JPH01213284A - チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 - Google Patents

チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体

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JPH01213284A
JPH01213284A JP3887188A JP3887188A JPH01213284A JP H01213284 A JPH01213284 A JP H01213284A JP 3887188 A JP3887188 A JP 3887188A JP 3887188 A JP3887188 A JP 3887188A JP H01213284 A JPH01213284 A JP H01213284A
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JP
Japan
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group
compound
reaction
solvent
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JP3887188A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Fukumi
宏 福見
Toshiaki Sakamoto
俊明 坂本
Mitsuo Sugiyama
杉山 充男
Takeshi Yamaguchi
武 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [目的] (産業上の利用分野) 本発明は、抗アレルギー作用を有する新規なチェノピリ
ミジン−2,4−ジオン誘導体及びその塩に関する。
(当該発明が解決しようとする問題点)本発明者等は、
抗アレルギー作用を有する誘導体の合成とその薬理活性
について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、新規なチ
ェノピリミジン−2,4−ジオン誘導体が、優れた抗ヒ
スタミン作用、抗セロトニン作用、抗アレルギー作用及
び抗喘息作用を有し、毒性が無いこと並びに合成が極め
て容易であることを見出し、本発明を完成した。
[構成] 本発明の新規なチェノピリミジン−2t42オン誘導体
は、 [式中、X、Y及び2のいずれか1つは硫黄原子を示し
、他は炭素原子を示し、 E及びGは同−又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を
示し、 R1は、置換されたピペリジノ基又は置換された1−ピ
ペラジニル基(該置換基としては、アラルキル基、アラ
ルキルオキシ基・、アラルキルカルボニル基、芳香族ア
シル基又はアラルキリデン基を示す。ラ を示し、 R′!及びR3は、同−又は異なって、水素原子、低級
アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を示し、 R4は、水素原子、低級アルキル基又はアシル基を示し
、 Aは、炭素数1乃至4個のアルキレン基を示す。
]を有する。
上記−数式(I)において、R1に定義された「置換さ
れたピペリジノ基又は置換された1−ピペラジニル基」
の該置換基としての「アラルキル基」とは、例えば、フ
ェニル又はナフチルのようなアリール基が1又は2個置
換した後記低級アルキル基を示し、例えば、ベンジル、
フェネチル、ジフェニルメチル、ナフチルメチル、ナフ
チルエチル及びジナフチルメチル基を拳げることかでき
、好適には、ベンジル、ジフェニルメチルであり、該ア
リール基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かか
る置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロ
ゲン原子(好適には弗素、塩素、臭素)を拳げることか
でき、又、低級アルキル部分にも置換基を有していても
よく、かかる置換基としては置換されていてもよい水酸
基(好適には水酸基)を拳げることかできる。
上記低級アルキル基、並びにR:′、R3及びR4に定
義された「低級アルキル基」とは、例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、S−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソ
ペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、n−ヘキ
シル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−
メチルペンチル、3.3−ジメチルブチル、2.2−ジ
メチルブチル、1.1−ジメチルブチル、1.2−ジメ
チルブチル、1.3−ジメチルブチル、2.3−ジメチ
ルブチルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を示し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル
基である。
上記、置換基としての「置換されていてもよい水酸基」
の置換分としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピ
バロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラ
ウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、バルミトイ
ル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカル
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシア
ルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の脂肪族ア
シル基;後記芳香族アシル基又は前記低級アルキル基を
示す。
R1に定義された「アラルキルオキシ基」とは、上記ア
ラルキル基が酸素原子に結合した基を示す。
R1に定義された「アラルキルカルボニル基」とは、上
記アラルキル基がカルボニル基に結合した基、又はその
カルボニル基が保護された基(かかる保護の型としては
、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ等の炭素数1乃
至6個のアルキレンジオキシ基を拳げることかできる。
)を示す。
R1に定義された「芳香族アシル基」とは、ベンゾイル
、ナフトイルのようなアリールカルボニル基(該アリー
ル基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かかる置
換基としては前記ハロゲン原子、ニトロ基を拳げること
かできる。)、又はそのカルボニル基が保護された基(
かかる保護の型としては、メチレンジオキシ、エチレン
ジオキシ等の炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ基
を拳げることかできる。)を示す。
R1に定義された「アラルキリデン基」とは、上記アラ
ルキル基の低級アルキル部分のω位が二重結合になって
いる基を示し、式R1を有する基に該部分で結合しうる
基を示す。
R2及びR3に定義された「ハロゲン原子」とは、前記
ハロゲン原子を示す。
R4に定義された「アリール基」とは、前記R1におい
て定義した基と同様の基を示す。
R4に定義された「アシル基」とは、例えば前記脂肪族
アシル基;前記芳香族アシル基;メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基
、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル、2−ト
リメチルシリルエトキシカルボニル 低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビのようなアル
ケニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニ
ル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオ
キシカルボニル基のような基を拳げることかでき、好適
には脂肪族アシル基である。
Aに定義された「炭素数1乃至4個のアルキレン基」と
は、例えばメチレン、メチルメチレン、エチレン、1−
メチルエチレン、2−メチルエチレン、プロピレン、ト
リメチレン、1−メチルプロピレン、テトラメチレン、
1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3
−メチルトリメチレン、ブチレンのような炭素数1乃至
4個のアルキレン基を挙げることができ、好適にはメチ
レン、エチレン、トリメチレン、プロピレン又はテトラ
メチレンである。
本発明の化合物(I)は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には弗化水素酸塩、塩酸塩、
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩
;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩.p−トルエンスルホン酸
塩のようなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハ
ク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩
等の有機酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩の
ようなアミノ酸塩を拳げることかできる。
化合物(I)において、好適な基としては、  、(1
)R’が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換
された1−ピペラジニル基である化合物 (2)R”の置換肖れたピペリジノ基又は置換された1
−ピペラジニル基の置換基が、アラルキル基、アラルキ
ルオキシ基又は芳香族アシル基である化合物 (3)R’の置換分のアラルキル基が、ハロゲンで置換
されていてもよいベンジル又はジフェニルメチル基であ
る化合物 (4)R’の置換分のアラルキルオキシ基が、ハロゲン
で置換されていてもよいベンジルオキシ又はジフェニル
メチルオキシ基である化合物(5)R’の置換分の芳香
族アシル基が、カルボニル基が保護されていてもよく、
又,ハロゲンで置換されていてもよいベンゾイルである
化合物 (6)R’及びR3が、同−又は異なって、水素原子、
炭素数1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲ
ン原子である化合物 (7)R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル
基又は脂肪族アシル基である化合物(8)Aが、エチレ
ン又はトリメチレンである化合物 (9)E及びGが、酸素原子である化合物(10) R
 1が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換さ
れた1−ピペラジニル基テアリ、該置換基が、アラルキ
ル基、アラルキルオキシ基又は芳香族アシル基であり、
R2及びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数
1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子
であり、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキ
ル基又は脂肪族アシル基であり、Aが、エチレン又はト
リメチレンであり、E及びGが酸素原子である化合物(
11)R”が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で
置換された1−ピペラジニル基であり、該置換基が、ハ
ロゲンで置換されていてもよいベンジル、ジフェニルメ
チル、ベンジルオキシ若しくはジフェニルメチルオキシ
基又はカルボニル基が保護されていてもよく、又、ハロ
ゲンで置換されていてもよいベンゾイルであり、R2及
びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至
4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり
、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル基又
は脂肪族アシル基であり、Aが、ジメチレン又はトリメ
チレンであり、E及びGが酸素原子である化合物 を拳げることかできる。
本発明の代表的化合物としては、例えば、第1表に記載
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。
以下に記載する置換基a ” sは、次の基を示す。
/ 策よ艮 を示す。
上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、1.5
.6.7.9.10.12.15.23.24.25.
27.28、43.44.48.49.50.51.5
2.53.54.55.77.78.79.83.84
.85.86.87.88.91.93.95.101
.111.115.126.128.129.130.
131.132.133.134.135.136.1
44.152.165.173.176及び180の化
合物を拳げることかできる。
更に、好適な化合物としては、1.5.1o、12.2
3.68.83及び91ア化合物をあげることができる
本発明のチェノピリミジン−2,4−ジオン誘導体(I
)は、以下に記載する方法によって製造することができ
る。
[製法1] 上記式中、A、E−G、X、Y−Z、R”、R2、R3
及びR4は前記と同意義を示す。
第1工程は、チェノピリミジン誘導体(II)を、ピペ
リジン又はピペラジン誘導体(III)と、溶媒存在又
は非存在下に加熱し、所望により、ピリミジン環の窒素
原子を、塩基の存在又は非存在下に、R4基で修飾する
ことにより、氷原発明化合物(I)を製造する工程であ
る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70℃乃至180℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類及
び量によって異なるが、通常1o分乃至5時間である。
反応終了後、目的化合物(I)は、結晶として得られる
か、又は常法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
所望の工程は、上記合成した化合物(R4=H)と、一
般式R4−Wを有する化合物(式中、R4は前記と同意
義を示し、Wは前記ハロゲン原子を示す。)又は一般式
(R4) 20を有する化合物(式中、R4は前記と同
意義を示す。)とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させ
て達成する。
使用される塩基としては、アルカリ金属塩基であれば特
に限定はないが、好適には水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのようなアルカリ金属水素化物を拳げることかで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適にはテトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、エーテル、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類を拳げる
ことかできる。
[製法2] 上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R1、R2、R3
及びR4は前記と同意義を示す。
R5は、前記低級アルキル基を示す。
第2工程は、化合物(■■)と化合物(V)を、脱水剤
の存在下に反応させ、化合物(VI)を製造する工程で
ある。
使用される脱水剤としては、通常、脱水剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)  。
、シアノリン酸ジエチル(DEPC)カルボニルジイミ
ダゾール、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)又
は、ジエチルアゾジカルボキシレート−トリフェニルホ
スフィンのような有機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のよ
うな無機脱水剤が挙げられる。
有機脱水剤の場合に、使用される溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類フ酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度はO′C乃至
100℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃
である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用
される塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが
、通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場
合には、好適には溶媒を使用せず、反応温度は40℃乃
至150℃である。
反応終了後、本反応の目的化合物(VI)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
第3工程は、化合物(VI)を、溶媒存在下、加熱又は
塩基と反応させ、所望により、第1工程の所望の工程に
従って、ピリミジン環の窒素原子をR4基で修飾するこ
とにより、本願発明化合物(1)を製造する工程である
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムのような無機塩基を挙げることが
できる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、水;メタノール、エタノール、n−プロパツール
、イソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール
、イソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を
含む上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は
0℃乃至170℃で行なわれるが、好適には、25℃乃
至160℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化
合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、
目的化合物(I)は常法に従って、反応混合物から採取
される。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
[製法3] 上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R’、R2、
R3及びR5は前記と同意義を示す。
製法3は、化合物(VI)の別途製法である。
第4工程は、カルボン酸誘導体(IV)とアミン誘導体
(VII)を、前記第2工程に準じて、脱水剤を用いて
縮合し、化合物(VIII)を製造する工程である。
第5工程は、化合物(VIII)と化合物(III)と
を、溶媒存在下、塩基を用いて反応させ、目的化合物(
VI)を製造する工程である。
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウムのような無機塩基を挙げることができる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類又はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンのようなケトン類を挙げることができる
反応温度は0℃乃至180℃で行なわれるが、好適には
、50℃乃至120℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常30分乃至5時間である。
反応終了後、目的化合物(VI)は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和
しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
[製法4] 上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R”、R2−1R
3、R4及びR5は前記と同意義を示す。
第6エ程は、化合物(II)の窒素原子を、溶媒中、R
5基で修飾し、四級塩の化合物(IX)を製造する工程
である。
R5基で修飾する際、使用される化合物としては、例え
ば、トリメチルオキソニウム テトラフルオロボレート
、トリエチルオキソニウム テトラフルオロボレート、
トリエチルオキソニウムへキサクロロアンチモネート、
トリエチルオキソニウム へキサフルオロホスフェート
のようなトリアルキルオキソニウム塩を拳げることかで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類を挙げることができる。
反応温度は一20℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、10℃乃至30℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至10時間である。
反応終了後、目的化合物(IX)は析出し、常法に従っ
て、反応混合物から採取される。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
第7エ程は、四級塩の化合物(IX)を、化合物(II
I)と、溶媒存在下又は非存在下に反応させ。
本願発明化合物(I)を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類又はジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げること
ができる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、20℃乃至80℃である。反応時間は、主
に反応温度、原料化合物、使用される塩基又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常1分乃至5時間で
ある。
反応終了後、本反応の目的化合物(I)は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。
本願原料化合物(II)は、以下に記載する方法によっ
て製造することができる。
[製法5] 上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R2、R3、
R4及びR5は前記と同意義を示す。
R6は、前記低級アルキル基を示す。
第8工程は、一般式(X)を有する化合物を、−般式(
XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応させる
ことにより、一般式(XII)を有する化合物を製造す
る工程である。化合物(X)は、ビンダー等の方法(D
、Binder、 Arch、 Pharm、、 31
4.557(1981))に従って、製造することがで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類フジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類又は過
剰のアミノアルカノール誘導体(XI)を挙げることが
できる。反応温度は一10℃乃至170’Cで行なわれ
るが、好適には、90℃乃至150℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常1時間乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
第9工程は、一般式(XII)を有する化合物を、例え
ば、チオニルクロリド、チオニルプロミド。
オキシ塩化リン、オキシ臭化リンのようなハロゲン化剤
と反応させることにより、一般式(XIII)を有する
化合物を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類が用いられる。反応温度は0℃乃至10
0℃で行なわれるが、好適には、50℃乃至80℃であ
る。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用さ
れる溶媒の種類及び量によって異なるが、通常10分乃
至10時間である。反応終了後、本反応の目的化合物(
XIII)は常法に従って、反応混合物から採取される
。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え
、水洗後、溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
第10工程は、一般式(XIII)を有する化合物のW
基を、塩基存在下に除去し、エーテル結合を形成させ、
環化し、一般式(II)を有する本願原料化合物を製造
する工程である。
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシグロ[5,4,0]ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ムのような無機塩基を挙げることができる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンのようなケトン類又は水を含む上記溶剤混
合物を挙げることができる。
反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、30℃乃至90℃である。反応時間は、主に反応温度
、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常10分乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(TI)は常法に従って
、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
[製法6] 上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R’、R8及びR
4は前記と同意義を示す。
第11工程は、一般式(XII)を有する化合物を、常
法により、脱水剤と反応させることにより環化させ、一
般式(II)を有する本願原料化合物を製造する工程で
ある。
使用される脱水剤としては、通常、脱水剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のような無機脱水剤が挙
げられる。
有機脱水剤の場合に、使用される溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度は0℃乃至1
00℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用さ
れる塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場合
には、好適には溶媒を使用せず1反応温度は40℃乃至
150℃である。
反応終了後、本反応の目的化合物(工I)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
[製法7] 第16・工程29.第17エ程 1、llll−一→、)<lll−一一−−→II上記
式中、A、E、G、X、Y、Z、R’、R5及びR5は
前記と同意義を示す。
第12工程は、一般式(■v)を有する化合物を、−般
式(XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応さ
せることにより、一般式(XIv)を有する化合物を製
造する工程である。原料化合物(工■)は常法により、
化合物(X)の加水分解で得られる。
使用される縮合剤としては、通常、縮合剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤が挙げられる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなニスチル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチ、ルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類ニジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類又はアミノアルカノール誘導体(XI)を
挙げることができる。反応温度は一10℃乃至100℃
で行なわれるが、好適には、0℃乃至40℃である。反
応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常1時間乃至5日間であ
る。反応終了後、本反応の目的化合物(XIv)は常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
第13工程は、一般式(XIv)を有する化合物を、直
接加熱するか、溶媒中で加熱することによって、一般式
(XII)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70°C乃至180℃である。反応時間は
、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類
及び量によって異なるが、通常30分乃至5時間である
。反応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。
第14工程は、第9工程と同様の工程を行なうことによ
り、化合物(XII)から、化合物(XIII)を製造
する工程である。
第15工程は、第10工程と同様の工程を行なうことに
より、化合物(XIII)から、本願原料化合物(■1
)を製造する工程である。
第16エ程は、第13工程と同様の工程を行なうことに
より、化合物(VIII)から、化合物(XIII)を
製造する工程である。
第17エ程は、第15工程と全く同様の工程であり、化
合物(XIII)から、本願原料化合物(II)を製造
する工程である。
[製法8] G :、;すII 上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R2、R3及
びR6は、前記と同意義を示す。
第18工程は、一般式(XV)を有する化合物を、−般
式(XVI)を有するイソシアネート誘導体と反応させ
ることにより、一般式(XVH)を有する化合物を製造
する工程である。イソシアネート誘導体(XVI)はカ
ンペ等[K、D、Kampe、 Liebigs、 A
nn、 Chem、、 752.142 (1971)
コの方法に従って、製造することが出来る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類を挙げることができる。反
応温度は50℃乃至120℃で行なわれるが、好適には
、70℃乃至100℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常1時間乃至5日間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(XVII’)は常法に従って、反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和し
ない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによ
って得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法
、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によ
って更に精製できる。
第19工程は、塩基の存在下に、化合物(XVII)か
ら、本@原料化合物(II)を製造する工程である。
使用される塩基としては1通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,01ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、アンモニア水のような無機塩基を挙げることができ
る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類;メタノール、エタノール、n−プロパツール、イ
ソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール、イ
ソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を含む
上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は0℃
乃至170℃で行なわれるが、好適には、60℃乃至1
60℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物
、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(II)は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、反応混合物に水と混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得
られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例え
ば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更
に精製できる。
[製法9] 上記式中、E、X、Y、Z、R’、R3及びR6は、前
記と同意義を示す。
製法9は、本願発明化合物(I)の別途製法である。
第20工程は、インチオシアネート化合物(XVIII
)を、一般式<V)を有する誘導体と、溶媒の存在又は
非存在下に、反応させることにより、本願発明化合物(
I)を製造する工程である。
イソチオシアネート誘導体(XVIII)は、キニンツ
ル等[F、 Kienzle、 He1vetica 
Chemica Acta、 66、148−157 
(1983)]の方法に従って、製造することが出来る
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類又はピペリジン又はピペラジ
ン誘導体を挙げることができる。反応温度は50℃乃至
120℃で行なわれるが、好適には、70℃乃至100
℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は
使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分乃至
1時間である。
反応終了後、本願発明化合物(I)は、溶媒を留去した
後塩基性にして、更に酸性にすることによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はグロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
(効果) 本発明の新規なチェノピリミジン−2,4−ジオン誘導
体は、抗ヒスタミン作用及び抗セロトニン作用、しかも
優れた抗アレルギー作用及び抗喘息作用を有し、且つ、
毒性もないので、アレルギー疾患又は喘息の治療剤とし
て有用である。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口投与又は注射剤、噴霧剤。
点眼剤若しくは全開等による非経口投与を挙げることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて周知の方
法で製造される。その使用量は症状、年齢等により異な
るが、1日0.5−100mgを通常成人に対して、1
日1回又は数回に分けて投与することができる。
以下に、実施例、参考例及び試験例を挙げて本発明を更
に具体的に説明する。
実施例]6 a)2.3−ジヒドロ−3(5H’)−オキサゾロ[3
,2−a]チェノ[3,2−dコピリミジノン0.8g
と4−フルオロベンゾイルピペリジン1.1gをジメチ
ルホルムアミド2 ml中に加え30分間加熱還流した
。−夜装置し析出する結晶を濾取し乾燥して目的物1.
30 g(79%)を得た。常法により塩酸塩を合成し
た。
融点: 272−275°C(分解) b )3−[2(4−[2−(4−フルオロフェニル)
−1,3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペリジニ
ル]エチル]−2,4−(lH,3H)−チI/[3,
2−d]ピリミジンジオン0゜8gをイソプロピルアル
コール20m1とクロロホルム20 mlの混合液中に
加温溶解し、4N−塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加
えて5時間還流した。冷却後析出晶を濾取して目的物塩
酸塩を0.82 g(収率95%)得た。
融点: 274−277℃(分解) 実施例2〜11 実施例1a)と同様にして下記の化合物を合成した。
1] R″−=R”=R4=H,A=−(CHD。−R”=C
H3,R”=84=H,Aニー(CHz)ニーR2=R
’=R4:H,A=−Ch−CH(CHz)一実施例2
0 3−3−4−4−フルオロベンゾイル−1−ピペ1ジ二
ルユプp−ピル−6−メチル−2,4−IH3H−チェ
ノ3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−N−[
3−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピペリジ
ニル]プロピル]−2−チオフェンカルボン酸アミド0
.26 gをジメチルホルムアミド3.Oml中で6時
間加熱還流した。氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し、溶
媒を留去し、エタノールで洗滌すると目的物0.46 
g(収率84%)を得た。常法によりマレイン酸塩を得
た。
融点: 158−161℃(分解) 実施例21〜25 実施例20と同様にして下記の化合物を合成した。
1コ R”=R”=R4=H,A=−(CHユ)ニーR’=C
H2,R″−=R4=H,A=−(CHりニー/ R’=CHヨ、 R’=R4=H,A=−(CH,、)
、−R’=R’=CH已、 R4=H,A=−(CH2
)H−実施例26〜27 実施例2oと同様にして下記の化合物を合成した。
R”=R4=H,A=−(CH2)、一実施例20と同
様にして下記の化合物を合成した。
実施例28 R1=置換基m、 R”=R”=R4=H,A”−(C
H2)ニーの化合物丁R(cm”’、  CHCl3)
:、1725. 1645゜融点(’C):Oil 収率Cj:):100 実施例29 R1=置換基m、 R”=R”=CH3,R4=H,A
=−(CH2)2−の化合物 IR(cn+−”、 CFIC13):1715.16
60゜融点(’C) :168−170 収率(%):100 実施例30 R1=置換基m、 R”=H,R2=C1,R4=!(
、A=−(CH,、)、−の化合物 IR(cm−1,KBr):1718.1670゜融点
(’C):240−245 収率(1):55 実施例31 3ユ2−4−(4−フルオロベンゾ ルー1−ピペiジ
二ルエチルー5−メチル−2,4−IH3H−チェノ2
実施例1a)と同様にして目的物を収率70%で得た。
融点: 179−181℃ 実施例32 a)実施例1b)と同様にして目的物を収率26%で得
た。
融点: 233−235℃(分解) b)実施例1a)と同様にして目的物を収率95%で得
た。
実施例1b)と同様にして下記の化合物を合成した。
実施例33 R1=置換基1 、 R′!=R”=R4=H,A=−
(CH:)ニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 285−287 収率(%):100 実施例34 R1=置換基1 、 R’=R3=C)I三、 R4=
H,A=−(CHDニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 273−276 収率(%):83 実施例35 R1=置換基1 、 R”−=H,R2=C1,R4=
H。
A=−(CH,) 、−の化合物の塩酸塩実施例36 3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピ
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.92 gをメタ
ノール2F) mlに加え、水素化ホウ素ナトリウム0
.12 gを追加し、室温で2時間撹拌した。減圧濃縮
し、水を加え酢酸エチルで抽出し、シリカゲル力ラムグ
ロマトグラフイーに付し、タロロホルムーメタノール(
19:1)で溶出して目的物0.54 g(収率58%
)を得た。常法によりマレイン酸塩を合成した。
融点: 119−123℃(分解) 実施例37 3−2−4−4−フルオロ−ベンゾ ルー1−ピペTジ
二ルエチルー1−メチル−24−IH,3H−チェノ3
a )3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−
1−ピペリジニル]エチルコー2.4−(LH,3H)
−チェノ[3,2−dコビリミジンジオン1.05 g
を、ジメチルホルムアミド20 mlに55%水素化ナ
トリウム0.12gを加えた溶液に追加し、室温で2時
間撹拌した。ヨウ化メチル0.42 gを溶解したジメ
チルホルムアミド2T51溶液を加え、さらに室温で2
時間撹拌した。溶媒を留去後、水を加え酢酸エチルで抽
出して目的物0.30 g(収率27%)を得た。常法
により塩酸塩を合成した。
融点: 243−246℃(分解) b)2.3−ジヒドロ−9−メチル−5−オキソ−オキ
サゾロ[3,2−aコチェノ[3,2−d]ピリミジニ
ウム テトラフルオロボレート0.20 gと4〜フル
オロベンゾイルピペリジン0.33 gとをジクロルメ
タン15 mlに加え、5分間加熱還流後溶媒を留去し
、残留物に水および酢酸エチルを加え、濾取して目的物
0゜12g(収率43%)を得た。
融点:、169−171℃ 実施例38 3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピ
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.51 gを無水
酢酸10 mlに加え15時間加熱還流した。減圧濃縮
し、酢酸エチルで抽出し目的物0.25 g(収率45
%)を得た。
融点: 112−117°C 実施例39−40 実施例1b)と同様にして下記の目的物を合成した。
R:二84=H,A=−(CH:)ニー実施例41−4
4 実施例1a)と同様にして下記の目的物を合成した。
R二=H,R”=C2Hs、 R4=H,A=−(CH
=)ニー実施例45 3−2−4−ビス4−フルオロフ ニルメ キシ−1−
5H−チェノ32−d ピ1ミジンジオン実施例1a)
と同様にして目的物を収率93%で得た。
融点: 166−168°C 実施例46〜48 実施例1a)と同様にして下記の目的物を合成した。
1] R’=R3=R4=H,A=−(CH,)、−実施例4
9゜ メチル 3−イソチオシアナート−2−テオフニンカル
ボキシレート0.8 gと2−[4−[(4−フルオロ
フェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−1−
ピペラジニル]エチルアミン1.2gとをテトラヒドロ
フラン15m1中に加え、1時間加熱還流した。減圧上
濃縮し、残留物を10%水酸化ナトリウムで希釈し、酸
性にして目的物1.8 g(収率97%)を得た。
融点: 237−239℃ 実施例50 実施例49と同様にして合成した。
R:!=CH3,R5=R4=H,A=−(CH−り、
一実施例51 3−[2−[4−フルオロフェニル)−1,3−ジオキ
ソラン−2−イル]−1−ピペラジニル]エチル−2−
チオ−2,4−(IH,3H)−チエノーr3.2−d
コピラミジンジオン0.8gをイソプロピルアルコール
20 mlとクロロホルム20m1の混合液中に加熱溶
解し、4規定塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加え、5
時間還流した。冷却後、析出品を濾取し、目的物の塩酸
塩を0.7 g(収率89x)を得た。
融点: 235−236℃(分解) 実施例52 実施例51と同様にして合成した。
1] R”=CH3,R3=R4:)(、A=−(CH:)=
−以下の化合物を、実施例51と同様にして合成した。
実施例53 R1=置換基1 、 R’=R3=H,A=−(CH,
、)、−である化合物の塩酸塩 融点(℃) : 235−237゜収率ニア6%。
実施例54 R1=置換基1 、 R’=R”=CH3,A=−(C
H,)−!−である化合物の塩酸塩 融点(℃) :207−210゜収率ニア1%。
実施例55 R1:置換基1 、 R′l=H,R3=CH3,Aニ
ー(CH:)z−である化合物の塩酸塩 融点(’C) : 236−238゜収率:67%。
参考例1゜ えド a)3−エトキシカルボニルアミノ−2−チオフェンカ
ルボン酸1.5gと2−[−[4−(4−フルオロフェ
ニル)−1゜3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペ
リジニルコニチルアミン2.27gとをジメチルホルム
アミド7 mlに加え、シアノリン酸ジエチル1.4g
とトリエチルアミン0.77 gとを水冷却下で追加し
た。室温で1時間撹拌後、−夜装置した。氷水中にあけ
酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマトグラフィーに
付し、タロロホルムーエタノール(30:1)で溶出し
て油状物2.1 g(収率61%)を得た。
丁R(CHCI:、  cm−’)   :  172
5. 1720(sh)、  1620゜b)3−エト
キシカルボニルアミノ−N−(2−クロルエチル)−2
−チオフェンカルボン酸アミドL38 gと4−[(4
−フルオロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イ
ルコピペリジン1.5gをメチルイソブチルケトン50
m1に加え、無水炭酸ナトリウム2.0gとヨウ化カリ
ウム0.1 gとを追加して12時間加熱還流した。
濾過後渡液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−エタノール(30:1)で溶出し
、油状物0.82 g(収率33%)を得た。
IR(CHC1=、 cm−1)  : 1725.1
620゜参考例2〜4 参考例1と同様にして下記の化合物を合成した。
7/ 参考例5〜6 参考例1と同様にして下記の化合物を合成した。
参考例7 3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−N−(3
−クロルプロピル)−2−チオフェンカルボン酸アミド
1.5gと4−(4−フルオロベンゾイル)ピペラジン
1.22 gとをメチルイソブチルケトン50m1に加
え、無水炭酸ナトリウム1.5gとヨウ化カリウム0.
1 gを追加し10時間加熱還流した。濾過し濃縮して
得られる残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
ジクロルメタン−エタノール(20: 1)で溶出して
目的物1.47 g(63%)を得た。
融点: 87−89℃(ヘキサン−酢酸エチル再結晶)
参考例8 参考例7と同様にして目的物を収率66%で得た。
融点: 146−148℃ 参考例9 3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−2−チオ
フェンカルボン92.29 gと3−クロルプロピルア
ミン塩酸塩1.50 gをジメチルホルムアミド15m
1中に加え、シアノリン酸ジエチル1.76 gとトリ
エチルアミン]、、76 gとを追加した。−夜放置後
氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(2:
1)で溶出して油状目的物1.6 g(収率53%)を
得た。
bp:  130°C10,lmmHg参考例]0 参考例9と同様にして目的物を収率43%で得た。
融点: 88−90℃ 参考例11 メチル 3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−
2−チオフェンカルボン酸エステル15 gをジメチル
ホルムアミド320 mlに溶かし、10%水酸化ナト
リウム70m1を加え70℃で2時間撹拌した。氷水中
にあけ、析出品を除去し希塩酸でpH3に調整した。析
出する結晶を濾取し、酢酸エチル−n−ヘキサンから再
結晶して目的物10.8 g(収率76%)を得た。
融点: 184−186℃(分解) 参考例]2 メチル 2−エトキシカルボニルアミノ−5−クロル−
3−チオフェンカルボン酸エステル1gをエタノール2
0 mlに溶解し40%水酸化カリウム1 mlを加え
、1時間加熱還流した。減圧濃縮し、水を加え10%塩
酸で酸性にして析出品を濾取して目的物を0.32g(
収率34%)得た。
融点: 198−200℃ 参考例13〜14 参考例12と同様にして下記の化合物を合成した。
R二・ 参考例15 2.3−ジヒドロ−3(5H)−オキサゾロE3.2−
a]チェノ[3,2−d]ピリミジン1.06 gをジ
クロルメタン40 mlにトリメチルオキソニウム テ
トラフルオロボレート0.94 gを懸濁させた溶液中
に氷冷しながら窒素気流中で加え、室温で3時間撹拌し
た。
析出物を濾取して目的物を1.60 g(収率99%)
得た。
融点: 167−170℃ 参考例16〜17 文献r:He1vetica Chemica Act
a、 66、148−157(1983)]に従って下
記化合物を合成した。
P゛−。
試験例1 王、 MOta [Immunology、乙 681
−699 (1964)]の方法に従い、卵白アルブミ
ンに対するラットの抗血清(PCA力価256倍)を作
成し、これを生理食塩水で4倍に希釈し、各群4匹の雄
性SDラット(5周令)背部皮内に0.05 ml注射
して感作した。48時間後に本発明化合物を0.5%ト
ラガント水溶液に懸濁して経口投与し、投与60分後に
0.4%卵白アルブミンと1.0%のエバンスブルーを
含む生理食塩水混合液5 ml/kg体重を尾静脈より
注射し、30分後にラットを炭酸ガスを用いて致死に至
らしめ。
背部皮内に漏出したエバンスブルーを、Harada等
の方法CJ、 Pharm、 Pharmac、、 2
3.218−219 (1971)]で測定した。
本発明化合物を含まない対照群の平均色素漏出量と比較
して抑制率を計算した。
抑制率は次の計算式により算出した。
抑制率(%)= (1−B/A) X 1.00A:対
照群の漏出色素量 B:検体投与群の漏出色素量 試験例2 KQnzett−Rossler法[Arch、 Ex
p、 Path、 Pharmak。
、 195 71−74 (1940)](7)変法に
より、ハートレイ系雄性モルモット(体重400−80
0 g)のヒスタミン又はセロトニンによる気道収縮反
応を、気道内圧として測定した。モルモットをウレタン
(500mg/kL IP)フロラロース(50mg/
kg、 ip)で麻酔し気管および頚静脈にカニユーレ
を挿入固定し、陽圧下に人工呼吸(60回/分、毎回5
−8 ml)を施した。
気道内圧は気道カニユーレの側枝に設置したトランスジ
ューサー(L P U−0,1−350,日本光電)を
介して記録した。モルモットはあらかじめヒスタミン6
−8μg/kg又はセロトニン8−12μg/kgを静
脈注射して気道の収縮反応を調べ、次に被検薬物を静脈
注射して5分後、先と同量のヒスタミン又はセロトニン
を静脈注射し、気道収縮を測定した。
抑制率は次の計算式により算出した。
抑制率(%)= (1−B/A) X 100A:被検
薬物投与前のヒスタミン又はセロトニンによる気道内圧
(cm H2O) B:被検薬物投与後のヒスタミン又はセロトニンによる
気道内圧(Cm Hユ0) 金物番号 投与量  抑制率 投与量  抑制率(mg
/iv)   (%)   (mg/iv)   (%
)1   0.01   42  0.0033  5
30.033   84  0.01   795  
 0.01   50  0.01   190.03
3   62  0.033   46試験例3 エッ、5□7ヨnよ2、口、の左゛首   に文・でし
くピ功」通H,R,阿orris[Br、 J、 Ph
armac、、 6LL179−184(1979)]
の方法によりアレルギー性喘息モデルを作成した。ハー
トレイ系雄性モルモット(体重400−500 g)の
皮下および腹腔内に、生理食塩水にとかした卵白アルブ
ミン(Sigma社、 grade 5)50 mg/
ml溶液を0.5 mlづつ一群5匹に注射し、7日後
再び先と同量の卵白アルブミンで追加免疫を施し、更に
8日後に実験に用いた。能動的に感作したモルモットは
実験前日に絶食を行ない、抗原水溶液(10mg/ml
)を噴霧投与すると、6分以内に気道収縮による呼吸困
難の痙肇症状(喘息症状)が発現する。被検薬物を経口
投与し60分後に抗原吸入し、6分間に喘息症状を発現
しないモルモットを有効と判定し、有効率を求め表示し
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式( I ) [式中、X、Y及びZのいずれか1つは硫黄原子を示し
    、他は炭素原子を示し、 E及びGは同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を
    示し、 R^1は、置換されたピペリジノ基又は置換された1−
    ピペラジニル基(該置換基としては、アラルキル基、ア
    ラルキルオキシ基、アラルキルカルボニル基、芳香族ア
    シル基又はアラルキリデン基を示す。)を示し、 R^2及びR^3は、同一又は異なって、水素原子、低
    級アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を示し、 R^4は、水素原子、低級アルキル基又はアシル基を示
    し、 Aは、炭素数1乃至4個のアルキレン基を示す。 ]を有するチエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体及
    びその塩。
JP3887188A 1988-02-22 1988-02-22 チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 Pending JPH01213284A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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