JPH01230229A - Method and apparatus and loading and unloading body under heat treatment into and out of furnace - Google Patents

Method and apparatus and loading and unloading body under heat treatment into and out of furnace

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JPH01230229A
JPH01230229A JP63291717A JP29171788A JPH01230229A JP H01230229 A JPH01230229 A JP H01230229A JP 63291717 A JP63291717 A JP 63291717A JP 29171788 A JP29171788 A JP 29171788A JP H01230229 A JPH01230229 A JP H01230229A
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fork
boat
unloading
furnace
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中巻 伸
Yuzuru Sasahara
佐々原 譲
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Abstract

PURPOSE:To make the relative positions of a fork and wafers in loading and unloading identical, by supporting a boat on which the wafers, i.e., bodies under heat treatment, based on the quantity of a dynamic state that is measured beforehand. CONSTITUTION:A loading/unloading means is set so that the quantity of a dynamic state that is measured beforehand is obtained. Wafers 2 are mounted on a boat 3. The boat 3 is supported in a cantilever mode with a fork 6 of the loading/unloading means. The boat 3 is loaded into a process tube 28 wherein heat treatment is performed. At the time of unloading, the boat 3 is supported in a cantilever mode with the fork 6 under the state wherein the measured quantity of the dynamic state of the fork 6 agrees with the value that is measured beforehand. In this method, the relative positions of the fork and the wafers in loading and unloading become identical. The succeeding automatic control after the heat treatment is carried out readily and securely.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は被熱処理体を炉に出入れする方法及びその装
置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Field of Application) The present invention relates to a method and apparatus for transporting objects to be heat treated into and out of a furnace.

(従来の技術) IC又はLSI等の半導体デバイスは、インゴットから
切出されたウェハを、順次1表面加工処理し、熱酸化処
理し、不純物拡散処理し、膜堆積処理し、エツチング処
理する等の多数の工程を経て製造される。これらの製造
工程において、半導体ウェハは複数回にわたり繰返し熱
処理を受ける。
(Prior Art) Semiconductor devices such as ICs or LSIs are produced by sequentially processing a wafer cut from an ingot, performing one surface processing treatment, thermal oxidation treatment, impurity diffusion treatment, film deposition treatment, etching treatment, etc. Manufactured through multiple steps. In these manufacturing steps, semiconductor wafers are repeatedly subjected to heat treatment multiple times.

一般に、半導体ウェハの熱処理用の加熱炉として、上下
に積重ねられた多段炉1例えば4段炉が採用される。多
段炉の各炉内にはそれぞれプロセスチューブが水平に設
けられる一方、各炉口の前方にはそれぞれソフトランデ
ィング装置が設けられており、ウェハを積載したボート
(以下、ウェハボートという)が各ソフトランディング
装置により各プロセスチューブ内に挿入されるようにな
っている。
Generally, multi-stage furnaces 1, for example, four-stage furnaces stacked one above the other, are employed as heating furnaces for heat treatment of semiconductor wafers. Process tubes are installed horizontally in each furnace of the multi-stage furnace, while a soft landing device is installed in front of each furnace mouth, and boats loaded with wafers (hereinafter referred to as wafer boats) are placed in each soft landing device. It is inserted into each process tube by a landing device.

ボートを炉のプロセスチューブに出入れするためのソフ
トランディング装置としては、特公昭62−3571号
公報、米国特許第4,008,815号公報、並びに米
国特許第4,468,195号公報に記載のものが知ら
れている。これらのソフトランディング装置は、炉口に
向かって炉の軸方向(X軸方向という)に延出するフォ
ークを有している。フォークは。
Soft landing devices for loading and unloading boats into and out of the process tube of a furnace are described in Japanese Patent Publication No. 62-3571, U.S. Pat. No. 4,008,815, and U.S. Pat. No. 4,468,195. are known. These soft landing devices have a fork that extends in the axial direction of the furnace (referred to as the X-axis direction) toward the furnace mouth. The fork.

その本体が筒状をなし、その先端部がウェハボートをa
置できるような形状に加工されている。
The main body is cylindrical, and the tip of the wafer boat is a
It is shaped so that it can be placed.

また、ソフトランディング装置は、前述のフォークをX
軸に沿って前進又は後退させるxI111駆動機構と、
フォーク先端部を上下に首振り動作させるθ軸駆動機構
と、フォークの動作をコントロールするためのコントロ
ーラと、所定のプログラミングに基づきコントローラを
バックアップするコンピュータシステムと、を有してい
る。
In addition, the soft landing device
an xI111 drive mechanism for advancing or retracting along an axis;
It has a θ-axis drive mechanism that swings the tip of the fork up and down, a controller that controls the movement of the fork, and a computer system that backs up the controller based on predetermined programming.

従来のソフトランディング装置によりウェハボートを炉
内にローディングする場合は、X軸駆動機構によりフォ
ークをX軸方向に所定の設定距離したけ前進させ、θ軸
駆動機構によりフォーク先端を静かに下げ、ウェハボー
トをフォークからプロセスチューブに移載する。また、
炉内のウェハボートをアンローデインする場合は、フォ
ークをプロセスチューブ内に挿入し、フォーク先端によ
りウェハボートを静かに持上げ、フォークをX軸方向に
設定距離りだけ後退させる。これらの一連の出入れ動作
においては、フォーク及びウェハボートがプロセスチュ
ーブ内壁に擦れないようにコントロールされ、擦れ合い
による石英粉の発生を防止している。
When loading a wafer boat into a furnace using a conventional soft landing device, the X-axis drive mechanism moves the fork forward a predetermined distance in the X-axis direction, and the θ-axis drive mechanism gently lowers the fork tip, allowing the wafer boat to Transfer the boat from the fork to the process tube. Also,
To unload the wafer boat in the furnace, insert the fork into the process tube, gently lift the wafer boat with the tip of the fork, and move the fork back a set distance in the X-axis direction. During these series of loading/unloading operations, the fork and wafer boat are controlled so as not to rub against the inner wall of the process tube, thereby preventing generation of quartz powder due to rubbing against each other.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、従来のウェハボートの出入れ方法におい
ては、θ軸駆動機構によりボートをローディングすると
きにウェハボートがプロセスチューブに対して傾斜する
こと、あるいは、X軸駆動機構に動作に誤差が存在する
ことに起因して、フォークとウェハボートとの間の相対
位置がローディング時とアンローディング時とで異なる
。このため、ローディング時とアンローディング時とで
はフォーク上のウェハボートの持ち運び位置が変化し、
次工程(熱処理工程に続く工程)の自動搬送機構により
ウェハボートを搬送する場合に機械的な対応がとれない
という問題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional method of loading and unloading wafer boats, the wafer boat is tilted with respect to the process tube when loading the boat using the θ-axis drive mechanism, or the X-axis drive Due to the presence of operational errors in the mechanism, the relative position between the fork and the wafer boat is different during loading and unloading. For this reason, the carrying position of the wafer boat on the fork changes between loading and unloading.
There has been a problem in that mechanical measures cannot be taken when the wafer boat is transported by an automatic transport mechanism in the next process (process following the heat treatment process).

この発明は上記点を改善するためになされものでボート
のローディング時及びアンローディング時におJするボ
ート及びフォークの相対位置を一定に保つことができる
ボート出入れ方法及び、ローディング時とアンローディ
ング時とで、フォーク上におけるボートの持ち運び位置
が実質的に変化することなく、ボートを炉にローディン
グ/アンローディングすることができるソフトランディ
ング装置を提供するものである。
This invention has been made to improve the above-mentioned problems, and provides a boat loading and unloading method that can maintain the relative position of the boat and fork constant when loading and unloading the boat, and a method for loading and unloading the boat. To provide a soft landing device that allows a boat to be loaded/unloaded into a furnace without substantially changing the carrying position of the boat on the fork.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) この発明は被熱処理体を炉にローディングする前に、被
熱処理体をローディング/アンローディング手段で片持
ち支持したときにローディング/アンローディング手段
に作用する力学的状態量を予め測定しておき、これを第
1の測定値とし、更に、熱処理後の被熱処理体をローデ
ィング/アンローディング手段で片持ち支持したときに
ローディング/アンローディング手段に作用する力学的
状態量を測定し、これを第2の測定値とし、前記第1及
び第2の測定値を互いに比較し、第2の測定値が第1の
測定値に合致するまで、ローディング/アンローディン
グ手段による被熱処理体の保持位置を補正し、両者が合
致したところで炉から被熱処理体をアンローディングす
ることを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする方法、
および被熱処理体を片持ち支持しつつ搬送し、炉にロー
ディング又はアンローディングする手段と、被熱処理体
を片持ち支持したときに前記ローディング/アンローデ
ィング手段に作用する力学的状態量を測定する手段と、
前記力学的状態量の熱処理前後における測定値を互いに
比較する手段と1両者が一致するまで被熱処理体のロー
ディング/アンローディング手段による保持位置を補正
する手段と。
(Means for Solving the Problems) This invention provides a mechanical state that acts on the loading/unloading means when the object to be heat treated is cantilever-supported by the loading/unloading means before loading the object into the furnace. The quantity is measured in advance, and this is used as the first measurement value, and furthermore, the mechanical state quantity that acts on the loading/unloading means when the heat-treated object after heat treatment is cantilever-supported by the loading/unloading means. is measured, this is taken as a second measured value, the first and second measured values are compared with each other, and the load/unloading means is applied until the second measured value matches the first measured value. A method for loading and unloading a heat-treated object into and out of a furnace, comprising correcting the holding position of the heat-treated object and unloading the heat-treated object from the furnace when the two match;
and a means for transporting the object to be heat treated while supporting it in a cantilever manner and loading or unloading it into a furnace, and a means for measuring the amount of mechanical state acting on the loading/unloading means when the object to be heat treated is supported in a cantilever manner. and,
means for comparing the measured values of the mechanical state quantity before and after the heat treatment; and means for correcting the holding position of the object to be heat treated by the loading/unloading means until the two values match.

を有することを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする
装置を得るものである。
An object of the present invention is to obtain a device for taking a heat-treated object into and out of a furnace, characterized by having the following features.

(作 用) 本発明によれば、被熱処理体を炉にローディングする前
に、被熱処理体をローディング/アンローディング手段
で片持ち支持したときにローディング/アンローディン
グ手段に作用する力学的状態量を予め測定しておき、一
方、熱処理後においても前記力学的状態量を測定し、面
測定値を互いに比較し、両者が合致するまで被熱処理体
のローディング/アンローディング手段による保持位置
を補正し5両者が合致したところで炉から被熱処理体を
アンローディングする方法及び、被熱処理体を片持ち支
持しつつ搬送し、炉にローディング又はアンローディン
グする手段と、被熱処理体を片持ち支持したときに前記
ローディング/アンローディング手段に作用する力学的
状態量を測定する手段と、前記力学的状態量の熱処理前
後における測定値を互いに比較する手段と1両者が一致
するまで被熱処理体のローディング/アンローディング
手段による保持位置を補正する手段と、を有するため、
ボートのローディング時及びアンローディング時におけ
るボート及びフォークの相対位置を一定に保つことがで
き、フォーク上におけるボートの持ち運び位置が実質的
に変化することなく、ホードを炉にローディング/アン
ローディングすることができる。
(Function) According to the present invention, before the object to be heat treated is loaded into the furnace, when the object to be heat treated is cantilever-supported by the loading/unloading means, the amount of mechanical state that acts on the loading/unloading means is calculated. The mechanical state quantity is measured in advance, and the mechanical state quantity is also measured after the heat treatment, the surface measurement values are compared with each other, and the holding position of the heat-treated object by the loading/unloading means is corrected until the two match. A method for unloading an object to be heat treated from a furnace when the two match, a means for transporting an object to be heat treated while supporting it in a cantilever manner, and loading or unloading the object into the furnace, A means for measuring a mechanical state quantity acting on the loading/unloading means; a means for comparing the measured values of the mechanical state quantity before and after the heat treatment; and (1) a means for loading/unloading the object to be heat treated until both values match. means for correcting the holding position according to the
The relative position of the boat and fork can be kept constant during loading and unloading of the boat, and the hoard can be loaded/unloaded into the furnace without substantially changing the carrying position of the boat on the fork. can.

(実施例) 以下1本発明を加熱炉システムに適用した一実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。
(Example) An example in which the present invention is applied to a heating furnace system will be described below with reference to the drawings.

第1図に示すように、加熱炉装置1は、単体の炉を上下
に4段に積重ねた多段炉であり、各炉内には複数のプロ
セスチューブが横置きの状態で挿入されている。この加
熱炉装置1は、シリコンウェハを酸化・拡散処理するた
めのものである。
As shown in FIG. 1, the heating furnace apparatus 1 is a multistage furnace in which single furnaces are stacked vertically in four stages, and a plurality of process tubes are inserted horizontally into each furnace. This heating furnace apparatus 1 is for oxidizing and diffusing silicon wafers.

ボート出入れ用のユニット4が、加熱j装置1の炉口1
aの前方に設置されている。ユニット4は。
A unit 4 for loading and unloading the boat is connected to the furnace port 1 of the heating device 1.
It is installed in front of a. Unit 4 is.

エアフィルタを有するフィルタユニット4aと、多数の
ウェハ2が積載された例えば石英ガラス製ボート3を炉
口1aを介して炉1に出入れするためのユニット4bと
、により構成されている。ユニット4bは、4段の欄4
cを有しており、各段の棚4cの一端がそれぞれの炉口
1aに連通している。各段の棚4cには、それぞれ石英
ガラス製のフォーク6を有するソフトランディング装置
5が設けられている。
It is comprised of a filter unit 4a having an air filter, and a unit 4b for transporting, for example, a quartz glass boat 3 loaded with a large number of wafers 2 into and out of the furnace 1 via the furnace opening 1a. Unit 4b is column 4 of 4 rows.
c, and one end of each shelf 4c communicates with the respective furnace opening 1a. A soft landing device 5 having a fork 6 made of quartz glass is provided on each shelf 4c.

フォーク6は、それぞれの炉軸の延長線上に延びており
、その基端側に筒状部7を、その先端側にボート支持部
8をそれぞれ有している。
The fork 6 extends on the extension line of each furnace axis, and has a cylindrical portion 7 on its base end side and a boat support portion 8 on its distal end side.

エレベータ装置9が、加熱炉装置1と架台4との間の前
面側に設けられている。エレベータ装置9のアーム9a
の先端には、フロントステージ上のボート3をフォーク
6の支持部8に移すための部材9bが設けられている。
An elevator device 9 is provided on the front side between the heating furnace device 1 and the pedestal 4. Arm 9a of elevator device 9
A member 9b for transferring the boat 3 on the front stage to the support portion 8 of the fork 6 is provided at the tip.

エレベータ装置9は1部材9bをX軸及びZ軸に沿って
それぞれ移動させる機構を有している。
The elevator device 9 has a mechanism for moving one member 9b along the X-axis and the Z-axis, respectively.

ウェハカセット11及びウェハボート3を載置するため
のステージが、ユニット4bの最下段の棚4Cの前面に
設けられている。このステージの更に前面にはハンドリ
ング装[10が設けられている。ハンドリング装@10
は、カセット11からウェハ2を取出す機構と、取出さ
れたウェハ2をボート3に移載する機構と、を有してい
る。
A stage on which the wafer cassette 11 and wafer boat 3 are placed is provided in front of the lowermost shelf 4C of the unit 4b. A handling device [10] is provided further in front of this stage. Handling equipment @10
has a mechanism for taking out the wafers 2 from the cassette 11 and a mechanism for transferring the taken out wafers 2 to the boat 3.

第2図を参照しながら、ソフトランディング装置5につ
いて説明する。なお、第2図では便宜的にフォークを図
示していない、ソフトランディング装M5のガイドレー
ル13a、 13bが、1i4cのベース部材12上に
固定されている。ドライブシャフト15が、レール13
a、 13bの相互間に設けられ、一端がストッパ部材
L5aに枢着され、他端がギア18に連結されている。
The soft landing device 5 will be explained with reference to FIG. Note that the guide rails 13a and 13b of the soft landing device M5, whose forks are not shown in FIG. 2 for convenience, are fixed on the base member 12 of 1i4c. The drive shaft 15 is connected to the rail 13
a and 13b, one end is pivotally connected to the stopper member L5a, and the other end is connected to the gear 18.

ガイドレール13a、 13b及びドライブシャフト1
5は、X軸に沿って互いに平行に延びており、それぞれ
が第1のスライダ14及び第2のスライダ27のそれぞ
れを貫通している。
Guide rails 13a, 13b and drive shaft 1
5 extend parallel to each other along the X axis, and each passes through each of the first slider 14 and the second slider 27.

タイミングベルト17が、上述のギア18及びモータ1
6のドライブギア16aの間に掛は渡されている。
The timing belt 17 is connected to the gear 18 and the motor 1 described above.
The hook is passed between the 6 drive gears 16a.

ドライブシャフト15及び第1のスライダ14は変換器
15bにより連結されている。変換器15bは、シャフ
ト15に対して摺動する摩擦部材を内蔵しており。
The drive shaft 15 and the first slider 14 are connected by a transducer 15b. The converter 15b has a built-in friction member that slides on the shaft 15.

摩擦部材によりシャフト15の回転運動をスライド直線
運動に変換する機能を有している。
The friction member has the function of converting the rotational motion of the shaft 15 into a sliding linear motion.

また、第2のスライダ27も同様の変換器(図示せず)
を有している。この第2のスライダ27は。
In addition, the second slider 27 also has a similar converter (not shown).
have. This second slider 27 is.

フォークを先端側にて支持するためのものである。This is to support the fork on the tip side.

フォーク6を片持ち支持するための支持部19が、第1
のスライダ14の上方に設けられている。このフォーク
支持部19は、Z軸に沿って昇降可能に設けられた第1
の支持部材20と、第1の支持部材20の上に支軸22
aを介して揺動可能に設けられた第2の支持部材22と
、更に第2の支持部材22の上に設けられた第3の支持
部材23a、 23bと、を有している6図において、
第3の支持部材23a、 23bを分解した状態を示し
ている。上部材23aを下部材23bに被せて、 ボル
ト23cを締付けると、フォーク6(図示せず)の後端
部が上下部材23a、 23bにより挟持されるように
なっている。この場合に、フォーク6の最後端と第3の
部材23a、 23bの最後端とは一致している。 な
お、ボルト23dにより第3の下部材23bが第2の支
持部材22に固定されている。
A support portion 19 for cantilever-supporting the fork 6 is provided with a first
is provided above the slider 14. This fork support part 19 is provided with a first
a support member 20 and a support shaft 22 on the first support member 20.
In FIG. 6, the second support member 22 is provided to be swingable via a, and the third support members 23a and 23b are provided on the second support member 22. ,
The third support members 23a and 23b are shown in an exploded state. When the upper member 23a is placed over the lower member 23b and the bolt 23c is tightened, the rear end of the fork 6 (not shown) is held between the upper and lower members 23a and 23b. In this case, the rearmost ends of the fork 6 and the rearmost ends of the third members 23a, 23b are aligned. Note that the third lower member 23b is fixed to the second support member 22 by bolts 23d.

また、第2の支持部材22の後端部は、第3の支持部材
23a、 23bの後端部よりも後方に延びており、部
材22の後端部の上面に偏心カム21が当接している。
Further, the rear end portion of the second support member 22 extends rearward than the rear end portions of the third support members 23a and 23b, and the eccentric cam 21 is in contact with the upper surface of the rear end portion of the member 22. There is.

偏心カム21は、その両端が1対のブラケット21aに
より回動可能に支持され、更に一端がシャフト21bに
連結されている。このシャフト21bは、ウオームギア
を有する減速機構(図示せず)を介してモータ25の駆
動軸に連結されている。
Both ends of the eccentric cam 21 are rotatably supported by a pair of brackets 21a, and one end is connected to a shaft 21b. This shaft 21b is connected to a drive shaft of a motor 25 via a speed reduction mechanism (not shown) having a worm gear.

圧力センサ(図示せず)が、カム21及びブラケット2
1aの連結部に設けられ、力1121からブラケット2
1aに伝達される力のモーメントが検出されるようにな
っている。
A pressure sensor (not shown) is connected to the cam 21 and the bracket 2.
1a, and from the force 1121 to the bracket 2
The moment of force transmitted to 1a is adapted to be detected.

次に、第3図を参照しながら、フォーク6の首振り機構
、すなわちθ軸駆動機構について説明する。
Next, the swinging mechanism of the fork 6, that is, the θ-axis drive mechanism will be described with reference to FIG.

フォーク6の首振り機構は、支軸22aを支点とし、カ
ム21及び部材22の当接部分を力点に、ボート支持部
8を作用点とするてこ機構である。すなわち、偏心カム
21を回転させると、作用点にあたるボート支持部8が
上下に揺動するようになっている。
The swinging mechanism of the fork 6 is a lever mechanism that uses the support shaft 22a as a fulcrum, the contact portion of the cam 21 and the member 22 as a point of force, and the boat support portion 8 as a point of action. That is, when the eccentric cam 21 is rotated, the boat support section 8, which is the point of action, swings up and down.

次に、第4図乃至第6図を参照しながら、ボートをロー
ディング/アンローディングする場合のフォークとプロ
セスチューブとの相互位置関係について説明する。
Next, the mutual positional relationship between the fork and the process tube when loading/unloading a boat will be explained with reference to FIGS. 4 to 6.

第4図に示すように、ボート支持部8がプロセスチュー
ブ28の挿入口に対面するようにフォーク6が待機して
いる。フォーク6を前進させると、第5図に示すように
、ボート支持部8がプロセスチューブ28内に挿入され
る。第6図に示すように。
As shown in FIG. 4, the fork 6 is on standby so that the boat support part 8 faces the insertion opening of the process tube 28. When the fork 6 is advanced, the boat support section 8 is inserted into the process tube 28, as shown in FIG. As shown in Figure 6.

ボート支持部8がプロセスチューブ28の均熱部28a
に位置するところでフォーク6を停止させ、ボート(図
示せず)をローディング/アンローディングする。
The boat support part 8 is the soaking part 28a of the process tube 28.
The fork 6 is stopped at the position, and the boat (not shown) is loaded/unloaded.

第7図に示すように、ボート3がプロセスチューブ28
に載置された状態で、ウェハ2とプロセスチューブ28
内壁との間隔が全周に亘ってほぼ一様になる。
As shown in FIG. 7, the boat 3 is connected to the process tube 28
The wafer 2 and the process tube 28
The distance from the inner wall is almost uniform over the entire circumference.

次に、第8図のフローチャー1−及び第9図乃至第14
図の断面模式図を参照しながら、上記のソフトランディ
ング装置5を用いてボート3を炉のプロセスチューブ2
8に出入れする場合について詳細に説明する。
Next, the flowchart 1- in FIG. 8 and the flowcharts 9 to 14 in FIG.
While referring to the cross-sectional schematic diagram in the figure, the boat 3 is moved to the process tube 2 of the furnace using the soft landing device 5 described above.
8 will be explained in detail.

多数のシリコンウェハ2を積載したボート3を。A boat 3 loaded with a large number of silicon wafers 2.

エレベータ装置9の部材9bからフォーク6のボート支
持部8へ移載する。この場合に、ウェハ2及びボート3
の合計重量は約5〜10kgであり、フォーク6の長さ
は約200〜300cmである。ソフトランディング装
置5のスイッチを入れて、ウェハボート3のローディン
グ/アンローディング動作をスタートする。
The member 9b of the elevator device 9 is transferred to the boat support portion 8 of the fork 6. In this case, wafer 2 and boat 3
The total weight of the fork 6 is about 5 to 10 kg, and the length of the fork 6 is about 200 to 300 cm. The soft landing device 5 is turned on to start the loading/unloading operation of the wafer boat 3.

先ず、フォーク6でウェハボート3を片持ち支持したと
きにフォーク支持部19の力点(カム21と部材22と
の接触部)に伝達される力のモーメント阿、を、センサ
で検出測定するステップ1(Sl)。
First, step 1 of detecting and measuring, with a sensor, the moment A of the force transmitted to the force point of the fork support portion 19 (the contact portion between the cam 21 and the member 22) when the wafer boat 3 is cantilever-supported by the fork 6. (Sl).

この測定値M1をコンピュータシステムのメモリにスト
アするステップ2(52)。
Step 2 (52) of storing this measured value M1 in the memory of the computer system.

次に、X軸方向にフォーク6を移動させ、ボート支持部
8をプロセスチューブ28に挿入し、第9図に示すよう
に、 ウェハボート3が均熱部28aに位置するところ
で、これを停止する。
Next, move the fork 6 in the X-axis direction, insert the boat support part 8 into the process tube 28, and stop when the wafer boat 3 is located in the soaking part 28a, as shown in FIG. .

次に、θ軸駆動機構のモータ25の駆動により。Next, by driving the motor 25 of the θ-axis drive mechanism.

偏心カム21を所定回転数だけ回転させ、第10図に示
すように、ボート支持部8を下げる。
The eccentric cam 21 is rotated by a predetermined number of rotations, and the boat support part 8 is lowered as shown in FIG.

ウェハボート3を支持部8からプロセスチューブ28に
移載した後に、第11図に示すように、フォーク6をX
軸方向に後退させ、ウェハボート3のみをプロセスチュ
ーブ28内に残す。
After transferring the wafer boat 3 from the support section 8 to the process tube 28, as shown in FIG.
The wafer boat 3 is moved back in the axial direction, leaving only the wafer boat 3 in the process tube 28.

炉口1aを閉め、所定の温度、時間、並びに雰囲気の条
件下でウェハ2を酸化拡散処理する。
The furnace opening 1a is closed, and the wafer 2 is subjected to oxidation diffusion treatment under predetermined temperature, time, and atmospheric conditions.

熱処理終了後、ローディング時と同じ距離だけフォーク
6をXIPI11方向に前進させ、第12図に示すよう
に、ボート支持部8をウェハボート3のところに位置さ
せる。
After the heat treatment is completed, the fork 6 is moved forward in the XIPI direction 11 by the same distance as during loading, and the boat support part 8 is positioned at the wafer boat 3, as shown in FIG.

第13図に示すように、フォーク6によりウェハボート
3を持上げ、持上げたときに力点(フォーク支持部材1
9のカム21及び部材22の接触点)に作用する力のモ
ーメントM2をセンサで検出測定するステップ3(S:
3)、このとき、熱処理前後のウェハボート3の重量は
、実質的に同じである。例えば、150枚の6インチ径
ウェハにCVDによりIIJMのポリシリコンをデポジ
ットした場合に、処理前後で約12グラムの重量増加が
認められるが、これはウェハボー1−及びフォークの全
体重量から見れば無視できる数値である。
As shown in FIG. 13, the wafer boat 3 is lifted by the fork 6, and when lifted,
Step 3 (S:
3) At this time, the weight of the wafer boat 3 before and after the heat treatment is substantially the same. For example, when IIJM polysilicon is deposited on 150 6-inch diameter wafers by CVD, a weight increase of about 12 grams is observed before and after the process, but this is negligible from the overall weight of the wafer board and fork. This is a possible number.

データのストアされたメモリ値H2を呼出し、検出モー
メントM2とメモリ値M1とを互いに比較し、(ステッ
プ4)両者が合致していれば、第14図に示すように、
フォーク6を後退させ、ウェハボート3を炉外に取出す
ステップ5(S5)。
The memory value H2 in which the data is stored is called, the detected moment M2 and the memory value M1 are compared with each other (step 4), and if they match, as shown in FIG.
Step 5 (S5) of retracting the fork 6 and taking out the wafer boat 3 out of the furnace.

前記ステップ4 (S4)において、検出モーメントM
2とメモリ値M1とが相違している場合は、ウェハボー
ト3をプロセスチューブ28に下ろし、フォーク6の停
止位置を補正した後に、フォーク6でウェハボート3を
再び持上げるステップ6 (S6)、つまり、メモリ値
もと検出モーメントM□とが合致するまで、ステップ3
→ステツプ4→ステツプ6→ステツプ3の動作を繰返す
In step 4 (S4), the detected moment M
2 is different from the memory value M1, step 6 of lowering the wafer boat 3 into the process tube 28, correcting the stop position of the fork 6, and lifting the wafer boat 3 again with the fork 6 (S6); In other words, until the memory value and the detected moment M□ match, step 3
→ Repeat step 4 → step 6 → step 3.

最終的にメモリ値もと検出モーメント!112とが合致
すると、ステップ5に進み、ウェハボート3を炉外に取
出して、一連の動作が終了する。
Finally the memory value is detected moment! 112, the process proceeds to step 5, where the wafer boat 3 is taken out of the furnace, and the series of operations ends.

なお、上記実施例では、フォーク支持部材の力点におけ
る力のモーメントを検出しているが、これに限られるこ
となく、フォーク支持部材22に歪ゲージを設け、支持
部材22の撓みを検出するようにしてもよい。
In the above embodiment, the moment of force at the force point of the fork support member is detected, but the present invention is not limited to this, and a strain gauge may be provided on the fork support member 22 to detect the deflection of the support member 22. You can.

また、上記実施例では、フォークの首振り手段に偏心カ
ムを有するθ駆動機構を採用したが、これに限られるこ
となく、他の揺動機構、例えばてこクランク機構を用い
ることもできる。またソフトランディング装置は、X軸
駆動機構(フォーク前進後退機構)及びθ駆動機構(フ
ォーク首振り機構)を具備している。この場合に、X軸
駆動機構及びθ駆動機構がコンピュータシステムにより
コントロールされるようになっていることが好ましい。
Further, in the above embodiment, a θ drive mechanism having an eccentric cam is used as the swinging means of the fork, but the present invention is not limited to this, and other swinging mechanisms such as a lever crank mechanism may also be used. The soft landing device also includes an X-axis drive mechanism (fork forward/backward mechanism) and a θ drive mechanism (fork swing mechanism). In this case, it is preferable that the X-axis drive mechanism and the θ drive mechanism be controlled by a computer system.

力学的状態量の測定データに基づきコンピュータシステ
ムで演算し、演算結果に基づきフォークによるウェハボ
ートの持上げ位置を補正することが好ましい。
It is preferable that a computer system perform calculations based on the measured data of the mechanical state quantity, and correct the lifting position of the wafer boat by the fork based on the calculation results.

更に、ソフトランディング装置のXM駆動機構が、ドラ
イブシャフトの回転運動をスライダの直線運動に変換す
る変換器を有することが好ましい。
Furthermore, it is preferred that the XM drive mechanism of the soft landing device has a converter for converting the rotational movement of the drive shaft into a linear movement of the slider.

この場合に、ドライブシャフトに、ボールスクリュウ等
を採用することができるが、ネジ切り溝のないフリクシ
ョンシャフトを用いることが好ましい。
In this case, a ball screw or the like can be used as the drive shaft, but it is preferable to use a friction shaft without threaded grooves.

上記実施例によればボート持上げ時において、ボートと
フォークとの相対位置を一定にすることができる。この
ため、ボート及びフォークをプロセスチューブ内壁に接
触させることなく、ウエハボートを炉に出入れすること
ができると共に、次工程以後のウェハ自動搬送において
ウェハと自動搬送機構との位置ずれに起因する事故が発
生しない。このため、ウェハ損傷事故を有効に回避する
ことができ、ウェハの歩留りを向上させることができる
。更に、ルーム内のクリーン度を高レベルに維持するこ
とができる。
According to the above embodiment, the relative position between the boat and the fork can be kept constant when lifting the boat. Therefore, the wafer boat can be taken in and out of the furnace without the boat and fork coming into contact with the inner wall of the process tube, and it also prevents accidents caused by misalignment between the wafer and the automatic transport mechanism during automatic wafer transport after the next process. does not occur. Therefore, wafer damage accidents can be effectively avoided, and the yield of wafers can be improved. Furthermore, the cleanliness within the room can be maintained at a high level.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、ローディング時及びアンローディング
時の両持点で、フォークとボートとの相対位置を実質的
に同じにすることができるので、次工程以後の自動機械
によるウェハの取扱いが確実かつ容易にできる効果があ
る。
According to the present invention, the relative positions of the fork and the boat can be made substantially the same at both the loading and unloading points, so that the wafers can be handled reliably by the automatic machine in the next process and thereafter. It has an effect that is easy to achieve.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は1本発明方法及び装置の一実施例を説明するた
めの加熱炉システムの加熱炉の炉口近傍の付帯設備を示
す構成図、第2図は第1図のソフトランディング装置(
フォークを図示せず)を示す説明図、第3図は第1図フ
ォークの首振り機構(θ駆動機構)について説明するた
めに、フォークを長手直交方向から見た説明図、第4図
乃至第6図は第1図の各時期におけるフォークとプロセ
スチューブとの相互位置関係を説明するために、フォー
ク及びプロセスチューブを長手直交方向から見た説明図
、第7図はプロセスチューブ内に挿入されたフォーク及
びボートを長手方向から見た説明図、第8図は第1図の
ラフ1−ランディング装置の動作を示すフローチャート
、第9図乃至第11図は第1図のボートをプロセスチュ
ーブにローディングする場合の一連の動作を説明するた
めに、それぞれプロセスチューブの長手直交方向から見
た説明図、第12図乃至第14図は第1図のボートをプ
ロセスチューブからアンローディングする場合の一連の
動作を説明するために、そ九ぞれプロセスチューブの長
手直交方向から見た説明図である。 2・・・ウェハ      3・・・ボート5・・・ソ
フトランディング装置 6・・・フォーク     8・・・ボート支持部10
・・・ハンドリング装置 11・・・カセット28・・
・プロセスチューブ 第4図 第5図 ゝ8 第6図 第8図
FIG. 1 is a configuration diagram showing ancillary equipment near the furnace mouth of a heating furnace system for explaining one embodiment of the method and apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a soft landing device (
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the fork (not shown); FIG. 3 is an explanatory diagram showing the fork in a direction perpendicular to its longitudinal direction; Figure 6 is an explanatory diagram of the fork and process tube viewed from the longitudinal direction, in order to explain the mutual positional relationship between the fork and the process tube at each stage in Figure 1, and Figure 7 is an explanatory diagram of the fork and process tube inserted into the process tube. An explanatory view of the fork and boat viewed from the longitudinal direction, FIG. 8 is a flowchart showing the operation of the luff 1-landing device in FIG. 1, and FIGS. 9 to 11 show loading the boat in FIG. 1 into the process tube. In order to explain a series of operations when the boat shown in FIG. For illustrative purposes, FIG. 2... Wafer 3... Boat 5... Soft landing device 6... Fork 8... Boat support part 10
...Handling device 11...Cassette 28...
・Process tube Fig. 4 Fig. 5 8 Fig. 6 Fig. 8

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被熱処理体を炉にローディングする前に、被熱処
理体をローディング/アンローディング手段で片持ち支
持したときにローディング/アンローディング手段に作
用する力学的状態量を予め測定しておき、これを第1の
測定値とし、更に、熱処理後の被熱処理体をローディン
グ/アンローディング手段で片持ち支持したときにロー
ディング/アンローディング手段に作用する力学的状態
量を測定し、これを第2の測定値とし、前記第1及び第
2の測定値を互いに比較し、第2の測定値が第1の測定
値に合致するまで、ローディング/アンローディング手
段による被熱処理体の保持位置を補正し、両者が合致し
たところで炉から被熱処理体をアンローディングするこ
とを特徴とする被熱処理体を炉に出入れする方法。
(1) Before loading the object to be heat treated into the furnace, measure in advance the amount of mechanical state that acts on the loading/unloading means when the object to be heat treated is cantilever-supported by the loading/unloading means. is the first measurement value, and further, when the heat-treated object is cantilever-supported by the loading/unloading means, the mechanical state quantity acting on the loading/unloading means is measured, and this is determined as the second measurement value. and comparing the first and second measured values with each other, correcting the holding position of the object to be heat treated by the loading/unloading means until the second measured value matches the first measured value, A method for loading and unloading a heat-treated object into and out of a furnace, which comprises unloading the heat-treated object from the furnace when the two match.
(2)被熱処理体を片持ち支持しつつ搬送し、炉にロー
ディング又はアンローディングする手段と、被熱処理体
を片持ち支持したときに前記ローディング/アンローデ
ィング手段に作用する力学的状態量を測定する手段と、
前記力学的状態量の熱処理前後における測定値を互いに
比較する手段と、両者が一致するまで被熱処理体のロー
ディング/アンローディング手段による保持位置を補正
する手段と、を有することを特徴とする被熱処理体を炉
に出入れする装置。
(2) Measuring the means for transporting the object to be heat treated while supporting it in a cantilever manner and loading or unloading it into the furnace, and the amount of mechanical state that acts on the loading/unloading means when the object to be heat treated is supported in a cantilever manner. and the means to
A heat-treated object characterized by comprising means for comparing the measured values of the mechanical state quantity before and after the heat treatment, and means for correcting the holding position of the heat-treated object by the loading/unloading means until both values match. A device that moves bodies into and out of the furnace.
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