,d,J=6.0Hz),3.85(1H,dd,J=
4.0,J=10.0Hz),4.10〜4.54(1H,m),5.17,
5.43(2H,AB−q,J=13.2Hz),5.68(1H,d,
J=4.0Hz),7.57,8.18(4H,A2B2,J=9.3Hz) 参考例 2 (5R,6S,8R)−2−トリフルオロメタンス
ルホニルチオ−6−(1−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)ペネム−3−カルボン
酸p−ニトロベンジルエステル (5S,6S,8R)−2−トリフルオロメタンスル
ホニルチオ−6−(1−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル)ペネム−3−カルボン酸p−
ニトロベンジルエステル(360mg)を少量のp−
ハイドロキノン存在下キシレン(60ml)中窒素気
流下5時間加熱還流する。冷却後、溶剤を留去
し、残留物をシリカゲルローバーカラムで分画精
製(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=40:1)
すると、目的化合物220mg(61%)が得られる。
Infrared absorption spectrum ν CHCl3 nax cm -1 : 1785, 1690, 1605, 1350, 1320 Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 0.07 (3H, s), 0.12 (3H, s), 0.81 (9H, s) ,
1.41 (3H, d, J = 6.0Hz), 3.85 (1H, dd, J =
4.0, J=10.0Hz), 4.10~4.54 (1H, m), 5.17,
5.43 (2H, AB-q, J=13.2Hz), 5.68 (1H, d,
J=4.0Hz), 7.57, 8.18 (4H, A2B2 , J=9.3Hz) Reference example 2 (5R, 6S ,8R)-2-trifluoromethanesulfonylthio-6-(1-tert-butyldimethylsilyl (oxyethyl)penem-3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (5S,6S,8R)-2-trifluoromethanesulfonylthio-6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)penem-3-carboxylic acid p-
Nitrobenzyl ester (360 mg) was added to a small amount of p-
Heat under reflux in xylene (60 ml) in the presence of hydroquinone under a nitrogen stream for 5 hours. After cooling, the solvent was distilled off, and the residue was fractionated and purified using a silica gel Rover column (developing solvent: benzene: ethyl acetate = 40:1).
Then, 220 mg (61%) of the target compound is obtained.

赤外線吸収スペクトルνKBr naxcm-1: 1790,1720,1690,1605,1350,1330,1120 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 0.05(3H,s),0.07(3H,s),0.84(9H,s),
1.23(3H,d,J=6.0Hz),3.78(1H,dd,J=
2.0,J=4.0Hz),4.05〜4.45(1H,m),5.20,
5.39(2H,AB−q,J=13.5Hz),5.67(1H,d,
J=2.0Hz),7.59,8.18(4H,A2B2,J=8.4Hz) 参考例 3 (5R,6S,8R)−6−(1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−2−チオキソペナ
ム−3−カルボン酸p−ニトロベンジルエステ
(5R,6S,8R)−2−トリフルオロメタンス
ルホニルチオ−6−(1−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル)ペネム−3−カルボン酸p
−ニトロベンジルエステル(63mg)を塩化メチレ
ン(1ml)に溶解し、氷冷下トリエチルアミン
(15.1μ)と30%メチルアミン−メタノール溶液
(13.9μ)の塩化メチレン(0.1ml)溶液を加え
た後、同温度で4時間撹拌する。減圧濃縮し酢酸
エチル、水を適量加えて、有機層を分離し、乾
燥、濃縮した残燔渣シリカゲルクロマトカラム
(展開溶剤;ベンゼン:酢酸エチル=1:1)で
分画精製すると、目的化合物(10mg)が得られら
る。
Infrared absorption spectrum ν KBr nax cm -1 : 1790, 1720, 1690, 1605, 1350, 1330, 1120 Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 0.05 (3H, s), 0.07 (3H, s), 0.84 ( 9H,s),
1.23 (3H, d, J = 6.0Hz), 3.78 (1H, dd, J =
2.0, J=4.0Hz), 4.05~4.45 (1H, m), 5.20,
5.39 (2H, AB-q, J=13.5Hz), 5.67 (1H, d,
J = 2.0Hz), 7.59, 8.18 (4H, A 2 B 2 , J = 8.4Hz) Reference example 3 (5R, 6S, 8R) -6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-thioxopenam -3-carboxylic acid p-nitrobenzyl ester (5R,6S,8R)-2-trifluoromethanesulfonylthio-6-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)penem-3-carboxylic acid p
-Nitrobenzyl ester (63 mg) was dissolved in methylene chloride (1 ml), and a methylene chloride (0.1 ml) solution of triethylamine (15.1 μ) and 30% methylamine-methanol solution (13.9 μ) was added under ice cooling. Stir at the same temperature for 4 hours. Concentrate under reduced pressure, add appropriate amounts of ethyl acetate and water, separate the organic layer, dry, concentrate, and fractionate and purify the residue using a silica gel chromatography column (developing solvent: benzene: ethyl acetate = 1:1) to obtain the target compound ( 10mg) can be obtained.

赤外線吸収スペクトルνCHCl3 naxcm-1: 1785,1750,1602,1520,1348 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppn: 0.05(3H,s),0.07(3H,s),0.86(9H,s),
1.29(3H,d,J=6.0Hz),3.63(1H,dd,J=
2.0,J=4.0Hz),4.13〜4.53(1H,m),5.28
(2H,s),5.35(1H,s),5.82(1H,d,J=
2.0Hz),7.50,8.22(4H,A2B2,J=8.7Hz)。
Infrared absorption spectrum ν CHCl3 nax cm -1 : 1785, 1750, 1602, 1520, 1348 Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 ) δ ppn : 0.05 (3H, s), 0.07 (3H, s), 0.86 (9H, s) ,
1.29 (3H, d, J = 6.0Hz), 3.63 (1H, dd, J =
2.0, J=4.0Hz), 4.13-4.53 (1H, m), 5.28
(2H, s), 5.35 (1H, s), 5.82 (1H, d, J=
2.0Hz), 7.50 , 8.22 (4H, A2B2 , J=8.7Hz).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、R4は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基またはR7A−基(式中、R7はアルコキシ
基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ
基、アリールスルホニルオキシ基、トリアルキル
シリルオキシ基、アシルチオ基、アルキルチオ基
またはアシルアミノ基を示し、Aはトリフルオロ
メチル基若しくはフエニル基で置換されてもよい
アルキレン基を示す。)を表わし、R5は低級アル
キル基を表わし、R6はカルボキシル基の保護基
を表わす。〕を有する化合物を塩基と処理した後、
二硫化炭素を反応させ、次いで一般式 XCO−B−COX (式中、Bは単結合、低級アルキレン基または
O−フエニレン基を示し、Xはハロゲン原子を表
わす。)を有する化合物を反応させて一般式 (式中、R4,R5,R6およびBは前述のものと
同意義を示す。)を有する化合物を製造し、次い
でこれをハロゲン化剤と反応させて一般式 (式中、Yはハロゲン原子を表わし、R4,R6
およびBは前述のものと同意義を示す。)を有す
る化合物に導いた後、この化合物に塩基を反応さ
せて一般式 (式中、R4およびR6は前述のものと同意義を
示す。)を有する化合物を製造し、次いで所望に
応じて得られた化合物をカルボキシル基の保護基
R6の除去反応およびR4に含まれるそれぞれ対応
する保護基を除去して水酸基、アミノ基若しくは
メルカプト基を復元する反応に付することを特徴
とする一般式 〔式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基またはR3A−基(式中、R3は水酸基、ア
ルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニ
ルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、トリ
アルキルシリルオキシ基、メルカプト基、アルキ
ルチオ基、アミノ基またはアシルアミノ基を示
し、Aはトリフルオロメチル基若しくはフエニル
基で置換されてもよいアルキレン基を示す。)を
表わし、R2は水素原子またはカルボキシル基の
保護基を表わす。〕を有する2−チオキソペナム
誘導体及びその塩の製造法。
[Claims] 1. General formula [In the formula, R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an R 7 A- group (wherein, R 7 is an alkoxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a trialkylsilyloxy group, represents an acylthio group, an alkylthio group, or an acylamino group, A represents an alkylene group which may be substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group), R 5 represents a lower alkyl group, and R 6 represents a carboxyl group. Represents a protecting group. ] After treating the compound with a base,
carbon disulfide is reacted, and then a compound having the general formula XCO-B-COX (wherein B represents a single bond, a lower alkylene group or an O-phenylene group, and X represents a halogen atom) general formula (wherein R 4 , R 5 , R 6 and B have the same meanings as above) is produced, and then reacted with a halogenating agent to produce a compound having the general formula (In the formula, Y represents a halogen atom, R 4 , R 6
and B have the same meanings as above. ) and then react this compound with a base to form the general formula (In the formula, R 4 and R 6 have the same meanings as above.) Then, if desired, the obtained compound is added to a carboxyl group-protecting group.
A general formula characterized by subjecting to a reaction for removing R 6 and a reaction for restoring a hydroxyl group, an amino group, or a mercapto group by removing the corresponding protecting groups contained in R 4 [In the formula, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an R 3 A- group (wherein, R 3 is a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a trialkylsilyloxy group) mercapto group, alkylthio group, amino group or acylamino group, A represents an alkylene group optionally substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group), and R 2 represents a hydrogen atom or a protected carboxyl group. represents a group. ] A method for producing a 2-thioxopenam derivative and a salt thereof.
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