JPH01298009A - Production of metal multiple chalcogenides - Google Patents

Production of metal multiple chalcogenides

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JPH01298009A
JPH01298009A JP12694588A JP12694588A JPH01298009A JP H01298009 A JPH01298009 A JP H01298009A JP 12694588 A JP12694588 A JP 12694588A JP 12694588 A JP12694588 A JP 12694588A JP H01298009 A JPH01298009 A JP H01298009A
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Abstract

PURPOSE:To easily form a thin film on a large-area substrate of an intricate shape by pyrolyzing a composition consisting of a specified compd. and an org. solvent in an inert gas atmosphere. CONSTITUTION:Plural compds. having different chalcogen elements and selected from metal N,N-dialkylchalcogenocarbamates [e.g., Cu(X2CNEt2)2] shown by formula I [M is metallic element, R is a 1-10C org. group, X is S, Se, Te, (n) is 1-5C, x is 1, 2] and metal alkoxychalcogenocarbonates [e.g., Cd(XOCOPr)2] shown by formula II and an org. solvent such as pentane are mixed to obtain a mixed composition. The composition is sprayed by spray pyrolysis, etc., in a heated inert gas atmosphere, and pyrolyzed to produce the fine spherical powder of the single metal multiple chalcogenides or multiple metals multiple chalcogenides having 0.3-0.4mu diameter.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は分子中の有機構造部分にカルコゲン元素を含む
2種以上の有機金属化合物と有機溶媒とからなる組成物
を熱分解して金、17j1’eM合カルコゲナイド類を
製造する方法に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention produces gold, The present invention relates to a method for producing 17j1'eM chalcogenides.

金属カルコゲナイド類は、その色彩を生かした顔料、ま
たその半導体特性、先導伝体特性を生かした太陽電池、
受光素子、映像記録装置、ケイ光体特性を利用したEl
、素子等に広く用いられており。
Metal chalcogenides are used as pigments that take advantage of their colors, as well as solar cells that take advantage of their semiconductor and conductor properties.
El that utilizes light receiving elements, video recording devices, and phosphor characteristics
It is widely used in devices, etc.

カルコゲン元素の複合化、金属の複合化により色彩の調
整、半導体としてのバンドギャップのコントロールが可
能となり更に高度な対応が可能となる。例えば、 Cd
5−CdSe系においてS、Seの組成比を変えること
により膜の色調を黄色から赤色の間で調整することがで
きろ。
By combining chalcogen elements and metals, it is possible to adjust the color and control the band gap as a semiconductor, making it possible to handle even more advanced applications. For example, Cd
In the 5-CdSe system, the color tone of the film can be adjusted from yellow to red by changing the composition ratio of S and Se.

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

従来、金属カルコゲナイドの合成方法としては、■)硫
化水素H2S、セレン化水素H2Se、テルル化水素I
t2Teに金属、金属塩、有機金属化合物等と反応させ
る方法、2)水溶液中硫化ナトリウムNa2S、セレン
化ナトリウムNa25e、テルル化ナトリウムNa2T
e等の化合物と金属塩との反応により合成する方法、3
)単体のイオウと金属との直接反応による方法等が知ら
れている。しかしこれらの方法は近来用途が拡大して来
た薄膜状の金属カルコゲナイドを得るには必ずしも適当
な製造法とはいい難い。例えば太陽電池、受光素子、映
像記録装置等のデバイス、装置への応用にはZnS、Z
n5e、 ZnTe、CdS、 CdSe、CdTe、
 CuInSe2、CuInTe3等の金属力ルコゲナ
イ1−の薄膜作成が重要な技術となっている。薄膜作成
の方法としては、金属力ルコゲナイ1〜の微粉末を有機
バインダーとペースト化し基体に印刷後焼成する方法、
金属カルコゲナイドを真空蒸着、スパッタリング等によ
り薄膜化する物理的方法等があるが、これらは何れも金
属カルコゲナイドを製造した後の薄膜化処理に可成りな
手数と工夫を要する。また粉末の焼結により膜が形成さ
れるため膜の均一性が金属カルコゲナイドの粒径や粒度
分布に左右される。さらに数100〜数l、O″OOA
OOA程度のよい金属カルコゲナイド粉末が得難いため
ミクロンオーダー以下の薄膜の形成が困難である。また
H2S、 H2Se、 H2Teと有機金属化合物のガ
スを基体表面で反応させ薄膜化させるCVD法等は装置
が複雑で製造コス1〜の低減が難しくまた大きな面積の
被膜を作るのが困難であり生産性に劣る。さらに被膜を
形成する基体の形状も限られる。
Conventionally, methods for synthesizing metal chalcogenides include: ■) Hydrogen sulfide H2S, hydrogen selenide H2Se, hydrogen telluride I
Method of reacting t2Te with metals, metal salts, organometallic compounds, etc., 2) Sodium sulfide Na2S, sodium selenide Na25e, sodium telluride Na2T in aqueous solution
Method of synthesis by reaction of a compound such as e with a metal salt, 3
) A method based on a direct reaction between simple sulfur and a metal is known. However, these methods cannot necessarily be said to be suitable production methods for obtaining thin film-like metal chalcogenides, whose applications have recently expanded. For example, ZnS, Z
n5e, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe,
The production of thin films of metallic lucogenes such as CuInSe2 and CuInTe3 has become an important technology. The thin film production method includes a method in which a fine powder of Metallic Lucogenia 1 is made into a paste with an organic binder, printed on a substrate, and then fired;
There are physical methods for thinning metal chalcogenide by vacuum evaporation, sputtering, etc., but all of these methods require considerable effort and effort in the thinning treatment after producing metal chalcogenide. Furthermore, since the film is formed by sintering the powder, the uniformity of the film depends on the particle size and particle size distribution of the metal chalcogenide. Furthermore, several hundred to several liters, O″OOA
Since it is difficult to obtain metal chalcogenide powder with a good OOA level, it is difficult to form a thin film on the order of microns or less. In addition, CVD methods, which make thin films by reacting H2S, H2Se, H2Te, and organometallic compound gases on the surface of a substrate, require complicated equipment, making it difficult to reduce production costs by 1 or more, and making it difficult to create films with large areas, making production difficult. inferior to sex. Furthermore, the shape of the substrate on which the coating is formed is also limited.

〔問題解決に係る知見〕[Knowledge related to problem solving]

本発明者らは、薄膜化が容易であり、かつペーストとし
て塗布、焼結する場合でも均一な薄膜とすることができ
る金属カルコゲナイドの製造法につき研究を進めた結果
、カルコゲン元素(S、Sc、Te)が異なる複数の金
属カルコゲナイドを適当な溶媒に溶解した組成物を不活
性雰囲気下で熱分解すれば容易に金属複合カルコゲナイ
ドを製造できることを見出した。また更に、上記組成物
基板にディッピング、スピンコーティング、スプレィ等
の方法により塗布した後に乾燥、不活性雰囲気上焼成す
ることにより非常に均一性の良い金属複合カルコゲナイ
ドの被膜が得られること、またこの組成物をスプレーパ
イロリシス法により分解することにより粒系0.2〜0
.8μ程度の微粉末を得ることも可能であることを見い
だした。さらに、異なる金属の組合せにより複合金属の
複合カルコゲナイドの製造も可能であることを知見した
The present inventors have conducted research on a method for producing metal chalcogenide, which is easy to form into a thin film and can be made into a uniform thin film even when applied as a paste and sintered. It has been found that a metal composite chalcogenide can be easily produced by thermally decomposing a composition in which a plurality of metal chalcogenides having different Te) are dissolved in an appropriate solvent in an inert atmosphere. Furthermore, it is possible to obtain a highly uniform metal composite chalcogenide coating by applying the above composition to a substrate by dipping, spin coating, spraying, etc., followed by drying and baking in an inert atmosphere. By decomposing the material by spray pyrolysis method, the particle size is 0.2 to 0.
.. It has been found that it is also possible to obtain a fine powder of about 8μ. Furthermore, we found that it is possible to produce composite chalcogenides made of composite metals by combining different metals.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明によれば金属N、N−ジアルキル力ルコゲノ力ル
バメ−1・類、および CM (XxO2−xCN R,)、、〕金属アルコキ
シカルコゲノカルボナート類CM(XxO,、COR)
n) (M=金属元素、R=炭’Jal 〜10(7)有機u
 ; X=S、Se、Te; n=1〜5 ; x=1
,2)から選ばれる。カルコゲン元素が異なる複数の化
合物と有機溶媒とから成る組成物を不活性雰囲気下で熱
分解することにより単一金属複合力ルコゲナイドまたは
複合金属複合カルコゲナイドを製造する方法が提供され
る。
According to the present invention, metal N, N-dialkyl chalcogenocarbonates, and CM (XxO2-xCNR,),] metal alkoxychalcogenocarbonates CM (XxO,,COR)
n) (M=metal element, R=charcoal ~10(7) organic u
; X=S, Se, Te; n=1-5; x=1
, 2). Provided is a method for producing a single metal complex chalcogenide or a multimetal complex chalcogenide by thermally decomposing a composition comprising a plurality of compounds containing different chalcogen elements and an organic solvent in an inert atmosphere.

本発明においては、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜]0の有機基。In the present invention, Structural formula (In the formula, M is a metal element, and R is an organic group having 1 to 0 carbon atoms.

Xはカルコゲン元素、nは1〜5の整数)で表わされる
金属N、N−ジアルキルジ力ルコゲノ力ルバメート、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、X
はカルコゲン元素、nは1〜5の整数)で表わされる金
属アルコキシジ力ルコゲノカルボナート、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、又
はカルコゲン元素、nは1〜5の整数)で表わされる金
ricN 、 N−ジアルキルモノカルコゲノカルバメ
ート、 溝造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、X
はカルコゲン元素、nは1〜5の整数)で表わされる金
属アルコキシモノカルコゲノカルボナート、からなる群
から選ばれる有機金属化合物が用いられる。
X is a chalcogen element, n is an integer of 1 to 5) metal N, N-dialkyl dihydrucogeno Rubamate, structural formula (wherein M is a metal element, R is an organic group having 1 to 10 carbon atoms,
is a chalcogen element; is an integer of 1 to 5), N-dialkylmonochalcogenocarbamate, Mizozo formula (where M is a metal element, R is an organic group having 1 to 10 carbon atoms,
An organometallic compound selected from the group consisting of a metal alkoxymonochalcogenocarbonate represented by a chalcogen element and n an integer of 1 to 5 is used.

金属元素は例えば亜鉛Zn、  銅Cu、タリウムTQ
、ニッケルNi、パラジウムPd、プラセオジムPr、
カドミウムcd、インジウムIn、アンチモンsb、ニ
オブ怜、タンタルTa、モリブデンMO、タングステン
W、クロムCr、ロジウムRh、 コバルトCO1鉄F
e、等である。
Examples of metal elements include zinc Zn, copper Cu, and thallium TQ.
, nickel Ni, palladium Pd, praseodymium Pr,
Cadmium CD, Indium In, Antimony SB, Niobium Rei, Tantalum Ta, Molybdenum MO, Tungsten W, Chromium Cr, Rhodium Rh, Cobalt CO1 Iron F
e, etc.

置換基Rは特に制限はないが高濃度溶液の調整の為とは
炭素数が大きい置換基の方が有利であるが、ただし炭素
数があまり大きくなると熱分解した場合にカーボンが残
り易くなるため炭素数が10を越えないことが望ましい
There are no particular restrictions on the substituent R, but for the purpose of preparing a highly concentrated solution, a substituent with a large number of carbon atoms is more advantageous; however, if the number of carbon atoms is too large, carbon tends to remain when thermally decomposed. It is desirable that the number of carbon atoms does not exceed 10.

本発明で用いる上記有機金属化合物の具体例を以下に示
す。尚、上記有機金属化合物はこれらに限定されない。
Specific examples of the organometallic compounds used in the present invention are shown below. Note that the above-mentioned organometallic compounds are not limited to these.

壮狂堕し几 銅(II )N、N−ジエチルジ力ルコゲノ力ルバメー
ト Cu (X2CNEt2)。
Sokyo Fallen Copper (II) N,N-diethyl dirucogenolbamate Cu (X2CNEt2).

銅(I[)N、N−ジブチルジカルコゲノ力ルバメート
 Cu (X2 CxBuz )z亜鉛(n)N、N−
ジブチルジカルコゲノ力ルバメート Zn (X2Cλ
BI42)。
Copper (I[)N,N-dibutyldichalcogenolbamate Cu (X2 CxBuz)zzinc (n)N,N-
Dibutyl dichalcogenolbamate Zn (X2Cλ
BI42).

亜鉛(1’l)N、N−ジプロピルレジ力ルコゲノ力ル
バメート Zn(X2Cλ’Pr、)。
Zinc (1'l)N,N-dipropyl lucogenorubamate Zn (X2Cλ'Pr,).

鉄(n)N、N−ジブチルジカルコゲノ力ルバメート 
Fe(X2CNBu、)28!(II)−ジブチルジカ
ルコゲノ力ルバメーh  Sn (X、0NBu、 )
Iron(n)N,N-dibutyldichalcogenolbamate
Fe(X2CNBu,)28! (II)-dibutyl dichalcogenolbame h Sn (X, 0NBu, )
.

ニッケルN、N−ジエチルジ力ルコゲノ力ルバメート 
N1(X2C\F!j2)jニッケルへ、N−ジプロピ
ルジ力ルコゲノ力ルバメート Nj (X2CNPr2
)。
Nickel N, N-diethyl dilucogenolbamate
N1(X2C\F!j2)j to nickel, N-dipropyl dihydrocogenolubamate Nj (X2CNPr2
).

インジウムN、N−ジエチルジ力ルコゲノ力ルバメート
 In(X2CNEt)。
Indium N,N-diethyldihydrucogenolbamate In (X2CNEt).

インジウムNlN−ジブチルジカルコゲノカルバメート
 In(X2Cλ“I3u□)3インジウムN、N−ジ
エチルモカルコゲノカルバメート In(X2CNPe
nt、)3カドミウムN、N−ジプロピルジカルコゲノ
カルバメート Cd (X2CNPr2)zコバルトN
、N−ジブロピルジカルコゲノカルバメ−1−co(X
2C入Prz)rアンチモンN、N−ジブチルジカルコ
ゲノ力ルバメート Sb (Xz CNBuz )3ゲ
ルマニウムN、N−ジプロピルジカルコゲノ力ルバメー
ト □□□(X2CNPr2)。
Indium NlN-dibutyldichalcogenocarbamate In(X2Cλ"I3u□)3Indium N,N-diethylmochalcogenocarbamate In(X2CNPe
nt, )3 Cadmium N, N-dipropyl dichalcogenocarbamate Cd (X2CNPr2)z Cobalt N
, N-dibropyrudichalcogenocarbame-1-co(X
2C-containing Prz) r antimony N, N-dibutyl dichalcogenol rubamate Sb (Xz CNBuz) 3 germanium N, N-dipropyl dichalcogen rubamate □□□ (X2CNPr2).

チタニウムN、N−ジエチルジ力ルコゲノ力ルバメート
 Ti(X2CNEt、)4!瓢 銅(n)−ペンチルジカルコゲノカルボナート Cu(
X2COPent)2鉄(U)−ペンチルジカルコゲノ
カルボナート Fe(X2COPent)2釦−エチル
ジカルコゲノカルボナート Pb (X2COEt)3
カトミウムーブチルジ力ルコゲノ力ルボナート ω(X
2cOB、)2力1−ミウムープロピルジ力ルコゲノカ
ルボナー+”  cd(X2COPr)2アンチモン−
プロビルジカルコゲノカルボナート 5b(X、C0P
r)。
Titanium N,N-diethyldilucogenolubamate Ti(X2CNEt,)4! Gourd copper(n)-pentyl dichalcogenocarbonate Cu(
X2COPent)2Iron(U)-pentyldichalcogenocarbonate Fe(X2COPent)2button-ethyldichalcogenocarbonate Pb (X2COEt)3
Catomium move butyl dilucogenolubonate ω(X
2cOB,) 2-1-mium-propyl di-lucogenocarboner+” cd(X2COPr)2-antimony-
Probil dichalcogenocarbonate 5b (X, C0P
r).

町メ袴■。Town hakama■.

亜鉛(U)N、N−ジブチルモノカルコゲノカルバメー
トM4(II)x,x−ジエチルモノカルコゲノカルバ
メート Cu (X2CNEt2)2インジウムNバー
ジエチルモノカルコゲノカルバメート1炊ν勲。
Zinc (U) N, N-dibutyl monochalcogenocarbamate M4 (II) x, x-diethyl monochalcogenocarbamate Cu (X2CNEt2)2 Indium N-dibutyl monochalcogenocarbamate 1.

カドミウム−プロピルモノカルコゲノカルボナート溶媒
としては、次のものを用いることができる。
As the cadmium-propyl monochalcogenocarbonate solvent, the following can be used.

ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪属炭
化水素類、ソルベントナブサ等の硬油類、ベンゼシ、ト
ルエン、キシレン、等の芳香族炭化水素、塩化メチレン
、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等の環状エーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒、メチルセルロソルブ、
エチルセルロソルブ等のセルロソルブ類、ジメチルホル
ムアミド、ジエチルホルムアミド等のホルムアミド類,
ジエチルアミン、エチレンジアミン、1〜リエタノール
アミン等のアミン類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類二硫化炭素等である。溶媒は、単独でも数種
類を組み合わせてもよい。また塗布性能の向上、スクリ
ーン印刷への適用のためメチルセルロース、エチルセル
ロース等のセルロース類、その他ポリエチレンオキシド
、ポリビニルブチラール等の高分子物質を添加すること
も可能である。
aliphatic hydrocarbons such as pentane, n-hexane, and cyclohexane; hard oils such as Solvent Nabtha; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; tetrahydrofuran; Cyclic ethers such as dioxane, ether solvents such as diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methylcellulosolve,
Cellulosolves such as ethylcellulosolve, formamides such as dimethylformamide and diethylformamide,
These include amines such as diethylamine, ethylenediamine, and 1-liethanolamine, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and carbon disulfide. The solvents may be used alone or in combination. In addition, celluloses such as methyl cellulose and ethyl cellulose, and other polymeric substances such as polyethylene oxide and polyvinyl butyral may be added to improve coating performance and apply to screen printing.

単一金属の複合カルコゲナイドを得るためには、上記の
化合物の中から目的金属のカルコゲン元素の異なる複数
の化合物および溶媒を選び混合した組成物を加熱分解す
れば良く、薄膜化する為には基体上にスピンコード、デ
ィッピング、スプレィ、刷毛塗り等の通常の塗布法によ
り塗布し室温または加熱上乾燥した後、不活性気体下2
50〜600°Cで焼成すればよい。スクリーン印刷用
に粘度を上げろ為には、上記のような高分子物質を添加
すれば良く膜の焼成温度以下で十分分解するものを選ぶ
のが良い。微粉末の製造には、上記の組成物を通常のス
プレィパイロリシス法により加熱不活性雰囲気下にスプ
レィし熱分解すれば良く、通常0.3〜0.8μ程度の
金属複合カルコゲナイドの球状微粉末が得られる。さら
に全屈組成を複合化するためには上記の化合物の中から
目的組成の複数の金属の異なる化合物および溶媒を選び
混合した組成物を用い、塗布−乾燥−焼成による薄膜、
スプレィパイロリシスによる球状微粉末を得ることがで
きる。
In order to obtain a composite chalcogenide of a single metal, it is sufficient to thermally decompose a composition in which a plurality of compounds with different chalcogen elements of the target metal and a solvent are selected from among the above compounds, and the mixture is thermally decomposed to form a thin film. It is coated on top using a conventional coating method such as spin cord, dipping, spraying, or brush coating, and after drying at room temperature or by heating, it is coated under an inert gas atmosphere for 2
What is necessary is just to bake at 50-600 degreeC. In order to increase the viscosity for screen printing, it is sufficient to add a polymeric substance such as the one mentioned above, and it is best to choose one that decomposes sufficiently below the film firing temperature. The fine powder can be produced by spraying the above composition in a heated inert atmosphere using a conventional spray pyrolysis method and thermally decomposing it, which usually produces a spherical fine powder of metal composite chalcogenide with a size of about 0.3 to 0.8μ. is obtained. Furthermore, in order to compound the total bending composition, a composition obtained by selecting and mixing different compounds and solvents of a plurality of metals with the desired composition from among the above compounds is used, and a thin film is formed by coating, drying, and baking.
A spherical fine powder can be obtained by spray pyrolysis.

本発明の複数の異種金属、異種カルコゲン元素の化合物
を溶液中均一に混合した組成物を用いる方法により複合
金属複合カルコゲナイドを得ることがセき、この金属の
複合化、カルコゲン元素の複合化により色形の調整、半
導体としてのバンドギャップ幅のコントロール等が可能
となった。さらに焼成時の雰囲気を酸化性にコントロー
ルすることにより金属カルコゲン酸塩、金属酸化物を生
成させる事も可能である。また同焼成時還元雰囲気下そ
の温度をより高温にすることにより金属まで還元するこ
とも可能である。
A composite metal composite chalcogenide can be obtained by the method of the present invention using a composition in which compounds of a plurality of different metals and different chalcogen elements are uniformly mixed in a solution. It has become possible to adjust the shape and control the bandgap width as a semiconductor. Furthermore, by controlling the atmosphere during firing to be oxidizing, it is also possible to generate metal chalcogenates and metal oxides. Further, it is also possible to reduce the metal to a metal by raising the temperature to a higher temperature in a reducing atmosphere during the same firing.

このように焼成時の条件をうまくコントロールすること
により微妙な色調、半導体特性等の微妙なコントロール
も可能である。
In this way, by skillfully controlling the firing conditions, it is possible to finely control the color tone, semiconductor characteristics, etc.

膜厚は薄膜化する際の塗布条件および塗布−焼成の繰り
返しによる重ね塗り等により、最小数1OAから最大1
0〜20μ程度まで調整可能である。
The film thickness varies from a minimum of 1 OA to a maximum of 1 OA, depending on the coating conditions when thinning the film and overcoating by repeating coating and baking.
It is adjustable from about 0 to 20μ.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の金属カルコゲナイドの製造方法を用いれば常温
、常圧下での通常の塗布法により、塗布、乾燥、焼成を
行うことにより容易に、大面積、複雑な形状の基体上に
Zn(S−5e)、Cd (S−5e)、CuIn(S
e−Te) 、シ゛ビ消−金属硫化物の薄膜が形成可能
となりそれらの半導体としての特性を生かした高性能太
陽電池の低コスト量産化が可能となる。
If the metal chalcogenide manufacturing method of the present invention is used, Zn(S-5e ), Cd (S-5e), CuIn(S
It becomes possible to form thin films of diluted metal sulfides (e-Te), and it becomes possible to mass-produce high-performance solar cells at low cost by taking advantage of their semiconductor properties.

(実施例) 次に本発明の実施例を示す。(Example) Next, examples of the present invention will be shown.

実施例1 亜鉛(II)N、N−ジブチルジチオカルバメート:(
211(N2 (、NBu2)2 )4−5g、亜鉛(
■)N、N−ジブチジセレノ力ルバメート: (Zn(
Se2CNBu2)2) 5.0gをジブチルアミン2
00gに溶解後30分還流した溶液をパイレックス基板
に回転数300Orpmでスピンコードし、室温で10
分乾燥、Ar気流下500℃、30分焼成することによ
り膜厚280OA、淡黄色の均一なZn (S−5e)
被膜をえた。
Example 1 Zinc (II) N,N-dibutyldithiocarbamate: (
211 (N2 (, NBu2)2) 4-5 g, zinc (
■) N,N-dibutydiselenolbamate: (Zn(
Se2CNBu2)2) 5.0g of dibutylamine2
After dissolving the solution in 00 g and refluxing for 30 minutes, the solution was spin-coded onto a Pyrex substrate at a rotation speed of 300 rpm, and the solution was refluxed for 30 minutes at room temperature.
After drying for 30 minutes and baking at 500°C for 30 minutes under an Ar flow, a uniform Zn (S-5e) film with a thickness of 280 OA and pale yellow color was obtained.
Got a coating.

実施例2 カドミウム0−イソプロピルジチオカルボナート:(C
d (Sz COP r’ )2 )5g、カドミウム
O−イソプロビルジセレノカルボナート: [Cd(S
e2COPr”)2) 5gをエチルセルロソルブ50
0gに溶解した溶液をタイル表面に刷毛塗りし、室温で
30分乾燥し、N2気流下600°C125分焼成する
事により膜厚5000A、燈色のCd(S’Se)薄膜
を得た。
Example 2 Cadmium 0-isopropyldithiocarbonate: (C
d(SzCOPr')2)5g, cadmium O-isoprobyl diselenocarbonate: [Cd(S
e2COPr”)2) 5g of ethyl cellulosolve 50
A solution dissolved in 0 g was brushed onto the tile surface, dried at room temperature for 30 minutes, and baked at 600° C. for 125 minutes under a N2 stream to obtain a light-colored Cd(S'Se) thin film with a film thickness of 5000 A.

実施例3 カドミウム0−イソプロピルチオカルボナート:(Cd
 (SOCOPrl)z )5g 、カドミウムローイ
ソプロピルセレノカルボナート: (Cd(Se2CO
Pr”)2) 5gをエチルセルロソルブ500gに溶
解した溶液をタイル表面に刷毛塗りし、室温で30分乾
燥し、N2気流下600℃525分焼成する事により膜
厚3000A、燈色のCd(S−5e)薄膜を得た。
Example 3 Cadmium 0-isopropylthiocarbonate: (Cd
(SOCOPrl)z )5g, cadmium loisopropyl selenocarbonate: (Cd(Se2CO
Pr'')2) 5g of ethyl cellulosolve dissolved in 500g of ethyl cellulosolve was applied to the surface of the tile with a brush, dried at room temperature for 30 minutes, and baked at 600℃ for 525 minutes under a N2 stream to form a film with a thickness of 3000A and a light-colored Cd ( S-5e) A thin film was obtained.

実施例4 銅(II )N、N−ジブチルジテルロ力ルバメート:
(Cu(Te2CNBu2)2) 5.0g、インジウ
ム(III)N、N−ジエチルジチオカルバメート: (In(Se2CNBu2)335.9gをジエチルア
ミン500gに溶解後30分還流した溶液をパイレック
ス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、室温
で10分乾燥、  Ar気流下550℃、45分焼成す
る事により膜厚3800Aの黒色の均一なCuIn (
Se−Te)の3暎を得た。
Example 4 Copper(II) N,N-dibutyl ditellururbamate:
(Cu(Te2CNBu2)2) 5.0g, indium(III)N,N-diethyldithiocarbamate: 335.9g of (In(Se2CNBu2) was dissolved in 500g of diethylamine and refluxed for 30 minutes. The solution was placed on a Pyrex substrate at a rotation speed of 300 rpm. A uniform black CuIn film with a thickness of 3800A was obtained by spin-coding, drying at room temperature for 10 minutes, and baking at 550℃ for 45 minutes under an Ar flow.
Three samples of Se-Te) were obtained.

実施例5 fi (II )N、N−ジエチルジチオカルバメート
;(Cu(S2CNEt2)2)3.9H、インジウム
(III)N、N−ジエチルジセレノカルバメート: 
(In (Se2CNEtz ):+ )9.1gをT
HF500gに溶解後30分還流した溶液をSOO℃に
加熱した環状炉にキャリアーガスに流量500m1/m
inのArを用いスプレィノズルより噴霧することによ
り粒径0.6〜0.8 μのCuIn (S−3e)球
状微粉末を得た。
Example 5 fi(II)N,N-diethyldithiocarbamate; (Cu(S2CNEt2)2)3.9H, indium(III)N,N-diethyldithelenocarbamate:
(In (Se2CNEtz):+)9.1g to T
After dissolving in 500 g of HF, the solution was refluxed for 30 minutes and placed in an annular furnace heated to SOO℃ with a carrier gas flow rate of 500 m1/m.
A spherical fine powder of CuIn (S-3e) having a particle size of 0.6 to 0.8 μm was obtained by spraying with Ar from a spray nozzle.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 金属N,N−ジアルキルカルコゲノカルバメート類、お
よび 〔M(X_xO_2_−_xCNR_2)_n〕金属ア
ルコキシカルコゲノカルボナート類 〔M(X_xO_2_−_xCOR)_n〕 (M=金属元素、R=炭素数1〜10の有機基;X=S
、Se、Te;n=1〜5;x=1、2) から選ばれる、カルコゲン元素が異なる複数の化合物と
有機溶媒とから成る組成物を不活性雰囲気下で熱分解す
ることにより単一金属複合カルコゲナイドまたは複合金
属複合カルコゲナイドを製造する方法。
[Scope of Claims] Metal N,N-dialkyl chalcogenocarbamates and [M(X_xO_2_-_xCNR_2)_n] metal alkoxychalcogenocarbonates [M(X_xO_2_-_xCOR)_n] (M=metal element, R = organic group having 1 to 10 carbon atoms; X=S
, Se, Te; n = 1 to 5; A method for producing a composite chalcogenide or a composite metal composite chalcogenide.
JP63126945A 1988-05-26 1988-05-26 Method for producing metal composite chalcogenide Expired - Lifetime JP2569723B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011016707A (en) * 2009-06-12 2011-01-27 Dowa Holdings Co Ltd Chalcogen compound powder, chalcogen compound paste, and methods for manufacturing them

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