JPH0133308B2 - - Google Patents

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JPH0133308B2
JPH0133308B2 JP61068230A JP6823086A JPH0133308B2 JP H0133308 B2 JPH0133308 B2 JP H0133308B2 JP 61068230 A JP61068230 A JP 61068230A JP 6823086 A JP6823086 A JP 6823086A JP H0133308 B2 JPH0133308 B2 JP H0133308B2
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JP
Japan
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abrasive
compact
metal layer
diamond
metal
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JP61068230A
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Japanese (ja)
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JPS61270074A (en
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Denisu Mitsucheru Robaato
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DE BIAZU IND DAIAMONDO DEIBIJON Ltd
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DE BIAZU IND DAIAMONDO DEIBIJON Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D18/00Manufacture of grinding tools or other grinding devices, e.g. wheels, not otherwise provided for
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F7/00Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
    • B22F7/06Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C26/00Alloys containing diamond or cubic or wurtzitic boron nitride, fullerenes or carbon nanotubes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は研摩用物体、特に研摩用成形体
(abrasive compacts)に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to abrasive objects, particularly abrasive compacts.

研摩用成形体は当業者で既に知られておりかつ
研摩粒子、特にダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ
素(以下立方晶窒化ホウ素と略記する)の粒子を
好ましくは適当な結合母材(bonding matrix)、
普通金属により硬い団塊状に結合させた塊より成
る。成形体の研摩粒子含有量は少なくとも50容量
%、普通少なくとも70容量%である。適当な結合
母材は、例えばコバルト、鉄、ニツケル、白金、
チタン、クロム、タンタル及びこれらの金属を1
種又は2種以上含有する合金である。
Abrasive compacts are already known in the art and include abrasive particles, in particular particles of diamond or cubic boron nitride (hereinafter referred to as cubic boron nitride), preferably in a suitable bonding matrix;
It usually consists of a mass of metal bound together into a hard nodule. The abrasive particle content of the compact is at least 50% by volume, usually at least 70% by volume. Suitable bonding materials include, for example, cobalt, iron, nickel, platinum,
Titanium, chromium, tantalum and these metals
It is a species or an alloy containing two or more species.

成形体の研摩粒子がダイヤモンド又は立方窒化
ホウ素である場合、成形体は研摩粒子が結晶学的
に安定である温度及び圧力条件下で製造される。
かかる条件は当業界で良く知られている。結合母
材は供給された際に研摩粒子を少なくとも制限さ
れた範囲で溶解できるのが好ましい。かかる結合
母材を使用すると成形体製造中に研摩粒子間にあ
る程度の連晶(intergrowth)が生ずる。
When the abrasive particles of the compact are diamond or cubic boron nitride, the compact is produced under temperature and pressure conditions in which the abrasive particles are crystallographically stable.
Such conditions are well known in the art. Preferably, the bonding matrix is capable of dissolving the abrasive particles, at least to a limited extent, when applied. The use of such bonding matrices results in some degree of intergrowth between the abrasive particles during compact manufacture.

金属又は焼結炭化タングステン(cemented
tungsten carbide)とすることができる適当な支
持体に研摩用成形体を結合させ、次いで切断、研
削等の研摩操作に使用する。研摩用成形体の支持
体への結合は低温ろう付材により達成することが
できる。しかし、かかるろう付けはあまり効果的
なものではない。他の方法として水素化チタン/
はんだ法を使用することも提案されているが、し
かしこの方法の条件が成形体の研摩粒子の劣化を
招くことは不可避である。
metal or cemented tungsten carbide
The abrasive compact is bonded to a suitable support, which may be tungsten carbide, and then used for abrasive operations such as cutting and grinding. Bonding of the abrasive compact to the support can be achieved by a low temperature braze. However, such brazing is not very effective. Another method is titanium hydride/
It has also been proposed to use a soldering method, but the conditions of this method inevitably lead to deterioration of the abrasive particles in the compact.

ろう付けの別法として、成形体の製造中に結合
金属を焼結炭化タングステン支持体からダイヤモ
ンド又は立方窒化ホウ素層中に浸透させることに
より、ダイヤモンド又は立方窒化ホウ素成形体と
焼結炭化タングステン支持体との間にその場で直
接結合(in situ direct bond)を生ぜしめるこ
とが提案されている。
As an alternative to brazing, a diamond or cubic boron nitride compact can be bonded to a sintered tungsten carbide support by infiltrating the bonding metal from the sintered tungsten carbide support into the diamond or cubic boron nitride layer during the manufacture of the compact. It has been proposed to create an in situ direct bond between

本発明は、研摩用成形体をその少くとも1個の
表面で厚さ0.5mm未満の金属層に結合させ、この
金属層を焼結炭化物合金支持体に結合させてな
り、上記研摩用成形体は少くとも70容量%の分量
で存在させたダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素
の粒子あるいはこれらの混合物と結合母材とを硬
い団塊状に結合させたもので、上記結合母材は使
用研摩粒子の溶媒でありかつダイヤモンドの場合
にはコバルト、ニツケル、鉄又はこれらの合金で
ある研摩用物体において、上記金属層の金属がチ
タン、タンタル及びかかる金属を含有する高温ろ
う付合金からなる群から選定されたものであり、
上記成形体が劣化した研摩粒子をほとんど含有し
ていないことを特徴とする研摩用物体に関するも
のである。
The present invention comprises an abrasive molded body bonded to a metal layer having a thickness of less than 0.5 mm on at least one surface of the abrasive molded body, and this metal layer is bonded to a sintered carbide alloy support. is a hard nodular combination of diamond or cubic boron nitride particles, or a mixture thereof, present in an amount of at least 70% by volume, and a bonding matrix, the bonding matrix being a solvent for the abrasive particles used. and in the case of diamond is cobalt, nickel, iron or alloys thereof, the metal of said metal layer being selected from the group consisting of titanium, tantalum and high temperature brazing alloys containing such metals. It is a thing,
The present invention relates to an abrasive object characterized in that the molded article contains almost no deteriorated abrasive particles.

本発明の研摩用物体では、成形体と支持体との
間に極めて効果的で、低温ろう付材単独の使用に
より得られるものより大きい強度を有する結合が
形成する。成形体は種々の形状にすることがで
き、支持体に結合している成形体の表面には金属
層が結合している。成形体は円のセグメントの形
態であることが多く、この場合には金属層を成形
体の主平担面の1つに結合させるのが普通であ
る。
The abrasive object of the present invention forms a bond between the compact and the support that is highly effective and has a strength greater than that obtained by the use of low temperature braze alone. The molded body can have various shapes, and a metal layer is bonded to the surface of the molded body that is bonded to the support. The shaped bodies are often in the form of circular segments, in which case it is common for the metal layer to be bonded to one of the major planar surfaces of the shaped body.

金属層は純金属及び合金の両者を包含する。金
属層と成形体との間に効果的な結合が達成される
のは、金属が研摩用成形体を濡らすことができ
る、即ち金属が成形体の研摩粒子を濡らすことが
できるか、又は金属が成形体の結合母材を濡らす
か又は結合母材と合金を形成することができるか
らである。
Metal layers include both pure metals and alloys. An effective bond between the metal layer and the compact is achieved if the metal can wet the abrasive compact, i.e. the metal can wet the abrasive particles of the compact, or the metal can wet the abrasive particles of the compact. This is because it can wet the bonding base material of the molded body or form an alloy with the bonding base material.

特に好ましい金属はチタン及び銅/チタン合金
及び銅/スズ/チタン合金の如きチタン合金であ
る。
Particularly preferred metals are titanium and titanium alloys such as copper/titanium alloys and copper/tin/titanium alloys.

金属層は一般に厚さ0.5mm未満とする。 The metal layer is generally less than 0.5 mm thick.

本発明の研摩用物体では、成形体は劣化した研
摩粒子をほとんど含有していないことをも特徴と
する。これは成形体がダイヤモンドの劣化に由来
するグラフアイト、及び立方窒化ホウ素の劣化に
由来する六方窒化ホウ素をほとんど含有していな
いことを意味する。金属層を成形体に結合させる
には、このような成形体の劣化を確実に抑制する
ことが重要である。
The abrasive object of the present invention is also characterized in that the molded object contains almost no degraded abrasive particles. This means that the compact contains almost no graphite derived from deterioration of diamond and hexagonal boron nitride derived from deterioration of cubic boron nitride. In order to bond the metal layer to the molded body, it is important to reliably suppress such deterioration of the molded body.

成形体に含有される研摩粒子はダイヤモンド、
立方窒化ホウ素又はこれらの混合物である。結合
母材は研摩粒子の溶媒として作用するものであ
る。かかる結合母材を使用しかつ研摩用物体製造
中に研摩粒子が結晶学的に安定である温度及び圧
力条件を使用する場合には研摩粒子間に連晶を生
じさせることができる。ダイヤモンドの溶媒は当
業界で良く知られており、コバルト、ニツケル、
鉄及びこれらの金属の1種又は2種以上を含有す
る合金を包含する。又立方窒化ホウ素の溶媒は当
業界で良く好られており、アルミニウム、鉛、ス
ズ、マグネシウム、リチウム及びこれらの金属の
1種又は2種以上を含有する合金を包含する。
The abrasive particles contained in the compact are diamond,
cubic boron nitride or a mixture thereof. The binding matrix acts as a solvent for the abrasive particles. When using such a bonding matrix and using temperature and pressure conditions during the manufacture of the abrasive object at which the abrasive particles are crystallographically stable, intergrowth can occur between the abrasive particles. Diamond solvents are well known in the industry and include cobalt, nickel,
It includes iron and alloys containing one or more of these metals. Cubic boron nitride solvents are also well-liked in the art and include aluminum, lead, tin, magnesium, lithium, and alloys containing one or more of these metals.

本発明の研摩用物体は、研摩粒子と粉末状結合
母材との混合物を形成し、この混合物とチタン、
タンタル及びかかる金属を含有する高温ろう付合
金からなる群から選定された金属の層とを接触さ
せておき、次いで焼結炭化物合金支持体又はかか
る支持体を生成することのできる粉末混合物を上
記金属層に接触させ、しかる後にこの全体に、上
記研摩粒子の結晶学的に安定な範囲内にあつて上
記研摩粒子と結合母材との混合物の成形体を形成
するのに適した高い温度及び圧力条件を作用させ
ることにより製造することができる。
The abrasive object of the present invention forms a mixture of abrasive particles and a powdered bonding matrix, and the mixture includes titanium,
a layer of a metal selected from the group consisting of tantalum and high temperature braze alloys containing such metals, and then a sintered carbide alloy support or a powder mixture capable of forming such a support is applied to said metal. contacting the layer and then applying a high temperature and pressure to the entire body within the crystallographically stable range of the abrasive particles and suitable to form a compact of the mixture of the abrasive particles and the bonding matrix. It can be manufactured by applying certain conditions.

前述した如く、ダイヤモンド及び立方窒化ホウ
素の結晶学的に安定な条件は当業界で良く知られ
ており、第2図にこれらの条件を示す。ダイヤモ
ンドの安定領域は線Aより上にあり、立方窒化ホ
ウ素の安定領域は線Bより上にある。金属層の金
属は粉末状又は薄い箔の形態にすることができ
る。粉末層又は箔の厚さは一般に0.5mm未満であ
る。
As mentioned above, the crystallographic stability conditions for diamond and cubic boron nitride are well known in the art and are illustrated in FIG. The stability region of diamond is above line A, and the stability region of cubic boron nitride is above line B. The metal of the metal layer can be in the form of a powder or a thin foil. The thickness of the powder layer or foil is generally less than 0.5 mm.

焼結炭化タングステン支持体基材の如き焼結炭
化物合金支持体基材の場合には、形成した基材又
は基材を生成することのできる粉末混合物を金属
層と接触させておき、次いでこの全体に前述した
温度及び圧力条件を作用させることにより、成形
体の形成、その表面に対する金属層の結合及びこ
の金属層に対する支持体基材の結合が同時に達成
され、成形体と金属との間及び金属と支持体基材
との間に極めて効果的な結合が生成し、支持体基
材を研摩用成形体にその場で結合することができ
る。ダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素を含有す
る研摩用成形体を焼結炭化物合金支持体にその場
で直接結合させる上述の従来法と比較した場合
に、本発明の主要な利点は次の通りである:(1)そ
の場で直接結合させる場合には、研摩用成形体と
支持体との結合区域にミスマツチ応力(mis―
match stress)、即ち研摩用成形体と支持体との
間の熱膨脹係数の差に起因する応力が発生する
が、本発明の研摩用物体では研摩用成形体と支持
体との間に上述の特定の高温ろう付金属の層が存
在しており、この金属層が研摩用成形体と支持体
とを結合させる際に応力に適応するように変形で
きるために、ミスマツチ応力の発生が回避される
か、あるいは少くとも著しく小さくなる。また(2)
本発明の研摩用物体中の金属結合層はその場で直
接結合させる場合にコバルトのような炭化物焼結
用結合金属が焼結炭化物合金支持体から研摩用成
形体中に浸透するのを実質的に阻止する障壁とし
て作用するので、焼結炭化物合金支持体中の結合
金属の減少を効果的に阻止することができ、また
耐久性の極めて大きい研摩用成形体を生成するの
に適当な正確な分量のコバルトのような結合母材
を研摩用成形体中に混入することができる。第1
図に炭化タングステン基材に結合させた成形体の
一例を示す。第1図では成形体を14で、金属層
を16で、炭化タングステン基材を18で示す。
一般に、炭化タングステン基材は成形体より容積
が著しく大きい。
In the case of a sintered carbide alloy support substrate, such as a sintered tungsten carbide support substrate, the formed substrate or powder mixture capable of forming the substrate is brought into contact with the metal layer and then the entire By applying the above-mentioned temperature and pressure conditions to the molded body, the formation of the molded body, the bonding of the metal layer to its surface and the bonding of the support substrate to this metal layer are simultaneously achieved, and the bonding between the molded body and the metal and the metal A very effective bond is created between the carrier substrate and the carrier substrate, and the carrier substrate can be bonded to the abrasive compact in situ. The main advantages of the present invention when compared to the above-described conventional methods of directly bonding diamond or cubic boron nitride-containing abrasive compacts to a sintered carbide alloy support in situ are: (1) In the case of direct in-situ bonding, mismatch stress (mis-
Match stress), that is, stress due to the difference in coefficient of thermal expansion between the abrasive compact and the support, is generated, but in the abrasive object of the present invention, the above-mentioned Is there a layer of high temperature braze metal that can deform to accommodate the stress during bonding of the abrasive compact to the support, thereby avoiding the occurrence of mismatch stresses? , or at least significantly smaller. Also (2)
The metal bonding layer in the abrasive bodies of the present invention substantially inhibits the penetration of carbide sintering bond metals, such as cobalt, from the sintered carbide alloy support into the abrasive compact when bonded directly in situ. It can effectively prevent the loss of bonded metal in the sintered carbide support as it acts as a barrier to prevent A quantity of a bonding matrix such as cobalt can be incorporated into the abrasive compact. 1st
The figure shows an example of a molded body bonded to a tungsten carbide base material. In FIG. 1, the compact is indicated at 14, the metal layer at 16, and the tungsten carbide substrate at 18.
Generally, the tungsten carbide substrate has a significantly larger volume than the compact.

次に本発明を実施例について説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to examples.

実施例 1 炭化タングステン基材を金属チタン薄層(厚さ
10μm)及びこのチタン層上の粉末状コバルトと
ダイヤモンド粒子との混合物と接触させて従来の
高温/圧力装置の反応カプセル内に置いた。この
混合物の20容量%は粉末状コバルトで、80容量%
はダイヤモンドであつた。このカプセルを従来の
高温/圧力装置の反応圏内に置き、圧力を約55キ
ロバールに上昇し、温度を約1600℃に上昇した。
次いでダイヤモンド/コバルト混合物から成形体
を形成できるのに十分な時間、この温度及び圧力
条件を維持した。次いでこの温度及び圧力条件か
ら釈放した。チタン薄層により炭化タングステン
基材に結合されたダイヤモンド成形体より成る研
摩用物体を反応カプセルから回収した。成形体は
基材に強固に結合していた。この研摩用物体は円
板であり、これを標準切断技術を使用して第1図
に示した種類のセグメントに切断した。
Example 1 A tungsten carbide base material was coated with a thin metallic titanium layer (thickness:
10 μm) and placed in a reaction capsule of a conventional high temperature/pressure apparatus in contact with a mixture of powdered cobalt and diamond particles on this titanium layer. 20% by volume of this mixture is powdered cobalt and 80% by volume
was a diamond. The capsule was placed in the reaction zone of a conventional high temperature/pressure device, and the pressure was increased to approximately 55 kbar and the temperature to approximately 1600°C.
These temperature and pressure conditions were then maintained for a sufficient time to form a compact from the diamond/cobalt mixture. The temperature and pressure conditions were then released. An abrasive object consisting of a diamond compact bonded to a tungsten carbide substrate by a thin layer of titanium was recovered from the reaction capsule. The molded body was firmly bonded to the base material. The abrasive object was a disk that was cut into segments of the type shown in FIG. 1 using standard cutting techniques.

本発明の実施に当つては以下の諸項を実施上の
条件とすることができる。
In implementing the present invention, the following terms can be set as conditions for implementation.

(1) 金属層の金属が高温ろう付合金であつて、こ
の高温ろう付合金が銅/チタン合金又は銅/
錫/チタン合金である特許請求の範囲第1項記
載の研摩用物体。
(1) The metal of the metal layer is a high temperature brazing alloy, and the high temperature brazing alloy is a copper/titanium alloy or a copper/titanium alloy.
An abrasive object according to claim 1, which is a tin/titanium alloy.

(2) 金属層が成形体の1つの主平坦面に結合され
ている円のセグメントの形態を有する特許請求
の範囲第1項並びに前項記載の研摩用物体。
(2) An abrasive object according to claim 1 and the preceding claim, in which the metal layer is in the form of a circular segment, which is connected to one main flat surface of the shaped body.

(3) 支持体が焼結炭化タングステン基材である特
許請求の範囲第1項並びに前記各項記載の研摩
用物体。
(3) The abrasive object described in claim 1 and each of the preceding claims, wherein the support is a sintered tungsten carbide base material.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の研摩用物体の一例の斜視図、
第2図はダイヤモンド及び立方窒化ホウ素の結晶
学的に安定な条件を示す圧力と温度との関係を示
すグラフである。 14……成形体、16……金属層、18……炭
化タングステン基材、A,B……線。
FIG. 1 is a perspective view of an example of an abrasive object of the present invention;
FIG. 2 is a graph showing the relationship between pressure and temperature, which indicates the crystallographically stable conditions for diamond and cubic boron nitride. 14... Molded body, 16... Metal layer, 18... Tungsten carbide base material, A, B... Wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 研摩用成形体をその少くとも1個の表面で厚
さ0.5mm未満の金属層に結合させ、この金属層を
焼結炭化物合金支持体に結合させてなり、上記研
摩用成形体は少くとも70容量%の分量で存在させ
たダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素の粒子ある
いはこれらの混合物と結合母材とを硬い団塊状に
結合させたもので、上記結合母材は使用研摩粒子
の溶媒でありかつダイヤモンドの場合にはコバル
ト、ニツケル、鉄又はこれらの合金である研摩用
物体において、 上記金属層の金属がチタン、タンタル及びかか
る金属を含有する高温ろう付合金からなる群から
選定されたものであり、上記成形体が劣化した研
摩粒子をほとんど含有していないことを特徴とす
る研摩用物体。
[Scope of Claims] 1. An abrasive molded body bonded to a metal layer having a thickness of less than 0.5 mm on at least one surface thereof, and this metal layer bonded to a sintered carbide alloy support, The compact is made by bonding diamond or cubic boron nitride particles or a mixture thereof present in an amount of at least 70% by volume to a bonding matrix in the form of a hard nodule. an abrasive object which is the solvent for the particles and is cobalt, nickel, iron or an alloy thereof in the case of diamond, the metal of said metal layer being from the group consisting of titanium, tantalum and high temperature brazing alloys containing such metals; 1. An abrasive object, characterized in that the molded object contains almost no degraded abrasive particles.
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