JPH01500626A - 磁気情報記憶媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■上口 磁気情報記憶媒体 発明者　ニゲニオ　Ｆ、ベルティック ローレンス　Ｆ、ヘルテ 本発明は、磁気記録合成物（例えば、硬質データディスク又はこれに似た基板に 上塗りしているもの）、特に有機微粒子合成物とそれへの薄い金属の上塗りに関 するものである。

泣肛り背員及〃竺猶 情報処理等のための磁気記録装置を作ったり使用したりしている技術者は、媒体 が深刻な摩耗問題を起こし、寿命を短くすることをよく知っている。例えば（“ スライダ上に保たれた）薄膜磁気記録ヘッドを支えている硬質重合体微粒子の磁 気記録ディスクの表面と比較高速で通過するので、ヘッドは全く媒体と同様に問 題な程の摩耗が生じがちである。関連する問題は、ディスクとヘッド（表面）と の間の好ましくない高摩擦である。摩擦を少なくする為に、技術者は、ある摩擦 係数以下のディスク・コーティングを使用する様にしている。これは、ヘッドを 通過してディスクを回転きせる力を少なくもしている。摩擦を少なくし被着を高 める為に、技術書違は種々の方法をとってきた０例えば“表面の潤滑剤”　（フ ッ化炭素又はＭ。ｓ２のような乾燥した潤滑油又は黒鉛化炭素等）をディスク記 録の表面に塗っている。

訛皿二皿星久脱皿 添付された図面と共に以下の好適な実施例の詳細な説明から解るように、技術書 違によって本発明の他の特徴や特長も技術書違によって理解されるだろう。

第１図は本実施例の概略縦断面図、第２図は他の実施例の概略縦断面図である。

以下の数例の好適な具体例の詳細な説明により、本発明が更に良く理解される。

吐適望且体皿の五里 概要と背景： 例ＡＡは記録合成物を上塗りし、その上を良く知られる定式化された潤滑油体系 により塗付した磁気記録基板ディスクを示している。

この例と、明細書に示す他の方法は、他の仕方で示しているところを除いて、現 時点の技術と同様に選択されて公式化され、作動されると解釈してよい、又、他 の仕方で示しているところを除き、この明細書中での全ての材料、方法と仕掛け や装置は、現在好ましい例として知られている手段により実施されると解釈して よい。

以下に示すものは、本発明に使われるような傾向にある重合体微粒子表面の特殊 な例である。この合成物は、記載されている組成物が指摘される濃度含まれ、指 摘されるように塗布され処理されて使用されるように用意される。

ＩＡＡ：　ジ・な　Ａ　′、 比較的慣習的な磁気記録重合体微粒子の上塗りは、その上に表面潤滑剤層が塗布 された硬質コンピュータ・ディスク上で処理されているものと解釈してよい、特 に、ウィンチェスタ・アルミニウム・ディスク記録は、連想されるフライング記 録ヘッド・スライダでライト／リード操作をするために、重合体微粒子の磁気記 録薄膜（重合体エポキシ−フェノリック型結合剤の酸化磁性体）が上塗りされて いる。

針状の酸化磁性体粒分子は、アルミナ粒子を含むエポキシの結合剤に混ぜられて いる。この混合物は通過するスライダに対し固い粒子と固（ない結合剤との異質 の表面を生じさせ、固い粒子が、似た固さのスライダとの摩耗を防げることが出 来る。

記録表面は最後の処理（例えばつや出しみがき、グリースをとる。最度の焼き付 け、その他すべての処理）をされていると考える。フッ化炭素の重合体“潤滑剤 ”は重合体塗布された記録表面に塗られている。

体例Ａ：゛′−・　楡 第１図は上記に説明したように、記録媒体Ｍ−Ｍであり、基板ＳＵＢ　（例えば 高速デジタル・データディスク記録技術として知られているものアルミニウム・ ウィンチェスタ・ディスク）上に付着し、鏡のようになめらかにされ、高反射性 の光学的薄膜Ｒで覆われている。

厚さＭの磁気微粒子酸化物を含んでいる磁気記録塗装Ｍは、適当な厚さの関連の ある磁気化できる材料からなり、ここでは好ましくはエポキシ−フェノリック型 非反応の媒体、例えば結合剤内に分散された酸化第二鉄のような分散磁気粒子が 好ま、しい。

記録の厚さＭは、−ａに高速デジタルデータ記録技術において知られていて、デ ィスク媒体と共に選ばれる。しかし、後に更に明白になように、その重合体（例 えばエポキシ結合剤）の成分はいくらか変化してもよい、更に、抗摩擦重石塗装 Ｒが記録表面に塗られる時には、ＡｆＬ＊Ｏｓ微粒子のような普通の抗摩擦（“ 固い°）顔料は非常に少なくされたり、使われなくてもよい。アルミナ粒子は、 例えば磁気顔料を増やす（１０〜２０％の磁気顔料を更に増量）することにより 置き代え（少なくとも一部を）でもよい、そして重合体母材は、もはや摩擦ある いはスライダの熱や“拾い上げ（ρｅｃｋｕｐ）”に耐える必要はない、だから 比較的丈夫でないものが選ばれ、多くの架橋処理（ｃｒｏｓｓ−１ｉｎｋｉｎｇ 　）等が不用になる。この結果、技術者は重合体材料、厚さや関連する処理にお いて節約を期待できる。

磁気の厚さＭの上には、高反射で鏡の様な光学用の記録薄膜Ｒがあり、技術的に 知られている適当なエネルギーと波長によって、光学上データのしるしを記録し くレイザ源Ｓを参照）読み出す（関連する検査器りを参照）。

ある場合は、固い保護用の透過層Ｈが、光学的層Ｒの上に重層塗装される。何か 慣習的な潤滑剤層りをＨ又はＲの上に重ねてもよい、しかし、この具体例におい ては、保護層Ｈは説明の簡略化の為に省略する。多くの場合、技術者は自身を保 護する外面の層（磁気スライダかそのようなものと、周期的にあるいは時として ふるかる為の）として使用するために、充分に固く物理的に安定した光学的層Ｒ を備えたがっている。

ある場合には、光学的記録層Ｒは他の光学的記録の性質（反射力以外の例えば屈 折率の変化）を示してもよい。

どの様な場合においても、技術者は（普通の磁気媒体と関連する潤滑剤のように ）磁気スライダ（図に示されてはいないが技術者間には知られている）がこの多 重層の記録媒体Ｍ−Ｍの外側の面に塗られた潤滑剤りと反復して接触するように 意図されていると理解する。１例としては、メモレックス３６８の磁気ディスク ドライブと、その関連するディスク、スライダ。

潤滑剤等がある。

目立った特徴として、光学屡Ｒは高反射金属層の形で比較的便利に提供される。

アルミニウム、クロム、金あるいはそのような合金の薄膜が好ましく、指示され た磁気の厚さＭ（例えば２００〜３００人あるいは大体１マイクロインチの深さ まで）上にスパッタ付着される。特に、アルミニウム（高反射の為には９９％の 純度）は、３６８０磁気酸化物の表面上にスパッタ付着が巧く出来る。例えば次 の様な条件が望ましい。

表−Ａ 直径８インチの陰極上のアルミニウム・ターゲット電圧、３９０ＶＤＣ 電流；　５．Ｏａｍｐ スパッタリング法 り、Ｃマグネトロン スパッタリング・ガス １０ｍｙＴｏｒｒのアルゴン ターゲットから基板まで 距離　５ｃｍ 処理以前の真空状態 ＜　５　Ｘ　１０−６Ｔｏｒｒ 他の条件は通常の処理と同様−例えば室温で、好ましい型の光学データの書き方 は、アブレーション・レーザにより下部の低反射微粒子媒体の表面を露出する為 に、高反射層Ｒに穴や“くぼみ”を“開ける”ことである。２ワツトのアルゴン ・レーザは、直径１ミクロン位の穴を、アルミニウム薄膜から融除するのに適し ている。穴のパターン（たいていは丸い）は、音響光学変換器を使い、ディスク 媒体が回るにつれて、円周のトラックに書くことができる。レーザで作った穴の パターンは、磁気リード／ライトヘッドのサーボ位置決めの為に続いて読まれる データ符号化を具体化することが出来る。これ等の穴は、関連する磁気情報の上 、あるいはデータ・トラックの間例えば目的のデータ・トラックの上が隣りに（ リード・ヘットのセンタリング制御の為）直接記録出来る。

薄い（例えば２５０人の厚いアルミニウム薄膜に５０人位の教卓分子層の）酸化 物がアルミニウム上に自然に形成されるが問題ない（すなわち酸化クロムの“陽 極酸化（ａｎｏｄｉｚｉｎｇ　）”が良く避けられる。これはアルミニウムに“ 穴をあけ”、反射力を弱くし“騒音”を起こす）。

この様なリード／ライトの条件の下で、光学的層Ｒは５０％以上の本来の（処女 の、末ライトの）反射率、好ましくは５５０から８５０ｎｍに対し約６０％から ７０％を持つ必要があり、書かれた反射率変化は読み出しを容易にする。（例え ば約３０〜５０％の△Ｒが好ましい、）層Ｒは大体１マイクロインチが好ましい （２５０人：例えば磁気信号の強さのヘッド−ディスク間の損失を約１０％に制 限するために）いくらか驚いたことに、普通の“３６８０”磁気ディスク塗装Ｍ はそのような光学的記録に非常に向いていることが判明した。（すなわち、Ｒの 下で読み出しのための十分な対照の光学的°゛背景となっている）。又、上述の ”３６８０″磁気ディスク塗装Ｍは（通常のみがきの後は）十分になめらかであ り、スパッタされた前述の２５０人の（好ましくは２００〜３００人の）アルミ ニウムはレーザ記録に非常に適した高反射“鏡面”のようになることが判明した 。（例えば、指摘した好ましい８２０ｎｍのレーザ波長では、約７０％の反射率 ・・・注：約１００００人までは、スパッタされた薄膜は物質の“形状“に全く 従う）。更に、それはこの磁気ディスク（エポキシ等）の表面に驚く程よく結合 する（すなわち、多分結合剤の母材内にアルミニウムをスパッタして）０例えば 、それは“スコッチ・テープテストばかりでなく接着鋲型“引っばりテスト“に も容易に耐える。そのようなアルミニウム薄膜は、ある場合には、ＣＶＤ　（化 学蒸着）法でも作られるが、熱蒸着は粘着が乏しいので避けられる。

全アルミニウム表面上の酸化物層は、普通の条件（空気中）下では、５０人の酸 化物薄膜（例えば１マイクロインチ厚のアルミニウム上に）まで自然に形成され る。酸化物を持つ金属薄膜は、（空気中にさらされた時には）外見上は金属的な ままである。オージェ（Ａｕｇｅｒ）の深さの概観では、１２インクロインチ膜 のアルミニウム薄膜上に５０人の厚さの酸化物の層が形成され、その酸化層の増 加は、新鮮なアルミニウムがもはや空気を吸収出来ない時に止まる。多分２単分 子のアルミニウムあるいは５単分子（５０人又は１１５マイクロインチ）の酸化 物が形成された後。１マイクロインチのアルミニウム薄膜に対して、１／４マイ クロインチの酸化物が発達し、４１５マイクロインチの純アルミニウム金属が下 に残ることが期待出来る。

現在ある技術者は、スライダデモ記録するための（例えば３６８０型の）に適当 な潤滑剤（前述のフッ化炭素液や乾燥炭化黒鉛のような）で塗布されたアルミニ ウム重層塗装を使うことで満足する。実際、１マイクロインチのアルミニウム薄 膜をスパッタし、普通の乾燥炭化油を１マイクロインチ塗っている３６８０デイ スク上へ、ミニウィンチェスタ型のスライダを“普通に載せる”　（１５ｇｍ） 摩耗テストの結果は良くなかった（例えばスタート／ストップサイクルは３３０ ０より少ない）。

しかし、このようなスパッタされたアルミニウムの固さは、“中から中以下”程 度（約２Ｍ０Ｈ）であり、長い間の特別丈夫なスライダ接触に耐えられない０例 えば、このようなアルミニウム層は、黒鉛潤滑剤で塗布されると、そのようなス ライダによる約３２００回のスタート／ストップサイクルまでは充分に耐えられ る（“摩耗トラック”が現われる前に）。

ところが、技術者は約１００００スタート／ストツプサイクル、又はそれ以上を めている。（注二油を全く塗らないと、アルミニウム薄膜がフェライト・スライ ダに付着し、離すことすら出来なくなる。） このように、アルミニウムは記録ヘッド・スライダのため滑走部表面に使うのは 望ましくなく、潤滑が必要である。

３６８０型硬質デイスクは、良く摩耗に耐える為に、典型的には潤滑油を塗る（ 液体フッ化炭素を表面に塗る）、アルミニウムを被覆した３６８０デイスクには この潤滑油が与えられる。

それにもかかわらず、油を塗ったアルミニウム薄膜ディスクは普通の摩耗テスト を通らず、たぶん（スライダがアルミニウムにぎざぎざをつけている所では）１ マイクロインチのアルミニウム薄膜のやわらかささく２Ｍｏｈ）の為に。

結　果 技術者は、このような２レベルの記録媒体（磁気記録の上に光学的記録を持つ） いくつかの有益な特徴を認めている０例えば、光学的層Ｒは関連する磁気データ ビットの真上に直接位置するディスク・サーボデータを明らかに用意できる。例 えば、ある磁気的な記録データ・フィールドは、関連して重なった光学的穴によ り確認されてよく、光学的穴は技術的に知られているように、セクタの情報やデ ィスク回転数や、ディスク・トラック番号や、必要ならトラックのセンタリング でさえも提供する。この光学的薄膜上への“１回のライト（初期化）とリードオ ンリ”モードのサーボ記録は、このような配置に非常に適する（例えば、はとん どどのパワーレーザもリードレーザとして使うことが出来る）。

技術者は長い間、磁気記録エリア（“オーバヘッド”）を使うことなしに、磁気 ビットとサーボやそのようなものとの物理的に近い相互関係を望んできた。これ は例えば、（１組の磁気ディスク内の）分離したディスクの表面に（サーボ等の ）しるしがあり、　（他のディスク上の）関連する磁気ビットとの最初の正確な 場所の関係からそれているか否かに悩まされる慣習的な実例と比較される０例え ば、異った膨張力での温度の変化があっても、スピンドルの変化があっても相関 は定まっているか否か、特に、ディスクパックが“取りはずし可能”の時には。

そして、そのしるしく例えばサーボ）が埋込んである、あるいは磁気データ・ト ラックの上又は間に他の仕方で記録されている時は、位置を定めるのはあぶなつ かしいばかりでなく、“オーバヘッド”が増え、その為磁気データ格納エリアが 少なくなる。

現在の格納密度を増やす必要性は、ＴＰＩが増えるにつれて“埋め込まれた”サ ーボのしるしが次第に好ましくなくなる。

技術者は、普通の重合体磁気ＦＪＭとその潤滑剤りの間のこのようなアルミニウ ム上塗りが、両方の層（磁気と潤滑）の必要な特質と機能との変化を生み出して いることも知る。例えば、スライダが金属（アルミニウム）の光学的層Ｒにより 、被害を受けないように潤滑剤を作らなければならない、逆の被害についても言 える。油はアルミニウム表面に保持され、“振り切り“や他の消耗が起こらぬよ うに、作られ塗布されなければならない。二硫化モリブデンや黒煙薄膜のような 固体薄膜潤滑剤は申し分がないものである。ただし、アルミニウム薄膜の表面に 直接与える場合、反射するアルミニウム層の支配的“やわらかさ“のため、摩耗 に耐える効果が得られない、更に、アルミニウム層の反射の性質は、潤滑剤とス ライダとにより生ずる摩耗とにより反対に悪くなるかもしれない、この場合、固 い保護層Ｈが加えられてもよい（第２図）。

層Ｈは以下に書かれた条件を提供するように選ばれている。

反射アルニウム薄膜や下層の磁気媒体に対する摩耗抵抗、後にぬった潤滑剤や空 気中の環境（アルミニウムのさび）により、反射率を小さくさせないためにアル ミニウム薄膜を保護する障壁、 固体薄膜潤滑剤のなめらかにする働きをおしすすめ油の保持を強化できる適当な 均一な基板表面、 スライダとの摩耗抵抗なしにスライダと接触する為の一様で比較的“固い”表面 。

同様に、磁気層Ｍは、機能を急激に変えている。（従来の状況に対して）それは もはや、スライダや潤滑剤層とは直接接触はしていない、それは反射層Ｒの為の 比較的硬質な鏡のようになめらかな基板を与えることと矛盾しないが、強く結合 されて、関連するスパッタリングの温度と他の製作条件に耐えなければならない 。

Ｆｅ２Ｏ２（針状の酸化鉄）の微粒子媒体の熱磁気特性は、（３６８０と同様に ）後述のスパッタリング・プロセスによく適している。スパッタリングの中で関 連するプロセス温度（２００℃まで）により影響を受けない、“磁鉄鉱”（Ｆｅ ｓ○４対Ｆｅａｒｓ又は“フェライト”）は、これ等のプロセス温度では、いく らかの磁気の低落を招き易いので適当でない、みがいた磁気媒体の表面のなめら かさは、プロフィロメータで計ると１マイクロインチよりもつと良い。

充分な摩耗抵抗のある重層Ｒの適用は、下層の磁気層組成物の組み立ての変化や 改善を可能にする。

従って、たとえば比較的普通の摩耗顔料（Ａｕｔｏｓ粒子、又はそのようなもの ）の量は減少しても、又はなしで済ましても良く、そして磁気顔料により代替さ れても良い、このようにして、ライトエラーを少なくして磁気酸化物の密度（％ 負荷）がふえ、更に高いビット密度が期待出来る。（例えばＡ　ｌ　ｚＯ５の粒 子は“損失”ビットを生ずる）、同様に、重合体結合着剤は、もはや強さや関連 するスライダ摩耗の特質を必要とせず、それ故もつと自由に異なる性能の要求に より再処方することが出来る。

他且旦旦ユゑ方迭 スパッタ被着の代りに、アルミニウムは十分な薄膜の粘着力を供給する。イオン メッキかＣＶＤか又は他の方法で被着され、あるいは他の似た高反射率の金属を 使われても良い０例えば、クロムはそのような磁気表面（非常に腐食に強い）に 、同様にスパッタすることが出来る。同様に、非磁性ニッケル。

ロジウム、白金、バナジウム等を使用しても良い、タングステン、モリブデン又 はハフニウムのような処理しにくい材料でさえ、時にはかわりに使われるようで ある。テルルの様なある金属は曇るのであまり適さない、又、ある関連する合金 が（例えばレーザと書く能力では）適している。たとえば重層塗装Ｈで保護され ている場合は、固い金合金が適している。

テープ、ディスケットや細長いフィルムのような曲げやすい基板の使用は非常に 便利である。しかし、基板が熱でゆがまないようにゆっくりした処理と特別の冷 却とを特に必要とする。

ある場合は、記録層Ｍは磁気金属モ構成しても良い。その場合には、表面を高反 射率にするか、他の光学的記録に適する方法による。もしこれが出来なければ、 光学薄膜Ｒを使ってもよい。いかなる場合にも、光学記録表面が充分に固くない か他の方法で保護する必要があれば、もちろん薄膜Ｈのような保護する重Ｎ塗装 が使われる。

Ａ−１＝伊Ａと石じであるがクロムが′　に　いられるアルミニウム反射鏡の薄 膜Ｒの代りにクロムを使っている。

他は例Ａと同様である。好ましくはクロムはマグネトロン・スパッタされる（例 えば、約２００〜３００人の厚さに）。

クロムの反射鏡は光学的目的には充分であるが、アルミニウムの反射鏡の反射よ り悪い。しかし、より高粘着性があり、より硬くより薄い摩耗抵抗の塗布ができ る。更により耐腐食性があり重層塗装Ｈな不要に出来る。

好ましくは、クロムはフッ化炭素のような液体のスライダ潤滑剤で塗布する方が 良い。乾燥炭素潤滑剤は高速直線度の時（＞５００ＩＰＳ）に、むきだしの金属 薄膜の上では、フッ化炭素より高い摩擦を示す。。

ｆ９１Ｂ：倭Ａと石じでＳｉＣ重ｌ吹鋏土ｍλ亙血Ω例Ａと同様であるが、反射 的光学ＮＲが（スライダに対する）固さと摩耗抵抗とを強める為に、好ましくは 炭化ケイ素や同様な保護材料を含む薄く固い透明な保護薄１１１ｉＨで重層塗装 されている。スライダ着陸の衝撃は金属薄膜に傷を付ける可能性があるから、金 属層を保護するより固い薄膜を使うのが良い。

特に、同じスパッタ小室で反射するスパッタ・アルミニウム屡の被着をした直後 、数百人までのＳｉＣをスパッタすると驚異的に結果が良くなった。

区−一一一里 固さと摩耗抵抗（スライダに対する）は非常に増加した０例えば、媒体Ｍ−Ｍは 少なくとも２００００のスタート／ストップサイクルによっても、トラックの摩 耗が見られない。

ＳｉＣの厚さはレーザのリード・ライトの操作に（不透明となり）邪魔にならな いようすべきである。８５０ｎｍレーザ光源は約１５０〜２５０人に合っている 。勿論、増加した厚さにより、リード・ライト変換器を磁気酸化物（層Ｍ）から 更に遠ざけ、出力信号の振幅がそれに応じて弱くなってしまう。

（例えば、各マイクロインチに対し約１０％弱くなる）、又、ＳｉＣの厚さがふ えるにつれて、リードレーザの伝達がすぐに弱くなり、例えば約４００人の厚さ の時の好適な８２０ｎｍのビームはたった約６０％しか通さない。

ＳｉＣはアルミニウム薄膜Ｒとほぼ同じ条件の下でスパッタされるが、ＲＦダイ オード・スパッタリング設備を使うと、どんな誘電体であってもＳｉＣ付着の速 さは比較的ゆるやかである。

ＳｉＣ塗布は、エポキシ内の微粒子の結合剤表面に相対しながら同種の層を供給 する。この結果は液状の潤滑剤をより均一に塗ることが出来、油の維持が期待出 来る。又、その高い粘着性の真空付着のＳｉＣ層は、次の炭素性の付着の為の適 当な基板を提供する（即ち、結晶炭素の作り方にエピタキシャル影響を与える） 。更に、ＳｉＣ塗布はアルミニウム薄膜をさび等や関連する反射率の損失から守 る。

炭化ケイ素は知られている通り、Ａｎよりずっと固い（約２に対してＭｈｏ）油 をぬっていないむきだしの炭化ケイ素の表面は、薄い薄膜（ＴＦ）のスライダの 下でテストされたが、かなり高い摩擦があり、間もなくスライダはクラッシュし た。

（例えば、８００　Ｓ／Ｓ以内で普通の３６８０のディスクの表面の適度な摩擦 と比較される。） しかし、乾燥炭素を塗ると（例えば１００〜２００人好ましくはスパッタで）、 炭化ケイ素の表面は、以外に低い摩擦を示す。乾燥した二硫化モリブデン薄膜は 、同様な結果を示すが、真空で炭素を付着する方が好ましい。

むきだしの３６８０微粒子（重合体）の表面上の同じ１マイクロインチの炭素又 は二硫化モリブデンの薄膜は、高い摩擦を示した。（けれども、約２０マイクロ インチでは、炭素は低い摩擦を示す、しかし乍ら、これは現在の目的には厚すぎ る。

例えば、読み出しが殆ど１００％落ちてしまう）。

”ヘッド転位゛の距離Ｄｈは（ヘッドギャップと、磁気酸化物の間の距離を加え て）、１マイクロインチから２マイクロインチ（２２５〜４００人）に制限し、 出力を１０〜２０％カットするのが好ましい。このように、次のような薄膜の厚 さが好ましい。

表−１ 反射薄膜（例、　Ａ文）１５０人（１００〜２００）摩耗薄膜（例、５ｉＣ）１ ５０人（１００〜２００）表面油　伊、Ｃ１５０人（１００〜２００計　Ｄｈ　 ４５０八　３００＋人 技術者はＡｎ−ＳｉＣ−Ｃのような組み合せの高い耐久性におどろくだろう。前 述の型の摩耗テストでは、乾燥炭素で表面油が潤滑された３６８０のディスク上 にスパッタされた１マイクロインチのＡＭは、３３００ストツプ・スタートサイ クルよりもすくなかった。固い重層塗装Ｈが／１１の上に薄くスパッタされたＳ ｉＣ層（１５０〜２５０人）を重ねた場合に、期待以上に摩耗が改良され、１０ ０００スタート・ストップサイクル以上であった。

このように、我々は炭化ケイ素等の薄い被覆（例えば、１５０Å以上のスパッタ ）を加えると、前述のＡｘ−塗布の微粒子重合体ディスクの摩耗抵抗が非常に良 くなることを示唆している。

一方、クロムはアルミニウムの代りに重合体微粒子の上塗りにアルミニウムの代 りに使われる。クロムは高い付着速度の為、Ｄ、Ｃマグネトロン技術でもスパッ タ出来る。炭素摩耗薄膜（又はＭ　ｏ　Ｓ　ｔやＷＣ）は、Ｄ、Ｃマグネトロン で、スパッタ出来る；約１５００Ｖの自己バイアスが３００人／分の十分な蒸着 速度で提供される）。

代ｍ立」己乞迭 ＳｉＣの代りに、種々のガラスｃＥ似た材料が摩耗薄膜として使用されてもよい 。例えば、（スパッタされたざくろ石のようなものはスパッタされた形でのみ） や他の酸化物。しかし、非結晶ケイ素（Ｓｉｏ、　５ｉｏｚ）のようなガラスは 余りに柔そうだ。

酸化アルミニウム塗布をスパッタするのは更に遅く、実用的ではない（アルミニ ウム被覆に電気メッキをして酸化させる試みの報告は、１９８５年５月のＩＢＭ 、ＴＤＢの２７巻Ｎｏ、　１２を参照せよ）。そしてＳｉｃよりやわらかい。

ステアタイト組成（ソーブストーン）もそのような基板にスパッタされたが、薄 い薄膜には高い摩擦があることがわかった（低いストップ／スタート能力）、あ る場合には、他の材料を炭化ケイ素の代りに使っても良い０例えば炭化タングス テンや他の炭化物のように。そしてスパッタリングの代りに、そのような材料は 化学蒸着（例えば、アルミニウム層の上に固い金属をメッキすることは、望むよ うに非常に固いものを生じない）や他の適当な既に知られている技術を使って付 着されてよい。

他方の変形として、保護被覆Ｈも光学的記録性を持っている（例えば、低い反射 率で作られていて、ビット位置に穴をあけて下の高い反射率の１１ｉＲを露出す る）。

Ｃ・　″・　Ｒがなく伊ＩＢと石、 光学層Ｒはなしで、Ｓｉｃ等が磁気酸化物層Ｍの上に直接スパッタされ、リード ／ライトスライダが乗っている保護層を作る以外は例Ｂと同様である。そのよう にスパッタしたＳｉｃ層は主として到着するＳｉｃ分子の高い運動エネルギーに よって、磁気酸化物薄膜と非常に良く結合する。

ガラス、あるいは他のやわらかい誘電体は例えば重合体薄膜上に直接付着する時 には、固さが充分でないのでＳｉｃの良い代用物にならない。

結　果 結果は前に説明したと同様であるが、もちろん磁気酸化物上の全体の金属の厚さ が少ない（例えば約１５０〜２５０人）ので、出力信号の低下が少ない（それは 大体全体の１０％のオーダーである）。

Ｓｉｃ　（例えば、適当に例えば炭素で潤滑された）を使った場合、２００００ 以上のストップ／スタートスライダサイクルが可能で、媒体のＳｉｃ塗りやスラ イダ・ヘッドへの損害が現れない。

ここには光学層がないので、代わりに潤滑剤を保持する為、磁気層に影響がない よう（これは問題となる）ＩＢＭ３３８０ディスクのようにＳｉｃの表面に穴を あける。

Ｓｉｃや同様の固い重層塗装は、滑走による摩耗や多くのヘッド接触や滑動によ る摩耗のある、メッキされたディスクやメッキされた磁気テープの表面に有益に 使える。好ましい（メッキやスパッタの）磁気薄膜の主体はＣｏ−Ｎ１−Ｐであ る。

スパッタされた薄い薄膜の磁気ディスクやテープは、Ｓｉｃ重層塗装から利益を 受ける。

繰り返し次の事を示唆する。

・・・光学記録のため、あるいは非摩耗（例えば、スライダの接触に対して）の ため、又両方のために、薄い非磁気金属薄膜Ｒで磁気記録薄膜Ｍ特に重合体記録 薄膜Ｍｐを覆うこと。

・・・そして、薄膜Ｒが光学記録の為に使われる場合は、アルミニウムやクロム 等のような高反射率の金属を含んでもよい。

・・・特に、アルミニウムや金をエポキシ内の“３６８０”磁気酸化物のような “プラスチック”材上にスパッタするのが有利である。このようなアルミニウム や金薄膜は、たとえスパッタされてもかなり粘りがある。しかし、比較的“強い ”スパッタをする真空が好ましいく例えば、十分な電圧と共にアルミニウムには 最小１０−”ｐｓｉ、金には１０−ｐ　Ｓ　１　）　＊技術者は純金がほとんど の材料に良く接着しないことを知っているので、金やアルミニウムがエポキシに 充分接着するのは驚く程である。逆に、アルミニウムや金は（熱の）蒸着で付着 された場合には、“強い”真空の場合にも３６８０に対し“良い”粘着性を示さ ない［すなわち、最初金は“青“なので充分に付着されなければ反射率を良く出 来ない］。

そして、そのような光学記録薄膜Ｒ０が表面摩耗（スライダによる）且つ／又は 他の低下（例えば、さびで反射率を失う等）に影響されやすい場合は、必要なリ ード／ライト光ビームが通れる程に比較的固い非磁気！Ｈ（例二５ｉｃ）の薄い 薄膜で被覆しても良い。

［すなわち、特にスパッタされたアルミニウムやクロムの上にＳｉｃがスパッタ されている］ ・・・薄膜Ｒが反摩耗の目的のみの場合、もちろんＳｉｃのような比較的”固い ”屡を単に含んでもよい。

どういう場合にも、接触しているスライダと使われる場合は、固い上塗りの表面 が適当な潤滑剤で被覆されるのが好ましい、多くの場合、炭素（スパッタされた ）のような乾燥した固形表面潤滑剤が好ましく、そうでなければ“湿った“油（ 例えばフッ化炭素）が必要である。もちろん炭素油薄膜は“軽い”方が好ましい （例えば数百人まで；あまり塗ると潤滑性が低下し、“こびり付き”が速くなる 等になりやすい）。

又、ある場合には炭素薄膜は“光学シャッタ”の性質を提供し、例えば光ビーム に対し高い吸収を示すので、“穴をあけられた”　（例えば融除された）時、下 にある反射物が露出し“ビット位置“を形成する。

綾−一一一差 ここに説明している好ましい具体例は、単なる見本であり、本発明はここにクレ ームしている思想からはずれることなしに、構成や配置や使用上の多くの修正と 変更が可能である。

本発明のさらなる修正も可能である０例えば、ここに記載された手段と方法は曲 げ易い媒体にも適用される。又、本発明は他の型の記録且つ／又は再生システム のための媒体上に金属重層塗装をするのにも適用される。

本発明の上記の可能な変形例は簡単説明されている。それ故、本発明は添付した クレームに示されているような発明の範囲内の全ての可能な修正と変更を含むと 考えられる。

ＰＣＴ／ＵＳ８７１０２２４３ ２１発明の名称 磁気情報記憶媒体 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 ユニシス・コーポレーション ４、代　理　人　〒１０５ 東京都港区虎ノ門２−５−２１ 請求の範囲の欄 ６、補正の内容 別紙の通り。

請　゛　の　範　囲 １、基板と、 該基板上に付着し、付随して通過する変換手段による磁気変換に適応する磁気記 録層Ｍと、該層Ｍ上に粘着して重ねて付着し、Ｍからの磁気出力を最小の下方の 大きさにまで下げない厚さの、非磁性材料の少なくとも一層の薄膜Ｒとを備える ことを特徴とする情報記録媒体。

２、最も外の露出した薄膜Ｒは光学的記録材料からなり、光データの記録と読み 出しに適応されることを特徴とする請求の範囲第１項記載の磁気情報記憶媒体。

３、最も外の露出した薄膜Ｒは非摩耗材料からなり、変換手段との比較的非摩擦 の接触に適応されることを特徴とする請求の範囲第１項記載の磁気情報記憶媒体 。

４、基板は回転ディスクからなり、磁気記録層Ｍは重合体母材内の微粒子からな ることを特徴とする請求の範囲第３項記載の磁気情報記憶媒体。

５、少なくとも最も外に露出した薄膜Ｒは比較的にやわらかく、通過する変換手 段との接触で破損しやすく、この薄膜Ｒは非摩耗材料からなる非磁性金属層Ｈに より被覆され通過する変換手段との比較的非摩耗の接触に適応されることを特徴 とする請求の範囲第２項記載の磁気情報記憶媒体。

６、薄膜ＲとＨとはスパッタ付着されることを特徴とする請求の範囲第５項の磁 気情報記憶媒体。

７、回転ディスク基板と、 該基板上に付着され、重合体母材内に分散する記録微粒子からなる磁気データ記 録／ｉＦＭであって、付随して通過するスライダにのせた変換手段により変換に 適応され、単に定期的に付随してスライダ手段と接触しやすい層Ｍと、 層Ｍ上に粘着して、Ｍからの出力を最小の下方の大きさまで下げない数百人の厚 さまでの、スパッタされたデータ“光記録”材料の少なくとも１つの薄膜Ｏとを 備え、 Ｏの材料は、所定のライトビームとリードビーム手段での光データの記録と読み 出しに適応し、最上の露出した薄膜Ｏｏはスライダ手段と比較的非摩耗の接触に 適応される非摩耗の材料からなり、薄膜Ｏｏの上には潤滑剤層りもあることを特 徴とする磁気情報記憶媒体。

８、少なくとも最も外の露出した薄膜Ｏ０は比較的やわらかく、通過するスライ ダ手段との接触で破損しやすく、この薄ＭＯ０は通過するスライダ手段との比較 的非摩擦の接触に適応される非光学非摩耗材料からなる薄く固い保護用非磁性層 Ｈで被覆され、 層Ｈは腐食や反射の化学的退化のようなものから層ｏ０を守りもし、十分に薄く 重大な程にビームを弱めないよう前記ライトビームとリードビーム手段に対し十 分に透明であることを特徴とする請求の範囲第７項記載の磁気情報記憶媒体。

９、回転ディスク基板と、 該基板上に付着され、高平滑の表面を示し、少なくとも周期的に通過スライダ変 換手段との接触あるいは接触しそうな状態に適応され、重合体母体内に分散され る記録微粒子からなるデータ記録層Ｍと、 １つあるいはいくつかの高反射薄ＭＲｒと、層Ｍの表面にスパッタ付着される高 反射Ｒ，は前記ライトビームとリードビームに対して比較的透明でもある比較的 固い材料の少なくとも１層の薄い保護薄１ｉＲ，により重複塗装され、この材料 はスライダ変換表面の固さにもマツチし、潤滑剤は乾燥炭素付着のようなものか らなる各保護薄膜Ｒ９は炭化物、亜硫酸塩あるいは適当なガラスからなる層Ｍの 表面に粘着して重ねて付着された光記録材料の少なくとも１つの薄膜Ｒとを備え 、 層Ｒの全トータル厚さｔｒはＭからの出力を単に下方の大きさに下げるようなも ので、少なくとも最上の露出した層Ｒは所定のライトビームとリードビーム手段 による光デジタルデータに適応される光記録材料からなり、前記スライダ変換手 段と比較的非摩擦の非破損の接触にも適応され、同様に適応される第２の重層塗 装薄膜手段Ｈに被覆され、 薄膜Ｏ０上に潤滑材Ｊ’ｉＪＬがあることを特徴とする磁気情報記憶媒体。

１０、ディスク基板手段上に、重合体母材中に分散する磁気微粒子からなるよう 選ばれ、表面部が鏡のようになめらかで単に周期的にのみスライダ手段と接触し やすい磁気層Ｍをスパッタリングする工程と、 層Ｍ上に粘着して、非磁性金属の１つ以上の薄い光薄膜Ｒを、層Ｍからの出力磁 気信号が下方の大きさにしか下らない厚さで、少なくとも薄膜Ｒｏの露出した１ つが前記スライダ手段と比較的非摩耗の接触に適応するようにスパッタリングす る工程と、 前記薄膜Ｒｏ上に表面潤滑油を塗付する工程とからなり、 磁気光学合成物を作ることを特徴とする磁気情報記憶媒体の製造方法。

１１、薄膜Ｒ（７）ために、約１ｏＯ〜２００人の非磁性光学材料がＭの表面を 前記交換手段との破損を起す衝突から守るために使用され、Ｒの全厚さはｔ０ス ライダ手段との非摩擦の接触に適応される厚さｔ、の第２の保護薄膜Ｒ９で被覆 されても、Ｍからの磁気出力信号が十分に下ってしまわない厚さであることを特 徴とする請求の範囲第１０項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１２、薄膜Ｒは薄いガラス、炭化物あるいは硫化物の付着物からなり、層Ｍは基 板手段上にメッキあるいはスパッタされる金属からなり、潤滑油手段は乾燥炭素 付着物からなることを特徴とする請求の範囲第１Ｏ項記載の磁気情報記憶媒体の 製造方法。

１３、薄膜Ｒは全体で数千人の厚さまでであることを特徴とする請求の範囲第１ ０項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１４、薄膜Ｒ，，Ｒ，と炭素付着物の厚さは、それぞれ１００〜２００人のオー ダーで、トータルで約４００〜５００人を越えないことを特徴とする請求の範囲 第１０項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１５、厚さｔｏあるいはｔ　ｏ　＋　ｔ　ｐは全部で数千人の厚さとなることを 特徴とする請求の範囲第１１項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１６、厚さｔｏ、ｔｐと炭素付着物はそれぞれ１００〜２００人のオーダーで、 トータル約４００〜５００人を越えないことを特徴とする請求の範囲第１１項記 載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１７、高光反射の初期厚さｔｏはＭの上に約１００〜２００人のＡＩ２あるいは Ｃ１を含んでスパッタ付着され、約１００〜２００人のｓ、ｃ、ｗｃあるいはＭ ＯＳ２がｔ０保護厚ｔ２としてスパッタ付着され、１００〜２００人の乾燥炭素 付着物がｔ、上に潤滑剤としてスパッタ付着されることを特徴とする請求の範囲 第１１項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

１８、ｔ、は１０ｏ〜２００人０）Ｓｓ　Ｃ，ＷＣあるいはＭ　ＯＳ　ｚからな ることを特徴とする請求の範囲第１１項記載の磁気情報記憶媒体の製造方法。

国際調査報告 ｍｓ＋ｗｓｅ−Ａ−α−Ｍｇ、　Ｐ口／ＵＳ　８７１０２２４３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．基板と、 該基板上に付着し、付随して通過する変換手段による磁気変換に適応する磁気記 録層Ｍと、 該層Ｍ上に粘着して重ねて付着し、Ｍからの磁気出力を最小の下方の大きさにま で下げない厚さの、非磁性材料の少なくとも一層の薄膜Ｒとを備えることを特徴 とする磁気記録。 ２．単に定期的にスライダ変換手段による接触に適応する請求の範囲第１項の記 録。 ３．最も外の露出した薄膜Ｒは光学的記録材料からなり、光データの記録と読み 出しに適応される請求の範囲第１項の記録。 ４．最も外の露出した薄膜Ｒは非摩耗材料からなり、変換手段との比較的非摩擦 の接触に適応される請求の範囲第１項の記録。 ５．基板は回転ディスクからなり、磁気記録層Ｍは重合体母材内の微粒子からな る請求の範囲第２項の記録。 ６．基板は回転ディスクからなり、磁気記録層Ｍは重合体母材内の微粒子からな る請求の範囲第４項の記録。 ７．最も外の露出した薄膜Ｒは、通過する変換手段との比較的非摩擦の接触にも 適応される請求の範囲第３項の記録。 ８．最も外の露出した薄膜Ｒは比較的非腐食でもあり、でなければ所定の意図さ れたユーザの環境で光学的に安定している請求の範囲第７項の記録。 ９．最も外の露出した薄膜Ｒは比較的高反射金属からなる請求の範囲第５項の記 録。 １０．最も外の露出した薄膜Ｒは、通過する変換手段と比較的非摩擦の接触にも 適応され比較的非腐食でもあって、でなければ所定の意図されたユーザの環境で 光学的に安定している請求の範囲第９項の記録。 １１．薄膜Ｒは層Ｍ上にスパッタ付着されている請求の範囲第１０項の記録。 １２．薄膜Ｒは層Ｍ上にスパッタ付着されている請求の範囲第６項の記録。 １３．少なくとも最も外に露出した薄膜Ｒは比較的にやわらかく、通過する変換 手段との接触で破損しやすく、この薄膜Ｒは非摩耗材料からなる非磁性金属層Ｍ により被覆され通過する変換手段との比較的非摩耗の接触に適応される請求の範 囲第３項の記録。 １４．薄腹ＲとＨはスパッタ付着される請求の範囲第１３項の記録。 １５．回転ディスク基板と、 該基板上に付着され、重合体母材内に分散する記録微粒子からなる磁気データ記 録層Ｍであって、付随して通過するスライダにのせた変換手段により変換に適応 され、単に定期的に付随してスライダ手段と接触しやすい層Ｍと、層Ｍ上に粘着 して、スパッタされたデータ“光記録”材料のＭからの出力を最小の下方の大き さまで下げない数百Åの厚さまでの、少なくとも１つの薄膜Ｏとを備え、Ｏの材 料は、所定のライトビームとリードビーム手段での光データの記録と読み出しに 適応し、最上内露出した薄膜Ｏｏはスライダ手段と比較的非摩耗の接触に適応さ れる非摩耗の材料からなり、薄膜Ｏｏの上には潤滑剤層しもある合成光記録。 １６．最も外の露出した薄膜Ｏｏは比較的非腐食でもあり、でなければ所定の意 図されたユーザの環境で光学的に安定している請求の範囲第１５項の記録。 ９．最も外の露出した薄膜Ｏｏは比較的高反射金属からなる請求の範囲第１６項 の記録。 １８．薄膜Ｏはアルミニウムあるいはクロムからなる請求の範囲第１７項の記録 。 １９．重合体母材は主としてエポキシからなる請求の範囲第１８項の記録。 ２０．少なくとも最も外の露出した薄膜Ｏｏは比較的やわらかく、通過するスラ イダ手段との接触で破損しやすく、この薄膜Ｏｏは通過するスライダ手段との比 較的非摩擦の接触に適応される非光学非摩耗材料からなる薄く固い保護用非磁性 層Ｈで被覆され、 層Ｈは腐食や反射の化学的退化のようなものから層Ｏｏを守りもし、十分に薄く 重大な程にビームを弱めないよう前記ライトビームとリードビーム手段に対し十 分に透明である請求の範囲第１５項の記録。 ２１．回転ディスク基板と、 該基板上に付着され、高平滑の表面を示し、少なくとも周期的に通過スライダ変 換手段との接触あるいは接触しそうな状態に適応され、重合体母体内に分散され る記録微粒子からなるデータ記録層Ｍと、 層Ｍの表面に粘着して重ねて付着された光記録材料の少なくとも１つの薄膜Ｒと を備え、 層Ｒの全トータル厚さｔｒはＭからの出力を単に下方の大きさに下げるようなも ので、 少なくとも最上の露出した層Ｒは所定のライトビームとリードビーム手段による 光デジタルデータに適応される光記録材料からなり、前記スライダ変換手段と比 較的非摩擦の非破損の接触にも適応され、同様に適応される第２の重層塗装薄膜 手段Ｈに被覆され、 薄膜Ｏｏ上に潤滑材層しがある合成記録。 ２２．層Ｍから最も離れた最上の薄膜Ｒｏは、高反射的表面材料からなる請求の 範囲第２１項の記録。 ２３．薄膜Ｒｏは、比較的低光反射の下層の層Ｍの上面にデジタルデータビット を記録中に光記録により穴をあけられ、十分良い光学的対象とＳ／Ｎを示す請求 の範囲第２２項の記録。 ２４．薄膜Ｒはアルミニウムあるいはクロムからなる請求の範囲第２３項の記録 。 ２５．薄膜Ｒｏは自身比較的固く、丈夫で非摩擦接触に適応される請求の範囲第 ２４項の記録。 ２６．薄膜Ｒｏはスパッタされたクロムからなる請求の範囲第２４項の記録。 ２７．１つあるいはいくつかの高反射薄膜Ｒｒが層Ｍの表面にスパッタ付着され る請求の範囲第２１項の記録。 ２８．高反射Ｒｒは前記ライトビームとリードビームに対して比較的透明でもあ る比較的固い材料の少なくとも１層の薄い保護薄膜Ｒｐにより重複塗装され、こ の材料はスライダ変換表面の固さにもマッチし、 潤滑剤は乾燥炭素付着のようなものからなる請求の範囲第２７項の記録。 ２９．各保護薄膜Ｒｐは炭化物、亜硫酸塩あるいは適当なガラスからなる請求の 範囲第２８項の記録。 ３０．重合体はエポキシからなり、薄膜Ｒはその上にスパッタ付着されている請 求の範囲第２９項の記録。 ３１．基板手段に付着され、滑走する変換手段と周期的接触あるいは接触に近い 状態に適応して高平滑な表面を呈し、重合体母材内に分散された記録微粒子から なるデータ記録層Ｍを含む合成光記録を作る方法であって、 前記Ｍの表面に粘着するように選ばれ塗布される光記録材料Ｒを厚さｔｒに付着 する工程からなり、厚さｔｒは光記録手段として使用され、前記変換手段との破 損する衝突からＭの表面を守り、潤滑油で被覆されて前記変換手段と比較的非摩 擦の衝突に適応され、そうでない場合は同様に適応される厚さＲｐの第２の保護 薄膜で被覆されても、十分Ｍからの出力信号を下方の大きさまで下げない厚さで ある方法。 ３２．厚さｔｒは前記光記録に適応され、Ｍ上にスパツタ付着される高反射金属 からなり、 層Ｍの表面の反射は薄膜Ｒの反射よりも十分に弱く、前記潤滑剤は乾燥炭層付着 物のようなものからなる請求の範囲第３１項の方法。 ３３．厚さＲｐは炭化物、硫化物あるいは適当なガラスからなる請求の範囲第３ ２項の方法。 ３４．厚さｔｒはアルミニウムあるいはクロムからなる請求の範囲第３２項の方 法。 ３５．厚さｔｒはクロムからなり、厚さＲｐは使われない請求の範囲第３１項の 方法。 ３６．厚さｔｒはアルミニウムからなり、厚さＲｐは炭化物、硫化物あるいは適 当なガラスからなる請求の範囲第３１項の方法。 ３７．ＲｐはＳｉＣからなり、潤滑剤は乾燥炭素付着物からなる請求の範囲第３ ６項の方法。 ３８．保護層Ｒｐはより強い被覆で光記録層Ｒｏを守り、変換器の接触に対して ばかりでなく曇りや光の降下に対しても保護するために使われる請求の範囲第３ １項の方法。 ３９．請求の範囲第３１項の方法により製品。 ４０．請求の範囲第３２項の方法により製品。 ４１．請求の範囲第３３項の方法により製品。 ４２．請求の範囲第３４項の方法により製品。 ４３．請求の範囲第３５項の方法により製品。 ４４．請求の範囲第３６項の方法により製品。 ４５．請求の範囲第３７項の方法により製品。 ４６．請求の範囲第３８項の方法により製品。 ４７．光記録薄膜Ｒｏは前記交換手段との比較的非摩擦で非破損の接触ばかりで なく、前記光記録に対して比較的透明の適応される薄い透明な固い薄膜Ｈで被覆 される請求の範囲第２１項の記録。 ４８．基板手段に付着し、重合体母材内の磁気微粒子からなり、高平滑な表面で スライダ手段と周期的接触あるいは接触に近い状態で適応される磁性層Ｍを含む 磁気光学合成物を作る方法であって、 約１００〜２００ÅにＭの表面に粘着して、非磁性高反射光材料をスパッタする 工程からなり、 少なくともこの厚さｔｏの上部は前記スライダ手段との破損となる衝突からＭの 表面を守り、この厚さは、潤滑剤で被覆されて前記スライダ手段との比較的非摩 擦接触に適応され、でなければ同様に適応される厚さｔｐの第２の保護薄膜で被 覆されても、Ｍからの磁気出力が余り下がり過ぎない厚さである方法。 ４９．少なくとも厚さｔｏの上の露出した部分はそのような非摩擦接触のため選 ばれ適応される請求の範囲第２８項の方法。 ５０．保護厚ｔｐは厚さｔｏの上にスパッタされている請求の範囲第４８項の方 法。 ５１．厚さｔｏあるいはｔｏ＋ｔｏは全部で数千Åの厚さとなる請求の範囲第４ ８項の方法。 ５２．光学的厚さｔｏは高反射アルミニウムあるいはクロムからなり、保護厚ｔ ｐはその上に重複塗装され、ｔｐはＳｉＣ，ＷＣあるいはＭＯＳ２からなり、表 面潤滑剤手段は乾燥炭素スパッタ付着物からなる請求の範囲第４８項の方法。 ５３．厚さｔｏ，ｔｐと炭素付着物はそれぞれ１００〜２００Åのオーダーで、 トータル約４００〜５００Åを越えない請求の範囲第５２項の方法。 ５４．厚さｔｏは約１００〜３００Åのスパッタ付着されたアルミニウムからな る請求の範囲第４８項の方法。 ５５．光学的厚さｔｏと保護厚ｔｐと潤滑剤層は、それぞれが１００〜３００Å のオーダーで、全体の厚さは約４００〜５００Åを越えないで続いて塗付される 請求の範囲第４８項の方法。 ５６．約１００〜２００ÅのＳｉＣあるいはＷＣは厚さｔｐのようにＲＦスパッ タ付着される請求の範囲第５５項の方法。 ５７．約１００〜３００Åのクロムが厚さｔｏを含みスパツタ付着される請求の 範囲第４８項の方法。 ５８．高光反射の初期厚さｔｏはＭの上に約１００〜２００ÅのＡｌあるいはＣ ｒを含んでスパッタ付着され、約１００〜２００ÅのＳ１Ｃ，ＷＣあるいはＭＯ Ｓ２がｔｏ保護厚ｔｐとしてスパッタ付着され、１００〜２００Åの乾燥炭素付 着物がｔｐ上に潤滑剤としてスパッタ付着される請求の範囲第５７項の方法。 ５９．初期光学厚さｔｏは、アルミニウム、クロム、ニッケル、ルビジウム、白 金、パナジウム、タングステン、モリブデン、ハフニウム、金あるいは銅を含ん でＭ上に塗付され、Ｍはエポキシ母材からなる請求の範囲第４８項の方法。 ６０．保護薄膜厚Ｔｐ上にスパッタされ、スライダ接触に適応されるより固い被 覆でｔｏを守るように適応且つ／又は処理されｔｏの曇りや同様の光の降下に対 して守るように適応される請求の範囲第５９項の方法。 ６１．ｔｏは１００〜２００Åのアルミニウムあるいはクロムからなる請求の範 囲第６０項の方法。 ６２．ｔｐは１００〜２００ÅのＳ，Ｃ，ＷＣあるいはＭＯＳ２からなる請求の 範囲第６１項の方法。 ６３．光学磁気合成物を作る方法であって、回転ディスク手段の上に、重合体母 材内に分散する磁気微粒子からなるよう選ばれて用意され、付随して通過するス ライダ手段による磁気変換に適応され、単に周期的にだけ変換スライダ手段と接 触するよう適応される磁気層Ｍを塗付する工程と、 層Ｍ上に粘着して非磁性光材料の少なくとも１つの薄膜Ｒを薄膜Ｒの全厚さがＭ からの磁気出力を最小の下方の大きさまで下げない厚さで重複塗装する工程とか らなる方法。 ６４．最も外の露出した薄腹Ｒｏは高光反射材料からなるよう作られる請求の範 囲第６３項の方法。 ６５．最も外の露出した薄膜Ｒｏもスライダ手段と比較的非摩擦の接触に適応さ れる非摩耗材料からなるように作られる請求の範囲第６４項の方法。 ６６．薄膜Ｒはクロムあるいはアルミニウムからなるように作られる請求の範囲 第６３項の方法。 ６７．最も外の露出した薄膜Ｒｏは比較的非腐食にも作られ、でなければ所定の 意図されたユーザの環境で光学的に安定である請求の範囲第６５項の方法。 ６８．最も外の露出した光学的薄膜Ｒｏは少なくとも１つの固い摩耗薄膜Ｈで被 覆される請求の範囲第６３項の方法。 ６９．少なくとも最も外の露出した薄膜Ｒｏはアルミニウムやクロムのような比 較的高反射金属からなる請求の範囲第６８項の方法。 ７０．最も外の露出した薄膜Ｒｏは通過するスライダ手段との比較的非摩擦の接 触のため適応あるいは被覆され、比較的非腐食で、そうでなければ所定の意図さ れたユーザの環境では光学的に安定である請求の範囲第６３項の方法。 ７１．薄膜Ｒは層上にスパッタ付着される請求の範囲第６３項の方法。 ７２．薄膜Ｒ，Ｈは層Ｍ上にスパッタ付着される請求の範囲第６８項の方法。 ７３．少なくとも最も外の露出した薄膜Ｒｏは比較的やわらかく通過する交換手 段との接触で破損しやすく、この薄膜Ｒｏは通過するスライダ手段と比較的非摩 擦の接触に適応される非摩耗材料からなる薄い非磁性金属層Ｈで被覆される請求 の範囲第６３項の方法。 ７４．薄膜ＲとＨはスパッタ付着される請求の範囲第７３項の方法。 ７５．磁気光学合成物を作る方法であって、デイスク基板手段上に、重合体母材 中に分散する磁気微粒子からなるよう選ばれ、表面部が鏡のようになめらかで単 に周期的にのみスライダ手段と接触しやすい磁気層Ｍをスパッタリングする工程 と、 層Ｍ上に粘着して、非磁性金属の１つ以上の薄い光薄膜Ｒを、層Ｍからの出力磁 気信号が下方の大きさにしか下らない厚さで、少なくとも薄膜Ｒｏの露出した１ つが前記スライダ手段と比較的非摩耗の接触に適応するようにスパッタリングす る工程ヒ、 前記薄膜Ｒｏ上に表面潤滑油を塗付する工程からなる方法。 ７６．薄膜Ｒｏの固さはスライダ手段表面の固さとちょうどマッチし、スライダ 手段はフェライトあるいは薄膜変換手段を含み、薄膜Ｒｏはトータル数百Åの非 摩耗の炭化物あるいは硫化物材料までである請求の範囲第７５項の方法。 ７７．薄膜Ｒｏは乾燥付着炭化ケイ素、炭化タングステンあるいは硫化モリブデ ンからなる請求の範囲第７６項の方法。 ７８．表面潤滑油手段は数百Åのスパツタされた乾燥炭素からなる請求の範囲第 ７７項の方法。 ７９．薄膜Ｒのトータル厚さは、磁気出力信号を約２０％以下しか下げない請求 の範囲第７６項の方法。 ８０．表面潤滑油手段は湿った潤滑剤薄膜からなる請求の範囲第７５項の方法。 ８１．薄膜Ｒはクロムあるいはアルミニウムからなる請求の範囲第７５項の方法 。 ８２．薄膜Ｒは炭化ケイ素からなり、炭素付春物は、この炭化ケイ素によりエピ タキシャルな影響を受ける請求の範囲第７５項の方法。 ８３．薄膜Ｒは薄いガラス、炭化物あるいは硫化物の付着物からなる請求の範囲 第７５項の方法。 ８４．薄膜Ｒｏは炭化物からなり、層Ｍは基板手段上にメッキあるいはスパッタ される金属からなり、潤滑油手段は乾燥炭素付着物からなる請求の範囲第８３項 の方法。 ８５．層ＭはＣｏ−Ｎｉ−Ｏからなり、薄膜Ｒｏは炭化ケイ素からなる請求の範 囲第８５項の方法。 ８６．炭化ケイ素と炭素潤滑油は共にスパッタ付着される請求の範囲第８５項の 方法。 ８７．薄膜Ｒはアルミニウム、クロム、ニッケル、ロジウム、白金、パナジウム 、タングステン、モリブデン、ハフニウム、あるいはそれらの合金からなる請求 の範囲第７５項の方法。 ８８．薄膜Ｒは全体で数千Åの厚さまでである請求の範囲第８７項の方法。 ８９．光学薄腹Ｒは高反射のアルミニウムあるいはクロムからなり、保護薄膜あ るいはＳｉＣ，ＷＣあるいはＭＯＳ２からなる薄膜Ｒｐは、その上に重複塗装さ れ、表面潤滑油手段は乾燥炭素付着物からなる請求の範囲第７５項の方法。 ９０．薄膜Ｒｏ，Ｒｐと炭素付着物の厚さはそれぞれ１００〜２００Åのオーダ ーで、トータルで約４００〜５００Åを越えない請求の範囲第８９項の方法。 ９１．薄膜Ｒのために、約１００〜２００Åの非磁性光学材料がＭの表面を前記 交換手段との破損を起す衝突から守るために使用され、Ｒの全厚さはスライダ手 段との非摩擦の接触に適応される厚さＲｐの第２の保護薄膜で被覆されても、Ｍ からの磁気出力信号が十分に下ってしまわない厚さである請求の範囲第７５項の 方法。