JPH01320124A - Manufacture of magnetic disc board - Google Patents

Manufacture of magnetic disc board

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Publication number
JPH01320124A
JPH01320124A JP15540888A JP15540888A JPH01320124A JP H01320124 A JPH01320124 A JP H01320124A JP 15540888 A JP15540888 A JP 15540888A JP 15540888 A JP15540888 A JP 15540888A JP H01320124 A JPH01320124 A JP H01320124A
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JP
Japan
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metal layer
resin
layer
magnetic disk
substrate
Prior art date
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Application number
JP15540888A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigemaru Komatsubara
茂丸 小松原
Yoshihiro Arai
芳博 荒井
Kan Nakajima
中島 完
Hidehiko Funaoka
英彦 船岡
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Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Tonen Corp filed Critical Tonen Corp
Priority to JP15540888A priority Critical patent/JPH01320124A/en
Publication of JPH01320124A publication Critical patent/JPH01320124A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce surface defect by a method wherein a photo-setting resin layer is formed by 2P forming method with a stamper having high surface smoothness on a light transmissible resin board, which is produced by injection- molding thermoplastic resin. CONSTITUTION:Resist is applied onto a master such as glass with flat surface or the like. Next, a first metal layer made of Ni or the like is formed on the surface of the master coated with the resist. After that, a second metal layer made of Ni or the like is formed on the first metal layer. After the formation of the second metal layer, a backing material such as glass or the like is bonded on the second metal layer and then a stamper consisting of the backing material, the second metal layer and the first metal layer is separated from the master. By using the stamper prepared as mentioned above, a photo-setting resin layer is formed by 2P forming method on a thermoplastic resin board. As the transparent thermoplastic resin board, polyacrylate resin, polysulfone resin, polyether imide resin or the like is exampled. Further, as the photo-setting resin, polyurethane methacrylate, polyester methacrylate or the like is used. Thus, a disc, which has a few surface defects and is excellent in surface smoothness, can be produced.

Description

【発明の詳細な説明】 九肚旦玖歪±1 本発明は磁気ディスク用基板の製法に関し、さらに詳し
くは、電磁変換特性に優れる磁気記録層が、蒸着法また
はメツキ法で形成される薄膜型磁気ディスク媒体に用い
られる基板の製法に関する。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a method for manufacturing a substrate for a magnetic disk, and more specifically to a method for producing a magnetic recording layer having excellent electromagnetic conversion characteristics using a thin film type in which a magnetic recording layer having excellent electromagnetic conversion characteristics is formed by a vapor deposition method or a plating method. The present invention relates to a method for manufacturing a substrate used in a magnetic disk medium.

日の ′自′量ならびに のIJ題、。The 'self' amount of the day and the IJ title.

従来から、磁気ディスク媒体として、AI基板上に、磁
性粉がポリウレタン等゛の有機バインダー中に分散され
た磁性塗料を塗布することにより記録層を形成した磁気
ディスクIJX体(塗布タイプの磁気ディスク媒体)が
使用されている。しかしながら、このような磁気ディス
ク蝶体は、磁性粉をAJ基板上に保持するために有機バ
インダーを用いることが必要であるので、昨今の高密度
記録化に対応することが困難になりつつある。
Conventionally, magnetic disk IJX bodies (coating type magnetic disk media) have been used as magnetic disk media, in which a recording layer is formed by coating an AI substrate with a magnetic paint in which magnetic powder is dispersed in an organic binder such as polyurethane. ) is used. However, since such a magnetic disk body requires the use of an organic binder to hold the magnetic powder on the AJ substrate, it is becoming difficult to cope with the recent trend toward higher density recording.

そこで、基板上に磁性材料を真空蒸発法またはメツキ法
を利用して薄膜状に被着させた記jj層(金属磁性層)
を有する磁気ディスク媒体(薄膜型磁気ディスク媒体)
が注目されている。このような薄膜型磁気ディスク媒体
は、記録層に有機バインダーが含まれていないので、高
密度記録に適している。
Therefore, a layer (metallic magnetic layer) in which a magnetic material is deposited in a thin film form on a substrate using a vacuum evaporation method or a plating method is used.
A magnetic disk medium (thin-film magnetic disk medium) with
is attracting attention. Such a thin film type magnetic disk medium is suitable for high-density recording because the recording layer does not contain an organic binder.

一般に、磁気ディスクは、走行性能および電磁変換特性
等の特性を考慮すると、表面が平滑であることが好まし
い、そして、上記のような薄膜型磁気ディスク媒体にお
いては、磁気記a層が薄いために、基板表面の表面性が
そのまま磁気記録層の表面状態になる。
In general, it is preferable for a magnetic disk to have a smooth surface in consideration of characteristics such as running performance and electromagnetic conversion characteristics. , the surface properties of the substrate surface directly become the surface state of the magnetic recording layer.

ところが1.lを用いて薄膜型磁気ディスク媒体用の表
面の平滑性の高い基板を製造しようとすると、厳しい防
塵対策等の工程管理が必要であり、かつその製造工程が
複雑である。すなわち、A」基板の製造工程は、鋳造、
鋳塊の均質化処理、熱間圧延、冷間圧延、サークル打ち
抜き、矯正軟化処理、精密切削、精密研磨処理等からな
り複雑であり、かつこれらの工程にすべて防塵対策を施
し、しかも、厳密な工程管理を行なうのには、膨大な設
備投資が必要であり、さらに、工程管理が煩雑になる。
However, 1. When attempting to manufacture a substrate with a highly smooth surface for thin-film magnetic disk media using L, strict process control such as dust prevention measures is required, and the manufacturing process is complicated. In other words, the manufacturing process of the "A" board includes casting,
The process is complex, consisting of homogenization of the ingot, hot rolling, cold rolling, circle punching, straightening softening, precision cutting, precision polishing, etc., and all of these processes are subject to dust-proofing measures and rigorous Process control requires a huge investment in equipment, and furthermore, process control becomes complicated.

そこで、上記のように複雑な工程管理を必要とするA1
の代わりに、有機高分子を基板形成用材料として用い、
射出成形により基板を成形する方法および有機高分子か
らなる薄膜型磁気ディスク媒体用の樹脂基板が提案され
ている。
Therefore, as mentioned above, A1, which requires complex process management,
Instead, organic polymers are used as substrate forming materials,
A method of molding a substrate by injection molding and a resin substrate for a thin film type magnetic disk medium made of an organic polymer have been proposed.

しかしながら、射出成形法にて成形された有機高分子か
らなる磁気ディスク用基板には、多数の表面欠陥が存在
し、この樹脂基板を用いて製造される磁気ディスクの磁
気記録層表面は、樹脂基板上に存在する表面欠陥に対応
する欠陥が存在するようになるため、ヘッドクラッシュ
およびエラーを生ずるという問題点があった。すなわち
、射出成形用の金型材料として用いるマルテンサイト系
ステンレス(例えば商品名アラサブ・スタバックス)等
には、多数の「す」が存在し、したがって金型表面の研
摩精度をいくら向上させても金型表面には「すJが存在
し、このためこの金形を用いて射出成形により得られる
磁気ディスク用基板表面上に多数の凸状の表面欠陥を生
じてしまう。
However, a magnetic disk substrate made of an organic polymer molded by injection molding has many surface defects, and the surface of the magnetic recording layer of a magnetic disk manufactured using this resin substrate is There is a problem in that head crashes and errors occur because there are defects corresponding to the surface defects that exist above. In other words, martensitic stainless steel used as a mold material for injection molding (for example, Arasab Starbucks) has a large number of "s", so no matter how much you improve the polishing accuracy of the mold surface, On the surface of the mold, a large number of convex surface defects are produced on the surface of a magnetic disk substrate obtained by injection molding using this mold.

また、上記のような金型に起因する表面欠陥とは別に、
射出成形に用いる樹脂中には、不純物としてFe 、N
i 、Si等が存在し、それらが核となって磁気ディス
ク用樹脂基体表面上に凹状の表面欠陥が生ずるという問
題点もあった。
In addition to the surface defects caused by the mold as mentioned above,
The resin used for injection molding contains impurities such as Fe and N.
There is also a problem in that the presence of I, Si, etc. causes concave surface defects on the surface of the resin substrate for magnetic disks.

このような問題点を解決するために、金型表面をN i
−P合金等を用いてコーティングして表面に存在する「
す」を覆い、次いで形成されたコーティング層表面を合
成石英、ダイヤモンド等の砥粒を用いて精密研磨して、
金型表面を平滑にすることにより、表面欠陥の少ない磁
気ディスク用の樹脂基板を得ようとする試みがある。
In order to solve these problems, the mold surface is coated with Ni
- coated with P alloy etc. and present on the surface.
Then, the surface of the formed coating layer is precisely polished using abrasive grains such as synthetic quartz or diamond.
There have been attempts to obtain a resin substrate for magnetic disks with fewer surface defects by smoothing the surface of the mold.

また、本発明者らも、表面が平滑なスタンパ−を金型内
面に付設して、射出成形することにより、表面欠陥の少
ない磁気ディスク用樹脂基板を製造する方法を提案して
いる。
The present inventors have also proposed a method of manufacturing a resin substrate for a magnetic disk with few surface defects by attaching a stamper with a smooth surface to the inner surface of a mold and performing injection molding.

しかしながら、上記の金型表面にコーティング層を設け
る方法では、射出成形時の高温下において金型金属とコ
ーティングした金属との線膨張係数が異なるため、金型
金属とコーティング層との間で層間剥離を生じ、長期間
に亘って安定に射出成形を行なうことができないという
問題点があった。
However, in the above method of providing a coating layer on the mold surface, the mold metal and the coated metal have different linear expansion coefficients under high temperatures during injection molding, so delamination occurs between the mold metal and the coating layer. There was a problem that injection molding could not be carried out stably over a long period of time.

また、上記のコーティング層を設ける方法およびスタン
パ−を用いる方法を採用することにより、金型表面に存
在する「す」に起因して磁気ディスク基板の表面に形成
される凸状の表面欠陥は減少するが、Fe 、Ni 、
Si等の不純物が核になって形成される凹状の表面欠陥
を減少させることはできないという問題点があった。
In addition, by adopting the method of providing a coating layer and the method of using a stamper, the convex surface defects that are formed on the surface of the magnetic disk substrate due to the "s" present on the mold surface are reduced. However, Fe, Ni,
There is a problem in that it is not possible to reduce concave surface defects formed by impurities such as Si serving as nuclei.

九匪立旦週 本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、表面欠陥が少なく表面平滑性の
優れた磁気ディスク用基板を製造することができる方法
を提供することを目的としている。
The present invention aims to solve the problems associated with the prior art as described above, and provides a method for manufacturing a magnetic disk substrate with few surface defects and excellent surface smoothness. is intended to provide.

良コm! 本発明に係る磁気ディスク用基板の製法は、熱可塑性樹
脂の射出成形体からなる光透過性樹脂基板上に、高表面
平滑性を有するスタンパ−を用いて、2P成形法により
、光硬化樹脂層を形成することを特徴としている。
Good comic! The method for producing a magnetic disk substrate according to the present invention is to form a photocurable resin layer on a light-transmissive resin substrate made of an injection molded thermoplastic resin by a 2P molding method using a stamper having a high surface smoothness. It is characterized by the formation of

本発明に係る磁気ディスクの製法では、上記のように高
表面性を有するスタンパ−を用いて2P成形法を採用し
て磁気ディスク基板上に光硬化樹脂層を形成しているの
で、使用したスタンパ−の表面の平滑度に対応した高表
面平滑性を有する光硬化樹脂層を表面に有する磁気ディ
スク用基板が得られる。
In the method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention, a photocurable resin layer is formed on a magnetic disk substrate by employing a 2P molding method using a stamper having high surface properties as described above. A magnetic disk substrate having a photocurable resin layer on the surface having a high surface smoothness corresponding to the surface smoothness of - is obtained.

几朋!11凱諜コ 以下本発明に1系る磁気ディスク用基板の製法について
、具体的に説明する。
Rinho! 11. A method for manufacturing a magnetic disk substrate according to the present invention will now be described in detail.

本発明では、透明な熱可塑性樹脂基板の上に、2P成形
法を利用して光硬化樹脂層を形成することにより、磁気
ディスク用基板を製造している。
In the present invention, a magnetic disk substrate is manufactured by forming a photocurable resin layer on a transparent thermoplastic resin substrate using a 2P molding method.

[熱可塑性樹脂] 本発明では、熱可塑性樹脂を用いて射出成形法により樹
脂基板を製造する。
[Thermoplastic resin] In the present invention, a resin substrate is manufactured using a thermoplastic resin by an injection molding method.

そして、本発明においては、2P成形法により光硬化性
樹脂を硬化させる際に、熱可塑性樹脂基板側から硬化用
のエネルギー線を照射することから、少なくとも射出成
形して得られる樹脂基板は照射されるエネルギー線に対
して透過性でなければならない。
In the present invention, when curing the photocurable resin using the 2P molding method, curing energy rays are irradiated from the thermoplastic resin substrate side, so at least the resin substrate obtained by injection molding is not irradiated. must be transparent to energy radiation.

また、強磁性金属などからなる記録層を樹脂基板上に形
成する際に基板が熱変形を起さないように、基板形成用
樹脂は、150℃以上、好ましくは150〜450°C
のガラス転移温度を有していることが望ましい。
In addition, in order to prevent thermal deformation of the substrate when forming a recording layer made of ferromagnetic metal or the like on a resin substrate, the temperature of the substrate forming resin is 150°C or higher, preferably 150 to 450°C.
It is desirable that the glass transition temperature is .

また、基板形成用樹脂は、得られる磁気ディスクの耐久
性を考慮すると、700ht/cd以上の引張り強度を
有していることが好ましい。
Further, the resin for forming the substrate preferably has a tensile strength of 700 ht/cd or more in consideration of the durability of the resulting magnetic disk.

このような特性を有する樹脂としては、例えばボリアリ
レート樹脂、ポリスルポン樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンスルフ
ィド樹脂、ポリエーテルエーテルゲトン樹脂等が挙げら
れる。
Examples of resins having such characteristics include polyarylate resins, polysulfone resins, polyetherimide resins, polyethersulfone resins, polyphenylene sulfide resins, and polyetherethergetone resins.

これらのうちでら、溶融流動性等の加工特性の良いボリ
アリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミ
ド樹脂およびポリエーテルスルホン樹脂が好ましい。
Among these, preferred are polyarylate resins, polysulfone resins, polyetherimide resins, and polyethersulfone resins, which have good processing properties such as melt flowability.

上記のような熱可塑性樹脂を用いて通常の方法により、
射出成形を行なう、このようして得られる射出成形体の
直径および厚さ等は、たとえば磁気ディスクの規格に適
合するように適宜設定することができる。
By a normal method using a thermoplastic resin as described above,
The diameter, thickness, etc. of the injection molded article thus obtained can be appropriately set so as to comply with, for example, standards for magnetic disks.

[スタンバ−] 本発明に用いる表面が高平滑であるスタンバ−は、たと
えば以下に記載する方法にて作製することができる。
[Stambar] The stub bar with a highly smooth surface used in the present invention can be produced, for example, by the method described below.

すなわち、表面の平滑なガラス原型等の表面平滑性に優
れた原盤上に、500〜5000A厚さでレジストを塗
布する。このようにしてレジストを塗布することにより
、原盤の表面粗さ(Ra)を、0.1Å以下にすること
ができる。
That is, a resist is applied to a thickness of 500 to 5000 Å on a master with excellent surface smoothness, such as a glass master with a smooth surface. By applying the resist in this manner, the surface roughness (Ra) of the master can be reduced to 0.1 Å or less.

本発明においては、上記のようにレジストを原盤上に塗
布することにより、原盤の表面粗さを小さくすることが
できるので、原盤の表面粗さと製造しようとするスタン
パ−の表面粗さとが直接の対応関係を有している必要は
ない、ただし、原盤の表面性が著しく低下すると、レジ
ストを塗布しても充分な平滑性を有するスタンパ−を製
造することができ比くなるので、通常は表面粗さ(Ra
)が5Å以下の原盤を使用することが好ましい、なお、
ここで使用することができるレジストとしては、例えば
、ノボラック系樹脂(ヘキストジャバン社製、商品名:
AZ 1350 J)を挙げることができる。
In the present invention, the surface roughness of the master can be reduced by coating the resist on the master as described above, so there is a direct relationship between the surface roughness of the master and the surface roughness of the stamper to be manufactured. It is not necessary to have a corresponding relationship, however, if the surface quality of the master is significantly reduced, it will be impossible to manufacture a stamper with sufficient smoothness even when resist is applied, so normally the surface Roughness (Ra
) is preferably 5 Å or less.
As a resist that can be used here, for example, novolak resin (manufactured by Hoechst Javan Co., Ltd., trade name:
AZ 1350 J).

このようなレジストの原盤への塗布方法は、従来公知の
方法を広く採用することができ、具体的には、スピンコ
ード等の方法を採用することができる。
As a method for applying such a resist to the master disc, a wide variety of conventionally known methods can be used, and specifically, a method such as a spin code can be used.

上記のようなレジストの塗布厚さは、少なくとも原盤表
面にある四部を埋める程度のJ7さてあればよく、好ま
しくは0.06〜20μmである。
The coating thickness of the above-mentioned resist should be J7 enough to fill at least four parts on the master surface, and is preferably 0.06 to 20 μm.

上記のようにしてレジストが塗布された原盤表面に、N
i金属等からなる第1金属層を形成する。
N
A first metal layer made of i metal or the like is formed.

このような第1金屈層は、たとえば蒸着法等により形成
することができる。また、この第1金属層は、通常50
0〜3000人の膜厚さを有している。
Such a first metal layer can be formed by, for example, a vapor deposition method. Moreover, this first metal layer usually has a thickness of 50
It has a film thickness of 0 to 3000 people.

このようにして第1金属層を形成した後、この第1金属
層上に第2金属層を形成する。この第2金属層は、望ま
しくは上記の第1金属層を形成している金属と同一の金
属を使用して、メツキ法等により形成することができる
。また、この第2金属層の厚さは、通常は200〜40
0μmである。
After forming the first metal layer in this manner, a second metal layer is formed on the first metal layer. This second metal layer can be formed by a plating method or the like, preferably using the same metal as that forming the first metal layer. Further, the thickness of this second metal layer is usually 200 to 40 mm.
It is 0 μm.

なお、上記第1金属層を厚くすることにより、第2金属
層の付設を省略することも可能である。
Note that by increasing the thickness of the first metal layer, it is also possible to omit the provision of the second metal layer.

このようにして第2金属層を形成した後2この第2金属
層上に裏打ち材を接着する。ここで使用する裏打ち材は
、表面の平滑度が高い素材を用いることが好ましく、た
とえば好適な裏打ち材としてはガラスが挙げられる。ま
たこのような裏打ち材を接着する接着剤としてはエポキ
シ系接着剤など種々の接着剤を使用することができる。
After forming the second metal layer in this manner, a backing material is bonded onto the second metal layer. The backing material used here is preferably a material with a high surface smoothness; for example, a suitable backing material is glass. Furthermore, various adhesives such as epoxy adhesives can be used to bond such backing material.

上記のようにして裏打ち材を付着した後、裏打ち材、第
2金属層および第1金属層からなるスタンパ−を、原盤
から剥離する。そして、このように原盤からスタンバ−
を剥離することにより、原盤上に塗設したレジストは、
殆どが原盤に接着して原盤上に残存する。なお、第1金
属層上に付着してきたレジストは、電解洗浄により除去
することができる。
After the backing material is attached as described above, the stamper consisting of the backing material, the second metal layer, and the first metal layer is peeled off from the master. Then, from the master to the stand bar like this,
By peeling off the resist coated on the master,
Most of them adhere to the master disc and remain on the master disc. Note that the resist that has adhered to the first metal layer can be removed by electrolytic cleaning.

このようにして得られたスタンパ−は、レジスト表面の
高平滑性が転写された表面を有しており、通常は表面粗
さ(Ra)が0.1Å以下であり、かつ表面欠陥が少な
い。
The thus obtained stamper has a surface to which the high smoothness of the resist surface is transferred, and usually has a surface roughness (Ra) of 0.1 Å or less and has few surface defects.

[2P成形法] 本発明において、上記のようにして調製したスタンバ−
を使用して、熱可塑性樹脂基板上に光硬化樹脂層を2P
成形法により形成する。
[2P molding method] In the present invention, the stambar prepared as described above
2P photocuring resin layer on thermoplastic resin substrate using
Formed by a molding method.

すなわち、光硬化性樹脂液を熱可塑性樹脂基板上に滴下
あるいは塗布し、次いでこの光硬化性樹脂上にスタンバ
−を当接して熱可塑性樹脂基板とスタンバ−との間に光
硬化性樹脂層を設け、熱可塑性樹脂基板側からエネルギ
ー線を該光硬化性樹脂層に照射することにより、光硬化
性樹脂を硬化させて光硬化樹脂層を形成することができ
る。
That is, a photocurable resin liquid is dropped or applied onto a thermoplastic resin substrate, and then a stand bar is brought into contact with the photocurable resin to form a photocurable resin layer between the thermoplastic resin substrate and the stand bar. By irradiating the photocurable resin layer with energy rays from the thermoplastic resin substrate side, the photocurable resin can be cured to form a photocurable resin layer.

本発明において用いられる光硬化性樹脂としては、例え
ば、ポリウレタンメタアクリレートおよびポリエステル
メタアクリレート等を挙げることができる。
Examples of the photocurable resin used in the present invention include polyurethane methacrylate and polyester methacrylate.

また、上記のような光硬化樹脂層の厚さは、通常20〜
200μmである。
Further, the thickness of the photocurable resin layer as described above is usually 20 to 20 mm.
It is 200 μm.

そして、このような光硬化樹脂を硬化させるために用い
られるエネルギー線としては、具体的には、主波長が3
65n11近傍にあり、強度が80〜160W/■であ
る紫外線等を挙げることができる。
Specifically, the energy rays used to cure such photocurable resins have a main wavelength of 3.
Examples include ultraviolet rays that are in the vicinity of 65n11 and have an intensity of 80 to 160 W/■.

上記のようなエネルギー線を用いた光硬化性樹脂の硬化
には、たとえば上記の紫外線を照射する場合、照射強度
を50 m W / d 〜I W / cl、照射時
間を2〜30秒にすることが好ましい。
For curing a photocurable resin using energy rays as described above, for example, when irradiating the above-mentioned ultraviolet rays, the irradiation intensity is 50 m W / d to I W / cl, and the irradiation time is 2 to 30 seconds. It is preferable.

エネルギー線は、スタンパ−が二層の金属層を有し不透
明であるので、光透過性の熱可塑性樹脂基板側から照射
される。
Since the stamper has two metal layers and is opaque, the energy beam is irradiated from the light-transmissive thermoplastic resin substrate side.

このようにしてエネルギー線の照射を行なうことにより
、樹脂基板とスタンパ−との間にある光硬化性樹脂は硬
化する。このように光硬化性樹脂を硬化させた後、スタ
ンパ−を取り外す。
By irradiating the energy beam in this manner, the photocurable resin between the resin substrate and the stamper is cured. After the photocurable resin is cured in this manner, the stamper is removed.

このようにして光硬化性樹脂を硬化させることにより、
スタンバ−と接触している光硬化樹脂層の表面は、スタ
ンバ−の表面状態がそのまま転写されるので、たとえば
、表面粗さ(Ra)が0.1Å以下のスタンパ−を用い
た場合には、光硬化樹脂層の表面粗さ(Ra)は0.1
Å以下になる。
By curing the photocurable resin in this way,
Since the surface of the photocurable resin layer that is in contact with the stamper is directly transferred to the surface of the stamper, for example, when using a stamper with a surface roughness (Ra) of 0.1 Å or less, The surface roughness (Ra) of the photocurable resin layer is 0.1
It will be less than Å.

このようにして得られた表面に光硬化樹脂層を有する樹
脂基板の光硬化樹脂層上に直接強磁性金属等を蒸着させ
て記録層を形成して磁気ディスクを製造することもでき
るが、場合によっては、この光硬化樹脂表面に、さらに
硬質金属層等の他の層を設け、この上に記録層を形成す
ることもできる。このような池の層としては非磁性金属
層、非磁性無機物層および有機高分子層を挙げることが
できる。
It is also possible to manufacture a magnetic disk by directly vapor depositing a ferromagnetic metal or the like on the photocurable resin layer of a resin substrate having a photocurable resin layer on the surface obtained in this way, to form a recording layer. Depending on the case, it is also possible to further provide another layer such as a hard metal layer on the surface of this photocurable resin, and form a recording layer thereon. Examples of such a layer include a nonmagnetic metal layer, a nonmagnetic inorganic layer, and an organic polymer layer.

この場合に使用することができる非磁性金属としては、
チタン、クロム、タングステン、モリブデンなどを挙げ
ることができ、また非磁性無機物としては窒化チタン、
炭化チタン、ダイヤモンド状カーボンなどを挙げること
ができる。さらに有機高分子としては、アセタール樹脂
、アクリレート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹
脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。
Non-magnetic metals that can be used in this case include:
Titanium, chromium, tungsten, molybdenum, etc. can be mentioned, and non-magnetic inorganic materials include titanium nitride,
Examples include titanium carbide and diamond-like carbon. Furthermore, examples of organic polymers include acetal resins, acrylate resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, and epoxy resins.

このような非磁性金属薄膜、非磁性無機物薄膜または有
機高分子薄膜の厚さは、通常200A〜20μmの範囲
内にある。
The thickness of such a nonmagnetic metal thin film, nonmagnetic inorganic thin film, or organic polymer thin film is usually within the range of 200A to 20 μm.

このようにして得られた磁気ディスク用基体に、蒸着法
あるいはメツキ法により磁性金属等の記録層を被着する
ことにより薄膜型磁気ディスクを得ることかできる。
A thin-film magnetic disk can be obtained by depositing a recording layer of magnetic metal or the like on the thus obtained magnetic disk substrate by vapor deposition or plating.

このようにして製造された樹脂基板を使用することによ
り、表面欠陥の少ない磁気ディスクを製造することがで
きる。ここで表面欠陥とは、直径5〜20μmでかつ高
さが10OA以上の凸状の形状および直径5〜20μm
の凹状の形状を有する欠陥をいい、このような表面欠陥
は、たとえば倍率400倍の光学顕Ia鏡を用いた表面
観察により確認することができる。
By using the resin substrate manufactured in this way, a magnetic disk with fewer surface defects can be manufactured. Here, a surface defect is a convex shape with a diameter of 5 to 20 μm and a height of 10 OA or more, and a surface defect with a diameter of 5 to 20 μm.
This type of surface defect can be confirmed by surface observation using an optical microscope Ia with a magnification of 400 times, for example.

磁気ディスクにおいて、上記のような表面欠陥は皆無で
あることが最も好ましい。そして、C8S特性等を考広
すると、一般に使用されている直径130−の磁気ディ
スク用基板においては、表面欠陥が10個以下であるこ
とが好ましく、また直径90關の磁気ディスク用基板に
おいては、4個以下であることが好ましい。
It is most preferable that the magnetic disk has no surface defects such as those described above. Considering the C8S characteristics, etc., it is preferable that a generally used magnetic disk substrate with a diameter of 130 mm has 10 or less surface defects, and a magnetic disk substrate with a diameter of 90 mm should have 10 or less defects. It is preferable that the number is 4 or less.

本発明の製法によれば、表面欠陥の数を、直径130匝
の磁気ディスク用基板においては10個以下、直径90
關の磁気ディスク用基板においては4個以下にすること
ができ、さらに表面の平滑度の高いスタンパ−を用いる
ことにより、表面欠陥の特に少ない磁気ディスク用基板
を製造することができる。
According to the manufacturing method of the present invention, the number of surface defects can be reduced to 10 or less in a magnetic disk substrate with a diameter of 130 sq.
In the related magnetic disk substrate, the number of stampers can be reduced to four or less, and by using a stamper with a highly smooth surface, a magnetic disk substrate with particularly few surface defects can be manufactured.

1匪立左1 本発明に係る磁気ディスク用基板の製法によれば、表面
欠陥の著しく少ない磁気ディスク用基板を製造すること
ができる。
According to the method for manufacturing a magnetic disk substrate according to the present invention, a magnetic disk substrate with significantly fewer surface defects can be manufactured.

さらに本発明に係る製法によって得られた磁気ディスク
用基板を用いることにより、ヘッドクラッシュが起りに
くいとともにエラーを生じない磁気ディスクを得ること
ができる。また、本発明の製法により得られた基板は、
熱可塑性樹脂を用いるため、基板を含めた磁気ディスク
自体の軽量化が可能となり、モーターの小型化および/
またはハードディスクドライブの大記ム容址化が可能で
ある。
Further, by using the magnetic disk substrate obtained by the manufacturing method according to the present invention, it is possible to obtain a magnetic disk that is less prone to head crashes and does not cause errors. Furthermore, the substrate obtained by the manufacturing method of the present invention is
Since thermoplastic resin is used, the weight of the magnetic disk itself including the substrate can be reduced, making it possible to downsize the motor and/or
Alternatively, it is possible to reduce the size of the hard disk drive.

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、
本発明は、これらの実施例によって限定されるものでは
ない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.

尺立■ユ 熱可塑性樹脂としてポリエーテルイミド樹脂(ジェネラ
ルエレクトリック社製、商品名ウルテム1ooo>を用
いて射出成形を行ない、直径1301t1、厚さ1.9
omの円盤状の熱可塑性樹脂成形体を得た。
Injection molding was performed using polyetherimide resin (manufactured by General Electric Co., product name Ultem 1ooo) as a thermoplastic resin, and the diameter was 1301t1 and the thickness was 1.9mm.
A disc-shaped thermoplastic resin molded body of 1.5 mm was obtained.

射出成形は、名漁製作所■製射出成形機(ダイナメルタ
ー、H−14OL/D=26)を用いて、樹脂温度43
0℃、サイクル時間40秒にて行なった。
Injection molding was performed using an injection molding machine (Dynamelter, H-14OL/D=26) manufactured by Meiya Seisakusho ■ at a resin temperature of 43.
The test was carried out at 0°C and a cycle time of 40 seconds.

一方、以下に記載する方法により、スタンパ−を製作し
た。
On the other hand, a stamper was manufactured by the method described below.

すなわち、直径200IIllI、厚さ10mの青色ガ
ラス(Ra 5Å以下)上にレジスト(ヘキストジャパ
ン社製、商品名A2 1350  J)をスピンコード
法を採用して1000人厚さとなるようにコーティング
した。コーティング層の表面粗さ(Ra)は0,1Å以
下であった。
That is, a resist (manufactured by Hoechst Japan Co., Ltd., trade name: A2 1350 J) was coated onto a blue glass (Ra 5 Å or less) having a diameter of 200 mm and a thickness of 10 m to a thickness of 1000 m using a spin code method. The surface roughness (Ra) of the coating layer was 0.1 Å or less.

該レジスト表面上に、Ni金属層を蒸着法により、10
00人の厚さで形成し、さらにその上に電鋳法によりN
1メツキ層を300μm厚さに形成した。該メツキ層表
面上に、2液タイプのエポキシ系接着剤を可能な限り薄
く塗布した後、この接着剤の上に、直径200市、厚さ
5111I11の青色ガラスを重ねて接着し、裏打ち材
を設けた。
On the resist surface, a Ni metal layer is deposited with a thickness of 10
It is formed to a thickness of 0.00 mm, and then N is formed on top of it by electroforming.
One plating layer was formed to a thickness of 300 μm. After applying a two-component type epoxy adhesive as thinly as possible on the surface of the plating layer, a piece of blue glass with a diameter of 200 mm and a thickness of 5111111 is adhered on top of the adhesive, and a backing material is applied. Established.

接着剤の硬化後、レジスト層と蒸着N1層とを剥離し、
Ni金属層上に残存するレジストを電解洗浄により除去
した。このようにして得られたスタンパ−表面の表面粗
さ(Ra)は0.1Å以下であった。
After the adhesive hardens, the resist layer and the deposited N1 layer are peeled off,
The resist remaining on the Ni metal layer was removed by electrolytic cleaning. The surface roughness (Ra) of the thus obtained stamper surface was 0.1 Å or less.

上記で得られたスタンパ−上にポリウレタンメタアクリ
レートからなる光硬化性樹脂を滴下し、さらに上記で得
られた円盤状の熱可塑性樹脂成形体を当接した後、光源
強度100W/■の高圧水銀灯を用い、熱可塑性樹脂側
から照射強度0.5W/−にて10秒間、硬化用の光線
を照射して光硬化樹脂層を厚さが25μmとなるように
形成した。スタンパ−と、光硬化樹脂層を形成した熱可
塑性樹脂成形体とを剥離し、外周加工して直径を130
圓とした後、光硬化樹脂層上にさらにTi金属からなる
硬質金属層を4500人の厚さで形成し、磁気ディスク
用基板を得た。
A photocurable resin made of polyurethane methacrylate was dropped onto the stamper obtained above, and the disk-shaped thermoplastic resin molding obtained above was further brought into contact with the stamper, followed by a high-pressure mercury lamp with a light source intensity of 100 W/■. A photocuring resin layer was formed to a thickness of 25 μm by irradiating a curing light beam from the thermoplastic resin side at an irradiation intensity of 0.5 W/− for 10 seconds. The stamper and the thermoplastic resin molded body on which the photocurable resin layer was formed were peeled off, and the outer periphery was processed to a diameter of 130 mm.
After forming a circle, a hard metal layer made of Ti metal was further formed on the photocurable resin layer to a thickness of 4,500 mm to obtain a magnetic disk substrate.

上記のようにして5枚の磁気ディスク用基板を製造した
Five magnetic disk substrates were manufactured as described above.

このようにして得な磁気ディスク用基板について、光硬
化樹脂層を形成する前後の表面欠陥を、倍率400倍の
光学顕微鏡でa察し、その数を数えた。
With respect to the thus obtained magnetic disk substrate, surface defects before and after the formation of the photocurable resin layer were observed using an optical microscope at a magnification of 400 times, and the number thereof was counted.

5枚の基板について、観察した結果を第1表に得られた
基板上に、スパッタ法により磁性層としてCo−Ni合
金層を700人形成し、さらにその上にステアリン酸を
潤滑剤層として塗布し、磁気ディスクを?A遺した。
The observation results for the five substrates are shown in Table 1. On the obtained substrates, a Co-Ni alloy layer was formed as a magnetic layer by sputtering, and stearic acid was further applied as a lubricant layer on top of the Co-Ni alloy layer. And a magnetic disk? A left behind.

この磁気ディスクを用いてC8S特性を測定したところ
1,000,000回であった。
The C8S characteristics of this magnetic disk were measured 1,000,000 times.

L枚皿ユ 光硬化樹脂層を形成しない以外は、実施例1と同様にし
て射出成形により直径130am、厚さ1.9++un
の磁気ディスク用基板を得た。実施例1と同様にしてr
Jj;l察した表面欠陥の数は第1表に示した熱可塑性
樹脂成形体の表面欠陥の数と同等であった。
An L-plate plate with a diameter of 130 am and a thickness of 1.9++ un was formed by injection molding in the same manner as in Example 1, except that the photocurable resin layer was not formed.
A magnetic disk substrate was obtained. In the same manner as in Example 1, r
The number of surface defects observed was equivalent to the number of surface defects of the thermoplastic resin molded articles shown in Table 1.

次いで、得られた熱可塑性樹脂成形体に、実施例1と同
様にしてTi硬質金属層の形成および磁気ディスクの製
造を行ない、この磁気ディスクを用いてC8S特性を測
定したところ、3,000回であった。
Next, a Ti hard metal layer was formed on the obtained thermoplastic resin molded body and a magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1. When the C8S characteristics were measured using this magnetic disk, it was found that 3,000 times. Met.

代理人  弁理士  鈴 木 俊一部Agent: Patent Attorney: Shunbetsu Suzuki

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)熱可塑性樹脂の射出成形体からなる光透過性樹脂基
板上に、高表面平滑性を有するスタンパーを用いて、2
P成形法により、光硬化樹脂層を形成することを特徴と
する磁気ディスク用基板の製法。
1) Using a stamper with high surface smoothness, 2.
A method for manufacturing a magnetic disk substrate, characterized by forming a photocurable resin layer by a P molding method.
JP15540888A 1988-06-23 1988-06-23 Manufacture of magnetic disc board Pending JPH01320124A (en)

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