JPH01202835A - Positioning device - Google Patents
Positioning deviceInfo
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- JPH01202835A JPH01202835A JP63026487A JP2648788A JPH01202835A JP H01202835 A JPH01202835 A JP H01202835A JP 63026487 A JP63026487 A JP 63026487A JP 2648788 A JP2648788 A JP 2648788A JP H01202835 A JPH01202835 A JP H01202835A
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- base
- pushing pin
- orientation flat
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体製造装置等のウェハのオリエンテーシ
ョンフラットによる位置決め装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a positioning device using a wafer orientation flat for semiconductor manufacturing equipment and the like.
(従来の技術)
従来は、第9図および第10図に示す様に、オリエンテ
ーションフラット検出用の光電センサ5によりオリエン
テーシ冒ンフラット検出を行い、これとは別の光電セン
サ6により押付ビン4a。(Prior Art) Conventionally, as shown in FIGS. 9 and 10, a photoelectric sensor 5 for detecting an orientation flat detects the orientation flat, and a separate photoelectric sensor 6 detects the pressing bin 4a. .
4bにウェハ2が接触しているかを確認している。It is confirmed whether the wafer 2 is in contact with the wafer 4b.
ウェハ2は回転軸1の上に載置されている。光電センサ
5,6はベース3に固設されている。また、光電センサ
5は基部11に設けた光源9からの光を受光できるよう
なセンナ光路7を形成し、光電センサ6は光源10から
の光を受光できるようなセンサ光路8を形成している。The wafer 2 is placed on the rotating shaft 1. The photoelectric sensors 5 and 6 are fixed to the base 3. Further, the photoelectric sensor 5 forms a sensor optical path 7 that can receive light from a light source 9 provided on the base 11, and the photoelectric sensor 6 forms a sensor optical path 8 that can receive light from a light source 10. .
このセンサ光路7はウェハ2のオリエンテーションフラ
ットを検出するのに用いられ、センサ光路8はウェハ2
が押付ピン4a、4bに接触しているかの確認をするた
めのものである。このときウェハ2はウェハガイドピン
4Cでガイドされている。This sensor optical path 7 is used to detect the orientation flat of the wafer 2, and the sensor optical path 8 is used to detect the orientation flat of the wafer 2.
This is to confirm whether or not the pins are in contact with the pressing pins 4a and 4b. At this time, the wafer 2 is guided by wafer guide pins 4C.
(発明が解決しようとする課題)
以上のように従来の装置では、オリエンテーションフラ
ット検出用の光電センサと、押付ピンにウェハが接触し
ている事を確認する光電センサが必要であった。また、
これらの光電センサはお互の干渉を避けるため光電セン
サ間の距離(第10図中に符号tで示す部分)を長くす
る必要があシ、ウェハを押付ピンに押し付ける時のスト
ロークが長くなるといった欠点があった。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the conventional apparatus requires a photoelectric sensor for detecting orientation flat and a photoelectric sensor for confirming that the wafer is in contact with the pressing pin. Also,
These photoelectric sensors require a long distance between the photoelectric sensors (the part indicated by the symbol t in Figure 10) to avoid mutual interference, and the disadvantage is that the stroke when pressing the wafer against the pressing pin becomes long. was there.
この発明はこれらの欠点を除去する事を目的としている
。This invention aims to eliminate these drawbacks.
(課題を解決するための手段)
この発明は、ウェハのオリエンテーションフラット検出
と、ウェハを押付ピンに押し付けた際に確実にウェハが
押付ピンに接触°しているかの確認を同一の光電センサ
にて行おうというものである。(Means for Solving the Problems) This invention uses the same photoelectric sensor to detect the flat orientation of a wafer and to confirm whether the wafer is reliably in contact with the pressing pins when the wafer is pressed against the pressing pins. I'm planning on going.
そのため、押付ピンが取付けられているベースにウェハ
面に対して垂直な状態よりある程度傾く様に光電センサ
を設置し、このベースをアクチュエータにより上下駆動
可能とする。Therefore, a photoelectric sensor is installed on the base to which the pressing pin is attached so that it is tilted to some extent from a state perpendicular to the wafer surface, and the base can be moved up and down by an actuator.
(作用)
この様に構成された位置決め装置は、押付ピンと光電セ
ンサの取付けられたベースを下げウエノ・が押付ピンに
接触しない状態でオリエンテーションフラット検出した
後同ベースを上げウエノ翫を押付ピンに押し付けるため
押し付は時のストロークが短くてすむ。(Function) The positioning device configured in this way lowers the base on which the push pin and photoelectric sensor are attached, detects orientation flat without the Ueno rod touching the push pin, and then raises the base to press the Ueno rod against the push pin. Pushing and pressing requires a short stroke.
また、ベースが下がっている時は、光電センサの光路が
ウェハのオリエンテーションフラット検出位置に、ベー
スが上がっている時は光電センサの光路が、ウェハが押
付ピンに接触しているかを確認する位置に来るためセン
サは1対で良い。Also, when the base is down, the optical path of the photoelectric sensor is at the wafer orientation flat detection position, and when the base is up, the optical path of the photoelectric sensor is at the position to check whether the wafer is in contact with the pressing pin. One pair of sensors is sufficient.
(実施例)
第1図および第2図は本発明による第1のオリエンテー
ションフラットによる位置決め装置を説明する図で、第
1図は側面図、第2図は上面図である。これは、ウェハ
押付ピン4aが固定になっているが、ウェハ2の垂線に
対して傾いて取付けである光電センサー26をアクチエ
エータ25によ如上下させ、1つのセンサ機構で、オリ
エンチーシロンフラット検出とウエノ・が押付ピン4a
。(Example) FIGS. 1 and 2 are diagrams for explaining a positioning device using a first orientation flat according to the present invention, with FIG. 1 being a side view and FIG. 2 being a top view. Although the wafer pressing pin 4a is fixed, the actuator 25 moves the photoelectric sensor 26, which is mounted at an angle with respect to the perpendicular line of the wafer 2, up and down. and press pin 4a
.
4bに接しているかの確認を行う。すなわち、ベース2
3に設けられて、光源29からの光をアクチエエータ2
5の動きに対して斜めにセンナ光路27を形成し、オリ
エンテーションフラット検出の時には、ベース3を下方
に下した位置のセンサ光路27で行ない、ウェハ2と押
付ピン4a。Check whether it is in contact with 4b. That is, base 2
3, the light from the light source 29 is transmitted to the actuator 2.
A sensor optical path 27 is formed obliquely with respect to the movement of the wafer 2 and the pressing pin 4a, and when detecting the orientation flat, the sensor optical path 27 is located at a position where the base 3 is lowered.
4bとの接触確認はベース3をアクチュエータ25で上
昇させセンナ光路28の位置で行なうように構成されて
いる。第3図は本発明による他の実施例を示す側面図で
、このオリエンテーションフラットによる位置決め装置
は、ウェハ押付ピン4a、4bが基部11に固定され、
光電センサ26の取付いたベース23をウェハ2の面と
平行な方向に移動させて、それぞれの検出を行うもので
ある。第4図は本発明のさらに他の実施例を示す側面図
で、このオリエンテーションフラットによる位置決め装
置は、ウエノ1押付ビン4a 、 4bは固定セなって
いるか光電センサ26の取付いたベース23を支軸30
を中心に回転移動させ、光軸27,28の位置を変えそ
れぞれの検出を行うものである。第5図は本発明のさら
に他の実施例を示す図で、この位置決め装置はウェハ押
付ピン4aとウェハの垂線に対して傾いている状態の光
電センサ26を同一のベース23に設置し、このベース
23を7クチユエータ25によ如上下させるものである
。The contact confirmation with the base 4b is performed by raising the base 3 by an actuator 25 at the position of the senna optical path 28. FIG. 3 is a side view showing another embodiment according to the present invention. In this orientation flat positioning device, wafer pressing pins 4a and 4b are fixed to a base 11,
The base 23 to which the photoelectric sensor 26 is attached is moved in a direction parallel to the surface of the wafer 2 to perform each detection. FIG. 4 is a side view showing still another embodiment of the present invention. In this orientation flat positioning device, the Ueno 1 pressing bins 4a and 4b are either fixed or pivoted around the base 23 on which the photoelectric sensor 26 is attached. 30
The optical axes 27 and 28 are rotated and moved around the center to change the positions of the optical axes 27 and 28 to perform respective detections. FIG. 5 is a diagram showing still another embodiment of the present invention, in which a wafer pressing pin 4a and a photoelectric sensor 26 tilted with respect to the perpendicular line of the wafer are installed on the same base 23. The base 23 is moved up and down by seven cutter units 25.
前記ベース23が下にある状態では、ウェハ押付ピン4
aがウェハ2の面よシ下にあるため押付ピン4aに近い
位置でウェハ2のオリエンテーションフラット検出が行
えるため、後にウェハを押付ピン4aに押付ける際のス
トロークが短かくできる。また前記ベース23が上にあ
る状態ではウェハ2を押付ピン4aに押し付はオリエン
テーションフラット出しを行う。この際、光路27がオ
リエンテーションフラット検出位置41から、ウェハ2
が押付ピン4a 、4bに接触しているかを確認する位
置42に移動させて、センサ光路28を形成することに
より、同一のセンナ26で、両方の検出が可能となる。When the base 23 is down, the wafer pressing pin 4
Since the point a is below the surface of the wafer 2, the flat orientation of the wafer 2 can be detected at a position close to the pressing pin 4a, so that the stroke when pressing the wafer against the pressing pin 4a later can be shortened. Further, when the base 23 is on the upper side, the wafer 2 is pressed against the pressing pins 4a so that the orientation is flat. At this time, the optical path 27 is directed from the orientation flat detection position 41 to the wafer 2
By moving the sensor to the position 42 where it is confirmed whether it is in contact with the pressing pins 4a, 4b and forming the sensor optical path 28, it becomes possible to detect both with the same sensor 26.
また第6図および第7図に示すように、2つのセンナ3
5.36を用いることにより、ウニノ・2がどの方向に
傾いているかの確認もできる。In addition, as shown in FIGS. 6 and 7, two senna 3
By using 5.36, it is also possible to confirm in which direction Unino-2 is tilted.
さらに、第8図に示すように、本発明による他の実施例
として、コ字形ベース23の上側にウェハ押付はピン4
を設けることにより、ベース23を上に移動した時には
オリエンテーションフラットの検出を行ない、ベース2
3を下に移動した時にはウニノ・2の接触を確認できる
のである。Furthermore, as shown in FIG. 8, as another embodiment of the present invention, a pin 4 is used to press the wafer on the upper side of the U-shaped base 23.
By providing this, when the base 23 is moved upward, the orientation flat is detected and the base 2
When you move 3 down, you can confirm the contact with Unino 2.
以上説明したように本発明によればウニノ・のオリエン
テーションフラット検出とウニノーが押付ピンに接触し
ているかの確認とを同一のセンサで検出できるため部品
数が少なくてすむ。また上記検出を別々のセンサで行う
場合に比べ、センサの干渉による影響がないのでウニノ
・を押付ピンのすぐ近でオリエンテーションフラット検
出できる。As explained above, according to the present invention, the number of parts can be reduced because the same sensor can detect the orientation flat of the unicorn and confirm whether the unicorn is in contact with the pressing pin. Furthermore, compared to the case where the above-mentioned detection is performed using separate sensors, since there is no influence due to sensor interference, it is possible to detect the orientation flat in the immediate vicinity of the pressing pin.
また、ピンを下げた状態では、ウニノ・に押付ピンが当
たる心配がないので押付ピンのすぐ近くでオリエンテー
ションフラット検出ができ、押付ピンに押し付ける際の
ストロークが短かくでき、押し付は時の誤差が小さくで
きる。In addition, when the pin is lowered, there is no need to worry about the pressing pin hitting the pin, so the orientation flat can be detected very close to the pressing pin, the stroke when pressing against the pressing pin can be shortened, and the pressing error is can be made smaller.
第1図は本発明の実施例のオリエンテーションフラット
による位置決め装置を示す側面図、第2図は第1図で示
した実施例の動作を説明する平面図、第3図乃至第5図
はそれぞれ本発明の他の実施例を示す側面図、第6図お
よび第7図は第5図に示した実施例の動作を説明する平
面図、第8図は本発明の他の実施例を示す側面図、第9
図は従来技術を説明する側面図、第10図は第9図で示
した従来技術の動作を説明する側面図である。
2・・・ウェハ、4a、4b・・・押付はピン、23・
・・ベース、25・・・アクチュエータ、26・・・セ
ンサ、27.28・・・センサ光路、29・・・光源。
代理人 弁理士 則 近 憲 佑
同 松山光之
第2図
第4図
第6図
第7図
第8図Fig. 1 is a side view showing a positioning device using an orientation flat according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a plan view illustrating the operation of the embodiment shown in Fig. 1, and Figs. 6 and 7 are plan views explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 5, and FIG. 8 is a side view showing another embodiment of the invention. , No. 9
The figure is a side view illustrating the prior art, and FIG. 10 is a side view illustrating the operation of the prior art shown in FIG. 9. 2... Wafer, 4a, 4b... Pressing pin, 23.
...Base, 25...Actuator, 26...Sensor, 27.28...Sensor optical path, 29...Light source. Agent Patent Attorney Ken Yudo Chika Mitsuyuki Matsuyama Figure 2 Figure 4 Figure 6 Figure 7 Figure 8
Claims (2)
サにより検出し位置決めする装置において、前記オリエ
ンテーションフラットを検出しかつウェハを押付ピンに
押しつけた時確実にウェハがピンに接しているかを確認
するためのセンサを設けたベースと、このベースを移動
させる手段とを具備した事を特徴とする位置決め装置。(1) In a device that detects and positions the orientation flat of a wafer using a photoelectric sensor, a sensor is provided to detect the orientation flat and to confirm that the wafer is definitely in contact with the pressing pin when the wafer is pressed against the pin. A positioning device characterized by comprising a base and means for moving the base.
状態よりある程度傾く様に前記検出センサをベースに設
置した事を特徴とする請求項1記載の位置決め装置。(2) The positioning device according to claim 1, wherein the detection sensor is installed on the base so that the optical axis of the detection sensor is tilted to some extent from a state perpendicular to the wafer surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026487A JPH01202835A (en) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | Positioning device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026487A JPH01202835A (en) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | Positioning device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01202835A true JPH01202835A (en) | 1989-08-15 |
Family
ID=12194860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63026487A Pending JPH01202835A (en) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | Positioning device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01202835A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6162008A (en) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer orientation sensor |
US6489626B2 (en) | 2000-04-07 | 2002-12-03 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer orientation sensor for GaAs wafers |
-
1988
- 1988-02-09 JP JP63026487A patent/JPH01202835A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6162008A (en) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer orientation sensor |
US6489626B2 (en) | 2000-04-07 | 2002-12-03 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer orientation sensor for GaAs wafers |
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