JPH01224949A - Manufacture of optical recording medium - Google Patents

Manufacture of optical recording medium

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Publication number
JPH01224949A
JPH01224949A JP4956988A JP4956988A JPH01224949A JP H01224949 A JPH01224949 A JP H01224949A JP 4956988 A JP4956988 A JP 4956988A JP 4956988 A JP4956988 A JP 4956988A JP H01224949 A JPH01224949 A JP H01224949A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
layer
film
recording layer
optical recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP4956988A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Ueno
修 上野
Kiichi Kamiyanagi
喜一 上柳
Hironori Goto
後藤 広則
Hiroyuki Hotta
宏之 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP4956988A priority Critical patent/JPH01224949A/en
Publication of JPH01224949A publication Critical patent/JPH01224949A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To highly accurately forming a recording layer by etching the exposure part of a film for projected line, forming a track groove on a substrate, providing a recording layer forming film in the track groove and further, removing a protective resin layer and the recording layer forming film formed on the layer by means of the same process. CONSTITUTION:A film 11 for projected line consisting of SiO2 is formed on a circular board 10, a photo-resist layer 12 is formed on the surface, excimer laser light is projected on a photomask in a condition to be stuck on the resist layer 12, the resist layer 12 of the exposure part is deteriorated, dissolved and removed by a developer, and a track pattern is formed. Next, the exposure surface of the film 11 for the projected line is etched with the resist layer 12 as mask, a projected line 13 is formed in a track shape to prepare a track groove 3, a TeOX thin layer 14 is evenly formed on the projected line 13 forming surface, a residual resist layer 12 on the projected line 13 surface is dissolved by an organic solvent, the resist layer 12 and the TeOX thin layer 14 on the resist layer 12 are removed, and the TeOX thin layer 14 in the track groove 13 is left to be a recording layer 4. Thus, the recording layer can be highly accurately and surely formed.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ガスレーザ、半導体レーザ等の集束光を照射
させて光学的に情報の記録・再生、あるいは記録・再生
・消去を行う光ディスク、光磁気ディスク等光記録媒体
に係わり、特に、基板のトラック溝にのみ選択的に記録
層が設けられた光記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to optical discs and optical discs that optically record and reproduce information, or record, reproduce, and erase information by irradiating focused light from gas lasers, semiconductor lasers, etc. The present invention relates to optical recording media such as magnetic disks, and particularly relates to a method of manufacturing an optical recording medium in which a recording layer is selectively provided only in the track grooves of a substrate.

[従来の技術1 従来の光記録媒体は、片面側に記録層を備えるタイプを
例に挙げて説明すると、第3図〜第4図に示ずようにフ
ォーカシング及びトラッキングサーボ用のプリグループ
(pre−aroove)  (a )が施された透明
基板(b)と、この基板(b)全面に設けられた記録層
(C)と、この記録層(C)全面に設けられた保1層(
d)とでその主要部が構成され、かつ、この光記録媒体
(e)への記録情報の入力は、第5図に示すように集光
レンズ(f)により集光された半導体レーザ等光源から
の記録用集束光(Q)を上記記録層(C)の所定部位へ
照射し、その照射部位について記録層(C)の相変化、
磁化反転、あるいは変形等を起こさせ非照射部とは反射
率、若しくはカー回転角の異なる記録ドツト(h) (
第4図参照)を形成して行なわれるものである。この場
合、光源からの集束光(Q)を上記記録層(C)の所定
部位へ確実に照射させるため上記プリグループ(a>を
利用してフォーカシング、並びにトラッキングサーボ制
御を行うと共に、上記記録ドツト(h)の幅寸法(B)
を第6図に示すように記録用集束光スポット(+)にお
ける強度変化が最も急峻な値を示す半値幅(Ω2)程度
に設定し、略同−サイズの記録ドツト(h)が安定して
形成されるように調整されている。
[Prior Art 1] A conventional optical recording medium has a recording layer on one side as an example. As shown in FIGS. 3 and 4, a pregroup for focusing and tracking servo is used. -aroove) (a); a recording layer (C) provided on the entire surface of this substrate (b); and a protective layer (C) provided on the entire surface of this recording layer (C).
The main part of the optical recording medium (e) is composed of d), and information to be recorded on the optical recording medium (e) is input using a light source such as a semiconductor laser focused by a condensing lens (f) as shown in FIG. A focused recording light (Q) is irradiated to a predetermined region of the recording layer (C), and a phase change of the recording layer (C) is caused in the irradiated region;
Magnetization reversal or deformation is caused to create a recording dot (h) that has a different reflectance or Kerr rotation angle from the non-irradiated area.
(see FIG. 4). In this case, in order to reliably irradiate the focused light (Q) from the light source to a predetermined portion of the recording layer (C), focusing and tracking servo control are performed using the pre-group (a>), and the recording dots are (h) Width dimension (B)
As shown in Fig. 6, the intensity change in the focused recording light spot (+) is set to about the half-width (Ω2) at which the intensity change is the steepest, and recording dots (h) of approximately the same size are stabilized. adjusted to form.

一方、上記記録情報の再生時においては、第7図〜第8
図に示すように再生用集束光(q)を光記録媒体(e)
の記録面へ照射し、この反射光を光ダイオード等受光素
子(j)へ入力させて再生するものである。この場合、
再生用集束光スポット全体の光が再生に利用されており
、第6図に示すように代表的には再生用集束光スポット
(+)における1/e2全幅くΩe)領域の光が再生信
号に寄与するものと考えられる。尚、第3図中(p)は
再生用の光ヘッドを示しており、半導体レーザ(pl)
と、このレーザ光を光記録媒体(e)面へ結像させる集
光レンズ(p2)と、光記録媒体(e)からの反射ビー
ムを偏光させるビームスプリッタ(p3)、ハーフミラ
−(p4)と、サーボ信号検出器(p5)並びに再生信
号受光器(p6)とでその主要部が構成されているもの
である。
On the other hand, when reproducing the recorded information, FIGS.
As shown in the figure, the focused light for reproduction (q) is transferred to the optical recording medium (e).
The reflected light is input to a light-receiving element (j) such as a photodiode for reproduction. in this case,
The light from the entire focused light spot for reproduction is used for reproduction, and as shown in Figure 6, typically the light in the 1/e2 full width Ωe) region of the focused light spot for reproduction (+) is used for the reproduction signal. It is thought that this contributes. In addition, (p) in FIG. 3 shows the optical head for reproduction, and the semiconductor laser (pl)
and a condensing lens (p2) that focuses this laser beam onto the surface of the optical recording medium (e), a beam splitter (p3) and a half mirror (p4) that polarizes the reflected beam from the optical recording medium (e). , a servo signal detector (p5), and a reproduced signal receiver (p6).

ところで、従来の光記録媒体(e)は上述のように基板
(b)の全面に記録FJ(c)を備えているため、以下
に示すような種々の欠点を有するものであった。
By the way, since the conventional optical recording medium (e) is provided with the recording FJ (c) on the entire surface of the substrate (b) as described above, it has various drawbacks as shown below.

先ず、光記録媒体(e)におけるトラックピッチ(TP
)は再生信号に隣接トラック上の信号が混入しないとこ
ろまで狭く設定することができ、その最小値(TP、。
First, the track pitch (TP
) can be set narrowly to the point where signals on adjacent tracks are not mixed into the reproduced signal, and its minimum value (TP, .

)は再生時における隣接トラックとのクロストークのみ
を考慮すると、第9図(d)から (TP、、o) 一8/2+ (Ωe−B)/2+8/2−(B+Ωe)
/2 により求めることができる。
) is calculated from Figure 9(d) by considering only the crosstalk with adjacent tracks during playback.
/2.

但し、(B)は記録ドツト(h)の幅寸法、(Ωe)は
再生用集束光スポット(i)における1/e2全幅を示
している。
However, (B) shows the width dimension of the recording dot (h), and (Ωe) shows the 1/e2 full width at the focused light spot for reproduction (i).

一方、従来において記録ドツト(h)の幅寸法(B)は
上述のように記録用集束光スポット(i)の半値幅(Ω
2)程度に設定されているため、光記録媒体におけるト
ラック密度を向上させるには、結局上記集束光(Q)の
スポット径(Ωe、Ω2)を小さく設定するといった方
法しか無く、かつ、上記スポット径(Ω2)についても
これを余り小さく設定すると基板表面の僅かな寸法誤差
で記録誤動作を起こすことから一定以下に設定できない
制約があるため、上記密度向上には一定の限界を有する
欠点があった。
On the other hand, conventionally, the width dimension (B) of the recording dot (h) is the half width (Ω) of the recording focused light spot (i) as described above.
2), the only way to improve the track density on the optical recording medium is to set the spot diameter (Ωe, Ω2) of the focused light (Q) small, and Regarding the diameter (Ω2), if it is set too small, a slight dimensional error on the substrate surface will cause a recording malfunction, so there is a restriction that it cannot be set below a certain level, so there is a drawback that there is a certain limit to the above-mentioned density improvement. .

また、上記記録層(C)を構成する記録材料は通常熱伝
導性を有しているため、この熱伝導性の影響により記録
スポットの走査が進むにつれ熱が周辺に漏れ易くなって
記録幅が増大し、第10図に示すように記録ドツト(h
)の形状が所謂「涙滴形ドツト」となる場合があった。
Furthermore, since the recording material constituting the recording layer (C) usually has thermal conductivity, as the scanning of the recording spot progresses, heat tends to leak to the periphery due to the influence of this thermal conductivity, and the recording width decreases. The recording dot (h) increases as shown in FIG.
) sometimes took the form of a so-called "teardrop-shaped dot."

このため、第11図においてαで示すように再生信号が
歪んでしまって大きなジッターが発生し易いと共に、C
/N比が低下するといった欠点があった。
For this reason, as shown by α in FIG. 11, the reproduced signal is likely to be distorted, causing large jitter, and
There was a drawback that the /N ratio decreased.

更に、再生用集束光スポット(+)の径寸法(Ωe)は
上述のように記録ドツト(h)の径寸法(B)より大き
く、しかも、上記光記録媒体(e)についてはその基板
(b)全面に記録層(C)が設けられているため、再生
時において光記録媒体(e)ノイズが再生信号に大きく
影響を及ぼすといった欠点があった。すなわち、第11
図に示すように光記録媒体(e)の記録層(C)面には
、媒体自体の欠陥、結晶粒等に基因する反射率の異なる
ノイズ発生部位(nl)〜(nl)が多数存在し、かつ
、上記記録ドツト(11)の周縁部にもドツト形状のむ
らに基因するノイズ発生部位(n2)〜(n2)が存在
してこれ等ノイズが再生信号に混入するため、再生信号
におけるC/N比向上の大きな障害となっていた(第1
9図においてαで示されたC/N比参照。但し、Cはキ
ャリア信号レベル、Nはノイズ信号レベルを夫々示して
いる)。
Furthermore, the diameter (Ωe) of the focused light spot for reproduction (+) is larger than the diameter (B) of the recording dot (h) as described above, and moreover, for the optical recording medium (e), its substrate (b) ) Since the recording layer (C) is provided on the entire surface, there is a drawback that the noise of the optical recording medium (e) greatly affects the reproduced signal during reproduction. That is, the 11th
As shown in the figure, on the surface of the recording layer (C) of the optical recording medium (e), there are many noise generation sites (nl) to (nl) with different reflectances due to defects in the medium itself, crystal grains, etc. In addition, there are also noise generation areas (n2) to (n2) at the periphery of the recording dot (11) caused by the unevenness of the dot shape, and these noises are mixed into the reproduced signal. This was a major obstacle to improving the N ratio (1st
See the C/N ratio indicated by α in Figure 9. However, C indicates the carrier signal level, and N indicates the noise signal level.)

更にまた、記録・再生・消去用の光記録媒体においては
、記録情報を消去する場合、経時劣化を基因とする記録
層の感度低下、消去用集束光の出力変動、並びにトラッ
キングずれ等の原因によって第12図に示すように記録
情報を完全に消去できなくなるといった欠点があり、一
方、この欠点を解消するため消去用集束光のスポット径
(Ω)を記録用集束光のスポット径(Ω2)より大きく
設定すると、トラック密度の低下を招くといった欠点が
あった。
Furthermore, in optical recording media for recording, playback, and erasing, when erasing recorded information, the sensitivity of the recording layer decreases due to aging, fluctuations in the output of the focused light for erasing, and tracking deviation. As shown in Figure 12, there is a drawback that the recorded information cannot be completely erased. On the other hand, in order to eliminate this drawback, the spot diameter (Ω) of the focused light for erasing is changed from the spot diameter (Ω2) of the focused light for recording. If it is set to a large value, there is a drawback that the track density decreases.

また、従来の光記録媒体においてはその基板(b)全面
に記録[1(C)が形成されているため、記録1(c)
形成時におけるストレスや基板(b)と記録層(C)と
の膨張率の違い等によって、第13図に示すように記録
層(C)に二次元的な内部ストレス(St)が加わり易
く経時的に記録性能が劣化し易い欠点があった。
In addition, in a conventional optical recording medium, recording [1(C)] is formed on the entire surface of the substrate (b), so recording 1(c) is formed on the entire surface of the substrate (b).
Due to the stress during formation and the difference in expansion coefficient between the substrate (b) and the recording layer (C), two-dimensional internal stress (St) is likely to be applied to the recording layer (C) as shown in Figure 13, and the stress increases over time. However, there was a drawback that the recording performance was easily deteriorated.

そこで、本件出願人は上記諸欠点を解決すべく鋭意研究
を重ねた結果、トラック密度、C/N比等が高く、かつ
、再生ノイズ、サーボ信号ノイズが小さく、しかも長期
に亘って記録性能が劣化しない光記録媒体を既に提案し
ている。
Therefore, as a result of intensive research to solve the above-mentioned drawbacks, the applicant has developed a product that has high track density, C/N ratio, etc., low playback noise and servo signal noise, and has long-term recording performance. We have already proposed an optical recording medium that does not deteriorate.

すなわちこの光記録媒体(e”)は、第14図に示すよ
うに基板(bo)と、この基板(bo)の−面上に複数
間隔を介して設けられたトラック溝(ao)と、このト
ラック溝(ao)内に設けられた記録層(Co)と、必
要に応じ上記記録層(Co)側に設けられた保1ffi
(d’)とでその主要部を構成し、かつ、上記トラック
溝(ao)の幅寸法が記録用集束光スポットの半値幅程
度以下に設定されていることを特徴とするもの′である
That is, as shown in FIG. 14, this optical recording medium (e'') consists of a substrate (bo), track grooves (ao) provided at a plurality of intervals on the negative side of the substrate (bo), A recording layer (Co) provided in the track groove (ao) and a protective layer (Co) provided on the recording layer (Co) side as necessary.
(d') constitutes the main part thereof, and the width dimension of the track groove (ao) is set to be approximately equal to or less than the half width of the focused recording light spot.

そして、第14図〜第15図に示すように上記トラック
溝(ao)を利用しフォーカシング、並びにトラッキン
グ制御を行いながら記録層(Co)の所定部位に記録用
集束光を照射し、その径が記録用集束光スポットの半値
幅(Ω2)程度の記録ドツト(ho)を形成すると共に
、この記録ドツト(ho)を再生用集束光により読取っ
て再生信号を得るものである。
Then, as shown in FIGS. 14 and 15, while performing focusing and tracking control using the track groove (AO), a predetermined portion of the recording layer (Co) is irradiated with focused recording light, and its diameter is A recording dot (ho) having a half width (Ω2) of a focused recording light spot is formed, and the recording dot (ho) is read by a focused reproduction light to obtain a reproduction signal.

このように構成された光記録媒体(eo)においては、
第15図(b)及び(d)に示すように上記記録ドツト
(ho)の幅寸法(B)がトラック溝(ao)の幅寸法
(T)と同一となっており、かつ、この幅寸?f(T)
は、記録用集束光スポットの半値幅(Ω2)以下に設定
されているため、この光記録媒体(eo)のトラックピ
ッチの最小値(丁P゛ 、 )と、従来における光記録
媒体のトラックピッチの最小値(TP  ・ )との関
係は、11n (TP’    、   )    <    (TP
   、   )man              
 manとなり、トラックピッチ(TP>を小さく設定
することが可能となって、トラック密度の向上が図れる
利点を有している。
In the optical recording medium (eo) configured in this way,
As shown in FIGS. 15(b) and (d), the width dimension (B) of the recording dot (ho) is the same as the width dimension (T) of the track groove (ao), and this width dimension ? f(T)
is set to be less than the half width (Ω2) of the focused recording light spot, so the minimum value of the track pitch (D P゛, ) of this optical recording medium (eo) and the track pitch of the conventional optical recording medium The relationship with the minimum value (TP ・ ) is 11n (TP', ) < (TP
, )man
This has the advantage that the track pitch (TP>) can be set small and the track density can be improved.

また、この光記録媒体(e’)においてはその記録層(
Co)がトラック溝(ao)の形状にMW)されるため
、第18図に示すように従来の「涙滴形状」と異なって
矩形状に近い形状の記録ドツト(ho)を形成すること
ができる。
Moreover, in this optical recording medium (e'), its recording layer (
Since the recording dots (Co) are formed in the shape of the track grooves (ao), it is possible to form recording dots (ho) in a shape close to a rectangle, unlike the conventional "teardrop shape", as shown in FIG. can.

従って、第17図においてβで示すように再生時におけ
る再生信号波形が歪まないため、C/N比、及びジッタ
ー共向上する利点を有している。
Therefore, as shown by β in FIG. 17, the reproduced signal waveform during reproduction is not distorted, which has the advantage of improving both the C/N ratio and jitter.

更に、この光記録媒体(0゛)においては上記トラック
1l(a’)以外の部位に記録層(Co)を有していな
いため、媒体ノイズが低減し、かつ、記録ドツト(ho
)の形状はトラック溝(ao)により規制されてばらつ
かないため、記録ドツト(ho)の境界部における反射
率むらや磁区分布むらが低減して再生信号におけるC/
N比が向上する長所を有している。すなわち、再生時に
おける再生信号ノイズは、半導体レーザ等光源のノイズ
を充分に押えた場合、一般的には光記録媒体の欠陥、結
晶粒等に基因する媒体ノイズと、記録ドツト形状のむら
に基因する記録ノイズとが支配的となる。そしてこの光
記録媒体(eo)においては、トラック溝(ao)以外
の部位に記録層(Co)を有していないため上記媒体ノ
イズが低減すると共に、第18図に示すように記録層(
Co)の両側縁は高い精度で形成されたトラック溝(a
o)により規制されて記録ドツト(ho)の形状むらが
起こり難いため記録ノイズも低減する。従って、再生信
号に上記のノイズ信号が混入し難くなるため、第19図
においてβにて示すようにC/N比が著しく向上する長
所を有している。
Furthermore, since this optical recording medium (0゛) does not have a recording layer (Co) in any part other than the track 1l(a'), the medium noise is reduced and the recording dots (ho
) is regulated by the track groove (ao) and does not vary, so the reflectance unevenness and magnetic domain distribution unevenness at the boundaries of the recording dots (ho) are reduced, and the C/
It has the advantage of improving the N ratio. In other words, when the noise of a light source such as a semiconductor laser is sufficiently suppressed, the reproduction signal noise during reproduction is generally caused by medium noise caused by defects in the optical recording medium, crystal grains, etc., and by unevenness in the shape of recording dots. Recording noise becomes dominant. Since this optical recording medium (eo) does not have a recording layer (Co) in areas other than the track grooves (ao), the above-mentioned medium noise is reduced, and as shown in FIG.
Both side edges of the track groove (a) are formed with high precision.
o), recording dots (ho) are less likely to have uneven shapes, and recording noise is also reduced. Therefore, since the above-mentioned noise signal is less likely to be mixed into the reproduced signal, there is an advantage that the C/N ratio is significantly improved as shown by β in FIG. 19.

また更に、従来の記録・再生・消去用の光記録媒体にお
いては、経時劣化を基因とする記録層の感度低下、消去
用集束光の出力変動、並びにトラッキングずれ等の原因
によって記録情報を完全に消去できなくなるといった欠
点が存したが、第20図に示すように消し残りが発生す
る領域には記録層(Co)が存在しないため、消し残り
が生じない長所を有している。
Furthermore, in conventional optical recording media for recording, reproducing, and erasing, recorded information cannot be completely lost due to factors such as decreased sensitivity of the recording layer due to deterioration over time, fluctuations in the output of the focused light for erasing, and tracking deviation. Although there is a drawback that erasing cannot be performed, it has the advantage that no unerased areas occur because there is no recording layer (Co) in the area where unerased areas occur, as shown in FIG.

また、トラック溝(ao)内の記録層(Co)は、その
長さ方向においてのみ連続し幅方向においては連続して
いないため、第20図に示すように記録層(C’)の内
部ストレス(St)が−次元的となって大幅に緩和され
ると共に、記録材料が相変化タイプの場合、記録消去工
程における結晶化、アモルファス化という原子移動過程
も一次元的に進行するため、記録層(Co)内の組成変
動や組成の面内ばらつきが生じ難くなり、記録層(Co
)や記録ビットの安定性のに他、繰返し書換え性も改善
され長期に亘って記録性能が安定する長所を有しており
、かつ、−次元的に記録・消去の過程が進行するため、
各過程の高速化が図れて高速の記録・消去が可能となる
客種々の長所を有して゛いる。
In addition, since the recording layer (Co) in the track groove (ao) is continuous only in the length direction and not in the width direction, internal stress of the recording layer (C') as shown in FIG. (St) becomes -dimensional and is significantly relaxed, and if the recording material is a phase change type, the atomic migration process of crystallization and amorphization in the recording erasing process also proceeds one-dimensionally, so the recording layer Compositional fluctuations in (Co) and in-plane composition variations are less likely to occur, and
) and the stability of the recorded bits, it has the advantage of improved repeatability and stable recording performance over a long period of time.
It has various advantages such as speeding up each process and enabling high-speed recording and erasing.

[発明が解決しようとする課題] ところで、この改良された光記録媒体を製造するに当っ
ては、基板全面に記録層を設ける従来の光記録媒体と異
なり、基板に設けられたトラック溝にのみ選択的に記録
層を形成する必要があった。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in manufacturing this improved optical recording medium, unlike conventional optical recording media in which a recording layer is provided on the entire surface of the substrate, a recording layer is formed only on the track grooves provided on the substrate. It was necessary to selectively form the recording layer.

しかし、上記トラック溝の幅寸法については極めて小さ
な値に設定されているため、上記記録層の形成操作には
困難が伴い、精度良く、かつ、効率的に製造し難いとい
った問題点があった。
However, since the width dimension of the track groove is set to an extremely small value, the formation operation of the recording layer is difficult, and there is a problem that it is difficult to manufacture the recording layer accurately and efficiently.

しかも、誤って上記トラック溝以外の部位にも記録層が
形成された場合、この部位の記録層が上記媒体ノイズ、
記録ノイズを引起こす原因となるため、従来における光
記録媒体と同様、C/N比が低下するといった問題点が
あった。
Moreover, if the recording layer is accidentally formed in a part other than the track groove, the recording layer in this part will be affected by the medium noise.
Since this causes recording noise, there is a problem in that the C/N ratio decreases, similar to conventional optical recording media.

[課題を解決するための手段] 本発明は以上の問題点に着目してなされたもので、その
課題とするところは、生産性が良好で、しかも記録精度
良好な光記録媒体の製造方法を提供することにある。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its object is to provide a method for manufacturing an optical recording medium with good productivity and good recording accuracy. It is about providing.

すなわち本発明は、集束光を照射させて光学的に情報の
記録再生、あるいは記録再生消去を行う光記録媒体であ
って、基板と、この基板の少なくとも一面に複数間隔を
介し形成されたトラック溝と、このトラック溝内に形成
された記録層とを備えた光記録媒体の製造方法を前提と
し、基板上に5條用皮膜を形成する皮膜形成工程、上記
白蝶用度膜上にこの皮膜を保護するための保護樹脂層を
、上記5條用皮膜を部分的に露出させた状態で形成する
樹脂層形成工程、 上記5條用皮膜の露出部分をエツチングしてトラック溝
形成用の凸條を形成する凸條形成工程、上記凸條により
形成されるトラック溝と保護樹脂層上に記録層形成膜を
形成する記録膜形成工程、及び、 上記保護樹脂層とこの上面に形成された記録層形成膜と
を除去して上記凸條を露出させると共に、この凸條によ
り形成されるトラック溝内の記録層形成膜を残して記録
層とする記録層形成工程、の各工程を具備することを特
徴とするものである。
That is, the present invention provides an optical recording medium that optically records, reproduces, or erases information by irradiating it with focused light, which comprises a substrate and track grooves formed at a plurality of intervals on at least one surface of the substrate. and a recording layer formed in this track groove, a film forming step of forming a 5-layer film on a substrate, this film on the above-mentioned white butterfly film. a resin layer forming step of forming a protective resin layer for protecting the above-mentioned section 5 with the film partially exposed; and etching the exposed portion of the above-mentioned section 5 coating to form a convex groove for forming a track groove. a recording film forming step of forming a recording layer forming film on the track groove formed by the projection and the protective resin layer, and a recording layer formed on the protective resin layer and the upper surface thereof. and a recording layer forming step of removing the formation film to expose the convexity, and leaving the recording layer formation film in the track groove formed by the convexity as a recording layer. This is a characteristic feature.

この様な技術的手段において、上記皮膜形成工程におけ
る基板としては、この基板側から集束光を照射させる関
係上光透過性の材料が望ましく、例えば、ガラス、ポリ
カーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル
酸メチル、エポキシ樹脂、ポリペンテン等が挙げられる
。また、単一の光透過性材料でもって上記基板を構成し
てもよく、あるいは上記光透過性材料を複数積層して基
板としても当然のことながらよい。更に、上記基板の形
状については通常円形状とするが、カード型の光記録媒
体とする場合には矩形状とするのが好ましい。尚、基板
の反対側から集束光を照射させて記録・再生、あるいは
記録・再生・消去を行う光記録媒体においては、当然の
ことながら上記光透過性以外の光不透過性の材料でもっ
て基板を構成してもよい。
In such technical means, the substrate in the film forming step is desirably a light-transmitting material since focused light is irradiated from the substrate side, such as glass, polycarbonate, polyacrylonitrile, polymethyl methacrylate, Examples include epoxy resin and polypentene. Further, the substrate may be made of a single light-transmitting material, or the substrate may be formed by laminating a plurality of the light-transmitting materials. Furthermore, although the shape of the substrate is usually circular, it is preferably rectangular in the case of a card-type optical recording medium. In addition, in optical recording media in which recording/reproduction or recording/reproduction/erasing is performed by irradiating focused light from the opposite side of the substrate, the substrate is naturally made of a light-opaque material other than the above-mentioned light-transmitting material. may be configured.

また、この皮膜形成工程における凸條用皮膜形成材料と
しては、適度な機械的強度を有し、かつ、以下の凸條形
成工程においてエツチング可能な材料であることを要し
、例えば、5102、Si  N  、ZnS、ZrO
□等の無機材料が適するが、基板材料とエツチングレー
トが異なれば樹脂材料でもよい。またその形成方法につ
いても使用する材料に適した方法が適用可能で、例えば
、蒸着法、スパッタリング法、スピンコード法等、上記
基板上に均一皮膜を形成できる形成方法が利用できる。
In addition, the film forming material for the protrusions in this film forming process must have appropriate mechanical strength and be etched in the following protrusion forming process, such as 5102, Si N, ZnS, ZrO
Inorganic materials such as □ are suitable, but resin materials may also be used as long as the etching rate is different from that of the substrate material. Further, as for the formation method, a method suitable for the material used can be applied, and for example, a formation method that can form a uniform film on the substrate, such as a vapor deposition method, a sputtering method, a spin code method, etc., can be used.

更に、この凸條用皮膜の厚さ寸法がトラック溝の深さ寸
法となるものであるが、通常、その寸法値は300〜3
000オングストローム程庭に設定される。
Furthermore, the thickness of the convex film is the depth of the track groove, and usually the thickness is 300 to 3.
000 angstroms are set in the garden.

次に、上記樹脂層形成工程は、5條用度膜上にパターン
状に保護樹脂層を形成し、以下の凸條形成工程における
エツチングに対して保護樹脂層下の凸條用皮膜を保護す
るための処理工程で、この工程に適する保護樹脂層形成
用の材料としては、以下の記録層形成工程によって容易
に除去できる材料が好ましく、具体的には、ノボラック
樹脂と0−キノンジアジドの混合物からなるフォトレジ
スト材料等がある。また、上記凸條用皮膜を部分的に露
出させた状態でもって保護樹脂層を形成する方法として
は、例えば、5條用度膜上にフォトレジスト材料をスピ
ンコード法により塗布形成し、この樹脂面上にフォトマ
スクを介しパターン状に光照射を行い、露光部位を現像
液であるアルカリ水溶液可溶性に変質させて現像除去し
保護樹脂層を形成したり、あるいは、熱、若しくは光硬
化型の樹脂を同様に塗布形成し、この樹脂面上に予めレ
ーザカッティングマシーン等の精密機器により作成した
マスター盤を密着させてその溝パターンを転写形成し、
次いで、上記樹脂を硬化させて保護樹!を層を形成する
方法等がある。
Next, in the resin layer forming step, a protective resin layer is formed in a pattern on the 5-layer coating to protect the convex film under the protective resin layer from etching in the following convex formation step. As the material for forming the protective resin layer suitable for this process, it is preferable to use a material that can be easily removed by the following recording layer forming process. Specifically, it is made of a mixture of novolac resin and O-quinonediazide. Examples include photoresist materials. Further, as a method of forming a protective resin layer with the above-mentioned convex layer film partially exposed, for example, a photoresist material is coated on the 5-layer layer by a spin code method, and the resin Light is irradiated onto the surface in a pattern through a photomask, and the exposed area is changed to be soluble in an alkaline aqueous solution, which is a developing solution, and removed by development to form a protective resin layer, or a heat- or photo-curable resin is used. is applied and formed in the same manner, and a master disk previously prepared using precision equipment such as a laser cutting machine is brought into close contact with this resin surface to transfer and form the groove pattern.
Next, cure the resin and protect the tree! There are methods of forming layers.

また、上記凸條用皮膜の露出部位については最終的にト
ラック溝を構成する部位となるものである。そしてこの
露出形状については、上記基板が円形の場合、渦巻き状
、若しくは同心円状に形成され、一方、矩形基板におい
ては互いに平行に形成された直線状に形成されるもので
ある。更に、トラック溝の幅寸法Tを決定する上記露出
部の幅寸法は、トラック密度、C/N比等を上げるため
には記録用集束光スポットの半値幅(Ω2)程度以下、
好ましくはΩ2/3〜2×Ω2/3程度に設定するとよ
く、一方上記トラック溝間距離TPを決定する凸條用皮
膜の各露出部間距離については、記録用集束光スポット
の1/e2全幅をΩeとした場合において、トラック密
度を上げるためには略(T+Ωe)/2に設定すること
が望ましい。但し、記録層の内部ストレスを低減し記録
性能の安定化のみを図るような目的の場合には、当然の
ことながら上記設定範囲に限定されるものではない。更
に、上記保護樹脂層の厚さ寸法については、以下凸條形
成工程における凸條用皮膜のエツチング処理中において
、残留してその下方側の凸條用皮膜を保護するに充分な
厚さを必要とし、その深さ寸法値は、使用する保護樹脂
層の種類やエツチング材料の種類等で異なるが、通常5
00〜7000オングストローム、好ましくは2000
〜5000オングストローム程度に設定するものである
Furthermore, the exposed portions of the above-mentioned convex film are those that will eventually form track grooves. When the substrate is circular, the exposed shape is spiral or concentric, whereas in the case of a rectangular substrate, the exposed shape is linear, parallel to each other. Furthermore, in order to increase the track density, C/N ratio, etc., the width dimension of the exposed portion, which determines the width dimension T of the track groove, should be approximately equal to or less than the half width (Ω2) of the focused recording light spot.
Preferably, it is set to about Ω2/3 to 2×Ω2/3. On the other hand, the distance between each exposed part of the convex film that determines the track groove distance TP is set to 1/e2 full width of the recording focused light spot. When is Ωe, it is desirable to set it to approximately (T+Ωe)/2 in order to increase the track density. However, if the purpose is to reduce the internal stress of the recording layer and stabilize the recording performance, it is needless to say that the setting range is not limited to the above setting range. Furthermore, the thickness of the above-mentioned protective resin layer must be thick enough to remain and protect the convex film below during the etching process of the convex film in the convex formation process below. The depth dimension value varies depending on the type of protective resin layer used, the type of etching material, etc., but it is usually 5.
00 to 7000 angstroms, preferably 2000 angstroms
The thickness is set to about 5000 angstroms.

次に、上記凸條形成工程におけるエツチング処理は、凸
條用皮膜の露出部分を除去してトラック溝形成用の凸條
を形成するもので、この工程におけるエツチング法とし
てはエツチング材料として、CF  、CCI  H1
若しくは、CCl4をべ一スにO、H、N2が適量添加
されたガス等を使用するドライエツチング法が適してい
る。
Next, the etching process in the above-mentioned protrusion forming step is to remove the exposed portion of the protrusion film to form protrusions for forming track grooves. CCI H1
Alternatively, a dry etching method using a gas based on CCl4 to which appropriate amounts of O, H, and N2 are added is suitable.

次に、上記記録膜形成工程における記録材料としては、
光記録材料として広く知られている全ての材料を使用す
ることができる。
Next, the recording material in the recording film forming step is as follows:
All materials commonly known as optical recording materials can be used.

すなわち、Te、5eSS、Sb、As、P。That is, Te, 5eSS, Sb, As, P.

Pb、Sn、Ge、S i、TI、In、Ga。Pb, Sn, Ge, Si, TI, In, Ga.

AI、Zn、AU、AQ、Cl、Pt、MOlT i 
、N + s Cr 、及びW等の元素のうち少なくと
も一成分以上を含む単体、若しくは化合物、あるいはそ
れらが他の材料中に分散された材料を使用することがで
きる。このうちTe、5e−Te。
AI, Zn, AU, AQ, Cl, Pt, MOLTi
A single substance or a compound containing at least one component of elements such as , N + s Cr, and W, or a material in which these elements are dispersed in other materials can be used. Among these, Te and 5e-Te.

Pb−3e−Te、Te−C等は書換不能な記録・再生
タイプである穴開は形の材料に適しており、TeO、T
eax (Ge、Sn添加)、In−Se、In−8b
、In−Te1Sb2 Se。
Pb-3e-Te, Te-C, etc. are non-rewritable recording/reproducing types. Hole drilling is suitable for shaped materials, and TeO, T
eax (Ge, Sn added), In-Se, In-8b
, In-Te1Sb2Se.

Te−Ge−8n、Te−Ge−8n−Au。Te-Ge-8n, Te-Ge-8n-Au.

As   S   、5b−Te1 Te−N、Ge−
Te。
As S , 5b-Te1 Te-N, Ge-
Te.

Ag−1n、Ag−Zn、Cu−A I、Ag−Aj−
Cu、Cu−Al−N15Au−Ti、及びCr−Ti
等は書換可能な記録・再生・消去タイプである相変化形
記録材料に適している。
Ag-1n, Ag-Zn, Cu-A I, Ag-Aj-
Cu, Cu-Al-N15Au-Ti, and Cr-Ti
etc. are suitable for phase change recording materials that are rewritable recording/reproducing/erasing type.

また、書換可能な光磁気記録材料としては、1”e、C
o、N i 、Mn等の遷移金属、及びTb。
In addition, as rewritable magneto-optical recording materials, 1”e, C
o, N i , transition metals such as Mn, and Tb.

Gd、Nd、Pm、Sm、EnlDy、Ho、Er、T
m、Yb、Lu等の希土類元素のうち少なくとも一成分
以上を含む磁気材料、代表的にはTb−Fe−Co、T
I)=Fe、Dy−Fe。
Gd, Nd, Pm, Sm, EnlDy, Ho, Er, T
Magnetic materials containing at least one component of rare earth elements such as m, Yb, Lu, etc., typically Tb-Fe-Co, T
I)=Fe, Dy-Fe.

Mn−B i 、 Pt−Mn−8b等が適用できる。Mn-Bi, Pt-Mn-8b, etc. can be applied.

更に、記録層を構成する材料としては、上記以外にシア
ニン色素、フタロシアニン、ナフトキノン、スクアリリ
ウム、ポリチオフェン、ポリジアセチレンに代表される
有機色素材料、及びスピロピラン、フルギド、アゾベン
ゼン等に代表されるフォトクロミック材料等が使用可能
である。
In addition to the above materials, the recording layer may include organic dye materials such as cyanine dyes, phthalocyanine, naphthoquinone, squarylium, polythiophene, and polydiacetylene, and photochromic materials such as spiropyran, fulgide, and azobenzene. Available for use.

また、上記凸條により形成されるトラック溝と保護樹脂
層上に厚さが略均−の記録層形成膜を形成する手段とし
ては、例えば、上記記録材料を直接形成する蒸着法、ス
パッタリング法等のドライプロセスが適用できる。尚、
基板と記録材料との親和性が弱い場合には、必要に応じ
基板上に記録材料と親和性を有する下地材料を予め塗布
形成するとよい。
Further, as a means for forming a recording layer forming film having a substantially uniform thickness on the track groove formed by the above-mentioned convexity and the protective resin layer, for example, a vapor deposition method in which the above-mentioned recording material is directly formed, a sputtering method, etc. dry process can be applied. still,
When the affinity between the substrate and the recording material is weak, it is preferable to apply a base material having an affinity for the recording material onto the substrate in advance, if necessary.

更に、記録層形成工程において保護樹脂層とこの上面に
形成された記録層形成膜とを除去して上記凸條を露出さ
せると共に、この凸條により形成されるトラック溝内の
記録層形成膜を残して記録層とする手段としては、上記
保護樹脂層を溶解し記録材料を溶解しない溶媒を用いた
溶出法や、上記基材の保護樹脂層面上をパフ研磨しトラ
ック溝以外の部位の記録層形成膜等を除去する機械的研
磨法等が適しており、上記溶出法に適した溶媒としてア
セトン等の有機溶剤がある。
Furthermore, in the recording layer forming step, the protective resin layer and the recording layer forming film formed on the upper surface of the protective resin layer are removed to expose the above-mentioned protrusions, and the recording layer forming film in the track grooves formed by the protrusions is removed. Methods for leaving the protective resin layer as a recording layer include an elution method using a solvent that dissolves the protective resin layer but does not dissolve the recording material, or a puff polishing method on the protective resin layer surface of the base material to remove the recording layer in areas other than the track grooves. A mechanical polishing method or the like for removing the formed film or the like is suitable, and an organic solvent such as acetone is suitable as a solvent for the above-mentioned elution method.

またこの技術的手段は、片面側にのみ記録層を備える光
記録媒体の製造方法に適用できる他、両面側に記録層を
備える光記録媒体の製造方法にも適用できる。この場合
後者のものは、記録層を向い合せにし接着剤を介し、あ
るいはスペーサを介し2枚貼り合せて形成することがで
き、また、この接着剤としては、ウレタン系接着剤、エ
ポキシ系接着剤、硬化性シリコーン樹脂、エチレン−酢
酸ビニル樹脂等のホットメルト型接着剤、ポリ塩化ビニ
ル樹脂等の高周波接着剤等が利用できる。
In addition, this technical means can be applied to a method of manufacturing an optical recording medium that has a recording layer on only one side, and can also be applied to a method of manufacturing an optical recording medium that has a recording layer on both sides. In this case, the latter can be formed by placing the recording layers facing each other and bonding two layers together using an adhesive or a spacer, and examples of this adhesive include urethane adhesives and epoxy adhesives. , curable silicone resin, hot melt adhesive such as ethylene-vinyl acetate resin, high frequency adhesive such as polyvinyl chloride resin, etc. can be used.

また、この製造方法により得られた光記録媒体の記録層
へ集束光を照射させて情報の記録・再生、あるいは記録
・再生・消去を行う光源としては、従来法において利用
されている光源が使用でき、具体的にはGaAlAs系
半導体レーザ、GaA I InP系半導体レーザ、G
a1nASP系半導体レーザ等の半導体レーザや、He
−Neレーザ、Arレーザ、He−Cdレーザ等のガス
レーザ等が挙げられる。
In addition, the light source used in the conventional method is used as a light source for recording/reproducing information or recording/reproducing/erasing information by irradiating focused light onto the recording layer of the optical recording medium obtained by this manufacturing method. Specifically, GaAlAs-based semiconductor lasers, GaA I InP-based semiconductor lasers, G
Semiconductor lasers such as a1nASP semiconductor lasers, He
Examples include gas lasers such as -Ne laser, Ar laser, and He-Cd laser.

更に、本発明により製造された光記録媒体は、コンパク
トディスク等の音楽用、ビデオデスク等の画像用に加え
て計算機用光デイ°スク等各種用途に適用できる。
Further, the optical recording medium manufactured according to the present invention can be applied to various uses such as optical discs for computers in addition to music recording media such as compact discs, and image recording media such as video desks.

[作用] 上述したような技術的手段によれば、基板上に5條用皮
膜を形成する皮膜形成工程、この凸條用度膜上にこの一
部を露出させて保護樹脂層を形成する樹脂層形成工程、
及び5條用皮膜の露出部分をエツチングする凸像形成工
程により基板上にトラック溝が形成され、記録膜形成工
程により上記トラック溝内に記録層形成膜が設けられ、
更に、記録層形成工程により保護樹脂層とこの上面に形
成された記録層形成膜が除去されて、トラック溝内にの
み高精度でもって、かつ、確実に記録層を形成すること
が可能となる。
[Function] According to the above-mentioned technical means, a film forming step of forming a 5-layer film on the substrate, and a resin forming a protective resin layer by exposing a part of the 5-layer film on the convex-layer film. layer forming process,
and 5. A track groove is formed on the substrate by a convex image forming step of etching the exposed portion of the film, and a recording layer forming film is provided in the track groove by a recording film forming step.
Furthermore, in the recording layer forming process, the protective resin layer and the recording layer forming film formed on the top surface of the protective resin layer are removed, making it possible to form the recording layer only within the track grooves with high precision and reliably. .

[実施例] 以下、片面側に記録層を備える光記録媒体に本発明を適
用した実施例について図面を参照して詳細に説明する。
[Example] Hereinafter, an example in which the present invention is applied to an optical recording medium having a recording layer on one side will be described in detail with reference to the drawings.

まず、円形状でポリメタクリル酸メチル製の板材(10
)上に、スパッタリング法にてSio2を着膜させて厚
さ1000オングストロームの5條用皮膜(11)を形
成し、更にこの面上にスピンコード法によりフォトレジ
スト材料(ヘキスト社製 商品名AZ 1350J)を
塗布し、3000オングストローム厚のフォトレジスト
層(12)を形成する(第1図a−b参照)。
First, a circular plate made of polymethyl methacrylate (10
), a 5-layer film (11) with a thickness of 1000 angstroms was formed by depositing Sio2 using a sputtering method, and then a photoresist material (manufactured by Hoechst, trade name AZ 1350J) was further deposited on this surface using a spin code method. ) to form a 3000 angstrom thick photoresist layer (12) (see Figures 1a-b).

次いで、Cry膜をバターニングして作成したフォトマ
スク(図示せず)を上記フォトレジスト層(12)上に
密着させた状態でもってKrFを用いたエキシマ−レー
ザ光(波長2490オングストローム)を照射し、露光
部位のフォトレジスト層(12)を変質させ現像剤であ
るアルカリ水溶液に可溶性とすると共に、その露光部位
をアルカリ水溶液により溶解除去して幅Tが5oooオ
ングストローム、深さが約3000オンゲストO−ムの
トラックパターンを形成する(第1図C参照)。
Next, an excimer laser beam (wavelength: 2490 angstroms) using KrF was irradiated with a photomask (not shown) prepared by patterning the Cry film in close contact with the photoresist layer (12). , the photoresist layer (12) in the exposed area is changed in quality and made soluble in an alkaline aqueous solution as a developer, and the exposed area is dissolved and removed by the alkaline aqueous solution to form a film with a width T of 500 angstroms and a depth of about 3000 angstroms. - form a track pattern (see FIG. 1C).

次に、上記5條用皮膜(11)面に設けられたフォトレ
ジストII(12)をマスクとし、CF4をエツチング
ガスとして使用したドライエツチング法により5條用皮
膜(11)の露出面をエツチングし、トラック状に凸條
(13)を形成してトラック溝(3)を有する基板(2
)を作成する(第1図C参照)。
Next, using the photoresist II (12) provided on the surface of the layer 5 coating (11) as a mask, the exposed surface of the layer 5 coating (11) was etched by a dry etching method using CF4 as an etching gas. , a substrate (2) having track grooves (3) formed with track-shaped protrusions (13);
) (see Figure 1C).

次いで、この基板(2)の凸條(13)形成面上に30
0オングストローム厚のTeoxWI層(14)を蒸着
法により均一に形成する(第1図C参照)。
Then, 30
A TeoxWI layer (14) with a thickness of 0 angstroms is uniformly formed by vapor deposition (see FIG. 1C).

尚、この薄層(14)の層厚は記録材料の種類により異
なるが、通常100〜2000オングストローム程度に
設定される。また、上記板材(10)面と記録材料との
親和性が弱い場合には、必要に応じ板材(10)面上に
下地材料を塗布形成するとよい。
The thickness of this thin layer (14) varies depending on the type of recording material, but is usually set to about 100 to 2000 angstroms. Further, if the affinity between the plate material (10) surface and the recording material is weak, it is preferable to apply a base material on the plate material (10) surface as necessary.

そして、アセトン等の有機溶剤にて上記凸條(13)面
上に残留するフォトレジスト1id(12)を溶解し、
第1図(f)に示すようにフォトレジスト層(12)と
このフォトレジスト層(12)上に形成されたTeox
WX層(14)とを除去すると共に、トラック溝(3)
内のTeOx薄層(14)を残して記録層(4)とした
後、この記録層(4)側基板(2)面上にS i O2
にて構成される保11JI(5)を均一に形成し、第1
図(C))及び第2図に示すようにトラック溝(3)に
のみ記録層(4)を有する光記録媒体(1)を製造した
Then, the photoresist 1id (12) remaining on the convex surface (13) is dissolved with an organic solvent such as acetone,
As shown in FIG. 1(f), the photoresist layer (12) and the Teox formed on the photoresist layer (12)
While removing the WX layer (14), the track groove (3)
After leaving the inner TeOx thin layer (14) as a recording layer (4), SiO2 is deposited on the surface of the substrate (2) on the recording layer (4) side.
11JI (5) consisting of
As shown in Figure (C)) and Figure 2, an optical recording medium (1) having a recording layer (4) only in the track groove (3) was manufactured.

[発明の効果] 本発明によれば、基板上に5條用皮膜を形成する皮膜形
成工程、この凸條用度膜上にこの一部を露出させて保m
樹脂層を形成する樹脂層形成工程、及び5條用皮膜の露
出部分をエツチングする凸像形成工程により基板上にト
ラック溝が形成され、記録膜形成工程により上記トラッ
ク溝内に記録層形成膜が設けられ、更に、記録層形成工
程により保護樹脂層とこの上面に形成された記録層形成
膜が除去されて、トラック溝内にのみ高精度でもって、
かつ、確実に記録層を形成することが可能となる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, in the film forming step of forming a film for 5 conditions on a substrate, a part of the film for convex conditions is exposed and protected.
A track groove is formed on the substrate through a resin layer forming step of forming a resin layer and a convex image forming step of etching the exposed portion of the film for section 5, and a recording layer forming film is formed in the track groove by a recording film forming step. Further, in the recording layer forming step, the protective resin layer and the recording layer forming film formed on the upper surface of the protective resin layer are removed, and the recording layer is formed only within the track groove with high precision.
Moreover, it becomes possible to form the recording layer reliably.

従って、トラック溝内にのみ記録層を有する光記録媒体
を簡便に、かつ、効率的に製造できる効果を有している
Therefore, it is possible to easily and efficiently manufacture an optical recording medium having a recording layer only within the track groove.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第2図は本発明の実施例を示しており、第1図
(a)〜(Q)はこの実施例に係る光記録媒体の製造工
程を示す工程説明図、第2図はこの光記録媒体の部分断
面斜視図であり、また、第3図〜第13図は従来におけ
る光記録媒体を示しており、第3図はその斜視図、第4
図及び第7図はその部分断面斜視図、第5図は半導体レ
ーザ等光源の照度分布とその収束光スポットの照度分布
、第6図は第5図における1部分の拡大図、第8図は光
記録媒体の再生時における説明図、第9図(a)は光記
録媒体の部分断面図、第9図(b)はその部分平面図、
第9図(C)は記録、再生用半導体レーザスポットの照
度分布、第9図(d)はトラックピッチを最小にした場
合の光記録媒体の部分平面図、第10図〜第12図はト
ラック、記録層、及び記録ドツトの形状を示す平面図、
第13図は記録層に加わる内部ストレスを示す説明図、
また、第14図〜第20図は他の従来にお【プる光記録
媒体を示しており、第14図はこの部分断面斜視図、第
15図(a)はこの光記録媒体の部分断面図、第15図
(b)はその部分平面図、第15図(C)は記録、再生
用半導体レーザスポットの照度分布、第15図(d)は
トラックピッチを最小にした場合の光記録媒体の部分平
面図、第16図、第18図、及び第20図はトラック溝
、記録層、及び記録ドツトの形状を示す平面図、第17
図は再生信号レベルと時間との関係図、第19図は再生
信号におけるキャリア信号レベルとノイズ信号レベルと
の関係を示す関係図を夫々示している。 [符号説明] (1)・・・光記録媒体 (2)・・・基板 (3)・・・トラック溝 (4)・・・記録層 (5)・・・保護層 特 許 出 願 人 富士ゼロックス株式会社代  理
  人  弁理士  中  村  智  廣 (外3名
)第1図 第2図 第3図 P’6 P’1 第4図 第10図 り 第11図 第12図 第13図 第14図 第15図 第16図 第17図 再生信号 時間
1 to 2 show an embodiment of the present invention, FIGS. 1(a) to 2(Q) are process explanatory diagrams showing the manufacturing process of an optical recording medium according to this embodiment, and FIG. This is a partially sectional perspective view of this optical recording medium, and FIGS. 3 to 13 show conventional optical recording media, and FIG. 3 is a perspective view thereof, and FIG.
Figure 7 and Figure 7 are partial cross-sectional perspective views, Figure 5 is the illuminance distribution of a light source such as a semiconductor laser and the illuminance distribution of its convergent light spot, Figure 6 is an enlarged view of a portion of Figure 5, and Figure 8 is An explanatory diagram of the optical recording medium during playback, FIG. 9(a) is a partial cross-sectional view of the optical recording medium, FIG. 9(b) is a partial plan view thereof,
Figure 9(C) is the illuminance distribution of the recording and reproducing semiconductor laser spots, Figure 9(d) is a partial plan view of the optical recording medium when the track pitch is minimized, and Figures 10 to 12 are the tracks , a plan view showing the shapes of the recording layer and the recording dots,
FIG. 13 is an explanatory diagram showing internal stress applied to the recording layer;
14 to 20 show other conventional optical recording media, FIG. 14 is a partial cross-sectional perspective view of this optical recording medium, and FIG. 15 (a) is a partial cross-sectional view of this optical recording medium. 15(b) is a partial plan view of the optical recording medium, FIG. 15(C) is the illuminance distribution of the recording and reproducing semiconductor laser spot, and FIG. 15(d) is the optical recording medium when the track pitch is minimized. FIG. 16, FIG. 18, and FIG. 20 are partial plan views showing the shapes of track grooves, recording layers, and recording dots;
19 shows a relationship diagram between the reproduced signal level and time, and FIG. 19 shows a relationship diagram showing the relationship between the carrier signal level and noise signal level in the reproduced signal. [Explanation of symbols] (1)...Optical recording medium (2)...Substrate (3)...Track groove (4)...Recording layer (5)...Protective layer Patent Applicant: Fuji Xerox Co., Ltd. Representative Patent Attorney Tomohiro Nakamura (3 others) Figure 1 Figure 2 Figure 3 P'6 P'1 Figure 4 Figure 10 Figure 11 Figure 12 Figure 13 Figure 14 Figure 15 Figure 16 Figure 17 Reproduction signal time

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)集束光を照射させて光学的に情報の記録再生、あ
るいは記録再生消去を行う光記録媒体であって、基板と
、この基板の少なくとも一面に複数間隔を介し形成され
たトラック溝と、このトラック溝内に形成された記録層
とを備えた光記録媒体の製造方法において、基板上に凸
條用皮膜を形成する皮膜形成工程、上記凸條用皮膜上に
この皮膜を保護するための保護樹脂層を、上記凸條用皮
膜を部分的に露出させた状態で形成する樹脂層形成工程
、 上記凸條用皮膜の露出部分をエッチングしてトラック溝
形成用の凸條を形成する凸條形成工程、上記凸條により
形成されるトラック溝と保護樹脂層上に記録層形成膜を
形成する記録膜形成工程、及び、 上記保護樹脂層とこの上面に形成された記録層形成膜と
を除去して上記凸條を露出させると共に、この凸條によ
り形成されるトラック溝内の記録層形成膜を残して記録
層とする記録層形成工程、の各工程を具備することを特
徴とする光記録媒体の製造方法。
(1) An optical recording medium that optically records, reproduces, or erases information by irradiating it with focused light, including a substrate, and track grooves formed at a plurality of intervals on at least one surface of the substrate; In the method of manufacturing an optical recording medium having a recording layer formed in the track groove, a film forming step of forming a convex film on the substrate, a film forming step for protecting the convex film on the convex film; a resin layer forming step in which a protective resin layer is formed with the convex film partially exposed; a convex step in which the exposed portion of the convex film is etched to form a convex for forming track grooves; a forming step, a recording film forming step of forming a recording layer forming film on the track groove formed by the convexity and the protective resin layer, and removing the protective resin layer and the recording layer forming film formed on the upper surface thereof. an optical recording layer forming step of exposing the convexity and leaving a recording layer forming film in the track groove formed by the convexity as a recording layer. Method of manufacturing media.
(2)上記記録膜形成工程が、記録材料の蒸着法により
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の光記録媒体の製造方法。
(2) The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the recording film forming step is performed by a recording material vapor deposition method.
(3)上記記録膜形成工程が、記録材料のスパッタリン
グ法により構成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の光記録媒体の製造方法。
(3) The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the recording film forming step is performed by sputtering a recording material.
(4)上記記録層形成工程が、記録材料を溶解しない溶
媒により保護樹脂層を溶出する溶出法により構成されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光記
録媒体の製造方法。
(4) The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer forming step is performed by an elution method in which the protective resin layer is eluted with a solvent that does not dissolve the recording material. .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060220A (en) * 1995-07-10 2000-05-09 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method for producing an optical information carrier having a variable relief structure

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