JPH01217841A - ビーム電流モニター装置 - Google Patents
ビーム電流モニター装置Info
- Publication number
- JPH01217841A JPH01217841A JP63041190A JP4119088A JPH01217841A JP H01217841 A JPH01217841 A JP H01217841A JP 63041190 A JP63041190 A JP 63041190A JP 4119088 A JP4119088 A JP 4119088A JP H01217841 A JPH01217841 A JP H01217841A
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- JP
- Japan
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- beam current
- terminal
- voltage source
- ring
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は電子ビーム溶接機や、電子ビームアニール装
置の電子ビーム電流をモニターリングする装置に関し、
特に１ｍＡ以下のビーム電流を精密に測定する装置に関
する。
置の電子ビーム電流をモニターリングする装置に関し、
特に１ｍＡ以下のビーム電流を精密に測定する装置に関
する。
従来のこの種モニター装置の構成を第２図に示す。
図において、１はウェネルト１１及びコロナリング１０
．フィラメント１２を絶縁しつつ機械的に支持する絶縁
支持物、１３は電子ビーム電流２１をビーム被照射物３
１に向けて加速するアノードである。１４は絶縁油で、
絶縁支持物１と、高圧ケーブル７５の接続部で絶縁支持
物１が途切れる個所を補充している。７１はフィラメン
ト電源７４、ウェネルト電源７３及び加速電圧源７２の
３つの電源よりなる高圧電源で、その正極出力端子７６
と接地端子５１′ の間にビーム電流モニター用の電流
計又はオシロスコープ等のモニター素子８０が挿入され
ている。４１は電子ビーム照射室で、電子銃用フィラメ
ント１２、ウェネルト１１、アノード１３、コロナリン
グ１０、絶縁支持物１、電子ビーム被照射物３１を内部
に含み、図示されない真空排気装置で、所要の真空度ま
で排気されている。５１は接地端子である。
．フィラメント１２を絶縁しつつ機械的に支持する絶縁
支持物、１３は電子ビーム電流２１をビーム被照射物３
１に向けて加速するアノードである。１４は絶縁油で、
絶縁支持物１と、高圧ケーブル７５の接続部で絶縁支持
物１が途切れる個所を補充している。７１はフィラメン
ト電源７４、ウェネルト電源７３及び加速電圧源７２の
３つの電源よりなる高圧電源で、その正極出力端子７６
と接地端子５１′ の間にビーム電流モニター用の電流
計又はオシロスコープ等のモニター素子８０が挿入され
ている。４１は電子ビーム照射室で、電子銃用フィラメ
ント１２、ウェネルト１１、アノード１３、コロナリン
グ１０、絶縁支持物１、電子ビーム被照射物３１を内部
に含み、図示されない真空排気装置で、所要の真空度ま
で排気されている。５１は接地端子である。
ところが、前記従来装置によれば、フィラメント１２か
ら射出される電子ビーム電流２１ （Ｉｂ）を測定すべ
く、その測定値を読み取るモニター素子８０にはビーム
電流２１ （Ｉｂ）の他絶縁支持物１の表面を流れる絶
縁リーク電流２２（ＩＬ）が重畳された総合電流２３
（Ｉｂ十几）が流れており、このリーク電流２２（ＩＬ
）の分だけ測定値の表示が大きくなり、かつまたこのリ
ーク電流２２（ＩＬ）は、絶縁支持物１の表面状況で著
しく変動するため、モニター装置の実際のビーム電流２
１に対する測定確度がこのリーク分よりよくならないと
いう欠点を有していた。
ら射出される電子ビーム電流２１ （Ｉｂ）を測定すべ
く、その測定値を読み取るモニター素子８０にはビーム
電流２１ （Ｉｂ）の他絶縁支持物１の表面を流れる絶
縁リーク電流２２（ＩＬ）が重畳された総合電流２３
（Ｉｂ十几）が流れており、このリーク電流２２（ＩＬ
）の分だけ測定値の表示が大きくなり、かつまたこのリ
ーク電流２２（ＩＬ）は、絶縁支持物１の表面状況で著
しく変動するため、モニター装置の実際のビーム電流２
１に対する測定確度がこのリーク分よりよくならないと
いう欠点を有していた。
このリーク電流は、加速電圧１５０ＫＶのとき、その最
大値は０ 、５ｍＡにも達することがあり、微細な溶接
や熱処理を行う際にこれが問題となっていた。
大値は０ 、５ｍＡにも達することがあり、微細な溶接
や熱処理を行う際にこれが問題となっていた。
本発明の目的は上記問題点を解消したビーム電流モニタ
ー装置を提供することにある。
ー装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明のビーム電流モニター
装置は、カソード及びウェネルトをアース電位に対して
負に荷電し、アノード及び被ビーム照射物を接地電位に
保ち、カソードから射出される電子ビームを加速して被
ビーム照射物にあてるようにした電子ビーム発生装置に
おいては、前記カソード及びウェネルトの絶縁支持物の
接地電位から数■だけ高圧側にガードリングを設け、該
ガードリングを加速電源の正極端子と接地端子間に設け
たビーム電流モニター素子の正極側に接続したものであ
る。
装置は、カソード及びウェネルトをアース電位に対して
負に荷電し、アノード及び被ビーム照射物を接地電位に
保ち、カソードから射出される電子ビームを加速して被
ビーム照射物にあてるようにした電子ビーム発生装置に
おいては、前記カソード及びウェネルトの絶縁支持物の
接地電位から数■だけ高圧側にガードリングを設け、該
ガードリングを加速電源の正極端子と接地端子間に設け
たビーム電流モニター素子の正極側に接続したものであ
る。
以下に本発明の実施例を図によって説明する。
第１図において、電子ビーム照射室４１の内部構成並び
に高圧電源７１の構成は基本的に第３図の構成と同じで
ある。第３図と同一構成部分には同一の番号を付して説
明を省略する。
に高圧電源７１の構成は基本的に第３図の構成と同じで
ある。第３図と同一構成部分には同一の番号を付して説
明を省略する。
高圧電源７１と電子ビーム照射室４１間に配線された高
圧ケーブル７５は、コロナリング１０及びフィラメント
１２に電気的に接続され、電子ビーム照射室４１内に配
線されたケーブル７５の周囲は絶縁油１４を介して絶縁
支持物１に被覆されている。本発明はこの絶縁支持物１
の局面一部で、接地電位がら数■だけ高圧側にガードリ
ング２を取付け、該ガードリング２に接続した配線１５
を、電子ビーム照射室４１に取付けた気密導入端子３を
通して高圧電源７１の加速電圧源７２の正極出力端子７
６と、ビーム電流モニター素子８０間の配線に結線した
ものである。
圧ケーブル７５は、コロナリング１０及びフィラメント
１２に電気的に接続され、電子ビーム照射室４１内に配
線されたケーブル７５の周囲は絶縁油１４を介して絶縁
支持物１に被覆されている。本発明はこの絶縁支持物１
の局面一部で、接地電位がら数■だけ高圧側にガードリ
ング２を取付け、該ガードリング２に接続した配線１５
を、電子ビーム照射室４１に取付けた気密導入端子３を
通して高圧電源７１の加速電圧源７２の正極出力端子７
６と、ビーム電流モニター素子８０間の配線に結線した
ものである。
したがって、絶縁支持物１の表面を流れるリーク電流２
２（ＩＬ）は加速電圧源７２の正極出力端子７６に直接
還流し、ビーム電流モニター素子８０に流れる電流２３
はビーム電流２１ （Ｉｂ）のみとなる。したがって、
ビーム電流モニター素子８０による測定値はビーム電流
２１そのものの値となって高い測定精度が得られる。
２（ＩＬ）は加速電圧源７２の正極出力端子７６に直接
還流し、ビーム電流モニター素子８０に流れる電流２３
はビーム電流２１ （Ｉｂ）のみとなる。したがって、
ビーム電流モニター素子８０による測定値はビーム電流
２１そのものの値となって高い測定精度が得られる。
以上説明したように本発明によれば、リーク電流分を取
り除いた確度の高いビーム電流のモニターを行うことが
可能となり、１５０ＫＶで１ｍＡ以下のビーム電流を使
用する場合に、そのモニタリングの精度を極めて向上し
、従来限界とされていた微細な溶接や熱処理を行うこと
ができる効果を有する６
り除いた確度の高いビーム電流のモニターを行うことが
可能となり、１５０ＫＶで１ｍＡ以下のビーム電流を使
用する場合に、そのモニタリングの精度を極めて向上し
、従来限界とされていた微細な溶接や熱処理を行うこと
ができる効果を有する６
第１図はこの発明の一実施例を示す構成図、第２図は従
来のこの種装置の構成を示す図である。 １・・・電子銃絶縁支持物 ２・・・ガードリング３・
・・気密導入端子 １０・・・コロナリング′１１
・・・ウェネルト １２・・・フィラメント１
３・・・アノード １４・・・絶縁油１５・
・・配線 ２１・・・ビーム電流２２・・
・リーク電流 ２３・・・総合電流３１・・・ビ
ーム被照射物 ４１・・・電子ビーム照射室５１・・
・接地端子 ７１・・・高圧電源７２・・・加
速電圧源 ７３・・・ウェネルト電源７４・・・
フィラメント電源 ７５・・・高圧ケーブル７６・・・
加速電圧源７２の正極出力端子８０・・・ビーム電流モ
ニター素子
来のこの種装置の構成を示す図である。 １・・・電子銃絶縁支持物 ２・・・ガードリング３・
・・気密導入端子 １０・・・コロナリング′１１
・・・ウェネルト １２・・・フィラメント１
３・・・アノード １４・・・絶縁油１５・
・・配線 ２１・・・ビーム電流２２・・
・リーク電流 ２３・・・総合電流３１・・・ビ
ーム被照射物 ４１・・・電子ビーム照射室５１・・
・接地端子 ７１・・・高圧電源７２・・・加
速電圧源 ７３・・・ウェネルト電源７４・・・
フィラメント電源 ７５・・・高圧ケーブル７６・・・
加速電圧源７２の正極出力端子８０・・・ビーム電流モ
ニター素子
Claims (1)
- １、カソード及びウェネルトをアース電位に対して負に
荷電し、アノード及び被ビーム照射物を接地電位に保ち
、カソードから射出される電子ビームを加速して被ビー
ム照射物にあてるようにした電子ビーム発生装置におい
て、前記カソード及びウェネルトの絶縁支持物の接地電
位から数Ｖだけ高圧側にガードリングを設け、該ガード
リングを加速電源の正極端子と接地端子間に設けたビー
ム電流モニター素子の正極側に接続したことを特徴とす
るビーム電流モニター装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63041190A JPH01217841A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | ビーム電流モニター装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63041190A JPH01217841A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | ビーム電流モニター装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01217841A true JPH01217841A (ja) | 1989-08-31 |
Family
ID=12601500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63041190A Pending JPH01217841A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | ビーム電流モニター装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01217841A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109196618A (zh) * | 2016-06-01 | 2019-01-11 | 阿卡姆股份公司 | 三维物品的增材制造 |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP63041190A patent/JPH01217841A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109196618A (zh) * | 2016-06-01 | 2019-01-11 | 阿卡姆股份公司 | 三维物品的增材制造 |
| CN109196618B (zh) * | 2016-06-01 | 2020-12-29 | 阿卡姆股份公司 | 三维物品的增材制造 |
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