JPH01225042A - 負イオン発生装置 - Google Patents
負イオン発生装置Info
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- JPH01225042A JPH01225042A JP63047383A JP4738388A JPH01225042A JP H01225042 A JPH01225042 A JP H01225042A JP 63047383 A JP63047383 A JP 63047383A JP 4738388 A JP4738388 A JP 4738388A JP H01225042 A JPH01225042 A JP H01225042A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は気体放電を利用した負イオン発生装置に係り、
特に核融合プラズマ追加熱用中性粒子ビーム入射装置な
どのように多量の負イオンを必要とする装置に好適な負
イオン発生装置に関する。
特に核融合プラズマ追加熱用中性粒子ビーム入射装置な
どのように多量の負イオンを必要とする装置に好適な負
イオン発生装置に関する。
この種の気体放電を用いた水素負イオン発生装置として
は、「レビュー オブ サイエンティフィック インス
トラメンテーション」５７巻 ３号１９８６年（Ｒｅｖ
、 Ｓｃｉ、 Ｉｎｓｔｒｕｍ、 、 Ｖｏｌ、
５７＋Ｎｏ、 ３ 、 Ｍａｒｃｈ １９８６）の
第３２１頁から第３２４頁に記載されたものがある。こ
の装置は、第１の熱陰極からの直流放電によって放出さ
れた高速電子を用いて気体を電離・励起してプラズマを
生成し、更に第２の熱陰極からの直流放電によって励起
状態の粒子に電子を付加して負イオンを生成するもので
ある。
は、「レビュー オブ サイエンティフィック インス
トラメンテーション」５７巻 ３号１９８６年（Ｒｅｖ
、 Ｓｃｉ、 Ｉｎｓｔｒｕｍ、 、 Ｖｏｌ、
５７＋Ｎｏ、 ３ 、 Ｍａｒｃｈ １９８６）の
第３２１頁から第３２４頁に記載されたものがある。こ
の装置は、第１の熱陰極からの直流放電によって放出さ
れた高速電子を用いて気体を電離・励起してプラズマを
生成し、更に第２の熱陰極からの直流放電によって励起
状態の粒子に電子を付加して負イオンを生成するもので
ある。
しかしながら、熱陰極放電は高エネ、ルギー電子の放出
効率が悪いので、供給電力に対して負イオン生成効率が
悪く、従って多量の負イオンを生成するためには熱陰極
への供給電力を大きくしなければならず、熱陰極の発熱
量が多くなるので、該熱陰極周辺の構成部品は耐熱性を
必要として複雑になり、また電子に対して負イオンの生
成率が低いと引出し電極群に流れる電子電流が大きくな
って大容量の引出し電源が必要となる。更に、熱陰極は
フィラメント交換が必要なことがらメンテナンス性が悪
いという問題があった。
効率が悪いので、供給電力に対して負イオン生成効率が
悪く、従って多量の負イオンを生成するためには熱陰極
への供給電力を大きくしなければならず、熱陰極の発熱
量が多くなるので、該熱陰極周辺の構成部品は耐熱性を
必要として複雑になり、また電子に対して負イオンの生
成率が低いと引出し電極群に流れる電子電流が大きくな
って大容量の引出し電源が必要となる。更に、熱陰極は
フィラメント交換が必要なことがらメンテナンス性が悪
いという問題があった。
また、特開昭６１−２３９５４６号公報には、熱陰極を
用いることなく、気体にマイクロ波電力と磁界を作用さ
せて電子サイクロトロン共鳴によってプラズマを生成し
、このプラズマから負イオンを抽出する負イオン発生装
置が記載されているが、多量の負イオンを発生するには
不向きであった。
用いることなく、気体にマイクロ波電力と磁界を作用さ
せて電子サイクロトロン共鳴によってプラズマを生成し
、このプラズマから負イオンを抽出する負イオン発生装
置が記載されているが、多量の負イオンを発生するには
不向きであった。
従って本発明の目的は、負イオン生成効率を高めて低電
力で多量の負イオンを発生することができ、しかもメン
テナンス性のよい負イオン発生装置を提供することにあ
る。
力で多量の負イオンを発生することができ、しかもメン
テナンス性のよい負イオン発生装置を提供することにあ
る。
本発明はこの目的を達成するために、容器内の気体を電
離・励起してプラズマを生成するプラズマ生成手段と、
励起状態の粒子に電子を作用させて負イオンを生成する
熱陰極を有する負イオン生成手段と、容器から負イオン
を引出す引出し電極群とを備えた負イオン発生装置にお
いて、前記プラズマ生成手段に、前記容器中に電子サイ
クロトロン共鳴領域を生成するために、マイクロ波電力
を供給するマイクロ波供給手段と磁界を作用させる励磁
手段を設けたことを特徴とする。
離・励起してプラズマを生成するプラズマ生成手段と、
励起状態の粒子に電子を作用させて負イオンを生成する
熱陰極を有する負イオン生成手段と、容器から負イオン
を引出す引出し電極群とを備えた負イオン発生装置にお
いて、前記プラズマ生成手段に、前記容器中に電子サイ
クロトロン共鳴領域を生成するために、マイクロ波電力
を供給するマイクロ波供給手段と磁界を作用させる励磁
手段を設けたことを特徴とする。
磁界とマイクロ波電力を用いて電子サイクロトロン共鳴
により気体を電離・励起してプラズマを生成すると、熱
陰極放電に比較して電子温度・密度を高くすることがで
きるために、負イオン生成に必要な励起状態の粒子を効
率良く生成することができる。そして熱陰極はこの励起
状態の粒子に付着効率の高いエネルギーの電子を供給し
て、電子に対して高い比率で多量の負イオンを効率良く
生成する。
により気体を電離・励起してプラズマを生成すると、熱
陰極放電に比較して電子温度・密度を高くすることがで
きるために、負イオン生成に必要な励起状態の粒子を効
率良く生成することができる。そして熱陰極はこの励起
状態の粒子に付着効率の高いエネルギーの電子を供給し
て、電子に対して高い比率で多量の負イオンを効率良く
生成する。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
マイクロ波発振器１．ダミーロード２．方向性結合器３
．スタブチューナ４および導波管５から成るマイクロ波
電力供給回路は、２．４５ＧＨｚのマイクロ波電力をマ
イクロ波透過窓６を介してプラズマ生成室７に供給する
。このプラズマ生成室７を形成する金属の真空容器９の
周囲にはこのプラズマ生成室７内に電子サイクロトロン
共鳴のための磁界を生成する永久磁石８が設けられる。
．スタブチューナ４および導波管５から成るマイクロ波
電力供給回路は、２．４５ＧＨｚのマイクロ波電力をマ
イクロ波透過窓６を介してプラズマ生成室７に供給する
。このプラズマ生成室７を形成する金属の真空容器９の
周囲にはこのプラズマ生成室７内に電子サイクロトロン
共鳴のための磁界を生成する永久磁石８が設けられる。
プラズマ生成室７は前記マイクロ波電力供給側からボー
ン状に拡がって形成され、その先は前記真空容器９内に
形成された負イオン生成室１４に連通ずる。この負イオ
ン生成室１４と前記プラズマ生成室７の間には、前記マ
イクロ波の波長よりも目の細かいメツシュで構成された
マイクロ波電力遮へいメツシュ１１が配置され、マイク
ロ波電力がプラズマ生成室７から負イオン生成室１４に
伝播するのを防止している。負イオン生成室１４には、
前記マイクロ波電力遮へいメツシュ１１の内側に隣接し
て棒状永久磁石群１２を配置して磁気フィルタを生成す
る。この棒状永久磁石群１２は、幅方向に着磁された複
数の棒状永久磁石を間隙をおいて並設した（紙面と直角
方向に伸びている）もので、プラズマ生成室７から流入
する高速電子を抑制する。そして熱電子放出可能なタン
グステン線などの熱陰極１３は前記棒状永久磁石群１２
の間隙内に並べて架設される（紙面と直角方向に伸びて
いる）。この熱陰極１３は、前記プラズマ室７から拡散
してくる励起状態の粒子と衝突してこれに付着する確率
が高く負イオンを生成するのに適したエネルギーをもっ
た熱電子を放出する。このために、熱陰極１３は周囲の
空間電位に対するバイアス電圧が与えられており、しか
も電子のエネルギー幅を小さくするために電子放出時の
該熱陰極１３の両端の電位差が２ｖ程度以下となるよう
な長さに分割して並設される。
ン状に拡がって形成され、その先は前記真空容器９内に
形成された負イオン生成室１４に連通ずる。この負イオ
ン生成室１４と前記プラズマ生成室７の間には、前記マ
イクロ波の波長よりも目の細かいメツシュで構成された
マイクロ波電力遮へいメツシュ１１が配置され、マイク
ロ波電力がプラズマ生成室７から負イオン生成室１４に
伝播するのを防止している。負イオン生成室１４には、
前記マイクロ波電力遮へいメツシュ１１の内側に隣接し
て棒状永久磁石群１２を配置して磁気フィルタを生成す
る。この棒状永久磁石群１２は、幅方向に着磁された複
数の棒状永久磁石を間隙をおいて並設した（紙面と直角
方向に伸びている）もので、プラズマ生成室７から流入
する高速電子を抑制する。そして熱電子放出可能なタン
グステン線などの熱陰極１３は前記棒状永久磁石群１２
の間隙内に並べて架設される（紙面と直角方向に伸びて
いる）。この熱陰極１３は、前記プラズマ室７から拡散
してくる励起状態の粒子と衝突してこれに付着する確率
が高く負イオンを生成するのに適したエネルギーをもっ
た熱電子を放出する。このために、熱陰極１３は周囲の
空間電位に対するバイアス電圧が与えられており、しか
も電子のエネルギー幅を小さくするために電子放出時の
該熱陰極１３の両端の電位差が２ｖ程度以下となるよう
な長さに分割して並設される。
負イオン生成室１４を形成する真空容器９の周囲には、
第２図に示すように、永久磁石群１０を配置しマルチポ
ール磁界を生成して負イオンを閉し込める。
第２図に示すように、永久磁石群１０を配置しマルチポ
ール磁界を生成して負イオンを閉し込める。
加速電極、減速電極および接地電極から成るイオン引出
し電極群１５はイオン生成室１４の端に設けられ、該イ
オン生成室１４内に閉し込められた負イオンを引出す。
し電極群１５はイオン生成室１４の端に設けられ、該イ
オン生成室１４内に閉し込められた負イオンを引出す。
以上の構成において、プラズマ生成室７に原料となる気
体を供給し更にマイクロ波電力を供給すると、永久磁石
８が作る磁界との相互作用（電子ザイクロトロン共鳴）
で気体が電離・励起されてプラズマが生成される。マイ
クロ波は電子に直接作用してこれに連続的にエネルギー
を注入できるのでプラズマ生成室７内の電子温度・密度
を熱陰極放電に比較して高くでき、負イオン生成に必要
な励起状態の粒子を効率良く生成することができる。こ
のプラズマ生成室７からマイクロ波電力遮へいメツシュ
１１を通して負イオン生成室１４内に拡散して（る励起
状態の粒子には、熱陰極１３から放出された電子が衝突
、付着して負イオンが効率良く生成される。そしてこの
負イオンは永久磁石群１０で生成したマルチポール磁界
内に閉じ込められ、引出し電極群１５によって引出され
る。
体を供給し更にマイクロ波電力を供給すると、永久磁石
８が作る磁界との相互作用（電子ザイクロトロン共鳴）
で気体が電離・励起されてプラズマが生成される。マイ
クロ波は電子に直接作用してこれに連続的にエネルギー
を注入できるのでプラズマ生成室７内の電子温度・密度
を熱陰極放電に比較して高くでき、負イオン生成に必要
な励起状態の粒子を効率良く生成することができる。こ
のプラズマ生成室７からマイクロ波電力遮へいメツシュ
１１を通して負イオン生成室１４内に拡散して（る励起
状態の粒子には、熱陰極１３から放出された電子が衝突
、付着して負イオンが効率良く生成される。そしてこの
負イオンは永久磁石群１０で生成したマルチポール磁界
内に閉じ込められ、引出し電極群１５によって引出され
る。
このようにして負イオン生成室１４で生成される負イオ
ンの生成効率向上を第３図および第４図を参照して説明
する。
ンの生成効率向上を第３図および第４図を参照して説明
する。
第３図は負イオン発生効率測定のための装置を示してお
り、負イオン生成室１４から引出し電極群１５によって
引出される粒子がもつ負電荷による引出し電流は■−で
示される。この引出し電流Ｉ−は、ファラデーカップ入
口に加えられた偏向電界Ｂによって電子電流１．と負イ
オン電流■、−に分離して測定される。前記偏向磁界の
強度は０．０６Ｔである。
り、負イオン生成室１４から引出し電極群１５によって
引出される粒子がもつ負電荷による引出し電流は■−で
示される。この引出し電流Ｉ−は、ファラデーカップ入
口に加えられた偏向電界Ｂによって電子電流１．と負イ
オン電流■、−に分離して測定される。前記偏向磁界の
強度は０．０６Ｔである。
プラズマ生成室７に０．５Ｐａの圧力の水素ガスト４０
０ Ｗのマイクロ波電力を供給して水素ガスをプラズマ
化し、熱電極１３に４０Ｖのアーク電圧を与えて０．５
Ａのアーク電流を発生させたとき、８Ｎの直径の引出し
穴（単孔）から引出される引出し電流１．電子電流■８
．負イオン電流■１が第４図に示されている。
０ Ｗのマイクロ波電力を供給して水素ガスをプラズマ
化し、熱電極１３に４０Ｖのアーク電圧を与えて０．５
Ａのアーク電流を発生させたとき、８Ｎの直径の引出し
穴（単孔）から引出される引出し電流１．電子電流■８
．負イオン電流■１が第４図に示されている。
加速電圧（Ｖａｃｃ）を５ｋＶとしたときの負イオン電
流ＩＨ−は５ｍＡであり、電流密度は１０ｍＡ／’ｃｍ
２となる。この負イオン電流密度は、熱陰極放電のみの
負イオン発生装置で得られるものと同レベルのものであ
るが、電子電流Ｉｅに対する比率は２０％もあり、従来
装置の１０％に比較して効率良く負イオンが生成されて
いることがわかる。
流ＩＨ−は５ｍＡであり、電流密度は１０ｍＡ／’ｃｍ
２となる。この負イオン電流密度は、熱陰極放電のみの
負イオン発生装置で得られるものと同レベルのものであ
るが、電子電流Ｉｅに対する比率は２０％もあり、従来
装置の１０％に比較して効率良く負イオンが生成されて
いることがわかる。
第５図は本発明になる他の負イオン発生装置を示してい
る。この負イオン発生装置は、プラズマ生成室７に電子
サイクロトロン共鳴用の磁界を生成するために真空容器
９の周囲に配置する励磁手段を２つの電磁コイル１６ａ
、１６ｂで構成したもので、これらの電磁コイル１６ａ
、１６ｂは熱陰極１３が架設された位置に径方向の磁力
線を発生して磁気フィルタが生成されるように位置決め
される。
る。この負イオン発生装置は、プラズマ生成室７に電子
サイクロトロン共鳴用の磁界を生成するために真空容器
９の周囲に配置する励磁手段を２つの電磁コイル１６ａ
、１６ｂで構成したもので、これらの電磁コイル１６ａ
、１６ｂは熱陰極１３が架設された位置に径方向の磁力
線を発生して磁気フィルタが生成されるように位置決め
される。
この装置は、電磁コイル１６ａ、１６ｂに流す電流を変
化させることによって電子サイクロトロン共鳴のための
磁界の領域を変えることができ、マイクロ波のチューニ
ングを取ることができる。
化させることによって電子サイクロトロン共鳴のための
磁界の領域を変えることができ、マイクロ波のチューニ
ングを取ることができる。
第６図は本発明になる更に他の負イオン発生装置を示し
ている。この負イオン発生装置は負イオン源の大口径化
（負イオン生成量増加）に対応するもので、１つの負イ
オン生成室１４に対してこれに連通した２つのプラズマ
生成室７ａ、７ｂを備え、各プラズマ生成室７ａ、７ｂ
毎にマイクロ波透過窓６ａ、６ｂを介してマイクロ波電
力供給回路が接続され、更に電子サイクロトロン共鳴用
磁界生成のための永久磁石８ａ、８ｂが設げられ、励起
状態の粒子を多量に生成するようにしている。
ている。この負イオン発生装置は負イオン源の大口径化
（負イオン生成量増加）に対応するもので、１つの負イ
オン生成室１４に対してこれに連通した２つのプラズマ
生成室７ａ、７ｂを備え、各プラズマ生成室７ａ、７ｂ
毎にマイクロ波透過窓６ａ、６ｂを介してマイクロ波電
力供給回路が接続され、更に電子サイクロトロン共鳴用
磁界生成のための永久磁石８ａ、８ｂが設げられ、励起
状態の粒子を多量に生成するようにしている。
磁気フィルタを生成する棒状永久磁石群と電子を放出す
る熱陰極は参照符号１２ａ、１２ｂおよび１３ａ、１３
ｂで示すように２分して前記プラズマ生成室７ａ、７ｂ
に対向して配置される。負イオン生成室１４は生成され
た負イオンが拡散して−様な分布となるように前記熱陰
極１３ａ、１３ｂから引出し電極群１５までの寸法が設
定される。
る熱陰極は参照符号１２ａ、１２ｂおよび１３ａ、１３
ｂで示すように２分して前記プラズマ生成室７ａ、７ｂ
に対向して配置される。負イオン生成室１４は生成され
た負イオンが拡散して−様な分布となるように前記熱陰
極１３ａ、１３ｂから引出し電極群１５までの寸法が設
定される。
なお、電子サイクロトロン共鳴用磁界は、前述の装置と
同様に、電磁コイルによって生成するようにすることも
でき、また、プラズマ生成室の数は必要に応じて更に増
加することもできる。
同様に、電磁コイルによって生成するようにすることも
でき、また、プラズマ生成室の数は必要に応じて更に増
加することもできる。
第７図は、前述の大口径負イオン源に対応するための負
イオン発生装置を改良して、負イオン生成断面積を大き
くした負イオン発生装置である。
イオン発生装置を改良して、負イオン生成断面積を大き
くした負イオン発生装置である。
この装置は、２つのプラズマ生成室７ａ、７ｂと負イオ
ン生成室１４の間にマイクロ波電力遮へいメツシュｌｌ
ａ、ｌｌｂが設けられ、磁気フィルタを生成する棒状永
久磁石群１２と電子を放出する熱陰極１３は後退して負
イオン生成室１４の中央に全面に渡って広く設けられて
いる。
ン生成室１４の間にマイクロ波電力遮へいメツシュｌｌ
ａ、ｌｌｂが設けられ、磁気フィルタを生成する棒状永
久磁石群１２と電子を放出する熱陰極１３は後退して負
イオン生成室１４の中央に全面に渡って広く設けられて
いる。
このために２つのプラズマ生成室７ａ、７ｂで生成され
た励起状態の粒子は負イオン生成室１４の前半の領域で
拡散され、広い面積で電子が供給されるので、より多く
の負イオンを生成することができる。
た励起状態の粒子は負イオン生成室１４の前半の領域で
拡散され、広い面積で電子が供給されるので、より多く
の負イオンを生成することができる。
マイクロ波電力遮へいメツシュ１１は磁気フィルタに隣
接した位置まで後退しても同様の効果を得ることができ
、また、永久磁石３ａ、３ｂは電磁コイ′ルに置換する
こともでき、更に、プラズマ生成室の数を増すこともで
きる。
接した位置まで後退しても同様の効果を得ることができ
、また、永久磁石３ａ、３ｂは電磁コイ′ルに置換する
こともでき、更に、プラズマ生成室の数を増すこともで
きる。
以上のように本発明は、磁界とマイクロ波電力を用いて
電子サイクロトロン共鳴により気体を電離・励起してプ
ラズマを生成して負イオン生成のために必要な励起状態
の粒子を効率良く得、この粒子に熱陰極から放出した電
子を付着させるようにしているので、電子に対して高い
比率で多量の負イオンを生成することができる。従って
、比較約手さい引出し電流で多量の負イオンを引出すこ
とができる。また、励起状態の粒子は磁界とマイクロ波
電流によって生成しているのでメンテナンス性が向上す
る。
電子サイクロトロン共鳴により気体を電離・励起してプ
ラズマを生成して負イオン生成のために必要な励起状態
の粒子を効率良く得、この粒子に熱陰極から放出した電
子を付着させるようにしているので、電子に対して高い
比率で多量の負イオンを生成することができる。従って
、比較約手さい引出し電流で多量の負イオンを引出すこ
とができる。また、励起状態の粒子は磁界とマイクロ波
電流によって生成しているのでメンテナンス性が向上す
る。
図面は本発明の実施例を示すもので、第１図は負イオン
発生装置の縦断側面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図
、第３図は負イオン発生効率測定装置の縦断側面図、第
４図は特性図、第５図〜第７図は他の負イオン発生装置
の要部縦断側面図である。 １−−−一−−−マイクロ波発振器、６−−−−−−−
マイクロ波透過窓、７−−−−−−プラズマ生成室、８
−−−−−−−永久磁石、９−−−一−−−真空容器、
１０−−−−−−−永久磁石群、１１−−−−マイクロ
波電力遮へいメツシュ、１２−−−−−−−棒状永久磁
石群、１３−−−−−−−熱陰極、１４−−−−一負イ
オン生成室、１５−−−−−−−引出し電極群。
発生装置の縦断側面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図
、第３図は負イオン発生効率測定装置の縦断側面図、第
４図は特性図、第５図〜第７図は他の負イオン発生装置
の要部縦断側面図である。 １−−−一−−−マイクロ波発振器、６−−−−−−−
マイクロ波透過窓、７−−−−−−プラズマ生成室、８
−−−−−−−永久磁石、９−−−一−−−真空容器、
１０−−−−−−−永久磁石群、１１−−−−マイクロ
波電力遮へいメツシュ、１２−−−−−−−棒状永久磁
石群、１３−−−−−−−熱陰極、１４−−−−一負イ
オン生成室、１５−−−−−−−引出し電極群。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、容器と、この容器中の気体を電離・励起してプラズ
マを生成するプラズマ生成手段と、容器中の励起状態の
粒子に電子を作用させて負イオンを生成する熱陰極を有
する負イオン生成手段と、容器中から負イオンを引出す
引出し電極群とを備えた負イオン発生装置において、前
記プラズマ生成手段は、前記容器中に電子サイクロトロ
ン共鳴領域を生成するために、マイクロ波電力を供給す
るマイクロ波供給手段と磁界を作用させる励磁手段を備
えたことを特徴とする負イオン発生装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記容器はプラズ
マ生成領域と負イオン生成領域の間をマイクロ波電力遮
へいメッシュで仕切つたことを特徴とする負イオン発生
装置。 ３、特許請求の範囲第１項または第２項において、前記
負イオン生成手段は負イオン生成領域の周囲には該領域
内に負イオンを閉じ込めるためのマルチポール磁界を生
成する永久磁石群を備えたことを特徴とする負イオン発
生装置。 ４、特許請求の範囲第１項または第２項または第３項に
おいて、前記負イオン生成手段は、プラズマ生成領域か
ら流入する高速電子を抑制する磁気フィルタを生成する
棒状永久磁石群を備えたことを特徴とする負イオン発生
装置。 ５、特許請求の範囲第４項において、前記熱陰極は前記
棒状永久磁石群に隣接して設けられたことを特徴とする
負イオン発生装置。 ６、特許請求の範囲第４項において、前記棒状永久磁石
群は間隙をおいて並設された複数の棒状永久磁石から成
り、前記熱陰極は前記間隙内に並設されたことを特徴と
する負イオン発生装置。 ７、容器内の気体を電離・励起してプラズマを生成する
プラズマ生成手段と、励起状態の粒子に電子を作用させ
て負イオンを生成する熱陰極を有する負イオン生成手段
と、容器から負イオンを引出す引出し電極群とを備えた
負イオン発生装置において、前記プラズマ生成手段は、
複数のプラズマ生成室と前記複数のプラズマ生成室にマ
イクロ波電力を供給するマイクロ波電力供給手段と前記
複数のプラズマ生成室の周囲に配置された励磁手段とを
備え、前記負イオン生成手段は、前記複数のプラズマ生
成室に連通し前記熱陰極が配置された１つの負イオン生
成室を備えたことを特徴とする負イオン発生装置。 ８、特許請求の範囲第７項において、前記プラズマ生成
室と負イオン生成室の間にマイクロ波電力遮へいメッシ
ュを設けたことを特徴とする負イオン発生装置。 ９、特許請求の範囲第７項または第８項において、前記
負イオン生成手段は、負イオン生成室の周囲に該室内に
負イオンを閉じ込めるためのマルチポール磁界を生成す
る永久磁石群を備えたことを特徴とする負イオン発生装
置。 １０、特許請求の範囲第７項または第８項または第９項
において、前記負イオン生成手段は前記プラズマ生成手
段から流入する高速電子を抑制する磁気フィルタを生成
する棒状永久磁石群を備えたことを特徴とする負イオン
発生装置。 １１、特許請求の範囲第１０項において、前記熱陰極は
前記棒状永久磁石群に隣接して設けられたことを特徴と
する負イオン発生装置。 １２、特許請求の範囲第１０項において、前記棒状永久
磁石群は間隙をおいて並設された複数の棒状永久磁石か
ら成り、前記熱陰極は前記間隙内に並設されたことを特
徴とする負イオン発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63047383A JP2614632B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 負イオン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63047383A JP2614632B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 負イオン発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01225042A true JPH01225042A (ja) | 1989-09-07 |
| JP2614632B2 JP2614632B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=12773579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63047383A Expired - Lifetime JP2614632B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 負イオン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2614632B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03254047A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロ波イオン銃 |
| US6054063A (en) * | 1997-06-24 | 2000-04-25 | Nec Corporation | Method for plasma treatment and apparatus for plasma treatment |
| EP4231325A1 (en) * | 2022-02-16 | 2023-08-23 | Japan Atomic Energy Agency | Negative ion source and negative ion generation method |
-
1988
- 1988-03-02 JP JP63047383A patent/JP2614632B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03254047A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロ波イオン銃 |
| US6054063A (en) * | 1997-06-24 | 2000-04-25 | Nec Corporation | Method for plasma treatment and apparatus for plasma treatment |
| EP4231325A1 (en) * | 2022-02-16 | 2023-08-23 | Japan Atomic Energy Agency | Negative ion source and negative ion generation method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2614632B2 (ja) | 1997-05-28 |
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