JPH01288488A - Original plate for direct describing lithographic press - Google Patents

Original plate for direct describing lithographic press

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JPH01288488A
JPH01288488A JP11703588A JP11703588A JPH01288488A JP H01288488 A JPH01288488 A JP H01288488A JP 11703588 A JP11703588 A JP 11703588A JP 11703588 A JP11703588 A JP 11703588A JP H01288488 A JPH01288488 A JP H01288488A
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Eiichi Kato
栄一 加藤
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Abstract

PURPOSE:To achieve high print resistance without causing contamination of texture, by incorporating at least one type of functional group for producing at least one of thiol group, phosphono group, amino group or sulfo group through decomposition and at least one type of partially bridged resin as at least a part of binding agent in an image receiving layer. CONSTITUTION:In an original plate for direct describing lithographic press, resin is at least partially bridged. A resin previously bridged in plate making process when photo-sensitive layer forming material is applied may be employed or a resin containing a bridgeable functional group which may thermally or optically set may be employed, and bridged during manufacturing process. They may also be combinedly used. When a resin where a portion of polymer is previously bridged (A resin having bride structure in the polymer) is employed as a binding resin, it is preferable that the resin is hardly soluble or insoluble into acid or alkaline aqueous solution when the functional group contained in the resin for producing thiol group, phosphono group, amino group and/or sulfo group produces hydrophilic group through decomposition.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は平版印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a lithographic printing original plate, and more particularly to a direct-drawing type lithographic printing original plate suitable for office printing original plates and the like.

(従来技術) 現在、事務用印刷原版としては支持体上に画像受理層を
有する直溝型平版印刷原版が広く用いられている。この
ような印刷原版に製版、即ち画像形成を行なうには一般
に画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか、
タイプライタ−、イングジェット方式あるいは転写型感
熱方式等で印字する方法が採用されている。その他、普
通紙電子写真複写機(PPC)を用いて帯電、露光及び
現像の工程を経て感光体上に形成したトナー画像を画像
受理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。いずれ
にしても製版後の印刷原版は不感脂化液(いわゆるエッ
チ液)で表面処理して非画像部を不惑脂化した後、印刷
版として平版印刷に供せられる。
(Prior Art) Currently, straight groove type lithographic printing plates having an image-receiving layer on a support are widely used as printing plates for office use. To perform plate making, that is, image formation on such a printing original plate, generally, oil-based ink is drawn by hand on the image-receiving layer, or
Printing methods such as a typewriter, an inkjet method, or a transfer type heat-sensitive method are employed. In addition, a method has recently begun to be used in which a toner image formed on a photoreceptor is transferred and fixed onto an image-receiving layer using a plain paper electrophotographic copier (PPC) through the steps of charging, exposure, and development. In any case, the printing original plate after plate making is subjected to surface treatment with a desensitizing liquid (so-called etch liquid) to make the non-image area non-greasy, and then subjected to planographic printing as a printing plate.

従来の面構型平版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。裏面層又
は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エマ
ルジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている。表
面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。
In conventional planographic printing plates, surface layers are provided on both sides of a support such as paper with a back layer and an intermediate layer interposed therebetween. The back layer or intermediate layer is made of a water-soluble resin such as PVA starch, a water-dispersible resin such as a synthetic resin emulsion, and a pigment. The surface layer is formed from a pigment, a water-soluble resin, and a water-resistant agent.

このような直溝型平版印刷原版の代表例は米国特許第2
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
A typical example of such a straight groove type lithographic printing plate is U.S. Patent No. 2.
No. 532,865, the image receiving layer is PV
It is composed mainly of a water-soluble resin binder as shown in A, an inorganic pigment such as silica and calcium carbonate, and a water resistance agent such as an initial condensate of melamine/formaldehyde resin.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、この様にして得られた従来の印刷版は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30°C以上の高
温使用理工ではオフセット印刷に使用する浸し水に表面
層が溶解し、耐刷性の低下及び印刷汚れの両者が発生す
るなど大きな欠点があった。
(Problems to be solved by the invention) However, the conventional printing plates obtained in this way are
In order to improve printing durability, increasing hydrophobicity by increasing the amount of water-resistance agent added or using hydrophobic resin will improve rigidity resistance but reduce hydrophilicity and cause printing stains. However, on the other hand, when the hydrophilicity is improved, the water resistance deteriorates and the rigidity resistance decreases. In particular, in high-temperature applications of 30° C. or higher, the surface layer dissolves in the soaking water used in offset printing, resulting in both reduced printing durability and printing stains, which is a major drawback.

更に、平版印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐剛
性が低下してしまうという問題もあった。
Furthermore, lithographic printing plates are used to draw oil-based inks as image areas on the image-receiving layer, and if the adhesion between the image-receiving layer and the oil-based ink is not good, even if the non-image areas have sufficient hydrophilicity, Even if such printing stains do not occur, there is a problem in that the oil-based ink in the image area is missing during printing, resulting in a decrease in rigidity resistance.

本発明は以上の様な直描型平版印刷用原版の有する問題
点を改良するものである。
The present invention is intended to improve the above-mentioned problems associated with direct drawing type lithographic printing original plates.

本発明の目的は、オフセット原版として全面−様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不感脂化性の
優れた直描型平版印刷用原版を提供することである。
An object of the present invention is to provide a direct-drawing type lithographic printing original plate which has excellent desensitization properties and does not cause not only full-surface scumming but also spot-like scumming as an offset printing plate.

本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
The object of the present invention is to improve the adhesion between the oil-based ink in the image area and the image-receiving layer, to maintain sufficient hydrophilicity in the non-image area even when the number of prints increases, and to prevent background smearing. An object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having high stiffness.

(問題点を解決するための手段) 前記した諸口的は、支持体上に画像受理層を有する直描
型平版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の少
なくとも1部に、分解して少なくとも1個のチオール基
、ホスホ基、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官
能基を少なくとも1種含有する樹脂で、且つ、少なくと
も一部分が架橋されている事を特徴としている。これに
より、本発明による平版印刷用原版は、原画に対して忠
実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好である
ため地汚れも発生せず、画像受理層の平滑性が良好であ
り、更に耐刷力が優れていると°いう利点を有する。
(Means for Solving the Problems) The above-mentioned aspects are such that, in a direct drawing type lithographic printing original plate having an image-receiving layer on a support, at least a part of the binder of the image-receiving layer is decomposed. The resin is characterized in that it contains at least one functional group that forms at least one thiol group, phospho group, amino group, and/or sulfo group, and is characterized in that it is at least partially crosslinked. As a result, the lithographic printing original plate according to the present invention reproduces a copy image that is faithful to the original image, has good hydrophilicity in the non-image area, does not cause scumming, and has a good smoothness of the image-receiving layer. It also has the advantage of excellent printing durability.

更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に左
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
Furthermore, the lithographic printing original plate of the present invention is not affected by the environment during plate-making processing and has excellent storage stability before processing.

以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
Below, the resin containing at least one kind of functional group that decomposes to produce at least one hydrophilic group of thiol group, phospho group, sulfo group and/or amino group (hereinafter simply referred to as hydrophilic group) used in the present invention will be described. (sometimes referred to as group-forming functional group-containing resin) will be explained in detail.

本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
The functional group contained in the hydrophilic group-generating functional group-containing resin of the present invention generates at least one hydrophilic group by decomposition, and the number of hydrophilic groups generated from one functional group may be one or two or more.

以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記一般
式(1)(−3−L^〕で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。
Hereinafter, the resin containing a functional group that generates at least one thiol group upon decomposition (thiol group-generating functional group-containing resin) will be described in detail. Such a resin is, for example, a resin containing at least one functional group represented by the following general formula (1) (-3-L^).

一般式(1):  (−3−LA) 埜“・ 但し、RA、、RA□及びRA3は、互いに同じでも異
なってもよく、各々炭化水素基又は−〇−RA’  (
RA′は炭化水素基を示す)を表わし、RA4、RAl
、RA6、RAff 、RAa 、RA9及びRAIO
は各々独立に炭化水素基を表わす。
General formula (1): (-3-LA) 埜"・ However, RA, RA□ and RA3 may be the same or different from each other, and each represents a hydrocarbon group or -〇-RA' (
RA' represents a hydrocarbon group), RA4, RAl
, RA6, RAff, RAa, RA9 and RAIO
each independently represents a hydrocarbon group.

上記一般式(−3−LA)の官能基は、分解によって、
チオール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
The functional group of the above general formula (-3-LA) can be decomposed by
It produces a thiol group, and will be explained in more detail below.

RAl LAが一3t−RA□を表わす場合において、RA。RAl RA in the case where LA represents 13t-RA□.

RA、 、RA□及びRA、は、互いに同じでも異なっ
ていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい
炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル
基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロ
ピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フ
ェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等
)又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基
、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシ
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロ
フェニル基等)又バー0−RA′ (R”は、炭化水素
基を表わし、具体的には、上記RA、 、RAz、RA
、の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げるこ
とかできる)を表わす。
RA, ,RA , propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group) group), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aromatic group (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.) group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or bar0-RA'(R'' represents a hydrocarbon group, specifically, the above RA, , RAz, RA
The substituents described for the hydrocarbon group can be cited as examples).

合において、RA4、RAl、RA6、R^?、RA。In this case, RA4, RAl, RA6, R^? , R.A.

は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜12
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル
基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル基、2.
2.2−トリフルオロエチル基、L−ブチル基、ヘキサ
フルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシル基等)
、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(
例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、
トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メト
キシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数6〜
12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、
メトキシフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフェ
ニル基等)を表わす。
each preferably has 1 to 12 carbon atoms and may be substituted
linear or branched alkyl groups (e.g. methyl, trichloromethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, ethyl, propyl, n-butyl, hexyl, 3-chloropropyl, phenoxymethyl) , 2.
2.2-trifluoroethyl group, L-butyl group, hexafluoro-1-propyl group, octyl group, decyl group, etc.)
, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (
For example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group,
trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted carbon number 6 to
12 aryl groups (e.g. phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group,
methoxyphenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).

RA、及びRAIllは各々同じでも異なっていてもよ
く、好ましい例としては、前記R^、〜RABで好まし
いとして記載した置換基を表わす。
RA and RAIll may each be the same or different, and preferred examples represent the substituents described as preferred for R^ and ~RAB above.

本発明の他の好ましいチオール基生成官能基台有樹脂は
、一般式(If)又は一般式(■)で示されるチイラン
環を少なくとも1種含有する樹脂である。
Another preferable thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one thiirane ring represented by the general formula (If) or the general formula (■).

一般式(If)  AI 1 一般式(III) X 式(II)において、RAII及びRA□は、互いに同
じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基を
表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA、〜RA、
で好ましいとして記載した置換基を表わす。
General formula (If) AI 1 General formula (III) X In formula (II), RAII and RA□ may be the same or different from each other and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above RA, ~RA,
represents the substituents described as preferred.

式(I[[)において、XAは、水素原子又は脂肪族基
を表わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノ
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を表わす。
In formula (I[[), XA represents a hydrogen atom or an aliphatic group. The aliphatic group is preferably a C1-C6 noalkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
butyl group, etc.).

本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、一般式(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
Still another preferred thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by general formula (IV).

一般式(IV) 式(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を
表わす。
General formula (IV) In formula (IV), YA represents an oxygen atom or an -NH- group.

RA13、RA14及びRAISは、同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜RA、で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
RA13, RA14 and RAIS may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or RA4 to RA above represents a substituent described as preferred.

R’16及びR’l’lは、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、炭化水素基又は−〇−RA“ (RA″
は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R
A 、 、、 RA 、で好ましいとして記載した置換
基を表わす。
R'16 and R'l'l may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -〇-RA"(RA"
represents a hydrocarbon group). Preferably, the R
A , , , RA represents a substituent described as preferred.

本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
According to yet another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-generating functional group-containing resin has a functional group having at least two thiol groups that are sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group. It is a resin containing at least one kind of.

互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記一般式(V)、(VI)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
Examples of functional groups having at least two thiol groups that are sterically close to each other protected simultaneously with one protecting group include the following general formulas (V), (VI) and (
■) can be mentioned.

一般式(V) 一般式(Vl) 一般式(■) 式(V)及び式(VI)において、Z^はへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−3結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +ZA−・−C−
)−結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様に
なっていてもよい。
General formula (V) General formula (Vl) General formula (■) In formula (V) and formula (VI), Z^ directly connects carbon-carbon bonds or C-3 bonds, which may be via a heteroatom. (However, the number of atoms between sulfur atoms is 4 or less). Furthermore, one side +ZA-・-C-
)-bond may represent only a simple bond, for example as shown below.

弐(Vl)において、RAllls RAIIは、同じ
でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−
0−RA“(R”は炭化水素基を示す)を表わす。
In 2 (Vl), RAlls RAII may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -
0-RA" (R represents a hydrocarbon group).

式(Vl)において、RA18及びR^1.は、好まし
くは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭
素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素
数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の
脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、メ
チルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−〇−R”
  (R”はRAI II、RAI。
In formula (Vl), RA18 and R^1. are preferably the same or different and include a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2- methoxyethyl group, octyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), 5 to 7 carbon atoms an alicyclic group (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) or an optionally substituted aryl group (e.g., phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) or -〇-R ”
(R” is RAI II, RAI.

における炭化水素基と同義である)を表わす。(synonymous with hydrocarbon group).

式(■)において、RA2G、RA21% RA22、
RA22は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々
水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原
子又は、RAll1% RAlllにおいて好ましいと
記載した炭化水素基と同義の内容を表わす。
In formula (■), RA2G, RA21% RA22,
RA22 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, it represents a hydrogen atom or the same meaning as the hydrocarbon group described as preferred in RAll1%RAll.

本発明に用いられる一般式(1)〜(■)で示される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
The resin containing at least one functional group represented by the general formulas (1) to (■) used in the present invention is obtained by protecting the thiol group contained in the polymer with a protective group through a polymer reaction. Polymerization by a method or a polymerization reaction of a monomer containing one or more thiol groups in a form previously protected by a protecting group or of said monomer and other monomers copolymerizable therewith. manufactured by the method.

チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、プンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
千オール基とする方法で製造される。
Polymers containing thiol groups inhibit radical polymerization, so it is difficult to directly polymerize thiol group-containing monomers. It is produced by polymerizing monomers with protected thiol groups in the form of the functional groups used in the present invention, such as isothiuronium salts and Punte salts, followed by a decomposition reaction to form 1,000-ol groups.

従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(り〜(■)の官能基
を含有する単量体からの重合反応により製造する方法が
好ましい。
Therefore, it is possible to arbitrarily adjust the functional group protecting the thiol group in the polymer, and it is possible to avoid mixing impurities.
For reasons such as the fact that polymerization will not occur unless the monomer ultimately has a protected thiol group, a method in which the polymer is produced by a polymerization reaction in advance from a monomer containing a functional group of the general formula (2) is preferred.

1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉義勇・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社:1977年刊)、日本化学会場「新実験
化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■]、第
8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社 1
978年刊) 、J、 F、 W、 McOmie、 
rProtective  Groupsin Org
anic Chemistry」第7章(Plenum
 Press。
As a production method for converting one or at least two thiol groups into a functional group protected by a protecting group, for example,
“Reactive Polymers” by Yoshiyu Iwakura and Keisuke Kurita, pages 230-23
7 pages (Kodansha: published in 1977), Nippon Kagaku Venue “New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■], Chapter 8, pp. 1700-1713, (Maruzen Co., Ltd. 1)
(published in 1978), J. F. W. McOmie,
rProtective Groupsin Org
anic Chemistry” Chapter 7 (Plenum
Press.

1973年刊) 、S、 Patai、  ’The 
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John 
Wiley & 5ons 、  1974年刊)等の
総説引例の公知文献記載の方法等を適用することができ
る。
(1973), S. Patai, 'The
Chemistry of the thiol gro
up Part2 J Chapters 12 and 14 (John
It is possible to apply methods described in known literature cited in reviews such as Wiley & 5ons, published in 1974.

1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(I)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つ千オール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(1)〜(■)の官能基に変換する
か、あるいは一般式(1)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
Monomers in which one or more thiol groups are protected with a protecting group, such as monomers containing functional groups represented by formulas (I) to (■), are specifically A compound containing a bond and at least one 1,000-ol group, for example, according to the method described in the above-mentioned known literature, etc.
Converting a thiol group to a functional group of general formulas (1) to (■), or reacting a compound containing a functional group of general formulas (1) to (■) with a compound containing a polymerizable double bond. It can be manufactured by a method.

更に具体的には、一般式(1)〜(■)の官能基を含有
する単量体として以下の様な化合物を挙げることかでき
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
More specifically, the following compounds can be mentioned as monomers containing functional groups of general formulas (1) to (■), but the scope of the present invention is not limited thereto. .

(1)    −(−CH2−CH−)−■ C0CH5 (2)    −+CH,−CH−)−SCOC,H5 (3)    −+CHz−CH−)−! 5COC,H9 (4)    −+CH2−CH’)−■ 5COCH2(1! (5)    −(−CHI−CH−)−3COOC,
H。
(1) -(-CH2-CH-)-■ C0CH5 (2) -+CH,-CH-)-SCOC,H5 (3) -+CHz-CH-)-! 5COC,H9 (4) -+CH2-CH')-■ 5COCH2(1! (5) -(-CHI-CH-)-3COOC,
H.

(9)    −(−CH,−CH−)−CHzSCO
OC,I7 5COCR,CI2 易 S  C00CzHs 5−C3OC2H1 CH2S−COOCH。
(9) -(-CH, -CH-)-CHzSCO
OC,I7 5COCR,CI2 IS C00CzHs 5-C3OC2H1 CH2S-COOCH.

CH25C3OC2H5 喝 S−3−C,H。CH25C3OC2H5 Cheers S-3-C,H.

S  S ! (OCR3)* (20)   −(−CH,−CH−)−COO(CH
2)ZS−COCH2Cp!。
SS! (OCR3)* (20) -(-CH, -CH-)-COO(CH
2) ZS-COCH2Cp! .

CH。CH.

(21)   −+cH2−c+ 喝 C00(CH2)zS −COOC,H5H3 (22)     −(−CF(2−C−)−C00(
CH2)2S−C3OC2H5CH。
(21) -+cH2-c+ C00(CH2)zS -COOC,H5H3 (22) -(-CF(2-C-)-C00(
CH2)2S-C3OC2H5CH.

ゝし113 CH3 (24)   −(−CH2−C−+−(25)   
−+CHz   CH+善 Coo(CHz)zs  S i (CH3)IH3 (26)  −fCH2−C−+− 直 C00CHzCHCH2CH2S−C3OC2L5−C
3OCzHs (27)   −(cH2−CH+− 書 C00(CH□)、5COOC,H。
113 CH3 (24) -(-CH2-C-+-(25)
-+CHz CH+GoodCoo(CHz)zs S i (CH3)IH3 (26) -fCH2-C-+- Direct C00CHzCHCH2CH2S-C3OC2L5-C
3OCzHs (27) -(cH2-CH+- Book C00(CH□), 5COOC,H.

CH3 (28)  −(−CH2−−C−±−C0NH(CH
2)、5COOC,H9(30)−+c H−=c H
−)− 3〉−3 tl、u    utiコ S□S S□S S□S S□S I S□5 (40)       CH。
CH3 (28) -(-CH2--C-±-C0NH(CH
2), 5COOC, H9(30)−+c H−=c H
-)- 3〉-3 tl, u utico S□S S□S S□S S□S I S□5 (40) CH.

■ S□S lI S□5 (42)      cH。■ S□S lI S□5 (42)    cH.

■ −(−CH、−C−÷− 「 C,H。■ -(-CH, -C-÷- " C,H.

(43)   −+CH,−CH→− 曜 OCH,CHCH,5COCH。(43) −+CH, −CH→− day of the week OCH, CHCH, 5COCH.

5COCH。5 COCH.

(44)     −(−CH,−CH−)−■ 0−CH,CHCH。(44) -(-CH, -CH-)-■ 0-CH, CHCH.

S \/ CH。S \/ CH.

■ (45)  −+cHz   C+ (47)        CH。■ (45) -+cHz C+ (47) CH.

−(−CH、−C−±− COO(CH2) 2 S  S C4Hq(49) 
       CH。
-(-CH, -C-±- COO(CH2) 2 S S C4Hq(49)
CH.

(50)        CH。(50) CH.

■ 一+CHt−C+ C00CCH2)2SCOCHC12 (51)  →CH,−CH→− CHz N HCOCHCH2 (52)        CH。■ 1+CHt-C+ C00CCH2)2SCOCH12 (51) →CH, -CH→- CHz N HCOCHCH2 (52) CH.

−(CH2−C−チー ■ (53)      CH。-(CH2-C-Chi ■ (53) CH.

−(CH,−C+ Coo(CH2)2 3  C0NH(CH2)2Nl
lCH3又、本発明において、分解してホスホ基、例え
ば下記一般式(■)又は(IX)の基を生成する官能基
を含有する樹脂について詳しく説明する。
-(CH, -C+ Coo(CH2)2 3 C0NH(CH2)2Nl
lCH3 Also, in the present invention, a resin containing a functional group that decomposes to produce a phospho group, such as a group of the following general formula (■) or (IX), will be explained in detail.

一般式(■) Q[lI 1] P−RB Z”、−H 一般式(IX) 一 −P−Z”、−H 113−H 式(■)において、R′′は炭化水素基又は−72−R
+″(ここでR@ lは炭化水素を示し、ZB□は酸素
原子又はイオウ原子を示す)を表わす。Qlllは酸素
原子又はイオウ原子を表わす。Z”(は、酸素原子又は
イオウ原子を表わす。式(IX)において、Q”z、Z
S、及びZI′4は、各々独立に酸素原子又はイオウ原
子を表わす。
General formula (■) Q[lI 1] P-RB Z", -H General formula (IX) 1-P-Z", -H 113-H In formula (■), R'' is a hydrocarbon group or - 72-R
+'' (where R@l represents a hydrocarbon, ZB□ represents an oxygen atom or a sulfur atom). Qllll represents an oxygen atom or a sulfur atom. Z'' (represents an oxygen atom or a sulfur atom .In formula (IX), Q”z, Z
S and ZI'4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.

好ましくは、R’は置換されていてもよい炭素数1〜1
2、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、
3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、
置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族
基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−Zll
□−R11′(ここでZl′□は、酸素原子又はイオウ
原子を表わす。RB′は炭化水素基を表わし、具体的に
は、上記R”の炭化水素基で述べた置換基類を例として
挙げることができる)を表わす。
Preferably, R' has 1 to 1 carbon atoms, which may be substituted.
2. Straight chain or branched alkyl group (e.g. methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, 2-methoxyethyl group,
3-methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.),
An optionally substituted alicyclic group (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group) basis,
chlorobenzyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group (e.g., phenyl group, chlorophenyl group, tolyl group, xylyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.), or -Zll
□-R11' (Here, Zl'□ represents an oxygen atom or a sulfur atom. RB' represents a hydrocarbon group. Specifically, using the substituents mentioned above for the hydrocarbon group of R'' as an example, ).

Q”、 、Q”□、Zl3、Zl′3、Z−は、各々独
立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
Q", , Q"□, Zl3, Zl'3, and Z- each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.

以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、−般式(X)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
Examples of the functional group that generates the phospho group represented by the formula (■) or (IX) upon decomposition include the functional groups represented by the general formula (X) and/or (XI).

一般式(X) Ql′+ −P−R菖 z++、  Lll。General formula (X) Ql′+ -P-R irises z++, Lll.

一般式(XI) 一 −P−Z−−L− Z”、−L”□ 式(X)及び(XI)において、Q”+ 、Q@t、Z
”r % Z”:+ 、Z!4及びR11はそれぞれ式
(■)及び(XI)で定義した通りの内容を表わす。
General formula (XI) -P-Z--L- Z", -L"□ In formulas (X) and (XI), Q"+, Q@t, Z
"r % Z": +, Z! 4 and R11 represent the contents as defined in formulas (■) and (XI), respectively.

LH,、L11□及びLll、は互いに独立にそれぞれ
RB□は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子
等)又はメチル基を表わす。X a 、及びXl′□は
、電子吸引性置換基を表わし、好ましくはハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等) 、−C
N、−CONH2、−NOx又は−SO□RI′#(R
I′#は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基等の如き炭化水素基を表わす)を
表わす。
LH,, L11□ and Lll, each independently, RB□ may be the same or different from each other, and are hydrogen atoms,
Represents a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.) or a methyl group. X a and Xl'□ represent an electron-withdrawing substituent, preferably a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), -C
N, -CONH2, -NOx or -SO□RI'#(R
I'# represents a hydrocarbon group such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, etc.

nは1又は2を表わす。更に、X l 、がメチル基の
場合には、RB、及びR11□がメチル基でn=1を表
わす。
n represents 1 or 2. Furthermore, when X l is a methyl group, RB and R11□ are methyl groups, and n=1.

R11゜ L”、−L−が−3i−RB4を表わす場合に■ R”S おいて、”3 、R”4及びR11,は、互いに同じで
も異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換され
てもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、。
When R11゜L", -L- represents -3i-RB4, "3", R"4 and R11, in R"S, may be the same or different, preferably a hydrogen atom, a substituted A linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Hexyl group, octyl group.

デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル
基、メトキシエチル基、メトキシブロピル基等)、置換
されていてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、
シクロヘキシル基等) 、置換されてもよい炭素数7〜
12のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基
、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換
されていてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル
基等)又は−0〜RB ’I/ (Rl l″  は、
炭化水素基を表わし、具体的には、上記R”3.RR4
、R−の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げる
ことができる)を表わす。
decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group,
cyclohexyl group, etc.), optionally substituted carbon number 7-
12 aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxy carbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or -0~RB'I/ (Rl l'' is
Represents a hydrocarbon group, specifically, the above R"3.RR4
, the substituents mentioned for the hydrocarbon group of R- can be mentioned as examples).

L−〜LB:lが −C−R”、、 −(、−R”、、
−C−0−R”、 、−C−0−11”、 、又は−8
S −R”l。を表わす場合において、R115、R1′7
、R−1R”9及びR”IOは、各々独立に炭化水素基
を表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜
6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、フェノキシメチルL 2,2.2−1リフルA
ロ工チル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、、L
−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、置
換されていてもよい炭素数7・〜9のア)ルキル基(例
えばベンジル基、フェネチル基、メチ、Izベンジル基
、トリメチルベンジル基、゛・ブタメチル−・ンジル基
、メトキシベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6
〜12のアリール基(例えばフェニル基、l・リル基、
キシリル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メ
タンスルホニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブト
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基等)を表わす。
L-~LB:l is -C-R",, -(,-R",,
-C-0-R", -C-0-11", or -8
In the case of representing S −R”l., R115, R1'7
, R-1R''9 and R''IO each independently represent a hydrocarbon group. Preferably, the number of carbon atoms is 1 or more, which may be substituted.
6 linear or branched alkyl groups (e.g. methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl L 2,2.2-1 Rifle A
ethyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, L
-butyl group, hexafluoro-1-propyl group, etc.), optionally substituted alkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, methyl, Izbenzyl group, trimethylbenzyl group,・Butamethyl--nzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted carbon number 6
~12 aryl groups (e.g. phenyl group, l.lyl group,
(xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).

表わす場合において、’yg、及びYB□は酸素原子又
はイオウ原子を表わす。
In the cases shown, 'yg and YB□ represent an oxygen atom or a sulfur atom.

本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VII[)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
I)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
The resin containing at least one functional group used in the present invention has a hydrophilic group (phospho group) of the above formula (VII[) or (IX) contained in the polymer that is protected by a protective group through a polymer reaction. A method of forming a protected form, or a functional group previously protected with a protecting group (for example, formula (X) or (X
It is produced by a method of polymerizing a monomer containing the functional group I) or a polymerization reaction between the monomer and another monomer that can be copolymerized with the monomer.

いずれの方法においても、保RIMを導入する方法とし
ては、同様の合成反応を用いることができる。具体的に
は、J、 F、 W、 McOmie、 rProte
ctivegroups in Organic Ch
emistry J第6章(PlenumPress、
 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方法、
あるいは日本化学会場[新実験化学講座第14巻、有機
化合物の合成と反応〔■〕」第2497頁(丸善株式会
社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載のヒ
ドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反応、
あるいはS。
In either method, a similar synthetic reaction can be used to introduce the protective RIM. Specifically, J., F., W., McOmie, rProte.
activegroups in Organic Ch
emistry J Chapter 6 (PlenumPress,
(published in 1973), the method described in the known literature cited in the review,
Alternatively, the protection of hydroxyl groups as described in the known literature cited in the review such as Nippon Kagakujou [New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■]], page 2497 (published by Maruzen Co., Ltd., 1978) Synthesis reaction similar to the method of group introduction,
Or S.

Patai、 rThe Chemistry of 
the Trtol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−1nterscience1
974年刊) 、T、 W、 Greene、  rP
rotectivegroups in Organi
c 5ynthesis 」第6章(Wi Iey−I
nterscience 1981年刊)等の総説引例
の公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法
と同様の合成反応により製造できる。
Patai, rThe Chemistry of
the Trtol GroupPart2J Chapters 13 and 14 (Wiley-1interscience1
974), T., W., Greene, rP.
protective groups in Organi
c 5ynthesis” Chapter 6 (Wi Iey-I
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a thiol group as described in the known literature cited in the review such as ``Interscience,'' published in 1981.

保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(XI)の
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
The following examples can be given as specific examples of compounds that can serve as repeating units of polymeric components containing functional groups of general formulas (X) and/or (XI) used as protecting groups. However, the present invention is not limited thereto.

ツ OS i (CH:l)3 0 5i(CHJ* (5B)   −(−CH2−CH−)−OHl  P
  OS i (CzHs)s「 0−3 t (C2H4)3 0  S i (OCHa)3 CH。
TS i (CH:l)3 0 5i(CHJ* (5B) -(-CH2-CH-)-OHl P
OS i (CzHs)s' 0-3 t (C2H4)3 0 S i (OCHa)3 CH.

豪 0COC,H。Australia 0COC,H.

瑠 0−3 i (CH3)z CHz ■ 0−COCH。Ru 0-3 i (CH3)z Hz ■ 0-COCH.

CHz 0−3 i (CH3)3 CH3 O−S i (CH3) tc、lI。Hz 0-3 i (CH3)3 CH3 O-S i (CH3) tc, lI.

CH3 O5i(CHz)s CH。CH3 O5i(CHz)s CH.

閣 5−COCH。Cabinet 5-COCH.

CH。CH.

■ 0COOC,H5 CH。■ 0COOC,H5 CH.

S−COOC2H3 CI。S-COOC2H3 C.I.

1              1t CONHCCHJbOP  OS i (CH3)+0
 5i(CHz)i 蔭 OCOC= Hs CH。
1 1t CONHCCHJbOP OS i (CH3)+0
5i (CHz)i OCOC= Hs CH.

(73)  →CH、−C−+− 曜 5−C3OCH。(73) →CH, -C-+- day of the week 5-C3OCH.

0−3 i (C2H5)3 CH3 (75)   −(−CH,−C+ ■ CH。0-3 i (C2H5)3 CH3 (75) −(−CH, −C+ ■ CH.

0−COoC,H。0-COoC,H.

CH。CH.

(7B)   −(−CH,−C+ Coo(CH,)、0−P−0(CH,)、CN〇(C
Hz)zcN 次に該分解によりアミノ基、例えば−NH2基及び/又
は=N HRC基を生成する官能基として、例えば下記
一般式(Xll)〜(XIV)で表わされる基を挙げる
ことができる。
(7B) -(-CH,-C+ Coo(CH,), 0-P-0(CH,), CN〇(C
Hz)zcN Next, examples of the functional group that generates an amino group, such as a -NH2 group and/or a =N HRC group, by the decomposition include groups represented by the following general formulas (Xll) to (XIV).

一般式(XII) −N−Coo−Rc。General formula (XII) -N-Coo-Rc.

RCO 一般式(XII[) 一般式(XIV) 式(XII)及び式(XIV)中、RCOは各々、水素
原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−
クロロエチルL2−7’ロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
RCO General Formula (XII[) General Formula (XIV) In Formula (XII) and Formula (XIV), RCO represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-
Chloroethyl L2-7' lomoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group,
2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxypropyl group, 6-chlorohexyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), carbon number 7 to 12 optionally substituted aralkyl groups (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, 1-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, etc.), An optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chloromethyl group, chlorophenyl group,
methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.).

好ましくはRC,が該炭化水素基を表わす場合は、炭素
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
Preferably, when RC represents the hydrocarbon group, examples thereof include hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms.

式(Xll)で表わされる官能基において、RC。In the functional group represented by formula (Xll), RC.

は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし
、更に具体的にはRc、は下記式(XV)で示される基
を表わす。
represents an optionally substituted aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, and more specifically Rc represents a group represented by the following formula (XV).

式(XV) + c +−y ’ z 式(XV)中、a1ga!は各々水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、へiシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベン
ジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
クロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル
基等)を表わし、YCは、水素原子、ハロゲン原子(例
えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例
えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2.6−
シメチルフエニル基、2. 4. 6−トリメチルフエ
ニル基、ヘプタメチルフェニル基、2.6−シメトキシ
フエニル基、2,4.6−)リメトキシフヱニル基、2
−プロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−ク
ロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−S
O□−Re6 (Re6は、YCの炭化水素基と同様の
内容を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わす。
Formula (XV) + c + -y' z In formula (XV), a1ga! each has a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, etc.) or a carbon number of 1 to 12
optionally substituted hydrocarbon groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hesyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2
-Chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.), and YC represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), a cyano group, and a carbon number of 1 to 4.
Alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aromatic groups which may contain substituents (e.g. phenyl, tolyl group, cyanophenyl group, 2.6-
dimethylphenyl group, 2. 4. 6-trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2.6-simethoxyphenyl group, 2,4.6-)rimethoxyphenyl group, 2
-propylphenyl group, 2-butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.) or -S
O□-Re6 (Re6 represents the same content as the hydrocarbon group of YC), etc. n represents 1 or 2.

より好ましくは、ycが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のal
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
More preferably, when yc is a hydrogen atom or an alkyl group, al
and a2 represents a substituent other than a hydrogen atom.

YCが水素原子又はアルキル基でない場合にはal及び
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
When YC is not a hydrogen atom or an alkyl group, al and a2 may be any of the groups listed above.

即ち、 +d−+T−Ycにおいて、少なくとび Z も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にかさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
That is, in +d-+T-Yc, when at least Z also forms a group containing one or more electron-withdrawing groups, or when the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group. This shows that this is a preferable example.

又は具体的に、Rclは脂環式基(例えば単環式炭化水
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシルi、i−メチル−シクロヘキシ
ル基、l−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化
水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビ
シクロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わ
す。
Or specifically, Rcl is an alicyclic group (for example, a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl i, i-methyl-cyclohexyl group, l-methylcyclobutyl group, etc.) or a crosslinked Represents a cyclic hydrocarbon group (bicyclooctane group, bicyclooctene group, bicyclononane group, tricyclohebutane group, etc.).

一般式(XI[I)において、RC□及びRe3は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水
素基を表わし、具体的には、式(Xn)のycにおける
脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
In general formula (XI[I), RC□ and Re3 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, specifically, an aliphatic group in yc of formula (Xn) or represents the same content as an aromatic group.

一般式(XTV)において、xCI及びXC2は同じで
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。Rc4 + RC5は同じでも異なっていても
よく、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的
には弐(XII)のycにおける脂肪族基又は芳香族基
を表わす。
In the general formula (XTV), xCI and XC2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom. Rc4 + RC5 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, specifically an aliphatic group or an aromatic group in yc of II (XII).

式(XI[)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示
すが本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the functional groups of formulas (XI[) to (XIV) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

 H3 (79)  −N)IcOOc−C1−1゜CH。H3 (79) -N)IcOOc-C1-1°CH.

Cb Hs (81)  −NHCOOCH,CF。Cb Hs (81) -NHCOOCH, CF.

(82)  −NHCOOCHzCCj2z(83) 
 −NCOOCH,CH,SO□CH。
(82) -NHCOOCHzCCj2z (83)
-NCOOCH, CH, SO□CH.

り CH。the law of nature CH.

CH。CH.

(85)  −NHCOOC−C(1゜CH3 し21”l5 CH。(85) -NHCOOC-C (1°CH3 21"l5 CH.

U ○CHx ■ 0CHICH,OCH3 CaH9 (105)   −NH−P−OC,H。U ○CHx ■ 0CHICH, OCH3 CaH9 (105) -NH-P-OC,H.

I 本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば・−N
 HZ基及び/又は−NHR基)を生成する官能基、例
えば上記一般式(XI[)〜(XIV)の群から選択さ
れる官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば、
日本化掌編、「新実験化学講座第14巻、有機化合物の
合成と反応〔■]」第2555頁(丸善株式会社刊) 
、J、 F、W、 McOmie、’Protecti
ve groups in Organic Chen
+1stry J第2章(Plenum Press 
 1973年刊)、rProtec−tive gro
ups in Organic 5inthesis」
第7章(JohnWiley & 5ons、 198
1刊)等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造
することができる。
I The decomposition used in the present invention results in amino groups (e.g. -N
The resin containing at least one functional group that produces a HZ group and/or -NHR group, for example, a functional group selected from the group of the above general formulas (XI[) to (XIV), is, for example,
Edited by Kasho Nihon, “New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■]” p. 2555 (published by Maruzen Co., Ltd.)
, J., F., W., McOmie, 'Protecti.
ve groups in Organic Chen
+1try J Chapter 2 (Plenum Press
(published in 1973), rProtec-tive gro
ups in Organic 5inthesis”
Chapter 7 (John Wiley & 5ons, 198
It can be produced by a method described in a known literature cited in a review such as No. 1).

重合体中の一般式(XII)〜(XIV)の官能基を任
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む
1級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載
された方法に従って、そのアミン基を一般式(XI[)
〜(XIV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない
製造することができる。
For reasons such as being able to arbitrarily adjust the functional groups of general formulas (XII) to (XIV) in the polymer or preventing the inclusion of impurities, the functional groups of general formulas (XII) to (XIV) are prepared in advance. A method of manufacturing by polymerization reaction from the monomers contained is preferred. Specifically, the amine group is converted into a primary or secondary amino group containing a polymerizable double bond by the general formula (XI [)
After converting into the functional groups of ~(XIV), a polymerization reaction can be performed to produce the functional group.

更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、一般式(XI)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
Furthermore, examples of the functional group that generates at least one sulfo group upon decomposition include general formula (XI) or (X
) are mentioned.

一般式(xvt)  −so□−〇  RD+一般式(
X■) −3O□−3RD2 早°・ 又は−NHCORI′、を表わす。
General formula (xvt) -so□-〇 RD+General formula (
X■) -3O□-3RD2 represents early ° or -NHCORI'.

式(X■)中、R0□は、炭素数1〜1Bの置換されで
もよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。
In formula (X■), R0□ represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 1B carbon atoms, or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms, which may have a substituent.

上記一般式(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
The functional groups of the general formulas (XVI) and (X■) above generate sulfo groups upon decomposition, and will be explained in more detail below.

RD。R.D.

R11,が −+ch−Y”を表わす場合において、R
D4 RD3 、R”4は同じでも異なってもよく水素原子、
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等
)又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル
基、メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、2−
メトキシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基
、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチ
ル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、
炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を
含有してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基
、メタイスルホニルフェニル基、ベンゼンスルホニルフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル
基、ニトロナフチル基等)、又は−C−RD、(R’、
は、脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的にはYDで
記した該置換基の内容と同一のものを表わす)を表わす
When R11, represents −+ch-Y”, R
D4 RD3 and R”4 may be the same or different and are hydrogen atoms,
It represents a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group). Y is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group,
Butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group, 2-
methoxyethyl group, ethoxymethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-propoxycarbonylethyl group, methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group),
An optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group, allyl group, etc.), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may contain a substituent (e.g. phenyl group, naphthyl group, nitrophenyl group) group, dinitrophenyl group, cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, metaisulfonylphenyl group, benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group etc.), or -C-RD, (R',
represents an aliphatic group or an aromatic group, specifically, represents the same substituent as described for YD).

nは0.1又は2を表わす。より好ましくは、RD。n represents 0.1 or 2. More preferably RD.

置換sニー+c)□YDにおいて、少なくとも1つ■ RD4 の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。Substitution s knee + c) □ In YD, at least one ■ RD4 Examples include functional groups containing an electron-withdrawing group.

具体的には、nが0で、YDが置換基としして電子吸引
性基を含有しない炭化水素基の場合、RD。
Specifically, when n is 0 and YD is a hydrocarbon group containing no electron-withdrawing group as a substituent, RD.

一←C)−において、少なくとも1ヶ以上のハロRD。1←C)-, at least one halo RD.

ゲン原子を含有する。又nが0.1又は2で、YDが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更に埜°・ 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−1−C−1−3O□−1−CN、−No
□等が挙げられる。
Contains a gen atom. Further, n is 0.1 or 2, and YD contains at least one electron-withdrawing group. Further examples include 埜°・ and so on. The electron-withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant, such as a halogen atom, -COO-1-C-1-3O□-1-CN, -No
□ etc.

もう1つの好ましい置換基とし゛乙−3O□−0−RD
において酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも2つ
の炭化水素基が置換するかあるいは、n=0又は1で、
Yl′がアリール基の場合に、アリール基の2−位及び
6−位に置換基を有する場合が挙げられる。
Another preferred substituent is ゛-3O□-0-RD
at least two hydrocarbon groups are substituted on the carbon atoms adjacent to the oxygen atom, or n=0 or 1,
When Yl' is an aryl group, the aryl group may have substituents at the 2-position and the 6-position.

いて、ZDは、環状イミド基を形成する有機残基を表わ
す。好ましくは、一般式(X■)又は(X’ IX )
で示される有機残基を表わす。
where ZD represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, general formula (X■) or (X' IX )
represents an organic residue represented by

一般式(X■) 一般式(XIX) 式(X■)中、RIlll、RD、。は各々同じでも異
なってもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されて
もよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエ
チル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニ
ル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)
、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例
えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等
)、炭素数3〜1日の置換されてもよいアルケニル基(
例えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、R”S、RD&は各々水素原子、脂肪族基(具体
的には、RD、、Rへのそれは同一の内容を表わす)又
はアリール基(具体的にはRD、、Ra4のそれと同一
の内容を表わす)を表わす。
General formula (X■) General formula (XIX) In formula (X■), RIll, RD,. may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, doditer group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-
chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-(methanesulfonyl)ethyl group, 2-(ethoxyoxy)ethyl group, etc.)
, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.) , an optionally substituted alkenyl group having 3 to 1 carbon atoms (
For example, allyl group, 3-methyl-2-propenyl group), where R''S and RD& are each a hydrogen atom, an aliphatic group (specifically, RD, , and R represent the same content), or aryl represents a group (specifically, RD, represents the same content as that of Ra4).

但しR1+、及びR’6がともに水素原子を表わすこと
はない。
However, R1+ and R'6 do not both represent hydrogen atoms.

RD、が−NHCOR”、を表わす場合において、RD
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
D、 、R114のそれは同一の内容を各々表わす。
When RD represents -NHCOR, RD
represents an aliphatic group or an aryl group, specifically, R
D, , and R114 each represent the same content.

式(X■)中、R11□は、炭素数1〜1日の置換され
てもよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。
In formula (X■), R11□ represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 1 carbon atoms or an optionally substituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms.

更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYD
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
More specifically, YD represented by the above formula (XVI)
represents the same content as the aliphatic group or aryl group in .

本発明に用いられる、一般式〔−3O□−〇−RD、 
)又は〔−3O□−0−R”□〕群から選択される官能
基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有され
るスルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又
は(X■)の官能基に変換する方法、又は、一般式(X
VI)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有す
る、1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと
共重合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法
により製造される。
General formula [-3O□-〇-RD, used in the present invention,
) or [-3O-0-R" A method of converting into a functional group of the general formula (X
Polymerization by a polymerization reaction of one or more monomers containing one or more of the functional groups VI) or (X■), or the monomer and other monomers copolymerizable with it. Manufactured by a method.

高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
The method for converting into the functional group by polymer reaction can be carried out in the same manner as the synthesis method for monomers.

更に具体的に一般式(XVI)−3Q、−0−R”。More specifically, general formula (XVI)-3Q, -0-R''.

又は一般式(X■)−3O□−ORDzの官能基として
以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲は
これらに限定されるものではない。
Alternatively, the following examples can be given as the functional group of the general formula (X■)-3O□-ORDz, but the scope of the present invention is not limited thereto.

(108)  −3O,OCH,CF。(108) -3O,OCH,CF.

(110)   −3o□OCHz(CHF )z C
Hz F(111)   −3O,0CH2CCffi
3(l l 3)   −3O,0(CH□)2SO,
C,H。
(110) -3o□OCHz(CHF)z C
Hz F(111) -3O,0CH2CCffi
3(l l 3) -3O,0(CH□)2SO,
C,H.

/ CH。/ CH.

CH3 OCH3 C,HS ■ (122)    5OzOCHC0CaHq(123
)    5OzO(CH=)zso□Cz Hs(1
24)   −3O,SC,T(。
CH3 OCH3 C,HS ■ (122) 5OzOCHC0CaHq(123
) 5OzO(CH=)zso□Cz Hs(1
24) -3O,SC,T(.

(125)   −3o□S Cb H1s(126)
   −3O,5(C1(Z)20C,H。
(125) -3o□S Cb H1s (126)
-3O,5(C1(Z)20C,H.

(12B)   −3OtOCH,CHFCH2F前記
した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法におい
て用いられる一般式(I)〜(■)、(X)〜(XIV
)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共重合
体成分について更に具体的に述べると、例えば下記一般
式(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合
体成分例に限定されるものではない。
(12B) -3OtOCH, CHFCH2F As mentioned above, general formulas (I) to (■), (X) to (XIV
. However, the copolymer components are not limited to these examples.

一般式(A) at     a、巳 一÷−CH−C+ 「 x’ −y’ −w 式(A)中、X′は、−O−、−CO−。General formula (A) at a, snake One÷−CH−C+ " x'-y'-w In formula (A), X' is -O-, -CO-.

Q、        Q。Q, Q.

I −Coo−、−0CO−、−NGO−、−CON−。I -Coo-, -0CO-, -NGO-, -CON-.

Q、    Q。Q, Q.

Sow  、   5OzN  、   NSO□−、
CH2b。
Sow, 5OzN, NSO□-,
CH2b.

COO−、−CHzOCO−、(−Ch−、芳香族基、
又はへテロ環基を示す[但し、Q、、Q!、Q、。
COO-, -CHzOCO-, (-Ch-, aromatic group,
or a heterocyclic group [however, Q,,Q! ,Q.

Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(VI)中
の +Y’−W)を表わし、b、、b、は同じでも異な
っていてもよ(、水素原子、炭化水素基又は式(Vl)
中の →N’−W)を表わし、nは0〜18の整数を示
す〕。
Q4 each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or +Y'-W) in formula (VI), and b, , b may be the same or different (, a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or +Y'-W) in formula (VI); Vl)
→N'-W), where n is an integer from 0 to 18].

Y′は、結合基X′と結合基〔W〕を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 −+CH=CH:F、−0−、−3−.−N−。
Y' represents a carbon-carbon bond that connects the bonding group X' and the bonding group [W], which may be via a heteroatom; examples of the heteroatom include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom); -+CH=CH:F, -0-, -3-. -N-.

−C00〜、−CONH−、−3o□−2−3O□NH
−、−NHCOO−、−NHCONH−、等の結合単位
の単独又は組合せの構成より成るものである(但しb3
.b、、bsは、各々前記す、。
-C00~, -CONH-, -3o□-2-3O□NH
-, -NHCOO-, -NHCONH-, etc., either singly or in combination (however, b3
.. b, , bs are each as described above.

b、と同義である。) Wは式(I)〜(■)、(X)〜(XIV)、(XVI
)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
It is synonymous with b. ) W is the formula (I) ~ (■), (X) ~ (XIV), (XVI
) or (X■) represents a functional group.

al、azは同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
al and az may be the same or different, and hydrogen atoms,
Halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, hydrocarbon group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyl group) 1 to 1 carbon atoms that may be substituted such as oxycarbonyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, etc.
(2), an aralkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, an aryl group such as a phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, etc.), or a substituent containing a -W group in formula (A). an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group,
represents an alicyclic group or an aromatic group).

又、式(A)中の(−X’ −Y’ )結合残基はt ■ ←C−)一部と−W部を直接連結させてもよい。In addition, the (-X'-Y') bonding residue in formula (A) is t ■ ←C-) Part and -W part may be directly connected.

■ これらの本発明の共重合体成分とともに、共重合し得る
他の共重合体成分としては、それらに相当する単量体と
してその例を挙げれば、例えば、酢酸ビニル。プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸ア
リル等の如き脂肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエ
ステル類、アクリル酸、メタクリル酸、スロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマール酸等の如き不飽和カル
ボン酸及びこれらの不飽和カルボン酸のエステル類又は
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリ
ロニトリル、メタクロニトリJL/、N−ビニルピロリ
ドンの如きビニル基置換のへテロ環化合物等が挙げられ
る。
(2) Examples of other copolymer components that can be copolymerized with these copolymer components of the present invention include vinyl acetate. Aliphatic carboxylic acid vinyl or allyl esters such as vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl propionate, etc., unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, slotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. and esters or amides of these unsaturated carboxylic acids, styrene, vinyltoluene, styrene derivatives such as α-methylstyrene, α-olefins, vinyl-substituted compounds such as acrylonitrile, methachronitri, and N-vinylpyrrolidone. Examples include heterocyclic compounds.

本発明の樹脂は更に、直描型平版印刷用原版において、
少なくともその一部分が架橋されていることを特徴とす
る。
The resin of the present invention can further be used in a direct drawing type lithographic printing original plate,
It is characterized in that at least a portion thereof is crosslinked.

かかる樹脂としては、製版工程における感光層形成物塗
布時に予め架橋されている樹脂を用いてもよいし、ある
いは、熱及び/又は光で硬化反応を起こすような架橋性
官能基を含有する樹脂を用いて平版印刷用原版製造工程
中(例えば乾燥工程中)に架橋させてもよい。更にこれ
らを併用してもよい。
As such a resin, a resin that has been crosslinked in advance during application of the photosensitive layer forming material in the plate-making process may be used, or a resin containing a crosslinkable functional group that causes a curing reaction with heat and/or light may be used. It may also be used to crosslink during the manufacturing process of the lithographic printing original plate (for example, during the drying process). Furthermore, these may be used in combination.

重合体の一部分が、予め架橋された樹脂(重合体中に架
橋構造を有する樹脂)を結着樹脂として用いる場合には
、該樹脂中に含有される前記のチオール基、ホスホ基、
アミノ基及び/又はスルホ基の親水性基を生成する官能
基が分解により該親水性基を生成したときに、酸性及び
アルカリ性の水溶液に対して難溶もしくは不溶性である
樹脂が好ましい。
When using a resin in which a portion of the polymer has been crosslinked in advance (resin having a crosslinked structure in the polymer) as a binder resin, the above-mentioned thiol group, phosphor group,
Preferably, the resin is sparingly soluble or insoluble in acidic and alkaline aqueous solutions when the hydrophilic group-forming functional group of the amino group and/or sulfo group forms the hydrophilic group by decomposition.

具体的には、蒸留水に対する溶解度が20〜25℃の温
度において好ましくは90重量%以下、より好ましくは
70重量%以下の溶解性を示すものである。
Specifically, the solubility in distilled water is preferably 90% by weight or less, more preferably 70% by weight or less at a temperature of 20 to 25°C.

重合体中に架橋構造を導入する方法としては、通常知ら
れている方法を利用することができる。
As a method for introducing a crosslinked structure into a polymer, commonly known methods can be used.

即ち、単量体の重合反応において、多官能性単量体を共
存させて重合する方法及び重合体中に、架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
That is, in the polymerization reaction of monomers, there are two methods: a method in which a polyfunctional monomer is coexisting, and a method in which a functional group that promotes a crosslinking reaction is contained in the polymer and crosslinked by a polymer reaction.

本発明の樹脂が、画像受理特性を損なわないこと、ある
いは製造方法が簡便なこと(例えば、長時間の反応を要
する、反応が定量的でない、反応促進助剤を用いる等で
不純物が混入する等)等から、自己橋かけ反応を有する
官能基ニーCONHCM、OR’ (R”は水素原子又
はアルキル基)あるいは、重合による橋かけ反応が有効
である。
The resin of the present invention does not impair image-receiving properties, or the manufacturing method is simple (e.g., a long reaction is required, the reaction is not quantitative, impurities are mixed in due to the use of a reaction accelerator, etc.) ) etc., a functional group CONHCM, OR'(R" is a hydrogen atom or an alkyl group) having a self-crosslinking reaction or a crosslinking reaction by polymerization is effective.

重合反応性基において、好ましくは、重合性官能基を2
個以上有する単量体を本発明の分解により親水性基を生
成する官能基を含有する単量体とともに重合する方法、
あるいは、該重合性官能基を2個以上有する単量体を親
水性基を含有する単量体とともに重合して共重合体とし
た後、前記した様に親水性基を保護する方法によって、
本発明の樹脂を製造することができる。
In the polymerization-reactive group, preferably the polymerizable functional group is 2
A method of polymerizing a monomer having 1 or more monomers together with a monomer containing a functional group that generates a hydrophilic group by decomposition according to the present invention,
Alternatively, a monomer having two or more of the polymerizable functional groups is polymerized with a monomer containing a hydrophilic group to form a copolymer, and then the hydrophilic group is protected as described above.
The resin of the present invention can be produced.

重合性官能基として具体的に、CH,=CH−1CH2
= CHCHz−1CH,=CH−C−0−1CH,C
HI    0 11I CH2=C−C−0−1CH=CH−C−O−1CH3 CH,=CH−C0NH−1CH,=C−C0NH−1
CH,=CH−NHCO−1CHz = CHCH! 
 N HCO−CHz−CHSow−1CH,=CH−
C0−1CH,=CH−0−1CH,=CH−3−1等
を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個以
上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のもの
あるいは異なったものを2個以上有した単量体であれば
よく、重合によって非水溶剤に不溶な重合体を形成する
Specifically, the polymerizable functional group is CH,=CH-1CH2
=CHCHz-1CH,=CH-C-0-1CH,C
HI 0 11I CH2=C-C-0-1CH=CH-C-O-1CH3 CH,=CH-C0NH-1CH,=C-C0NH-1
CH, =CH-NHCO-1CHz = CHCH!
N HCO-CHz-CHSow-1CH,=CH-
C0-1CH, =CH-0-1CH, =CH-3-1, etc. can be mentioned, but monomers having two or more of the above polymerizable functional groups may have these polymerizable functional groups in the same Any monomer may be used as long as it has two or more different monomers, and forms a polymer that is insoluble in non-aqueous solvents by polymerization.

重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、#400、#600、l、  3
−ブチレンクリコール、ネオペンチルグリコール、ジプ
ロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリ
メチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエ
リスリトールなど)又は、ポリヒドロキシフェノール(
例えばヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそ
れらの誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロト
ン酸のエステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテ
ル類:二塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、
イタコン酸、等)のビニルエステル類、アIJ ルエス
テル類、ビニルアミド類又はアリルアミド類:ポリアミ
ン(例えばエチレンジアミン、1.3−プロピレンジア
ミン、1. 4−ブチレンジアミン等)とビニル基を含
有するカルボン酸(例えば、メタクリル酸、アクリル酸
、クロトン酸、アリル酢酸等)との縮合体などが挙げら
れる。
Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene; polyhydric alcohols (e.g. ethylene Glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200, #400, #600, l, 3
-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.) or polyhydroxyphenol (
Esters, vinyl ethers or allyl ethers of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid (e.g. hydroquinone, resorcinol, catechol and their derivatives); dibasic acids (e.g. malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid) , maleic acid, phthalic acid,
Itaconic acid, etc.) vinyl esters, aluminum esters, vinylamides or allylamides: Polyamines (e.g. ethylene diamine, 1,3-propylene diamine, 1,4-butylene diamine, etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups ( Examples include condensates with methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

又、異なる重合性官能基を有する単量体として、例えば
、ビニル基を含有するカルボン酸〔例えば、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢
酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピ
オン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオ
ン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応
体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリ
ルオキシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニル
安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸、等)
等〕のビニル基を含有したエステル誘導体又はアミド誘
導体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル
、イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸
アリル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル
、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイル
プロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボ
ニルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニ
ルメチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリ
ルアクリルアミド、N−アリルメタクリルアミド、N−
アリルイタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸
アリルアミド、等)、又は、アミノアルコール類(例え
ばアミノエタノール、1−アミツブパノール、1−アミ
ノブタノール、1−アミノヘキサノール、2−アミノブ
タノール等)と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合
体などが挙げられる。
In addition, monomers having different polymerizable functional groups include, for example, carboxylic acids containing vinyl groups [e.g., methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloylpropionic acid, acryloylpropionic acid, itaconyloyl acetic acid, itaco Niloylpropionic acid, reactants of carboxylic anhydrides and alcohols or amines (e.g. allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropionic acid, etc.)
Ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups (e.g., vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloylpropionate, methacryloyl Allyl propionate, vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, vinyloxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene ester acrylate, N-allylacrylamide, N-allylmethacrylamide, N-
allyl itaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allyl amide, etc.) or amino alcohols (e.g. aminoethanol, 1-amitubupanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a vinyl group. Examples include carboxylic acid condensates.

本発明に用いられる2個以上の重合性官能基を有する単
量体は、全単量体の10モル%以下、好ましくは5モル
%以下用いて重合し、樹脂を形成する。
The monomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is used in an amount of 10 mol % or less, preferably 5 mol % or less of the total monomers, to polymerize and form a resin.

一方、本発明においては、前記の親水性基生成官能基と
ともに熱及び/又は光で硬化反応を起こす架橋性官能基
を含有する樹脂を結着剤として用いて、その後の原版製
造工程において架橋構造が形成されてもよい。
On the other hand, in the present invention, a resin containing a crosslinkable functional group that causes a curing reaction with heat and/or light together with the hydrophilic group-forming functional group is used as a binder to form a crosslinked structure in the subsequent original plate manufacturing process. may be formed.

該官能基は、分子間で化学反応を生じ化学結合を形成し
得るものであればいずれでもよい。即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
The functional group may be any functional group as long as it can cause a chemical reaction between molecules and form a chemical bond. That is, it is possible to use a reaction mode in which bonding between molecules by condensation reaction, addition reaction, etc. or crosslinking by polymerization reaction is caused by heat and/or light.

具体的には、解離性の水素原子を有する官能基〔(例え
ば−COOH基、−PO3H基、 P  R+″内容の
基又は−ORτ′基(R;′はR′;の基と同一の内容
)を表わす)−OH基、−3H基、−NH−R′;基(
R′;は、水素原子又はメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等の炭素数1〜4のアルキ10\    
/S\ ル基を表わす)]と]−CH2−CH1−CH,−CH
1せを少なくとも1組含有する場合あるいは、C0NH
CHt OR’ s (R’ xは水素原子又はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
炭素数1〜6のアルキル基を表わす)又は重合性二重結
合基等が挙げられる。
Specifically, a functional group having a dissociable hydrogen atom [(e.g. -COOH group, -PO3H group, a group with PR+'' content or an -ORτ' group (R;' is a group with the same content as R'; ) -OH group, -3H group, -NH-R'; group (
R' is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.
/S\ represents a group)] and] -CH2-CH1-CH, -CH
When containing at least one set of C0NH
CHt OR' s (R' x represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group) or a polymerizable double bond group, etc. .

該重合性二重結合基として具体的には、前記の重合性官
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable double bond group include those mentioned above as specific examples of the polymerizable functional group.

更には、例えば、遠応剛、「熱硬化性高分子の精密化(
C1M、C■、1986年刊)、原崎勇次、「最新バイ
ンダー技術便覧」第1I−1章(総合技術センター、1
985年刊)、大津随行「アクリル樹脂の合成・設計と
新用途開発」 (中部経営開発センター出版部、198
5年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」 (テク
ノシステム1985年刊)乾英夫、永松元太部、「感光
性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田隆弘、「
新・感光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981年刊)
、G、 E、 Green and、 B、P、5ta
r R+ J、 Macro、 5ciRevs Ma
cro、 Chem、、 C21(2)、 187〜2
73(19B1〜B2)。
Furthermore, for example, Tsuyoshi Ono, ``Refinement of thermosetting polymers (
C1M, C■, published in 1986), Yuji Harasaki, "Latest Binder Technology Handbook" Chapter 1I-1 (General Technology Center, 1
(Published in 1985), “Synthesis, Design and Development of New Applications of Acrylic Resins” accompanied by Otsu (Chubu Management Development Center Publishing Department, 1988)
5 years), Eizo Omori, "Functional Acrylic Resins" (Technosystem, 1985 publications), Hideo Inui, Gentabe Nagamatsu, "Photosensitive Polymers" (Kodansha, 1977 publications), Takahiro Tsunoda, "
"New Photosensitive Resin" (Printing Society Publishing Department, published in 1981)
, G, E, Green and, B, P, 5ta
r R+ J, Macro, 5ciRevs Ma
cro, Chem, C21(2), 187-2
73 (19B1-B2).

C,G、 Roffey、  ’Photopolym
erization of SurfaceCoati
ngs」(A、 Wiley Interscienc
e Pub、 1982年刊)等の総説に引例された官
能基・化合物等を用いることができる。
C.G. Roffey, 'Photopolym
erization of SurfaceCoati
ngs” (A, Wiley Interscience
Functional groups, compounds, etc. cited in reviews such as E.Pub, 1982) can be used.

これらの架橋性官能基は、親水性基生成官能基とともに
、一つの共重合体成分中に含有されていてもよいし、親
水性基生成官能基を含有する共重合体成分とは別個の共
重合体成分中に含有されていてもよい。
These crosslinkable functional groups may be contained in one copolymer component together with the hydrophilic group-forming functional group, or may be contained in a separate copolymer component from the copolymer component containing the hydrophilic group-forming functional group. It may be contained in the polymer component.

これらの架橋性官能基を含有する共重合体成分に相当す
る単量体の具体的なものとしては、例えば、前記一般式
(A)と共重合し得る該官能基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。
Specific monomers corresponding to the copolymer component containing these crosslinkable functional groups include, for example, vinyl compounds containing the functional group that can be copolymerized with the general formula (A). Either one is fine if you have it.

例えば、高分子データ「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
For example, see the Polymer Data Handbook [Polymer Data Handbook]
Basic Edition] Baifukan (published in 1986), etc.

具体的には、アクリル酸α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリ
ブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブ
ロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α、β−ジクロ
ロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エ
ステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−ア
ルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メ
チル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−
2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マ
レイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミ
ド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体
、アミド誘導体の置換基中に該架橋性官能基を含有する
化合物等が挙げられる。
Specifically, acrylic acid α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-dichloro methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid) , 4-methyl-
2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups, ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing the crosslinkable functional group in the substituent of amide derivatives.

本発明の樹脂における「架橋性官能基を含有する共電体
成分」の割合は、該樹脂中好ましくは1〜80重量%で
ある。より好ましくは、5〜50重量%である。
The proportion of the "coelectric component containing a crosslinkable functional group" in the resin of the present invention is preferably 1 to 80% by weight in the resin. More preferably, it is 5 to 50% by weight.

かかる樹脂には、架橋反応を促進させるために、必要に
応じて、反応促進剤を添加してもよい。例えば、酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、P−ト
ルエンスルホンM等) 、過酸化物、アゾビス系化合物
、架橋剤、増悪剤、光重合性単量体等が挙げられる。具
体的には、架橋剤としては、具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている化合物等を用いることができる。
If necessary, a reaction accelerator may be added to such a resin in order to promote the crosslinking reaction. Examples include acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, P-toluenesulfone M, etc.), peroxides, azobis compounds, crosslinking agents, aggravating agents, photopolymerizable monomers, and the like. Specifically, as the crosslinking agent, compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), etc. can be used.

例えば、通常用いられる、有機シラン、ポリウレタン、
ポリイソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。
For example, commonly used organic silane, polyurethane,
A crosslinking agent such as polyisocyanate, a curing agent such as epoxy resin, melamine resin, etc. can be used.

光架橋反応性の官能基を含有する場合には、前記した感
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
When containing a photocrosslinking-reactive functional group, the compounds cited in the above-mentioned review of photosensitive resins can be used.

架橋性官能基を含有する樹脂を用いた場合には、重合体
の少なくとも一部における架橋は画像受理層を形成する
過程あるいはエツチング処理前の加熱及び/又は光照射
の過程等で行なわれ得る。通常は、熱硬化処理を行なう
のが好ましい。この熱硬化処理は従来の感光体作製時の
乾燥条件を厳しくすることにより行うことができる。例
えば、60°C〜120°Cで5分〜120分間処理す
ればよい。上述の反応促進剤を併用すると、より穏かな
条件で処理することが可能となる。
When a resin containing a crosslinkable functional group is used, crosslinking in at least a portion of the polymer can be carried out during the process of forming the image-receiving layer or during the process of heating and/or light irradiation before etching. Usually, it is preferable to perform a thermosetting treatment. This heat curing treatment can be performed by tightening the drying conditions during conventional photoreceptor production. For example, the treatment may be performed at 60°C to 120°C for 5 minutes to 120 minutes. When the above-mentioned reaction accelerator is used in combination, it becomes possible to perform the treatment under milder conditions.

本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげら
れ、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、
イメージング、1973(Nα8)第9頁等の総説引例
の公知材料等が挙げられる。
Conventionally known resins can also be used together with the resins used in the present invention. Examples include silicone resins, alkyd resins, vinyl acetate resins, polyester resins, styrene-butadiene resins, acrylic resins, etc., as described above.
Vol. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei,
Examples include known materials cited in reviews such as Imaging, 1973 (Nα8), page 9.

本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
Inorganic pigments are used as other components of the image-receiving layer of the present invention, such as kaolin clay,
Examples include calcium carbonate, silica, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, and alumina.

画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0,5〜5)、好ましくは1/(0,8〜2.
5)程度が適当である。
The ratio of binder resin/pigment in the image-receiving layer varies depending on the type of material and particle size in the case of pigment, but is generally 1/(0.5 to 5), preferably 1/(0.8) by weight. ~2.
5) The level is appropriate.

その他画像受理層には、膜強度をより向上させるために
架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、有機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
In addition, a crosslinking agent may be added to the image-receiving layer in order to further improve the film strength. As the crosslinking agent, commonly used ammonium chloride, organic peroxide, metal soap, organic silane, polyurethane crosslinking agent, epoxy resin curing agent, etc. can be used. Specifically, they are described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981).

本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。
Examples of the support used in the present invention include wood-free paper, wet reinforced paper, plastic film such as polyester film, and metal plate such as aluminum plate.

本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
In the present invention, an intermediate layer is provided between the support and the image-receiving layer for the purpose of improving water resistance and interlayer adhesion, and a back coat layer is provided on the support surface opposite to the image-receiving layer for the purpose of preventing curling. I can do it.

ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン−ブタジェン共
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等の
少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応じ
て無機顔料や耐水化剤を添加することができる。
Here, the intermediate layer is made of acrylic resin, styrene-butadiene copolymer, methacrylate ester-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-
Emulsion type resin such as vinyl acetate copolymer; solvent type resin such as epoxy resin, polyvinyl butyral, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate; composed mainly of at least one type of water-soluble resin as mentioned above. However, inorganic pigments and waterproofing agents can be added as necessary.

バックコート層の構成も中間層とほぼ同様である。The structure of the back coat layer is also almost the same as that of the intermediate layer.

PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が1010〜1013Ωlとなるように、
更に画像受理層、中間層及び/又はバックコート層に誘
電剤を添加することができる。誘電剤としては無機系の
ものでも有機系のものでもよく、無機系のものではNa
、に、Li、Mg5Zn、Co、Ni等の1価又は多価
金属の塩が、また有機系のものではポリビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライド、アクリル樹脂変性
四級アンモニウム塩等の高分子カチオン導電剤や高分子
スルホン酸塩のような高分子アニオン導電剤が挙げられ
る。これらの導電剤の添加量は重量に使用されるバイン
ダー量の3〜40重量%、好ましくは5〜20重量%で
ある。
When used as PPC plate-making, in order to further reduce background staining of the printing original plate of the present invention, the volume resistivity of the printing original plate is set to 1010 to 1013 Ωl.
Additionally, dielectric agents can be added to the image-receiving layer, interlayer and/or backcoat layer. The dielectric agent may be inorganic or organic.
, salts of monovalent or polyvalent metals such as Li, MgZn, Co, and Ni, and organic ones such as polyvinylbenzyltrimethylammonium chloride, acrylic resin-modified quaternary ammonium salts, and polymeric cationic conductive agents. Examples include polymeric anionic conductive agents such as molecular sulfonates. The amount of these conductive agents added is 3 to 40% by weight, preferably 5 to 20% by weight of the amount of binder used.

本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい。なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30 g/
rtT、5〜20g/ボ、5〜20g/ボが適当である
In general, to make the lithographic printing original plate of the present invention, an aqueous solution containing an intermediate layer component, if necessary, is applied to one side of the support, dried to form an intermediate layer, and then an aqueous solution containing an image-receiving layer component is applied to one side of the support. An image-receiving layer is formed by coating and drying, and if necessary, an aqueous liquid containing backcoat layer components is coated on the other side and drying to form a backcoat layer. The amount of each of the image-receiving layer, intermediate layer, and back coat layer is 1 to 30 g/
rtT, 5 to 20 g/bo, 5 to 20 g/bo is suitable.

(実施例) 以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれら
に限定されるものではない。
(Example) Examples of the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited thereto.

実施例1 ベンジルメタクリレート30g、下記の化合物例(A)
の単量体70g、アクリル酸0.2gジビニルベンゼン
1.5g及びトルエン300gの混合溶液を窒素気流下
75°Cの温度に加温した後、2.2′−アゾビスイソ
ブチロニトリル(A I BN)1.0gを加え8時間
反応した。得られた共重合体〔1〕の重量平均分子量は
350,000であった。
Example 1 30 g of benzyl methacrylate, the following compound example (A)
A mixed solution of 70 g of monomers, 0.2 g of acrylic acid, 1.5 g of divinylbenzene, and 300 g of toluene was heated to 75°C under a nitrogen stream, and then 2.2'-azobisisobutyronitrile (A 1.0 g of IBN) was added and reacted for 8 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [1] was 350,000.

続いて、この共重合物40g〔固形分量として)、酸化
亜鉛150 g、及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で1時間分散して画像受理層形成物を調整し、
これを上質紙の一方の面にバック層、他方の面に中間層
が設けられた支持体の中間層上に乾燥付着量が18g/
rrTとなるようにワイヤーバーで塗布し、110°C
で1分間乾燥して、平版印刷用原版を作製した。
Subsequently, a mixture of 40 g (solid content) of this copolymer, 150 g of zinc oxide, and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 1 hour to prepare an image-receiving layer-forming product.
This was applied to the intermediate layer of a support with a back layer on one side of high-quality paper and an intermediate layer on the other side, with a dry adhesion amount of 18 g/
Apply with a wire bar so that it becomes rrT, and heat at 110°C.
The mixture was dried for 1 minute to prepare a planographic printing original plate.

この原版を、不感脂化処理液〔富士写真フィルム■製E
LP−EX)でエツチングプロセッサーに1回通して処
理し、これに蒸留水2μ!の水滴を乗せ、形成された水
との接触角をゴニオメータ−で測定した所、10°以下
であった。尚、不感脂化処理前は78゛であった。この
ことは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親油
性から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非
画像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の
度合は、水との接触角20°C以下であることが必要で
ある)。
This original plate was treated with a desensitizing treatment solution [E manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.].
LP-EX) through an etching processor once, and add 2μ of distilled water to this! The contact angle with the water formed was measured with a goniometer and was found to be 10° or less. In addition, before the desensitization treatment, it was 78°. This indicates that the non-image area of the image-receiving layer of the original plate of the present invention has changed from lipophilic to hydrophilic. The contact angle with water must be 20°C or less).

次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同
様の条件で不感脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。
Next, a plate was made using commercially available PPC, and the obtained original plate was subjected to a desensitization treatment under the same conditions as above to obtain a printing original plate.

得られた原版の画像部の濃度は1.0以上であり、非画
像部の地力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。
The density of the image area of the obtained original plate was 1.0 or more, there was no ground blur in the non-image area, and the image quality of the image area was clear.

これをオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダスタ
ー800SX型〕にかけ上質紙上に印刷した。2000
枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画
質に問題を生じなかった。
This was printed on high-quality paper using an offset printing machine (Hamadaster 800SX model manufactured by Hamadastar ■).2000
Even if the number of sheets exceeded, no problem occurred in the background smear in the non-image area of the printed matter and the image quality in the image area.

更に上記原版を用いて、環境条件を30°C180%P
Hとして、市販のPPCで製版した所、得られた原版の
画像は、画像部の濃度は1.0以上有り非画像部の地力
ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上記
と同様に印刷した所、2000枚を印刷しても問題なか
った。
Furthermore, using the above original plate, the environmental conditions were adjusted to 30°C, 180% P.
As for H, when the plate was made using commercially available PPC, the image of the obtained original plate had a density of 1.0 or more in the image area, no ground blur in the non-image area, and the image quality of the image area was clear. When this was printed in the same manner as above, there was no problem even after printing 2000 sheets.

以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPC製
版で画質を劣化させなかった。
As described above, the image quality of this original plate did not deteriorate during PPC plate making even under high temperature and high humidity conditions.

実施例2〜14 実施例1において、本発明の樹脂CI)の代わりに表−
1に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様に
操作して平版印刷用原版を作製した。
Examples 2 to 14 In Example 1, instead of the resin CI) of the invention, Table-
A lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the copolymer shown in Example 1 was used.

これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カプリのない鮮
明な画質であった。
When this was plate-made using the same apparatus as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. After further etching and printing on a printing press, the printed matter after printing 10,000 sheets had clear image quality with no capri.

更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変わらなかった。
Further, this photosensitive material was left under conditions of (45° C., 175% RH) and then subjected to the same treatment as above, but there was no difference at all from before aging.

実施例15 ベンジルメタクリレート12g、下記化合物例(2)の
単量体80g、N−メトキシメチルメタクリルアミド8
g)ルエン200g及びイソプロピルアルコール50g
の混合溶液を窒素気流下75°Cの温度に加温した後、
2’、2’−アゾビスイソブチロニトリル2gを加え8
時間反応した。
Example 15 12 g of benzyl methacrylate, 80 g of monomer of the following compound example (2), 8 N-methoxymethyl methacrylamide
g) 200g toluene and 50g isopropyl alcohol
After heating the mixed solution to a temperature of 75°C under a nitrogen stream,
Add 2g of 2',2'-azobisisobutyronitrile and add 8
Time reacted.

更に、温度を100°Cに加温しイソプロピルアルコー
ル共沸溶媒を留出しながら2時間反応した。
Furthermore, the temperature was raised to 100°C and the reaction was continued for 2 hours while distilling off the isopropyl alcohol azeotropic solvent.

得られた共重合体〔17〕の重量平均分子量は98.0
00であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [17] was 98.0
It was 00.

単量体〔2) CH。Monomer [2] CH.

CH。CH.

この共電体〔17〕を、実施例1における共重合体〔1
〕の代わりに用いた他は、実施例1と同様に行なって、
平版印刷用原版を作製した。
This coelectric material [17] was replaced with the copolymer [1] in Example 1.
] was used in the same manner as in Example 1, except that
An original plate for lithographic printing was prepared.

これを実施例1と同様に操作して、製版・不感脂化処理
を行ない印刷用原版を得た。
This was operated in the same manner as in Example 1 to perform plate making and desensitization treatment to obtain a printing original plate.

得られたオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1
. 0以上で画質は鮮明であった。印刷機で印刷した所
、2000枚印刷後の印刷物は、非画像部のカブリがな
く、画像も鮮明であった。
The density of the obtained offset printing master plate is 1
.. The image quality was clear when it was 0 or more. When printed with a printing machine, the printed matter after printing 2000 sheets had no fog in the non-image area and the image was clear.

実施例16 下記共重合体(A)及び(B)を各々50g及びトルエ
ン250gの混合物を温度60°Cに加温し、均一に溶
解した。そのまま3時間撹拌し、反応した。
Example 16 A mixture of 50 g of each of the following copolymers (A) and (B) and 250 g of toluene was heated to 60° C. and uniformly dissolved. The mixture was stirred as it was for 3 hours to react.

得られた本発明の共重合体〔18]の重量平均分子量は
2.2X10’であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [18] of the present invention was 2.2×10'.

共重合体〔A〕 二重量子均分子143,000CL 
      Cl1i           CH3共
重合体CB〕 二重量平均分子量38,000CII3
     C82CHs l      1          1i+c。
Copolymer [A] Double quantum uniformity 143,000CL
Cl1i CH3 copolymer CB] Double weight average molecular weight 38,000 CII3
C82CHs l 1 1i+c.

続いて、実施例1において用いた共重合体〔1]の代わ
りに、上記共重合体(18)40gを用いた他は、実施
例1と同様にして画像受理層を形成した平版原版を作製
した。
Next, a lithographic original plate with an image-receiving layer formed thereon was prepared in the same manner as in Example 1, except that 40 g of the above copolymer (18) was used instead of copolymer [1] used in Example 1. did.

これを実施例1と同様に、製版した所、得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1゜0以上で画質
は鮮明であった。更に、エツチング処理をして、印刷機
で印刷した所、2000枚印刷後の印刷物の画質は、地
力ブリのない鮮明のものであった。
When this was plate-made in the same manner as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore, when etching was performed and printed on a printing press, the image quality of the printed matter after printing 2000 sheets was clear and without blurring.

実施例17 実施例16で用いた共重合体(A350g、1゜6−ヘ
キサンジイソシアナート4.5g及びトルエン200g
の混合物を温度60゛Cに加温し3時間撹拌した。得ら
れた、本発明の共重合体〔18〕の重量平均分子量は1
.8X10’であった。
Example 17 Copolymer used in Example 16 (350 g of A, 4.5 g of 1°6-hexane diisocyanate and 200 g of toluene)
The mixture was heated to a temperature of 60°C and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [18] of the present invention was 1
.. It was 8x10'.

実施例1において、本発明の樹脂(I)の代わりに上記
共重合体〔18〕を用いた他は、実施例1と同様に操作
して、各平版印刷用原版を作製した。
Each lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above copolymer [18] was used in place of the resin (I) of the present invention.

これを実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチン
グ処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセッ
ト印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画質
は鮮明であった。又、2000枚印刷した印刷物の画質
は良好で地汚れも発生しなかった。
This plate was made into a plate using the same apparatus as in Example 1, and then etched and printed using a printing press. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. Furthermore, the image quality of the 2000 prints was good and no background stains occurred.

実施例18 実施例16で用いた共重合体CB550g、ジエチレン
グリコール3.8g及びトルエン200gの混合物を温
度60°Cに加温し4時間撹拌した。
Example 18 A mixture of 550 g of the copolymer CB used in Example 16, 3.8 g of diethylene glycol, and 200 g of toluene was heated to 60° C. and stirred for 4 hours.

得られた本発明の共重合体〔19]の重量平均分子量は
2.4X10’であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer [19] of the present invention was 2.4×10'.

続いて、実施例1において用いた、共重合体CI)の代
わりに上記共重合体(19340gを用いた他は、実施
例1と同様にして、平版印刷用原版を作製した。
Subsequently, a lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the above copolymer (19340 g) was used in place of the copolymer CI) used in Example 1.

これを実施例1と同様に、製版した所、得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1゜0以上で画質
は鮮明であった。更にエンチング処理をして、印刷機で
印刷した所、2000枚印刷後の印刷物は、非画像部の
カプリがなく、画像も鮮明であった。
When this was plate-made in the same manner as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Further, when the image was subjected to an etching process and printed using a printing press, the printed matter after printing 2000 sheets had no capri in the non-image area and the image was clear.

実施例19 下記共重合体〔20〕を40g及び[ブチルメタクリレ
ート/アクリル酸(99/1)重量比]共重合体(重量
平均分子量45000)!Og、酸化亜鉛100g、及
びトルエン300gの混合物をボールミル中で2時間分
散した。
Example 19 40 g of the following copolymer [20] and [butyl methacrylate/acrylic acid (99/1) weight ratio] copolymer (weight average molecular weight 45,000)! A mixture of Og, 100 g of zinc oxide, and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 2 hours.

次に、この分散物にアリルメタクリレート10g及び2
.2′−アゾビスイソブチロニトリル0゜5gを加え、
ボールミル中10分間分散して得た分散物を、実施例1
と同様な支持体に、乾燥付着量が20g/mとなる様に
ワイヤーバーで塗布し、80°Cで2時間、更に100
°Cで30分間乾燥することにより平版印刷用原版を作
製した。
Next, 10 g of allyl methacrylate and 2 g of allyl methacrylate were added to this dispersion.
.. Add 0.5 g of 2'-azobisisobutyronitrile,
The dispersion obtained by dispersing in a ball mill for 10 minutes was prepared in Example 1.
It was coated on the same support with a wire bar to a dry coating weight of 20 g/m, heated at 80°C for 2 hours, and then coated with 100 g/m.
A lithographic printing original plate was prepared by drying at °C for 30 minutes.

共重合体(20) C11,CH。Copolymer (20) C11, CH.

−+C11z  CCl1z−C−hwCOO(C1l
z) ZN=CH−C6H5C00CIh−CIl=C
t!z重量平均分子量5.6X10’ これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機で
印刷した所、2000枚印刷後の印刷物の画質は地力ブ
リがなく鮮明であった。
-+C11z CCl1z-C-hwCOO(C1l
z) ZN=CH-C6H5C00CIh-CIl=C
T! z Weight average molecular weight: 5.6 x 10' This was plate-made using the same apparatus as in Example 1, and the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore, when the image was etched and printed using a printing press, the image quality of the printed matter after printing 2,000 sheets was clear and free of blur.

実施例20〜26 実施例19において、本発明の樹脂〔20〕の代わりに
表2に示される共重合体を用いた他は、実施例19と同
様に操作して、各平版印刷用原版を作製した。
Examples 20 to 26 Each lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 19, except that the copolymer shown in Table 2 was used instead of the resin [20] of the present invention. Created.

表−2 C4H9Coo (CHJ JOzOClliCHFC
HzFこれらの各原版を実施例1と同様にして、各特性
を調べた。得られたオフセント印刷用マスタープレート
の濃度は、本発明の実施例16及び比較例りともに1.
0以上で、画質も鮮明であった。
Table-2 C4H9Coo (CHJ JOzOClliCHFC
HzF Each of these original plates was treated in the same manner as in Example 1, and each characteristic was investigated. The density of the obtained master plate for offset printing was 1.
0 or higher, and the image quality was clear.

更にエツチング処理をして印刷機で印刷した所、本発明
のプレートは2000枚印刷した印刷物でもその画質は
鮮明で地汚れも認められなかった。
When the plate of the present invention was further etched and printed using a printing press, the image quality was clear and no scuffing was observed even after 2,000 copies were printed.

実施例24 下記に示される化学構造の本発明の共重合体〔27〕及
び〔28〕を各々15g用いた他は、実施例23と同様
に操作して平版印刷用原版を作製した。
Example 24 A lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 23, except that 15 g each of copolymers [27] and [28] of the present invention having the chemical structures shown below were used.

共重合体(27):重量平均分子N43,000共重合
体(2B):重量平均分子量38,000これを、実施
例1と同様の装置で製版し、次いでエツチング処理して
印刷機で印刷した。製版後得られたオフセット印刷用マ
スタープレートの濃度は1.0以上で、画質は鮮明であ
った。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地力プリのない
鮮明な画像のものであった。
Copolymer (27): weight average molecular weight N43,000 Copolymer (2B): weight average molecular weight 38,000 This was plate-made using the same device as in Example 1, then etched and printed using a printing press. . The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. In addition, the image quality of the printed matter after printing 10,000 sheets was a clear image without any image distortion.

実施例25及び比較例B エチルメタクリレート30g、下記構造の単量体CD)
40gアリルメタクリレート30g及びトルエン500
gの混合溶液を窒素気流下60°Cの温度に加温した後
、2.2′、−アゾビスバレロニトリル1.0gを加え
8時間反応した。得られた共重合体(1)の重量平均分
子量は62,000であった。
Example 25 and Comparative Example B 30 g of ethyl methacrylate, monomer CD with the following structure)
40g allyl methacrylate 30g and toluene 500g
After heating the mixed solution of g to 60° C. under a nitrogen stream, 1.0 g of 2.2',-azobisvaleronitrile was added and reacted for 8 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer (1) was 62,000.

本発明の共重合体成分相当の単量体(D)続いて、この
共重合物30g(固形分量として)及び〔ブチルメタク
リレート/アクリル酸(99/1)重量比〕共重合体(
重量平均分子量45000)Log、酸化亜鉛200g
、及びトルエン300gの混合物をボールミル中で2時
間分散した。
A monomer (D) corresponding to the copolymer component of the present invention was then added to 30 g of this copolymer (as solid content) and a [butyl methacrylate/acrylic acid (99/1) weight ratio] copolymer (
Weight average molecular weight 45000) Log, zinc oxide 200g
, and 300 g of toluene were dispersed in a ball mill for 2 hours.

次に、この分散物に、アリルメタクリレート10g及び
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え
、ボールミル中、10分間分散して得た分散物を実施例
1同様の支持体紙に、乾燥付着量が25g/ryfとな
る様にワイヤーバーで塗布し、100°Cで30分間乾
燥して、平板印刷用原版を作製した。
Next, 10 g of allyl methacrylate and 0.5 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile were added to this dispersion, and dispersed in a ball mill for 10 minutes. Then, it was coated with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/ryf, and dried at 100° C. for 30 minutes to prepare an original plate for lithographic printing.

比較例B エチルメタクリレート60g、単量体〔0340g及び
トルエン200gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温
度に加温した後、2.2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル1.0gを加え8時間反応した。得られた共重合体(
A)の重量平均分子量は45,000であった。
Comparative Example B A mixed solution of 60 g of ethyl methacrylate, 340 g of monomer [0340 g] and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75°C under a nitrogen stream, and then 1.0 g of 2.2'-azobisisobutyronitrile was added. Time reacted. The obtained copolymer (
The weight average molecular weight of A) was 45,000.

続いて、実施例25において用いた共重合体〔29〕の
代わりに、上記共重合体(A)を用いた他は、実施例2
5と同様にして、まずボールミル中2時間分散し1、乾
燥付着量が25g/rrfとなるようにワイヤーバーで
塗布し、110°Cで1分間乾燥し、平板印刷用原版を
作製した。
Subsequently, Example 2 was prepared, except that the above copolymer (A) was used instead of the copolymer [29] used in Example 25.
In the same manner as in Step 5, the mixture was first dispersed in a ball mill for 2 hours, applied with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/rrf, and dried at 110°C for 1 minute to prepare a lithographic printing original plate.

更に、不惑脂化液で不感脂化処理した各原版の水との接
触角は、本発明及び比較例Bの原版の値が15°C以下
と小さく、充分に親水化されていることを示した。
Furthermore, the contact angle with water of each master plate desensitized with a non-fattening liquid was as small as 15°C or less for the master plates of the present invention and Comparative Example B, indicating that they were sufficiently hydrophilized. Ta.

又、これらをオフセット印刷用マスタープレートとして
印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好な
ものは、本発明及び比較例Bのプレートのみであった。
Furthermore, when these were printed as master plates for offset printing, only the plates of the present invention and Comparative Example B were good in that no scumming occurred in the non-image areas.

更にこの両者のプレート印圧が強い条件で1万枚印刷し
た所、本発明のプレートは1万枚印刷した印刷物の画質
は良好で地汚れも発生しなかった。比較例Eは7000
枚目で地汚れが発生した。比較例Fのプレートは刷り出
しから地汚れの発生が生じた。
Furthermore, when 10,000 copies of both plates were printed under conditions where the printing pressure was strong, the image quality of the 10,000 copies of the plate of the present invention was good and no scumming occurred. Comparative example E is 7000
Staining occurred on the first sheet. In the plate of Comparative Example F, scumming occurred from the beginning of printing.

以上の事実より、本発明の原版のみが、環境条件が変動
して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成し且
つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ることがで
きた。
Based on the above facts, only the original plate of the present invention was able to produce over 10,000 prints that always formed a clear copy image and did not cause background smudge even when the plate was made under fluctuating environmental conditions.

実施例26〜36 実施例25において、共重合体〔1〕の代わりに、表−
3の共重合体を用いた他は、実施例25と同様にして、
各平板印刷用原版を作製した。
Examples 26 to 36 In Example 25, instead of copolymer [1], Table-
In the same manner as in Example 25, except that the copolymer of No. 3 was used,
Each lithographic printing original plate was produced.

これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画
質は鮮明であった。又、1方杖印刷後の印刷物の画質は
地力ブリのない鮮明な画像のものであった。
This was made into a plate using the same apparatus as in Example 1, then etched and printed using a printing press. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. Moreover, the image quality of the printed matter after single-cane printing was a clear image without any blurring.

実施例37〜42 実施例25において、本発明の樹脂CI)の代わりに表
4に示される共重合体を用いた他は、実施例25と同様
に操作して、各平版印刷用原版を作製した。
Examples 37 to 42 Each lithographic printing original plate was produced in the same manner as in Example 25, except that the copolymer shown in Table 4 was used instead of the resin CI) of the present invention. did.

表−4 C11,C11゜ I これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
、画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
Table 4 C11, C11°I This was plate-made using the same apparatus as in Example 1, and the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more, and the image quality was clear. Further, when etching was performed and printed using a printing press, the printed matter after printing 10,000 sheets had clear image quality with no fogging.

実施例43 実施例25において用いる[ブチルメタクリレート/ア
クリル酸]共重合体の代わりに[ブチルメタクリレート
/アリルメタクリレート/アクリル酸(79/20/1
)重量比]共重合体を用いた他は、実施例25と同様に
して、平版印刷用原版を作製した。
Example 43 Instead of the [butyl methacrylate/acrylic acid] copolymer used in Example 25, [butyl methacrylate/allyl methacrylate/acrylic acid (79/20/1
) Weight ratio] A lithographic printing original plate was prepared in the same manner as in Example 25 except that the copolymer was used.

これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP404■
で製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、一方杖印
刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明
であった。
As in Example 1, the fully automatic plate making machine ELP404■
When plate-making was carried out, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore,
When etching was performed and printed using a printing press, the printed matter after cane printing had no fog in the non-image area and the image was clear.

(発明の効果) 本発明によれば、地汚れの発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐刷力を併せもっ直描型平版印刷用原版を得
ることができる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain an original plate for direct drawing type lithographic printing in which the occurrence of scumming is satisfactorily suppressed and also has good printing durability.

手続補正書 平成1年8月14日Procedural amendment August 14, 1999

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用
原版において、該画像受理層の結着剤の少くとも1部と
して、分解によりチオール基、ホスホ基、アミノ基、及
びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成する官能
基を少なくとも1種含有し且つ少なくとも一部分が架橋
されている樹脂を少なくとも1種含有してなることを特
徴とする直描型平版印刷用原版。
(1) In a direct-drawing lithographic printing original plate having an image-receiving layer on a support, at least a part of the binder of the image-receiving layer is decomposed to form thiol groups, phospho groups, amino groups, and sulfo groups. 1. A direct-drawing lithographic printing original plate, characterized in that it contains at least one functional group that forms at least one of the above groups, and at least one resin that is at least partially crosslinked.
(2)該樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成
する官能基を少なくとも1種含有する共重合成分を含有
し且つ分解により該基を生成したときに水に対して難溶
又は不溶となる様に予め架橋されている樹脂である請求
項の(1)記載の直描型平版印刷用原版。
(2) The resin contains a copolymer component containing at least one functional group that generates at least one of a thiol group, a phospho group, an amino group, and a sulfo group upon decomposition, and which generates at least one functional group among a thiol group, a phospho group, an amino group, and a sulfo group upon decomposition. The original plate for direct drawing type lithographic printing according to claim (1), which is a resin that has been crosslinked in advance so that it becomes poorly soluble or insoluble in water when produced.
(3)該樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成
する官能基を少なくとも1種及び熱及び/又は光で硬化
反応を起こす官能基を少なくとも1種各々含有する樹脂
である請求項の(1)記載の直描型平版印刷用原版。
(3) The resin contains at least one functional group that generates at least one of a thiol group, a phospho group, an amino group, and a sulfo group upon decomposition, and a functional group that causes a curing reaction with heat and/or light. The original plate for direct drawing type lithographic printing according to claim 1, which contains at least one resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1264687A2 (en) 2001-06-08 2002-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Direct drawing type lithographic printing plate precursor and production method thereof
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JP2008123472A (en) * 2006-10-16 2008-05-29 Victor Co Of Japan Ltd Video signal processor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1241526A2 (en) 2001-03-12 2002-09-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Direct drawing type lithographic printing plate precursor
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