JPH01268564A - 麻酔強度モニター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は麻酔ガスに感応する素材を使用した麻酔感応素
子を用い、麻酔深度または麻酔濃度を測定・表示可能な
麻酔強度モニターに関する。

［従来の技術］ 従来、手術のため吸入麻酔を受ける患者に対して安全を
図るためのモニタリングとしては、心電モニターなどが
行なわれているか、直接、麻酔ガスの吸入量を測定する
ような機器はあまり知られていない。

現在、麻酔濃度の測定機器としては、質量分析器や麻酔
濃度計がある。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来から使用されている質量分析器は大
型で、操作較正が難しく、またガスを吸引してサンプリ
ングするため排気も必要であり、かつ大型のため移動か
難しく、手術室に一台づつ設置することは場所等の制約
から一般に困難であるという問題かあった。

また、従来使用されている麻酔濃度計は、麻酔ガスか赤
外線を吸収する量を利用して麻酔濃度を算出しており、
またガスを吸引して測定を行なうため測定後のガスの排
気回路か必要であり、さらに麻酔ガスの種類によって、
装置上においてガスの種類の設定を行なう必要かあった
。

さらに、このような従来の３１１１定機器における麻酔
ガス測定においては、ガス吸引用のチューブを麻酔（呼
吸）回路に挿入するために、注射側を利用して麻酔（呼
吸）回路に穿刺するなどの方法か用いられており、操作
の煩雑さ、安全性などに問題があった。

［課題を解決するための手段コ そこて、本発明者は上記した従来の麻酔濃度測定機器の
問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、麻酔ガスの吸引排
気を行うことなく直接麻酔濃度あるいは深度か測定可能
な、使用に際して簡便な麻酔強度モニターを見出し、本
発明に到達した。

即ち本発明によれば、櫛形電極に、レシチン、ケファリ
ン、ジオクタデシル・）オスファイ１へ、亜リン酸１−
リステアリル、１．３−ジテトラデシルグリセロー２−
フォスフォコリン、ジメチルジオクタデシルアンモニウ
ムブロマイド、Ｎ−（β−（＋−リメチルアンモニオ）
エチルオキシベンゾイル）−ジオクタデシル−Ｌ−グル
タメート−フロマイト、ラジウム１，２−ビス（オクタ
デシルオキシカーボニル）−エタン１−サルフオネート
からなる群から選ばれる少なくとも一種の′！ＦＪ！３
￥ｔをライニングして形成した麻酔感応素子と、該麻酔
感応素子に連結され、該麻酔感応素子の静電容量の麻酔
ガスに対する変化量に対応した麻酔深度又は麻酔濃度を
表示する電気回路とからなるとともに、 該麻酔感応素子を麻酔（呼吸）回路に組込むためのアタ
ブターを具備した ことを特徴とする麻酔強度モニター、が提供される。

本発明においては、麻酔ガスに感応する物質として、レ
シチン、ケファリン、ジオクタデシル・フォスファイト
、亜リン酸トリステアリル、１゜３−シナトラデシルグ
リセロ−２−フォスフォコリン、ジメチルジオクタデシ
ルアンモニウムブロマイド、Ｎ−（β−（トリメチルア
ンモニオ）エチルオキシベンゾイル）−ジオクタデシル
−Ｌ−タルタメートーブロマイド、ラジウム１，２−ビ
ス（オクタデシルオキシカーボニル）−エタンｌ−サル
フナネートからなる群から選ばれる少なくとも一種か適
当なものであり、特に、レシチンか麻酔ガスへの感応性
に優れていることから好ましい。

ここて麻酔深度とは、外科的刺激によって体を動かさな
い吸入麻酔薬の肺泡気濃度のことを指し、ｍｉｎｉｍｕ
ｍ　ａｌｖｅｏｌａｒ　ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ　
（ＭＡＣ）と称するものである。この値は吸入麻酔薬の
種類により異なり、少ないもの程強゛力である。

又、幼児ではＭＡＣはやや高くなる。

麻酔深度（ＭＡＣ）と麻酔薬濃度の関係（麻酔ハンドブ
ックより） 従って、吸入麻酔薬の種類に依らない統一した基準値と
して用いられている。導度表示において、例えばエトレ
ン用気化器にハロタンを入れ誤用に気付かなかった場合
、ダイヤルによりある設定値を決めると、エトレンとハ
ロタンの蒸気圧の違いにより設定濃度より高い値のハロ
タンかエトレンの気化器から出ることになり極めて危険
である。しかし、ＭＡＣ表示では、その様な事散の防止
にも有効である。

［作用］ 麻酔ガスを、その麻酔ガスに感応して静電容量が変化す
る物質に接触させ、該静電容量の変化に対応した電位差
を測定することにより、麻酔濃度あるいは麻酔深度を測
定・表示する。

［実施例］ 以下、本発明を図示の実施例に基いて更に詳しく説明す
るが、本発明はこれら実施例に限られるものではない。

第１図は本発明の麻酔感応素子の一例であり。

第２図は第１図のＡ−Ａ’部分拡大断面図を示すもので
ある。

図において、１０は櫛形電極からなる麻酔感応素子であ
り、非導電性物質からなる基板１１上にＣｒ、又はＡｎ
などから形成される電極素子１２を配置し、その電極素
子１２には絶縁層１３か塗布されている。そして、さら
にその上から麻酔ガスに感応する物質１４をコーティン
グして構成されているものである。

基板１１としては、非導電性物質であればよく、４、シ
にその種類は限定されず、例えば、ガラス−エポキシ板
、ベークライト板等が挙げられる。

また、絶縁層１３としては絶縁性物質からなるもので、
例えば窒化珪素（ＳｉＮｘ）、二酸化珪素（ＳｉＯｚ）
などが挙げられる。

次に、上記の如く構成される麻酔感応素子１０を、麻酔
（呼吸）回路に組込むためのアダプターに接続する。こ
れは、例えば第３図に示すように、麻酔感応素子ｉｏを
ＢＮＣ端子１７の雄側端子１５の出口側に結合しく第３
図（ａ）参照）、次いで雄側端子１５の入口側とＢＮＣ
端子１７の雌側端子１６とを接続する（第３図（ｂ）参
照）。そしてこれを、麻酔（呼吸）回路に適合する形状
、形態を有する、例えば第４図に示すＴ字管１８に上記
のＢＮＣ端子１７を接続することにより、麻酔（呼吸）
回路にそのまま組込むことか可能となる。

アダプターとしては上記ＢＮＣ端子を利用したものの他
、ステレオ等接続に用いられる大型コネクター（２ピン
用）、あるいはそれを加工したものなど、麻酔感応素子
への陽極・陰極が接続できる２本の端子とそれに付随し
たコード（電気回路に接続）があり、かつ麻酔（呼吸）
回路間に接続が可能な、例えば麻酔（呼吸）回路用のコ
ネクターを加工し、上記２本の端子を組み込んだ時にガ
ス漏れを起すものでなければよく、これらを適宜用いる
ことができる。

次に、このように作製されたアダプター付の麻酔感応素
子１０を、後述する電気回路（第５図参照）に接続して
麻酔強度モニターを作製する。なお、この電気回路は麻
酔感応素子の静電容量を電位差として出力、表示可能に
なっているものである。

次いで、アダプター付の麻酔感応素子を組込んだ第５図
の電気回路について説明する。

リニアＩＣ２０は標準タイマー回路を２つ含み、抵抗２
１．２２及びキャパシタンス２３とで構成される回路２
４において、規則的な反復パルス信号のパルス幅か麻酔
感応素子ｌＯの静電容量に依存するように出力されてい
る。出力は抵抗２６及びキャパシタンス２７からなる積
分回路で積分された後、増幅器２８．２９でインピーダ
ンス変換されると同時にローパスフィルター３０．３１
を経て出力信号は更に増幅器３２で増幅され、３３以後
の回路で変換器にてデジタル化され、表示されるのであ
る。

以下、本発明の具体的な実施結果を説明する。

（実施例） 脂質の１種である１、３−タテトラデシルクリセロ−２
−フォスフォコリンｌＯｇを、試薬特級９９．５％のエ
タノールｉｌｏｏｇの入ったビーカー中で攪拌しながら
溶解した。得られた溶液に櫛形電極を垂直に浸し、３０
秒後、垂直のまま引き上げて取り出し、真空乾燥機によ
り５０℃で３時間乾燥させ、これを数回繰返し１，３−
シテトラデシルグリセロー２−フォスフォコリンでコー
ティングされた櫛形電極からなる麻酔感応素子を作製し
た。尚、上記の櫛形電極はクロム−アルミニウム（Ｃｒ
、ＡＭ）合金製で、幅約１０ＪＬｍ、厚さ約１０ルｍ、
長さ約４．ｌｒｕ＋の電極素子を陽極６０本、陰極６１
本（５９本土外側２本）として、約３＋ｓｍＸ７ｍｍで
ガラスーエボ゛キシ基板上に配置され構成されている。

また、電極には絶縁層として窒化珪素（ＳｉＮｘ）が０
．２ｇｍの厚さて塗布されており２この電極は、温度２
１’Ｃ１湿度４５％において、電気抵抗か１ｘｌＯ１２
Ω以上（印加電圧１０Ｖ）、静電容量が約１８ｐＦ　（
電圧５Ｖ、周波数１０ＫＨｚ）てあった・この櫛形電極
からなる麻酔感応素子は、１，３−シテトラデシルグリ
セロー２−フォスフォコリン塗布後においては、３回の
１．３−タテトラデシルクリセロ−２−フォスフォコリ
ンのコーティングにより静電容量が約０．７ｐＦ増加し
た。

この麻酔感応素子ｌＯを第３図に示すように、ＢＮＣＮ
Ｃ端子１７側端子１５の出【］側に結合し且つ雄側端子
１５の入口側とＢＮＣ端子１７の雌側端子１６とを接続
するとともに、第４図に示すＴ字管（両端径１５ｍｍ、
２２ｏ＋ｍ）１８の一端突起［−＋　１９から挿入し、
ＢＮＣ端子１７をネジ切りしである一端突起口１９にお
いて螺合した。

以上のように形成したアタブター付の麻酔感応素子を、
第５図に示す、麻酔感応素子の静電容量を電位差として
出力および表示か可能て、且つ′電位差のゼロ点の調整
及びゲイン調整可能な電気回路に接続し麻酔強度モニタ
ー３４を作製した。

次に、上記の麻酔強度モニター３４に接続された麻酔感
応素子ｌＯを、第６図に示すような麻酔（呼吸）回路に
組込んだ。

麻酔（呼吸）回路を説明すると、患者に吸入麻酔をかけ
る場合、一般に笑気ガス（Ｎ２０）と酸素ガス（０２）
が流量計３５を通って流れ、その流量設定は流量計３５
のつまみで夫々行なわれる。その後、笑気ガスと酸素ガ
スは混合され、次いで揮発性吸入麻酔薬と混合される。

揮発性吸入麻酔薬は気化器３６で気化されたガスとなる
。更にこの混合ガス（Ｎ２０＋Ｏ□十揮発性吸入麻酔薬
）は吸気ガスとして吸気側麻酔回路３７に接続・導入さ
れており、この回路内では一方弁３８により呼気ガスが
流入しないように構成されている。

このようにして、吸気ガスは吸入麻酔を受ける患者Ａに
対して吸入され、次に呼気ガスとして患者Ａから排出さ
れる。呼気ガスはこの呼気側麻酔回路３９に導かれ、吸
気ガスが流入しないように設置されている一方弁４０を
通り排出される。なお、４１は循環式回路、４２は循環
する場合の炭酸ガス吸収部（キャニスタ−）、４３は麻
酔バッグ１４４は酸素フラッシュ弁を示す。

麻酔（呼吸）回路は上記のような循環式麻酔（呼吸）回
路の他に、Ｔピースシステム等があるか、アタブターの
取付けはいずれの回路においてもコネクターか接続てき
ればよく、従って取付はイ＾所も限定されるものではな
い。

上記麻酔回路に、酸素ガスを流４７１５１　／ｗｉｎ、
て流し、そこに揮発性吸入麻酔薬であるへロタン（１１
ａｌｏｔｂａｎｅ　）を、気化器を用いて濃度Ｏ％、１
％、０％、２％、０％、３％、０％、４％、０％の順序
で流し、麻酔感応素子ｉｏの静電容量の変化に対応した
電位差を測定し、第７図のグラフに示した。

第７図に示す結果から明らかなように、へロタンの濃度
に鋭敏に対応し、電位差として示されることがわかる。

更に同様に、上記の麻酔強度モニター３４に接続された
麻酔感応素子ｌＯを第６図に示す麻酔回路に、酸素ガス
を流量５文／ｗｉｎ、て流し、そこに揮発性吸入麻酔薬
であるエトレン（Ｅｔｈｒａｎｅ　）を気化器を用いて
濃度０％、１％、０％、２％、０％、３％、０％、４％
、０％の順序で流し、麻酔感応素子ＩＯの静電容量の変
化に対応した電位差を測定し、第８図のグラフに示した
。第８図に示す結果から明らかなように、エトレンの濃
■ハに鋭敏に対応し、電位差として示されていることか
わかる。

又、第７図及び第８図の結果を、第９図に示す麻酔深度
（ＭＡＣ）を示すグラフに表わしてみると、１．３−ジ
テトラデシルグリセロー２−フォスフォコリンをコーテ
ィングした　麻酔感応素子１０の静′屯容計の変化に対
応した電位差は麻酔深度（ＭＡＣ）に対応していること
かわかる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明は麻酔ガスに感応する麻酔
感応素子を電気回路に連結゛し且つ麻酔回路に組込むた
めのアダプターを具備して、麻酔ガスに対する麻酔感応
素子の静電容量の変化に対応した麻酔深度または麻酔濃
度を測定・表示しているので、麻酔ガスの吸引排気を行
なう必要がなく、操作も容易で安全に行うことができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の麻酔感応素子の一例を示す平面図、第
２図は第１図のＡ−Ａ’部分拡大断面図、第３図は麻酔
感応素子をＢＮＣ端子に結合した状態を示すもので、第
３図（ａ）はＢＮＣ端子の雄側端子と結合した状態を示
す説明図、第３図（ｂ）はＢＮＣ端子の雌側端子に接続
した状態を示す説明図、第４図はＴ字管を示すもので、
第４図（ａ）はＴ字管そのものを示す説明図、第４図（
ｂ）はＴ字管にＢＮＣ端子を螺合した状態の説明図、第
５図は本発明の麻酔感応素子を接続した電位差のゼロ点
調整可能な電気回路を示す電気回路図、第６図は麻酔（
呼吸）回路を示すフロー図、第７図は麻酔感応素子のへ
ロセンに対する感応度を示すグラフ、第８図は麻酔感応
素子のエトレンに対する感応度を示すグラフ、第９図は
麻酔深度と電位差との対応関係を示すグラフである。 １０・・・麻酔感応素子、１１・・・基板、１２・・・
電極素子、１３・・・絶縁層、１４・・・麻酔感応物質
、１５・・・ＢＮＣ端子の雄側端子、１６・・・ＢＮＣ
端子の雌側端子、１７・・・ＢＮＣ端子、１８・・・Ｔ
字管、１９・・・Ｔ字管の一端突起口、２０・・・リニ
アＩＣ１２１，２２・・・抵抗、２３・・・キャパシタ
ンス、２４・・・回路、２６・・・抵抗、２７・・・キ
ャパシタンス、２８゜２９・・・増幅器、３０．３１・
・・ローパスフィルター、３２・・・増幅器、３４・・
・麻酔強度モニター、３５・・・流量計、３６・・・気
化器、３７・・・吸気側麻酔回路、３８．４０・・・一
方弁、４１・・・循環式回路、４２・・・炭酸ガス吸収
部（キャニスタ−）、４３・・・麻酔バッタ、４４・・
・酸素フラッシュ弁。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）櫛形電極に、レシチン、ケファリン、ジオクタデ
   シル・フォスファイト、亜リン酸トリステアリル、１，
   ３−ジテトラデシルグリセロ−２−フォスフォコリン、
   ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロマイド、Ｎ−
   （β−（トリメチルアンモニオ）エチルオキシベンゾイ
   ル）−ジオクタデシル−Ｌ−グルタメート−ブロマイド
   、ソジウム１，２−ビス（オクタデシルオキシカーボニ
   ル）−エタン１−サルフォネートからなる群から選ばれ
   る少なくとも一種の物質をライニングして形成した麻酔
   感応素子と、 該麻酔感応素子に連結され、該麻酔感応素子の静電容量
   の麻酔ガスに対する変化量に対応した麻酔深度又は麻酔
   濃度を表示する電気回路とからなるとともに、 該麻酔感応素子を麻酔回路に組込むためのアダプターを
   具備した ことを特徴とする麻酔強度モニター。