JPH01202687A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
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- JPH01202687A JPH01202687A JP63026790A JP2679088A JPH01202687A JP H01202687 A JPH01202687 A JP H01202687A JP 63026790 A JP63026790 A JP 63026790A JP 2679088 A JP2679088 A JP 2679088A JP H01202687 A JPH01202687 A JP H01202687A
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Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、たとえば半導体素子製造用の露光装置にセッ
トされるレチクルやマスクを投影レンズなどに対して位
置決めするための位置決め装置に関する。
トされるレチクルやマスクを投影レンズなどに対して位
置決めするための位置決め装置に関する。
(従来の技術)
一般に、半導体素子の製造の際に用いるレチクルやマス
クの位置決めは、多軸的に制御される複数のテーブルを
設けた位置決め装置によって行われている。つまり、こ
の位置決め装置は水平面内で直交するX軸、Y軸に沿っ
てそれぞれミクロンオーダーの精度で変位可能なXテー
ブルおよびYテーブルと2回動変位可能なθテーブルと
を宵しており、これらのテーブルの変位を組合わせて制
御することによりレチクルやマスクを投影レンズなどに
対して位置決めする。
クの位置決めは、多軸的に制御される複数のテーブルを
設けた位置決め装置によって行われている。つまり、こ
の位置決め装置は水平面内で直交するX軸、Y軸に沿っ
てそれぞれミクロンオーダーの精度で変位可能なXテー
ブルおよびYテーブルと2回動変位可能なθテーブルと
を宵しており、これらのテーブルの変位を組合わせて制
御することによりレチクルやマスクを投影レンズなどに
対して位置決めする。
ところで、従来の位置決め装置は上記x、y。
θの各テーブルを順次積み上げて構成されており。
このため位置決め装置全体の高さ、すなわち装置高は上
記X、Y、 θの各テーブルの厚みを加え合せた高さ
と上記各テーブルを支持するテーブルベースなどの高さ
を足し合せたものになる。
記X、Y、 θの各テーブルの厚みを加え合せた高さ
と上記各テーブルを支持するテーブルベースなどの高さ
を足し合せたものになる。
また、最近では半導体素子および露光転写パターンの微
細化に伴い、紫外線やX線などの露光が短波長化されて
いる。したがって1位置決め装置は制御精度を高めレチ
クルと投影レンズ間等、必要とする距離をより精密に維
持できることが望ましい。このため、上記X、Y、
θの各方向に加えて上下に変位==1能なZテーブルを
追加したものがある。しかし、このようにZテーブルを
設けることで装置高にZテーブルの厚みが加わって装置
が大型化する問題があった。
細化に伴い、紫外線やX線などの露光が短波長化されて
いる。したがって1位置決め装置は制御精度を高めレチ
クルと投影レンズ間等、必要とする距離をより精密に維
持できることが望ましい。このため、上記X、Y、
θの各方向に加えて上下に変位==1能なZテーブルを
追加したものがある。しかし、このようにZテーブルを
設けることで装置高にZテーブルの厚みが加わって装置
が大型化する問題があった。
(発明が解決しようとする課題)
上述のように従来は、X、Y、 θの各テーブルを積
み上げる構造であったため、装置が大型になるという不
具合があった。
み上げる構造であったため、装置が大型になるという不
具合があった。
また、制御制度を高めるためにZ・チルトテーブルを設
けた場合には装置が更に大型になるのでZ・チルトテー
ブルを設けることは困難だった。
けた場合には装置が更に大型になるのでZ・チルトテー
ブルを設けることは困難だった。
本発明の目的とするところは、装置の小型化を可能とし
、さらに、高精度な位置決めができる位置決め装置を提
供することにある。
、さらに、高精度な位置決めができる位置決め装置を提
供することにある。
〔発明の(14成〕
(課題を解決するための手段及び作用)上記目的を達成
するために本発明は、X、Y。
するために本発明は、X、Y。
θの各テーブルを同一平面上に配置したことにある。
また、水平面下での上下への変位および傾動変位可能な
Z・チルトテーブルを設けるとともに。
Z・チルトテーブルを設けるとともに。
このZ・チルトテーブルでθテーブルを支持し。
θテーブルを回動変位、上下への変位、および傾動変位
可能にしたことにある。
可能にしたことにある。
こうすることによって本発明は、x、y、 θの各テ
ーブルが1つのテーブルの厚み内に収まるようにして装
置を小型化を可能にし、更にθテーブルを上下への変位
および傾動変位可能にして制御制度を向上させることが
できるようにしたことにある。
ーブルが1つのテーブルの厚み内に収まるようにして装
置を小型化を可能にし、更にθテーブルを上下への変位
および傾動変位可能にして制御制度を向上させることが
できるようにしたことにある。
(実施例)
以下1本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明による位置決め装置を示すもので2図中
1は矩形の厚板体よりなるテーブルベースである。この
テーブルベース1の上面縁部には相対して2つの支持台
2.2が一体に突設されており、これら両支持台2,2
にはその対向する隅部に沿ってそれぞれ2つずつのY軸
案内3・・・が設けられている。また、上記テーブルベ
ース1の一端部には正逆回転が可能なY軸駆動モータ4
が固定されている。そして、上記支持台2.2は、はぼ
正方形枠状の板体よりなるYテーブル5を上記Y軸案内
を介して水平に、かつ一方向に摺動自在に支持している
。また、このYテーブル5には上記Y軸駆動モータ4の
シャフト4aに上方から直角に圧接する角棒体のY軸摩
擦駆動バー6が固定的に設けられている。そして、この
Y軸摩擦駆動バー6は図示しない摩擦駆動機構によって
予め加えられた負荷、すなわちプリロードを受けて上記
シャフト4aに圧接しており、これによってシャフト4
aの滑りが防止されている。つまり、シャツ)4aの回
転が摩擦を介して上記Y軸摩擦駆動バー6の直進運動に
代えられ、これによって上記Yテーブル5は一方向、す
なわち図中にAで示す座標のY方向に変位する。ここで
、上記Yテーブル5の変位は図示しないY軸センサによ
って検出され、この検出結果に基づいてYテーブル5の
位置はフィードバック制御される。
1は矩形の厚板体よりなるテーブルベースである。この
テーブルベース1の上面縁部には相対して2つの支持台
2.2が一体に突設されており、これら両支持台2,2
にはその対向する隅部に沿ってそれぞれ2つずつのY軸
案内3・・・が設けられている。また、上記テーブルベ
ース1の一端部には正逆回転が可能なY軸駆動モータ4
が固定されている。そして、上記支持台2.2は、はぼ
正方形枠状の板体よりなるYテーブル5を上記Y軸案内
を介して水平に、かつ一方向に摺動自在に支持している
。また、このYテーブル5には上記Y軸駆動モータ4の
シャフト4aに上方から直角に圧接する角棒体のY軸摩
擦駆動バー6が固定的に設けられている。そして、この
Y軸摩擦駆動バー6は図示しない摩擦駆動機構によって
予め加えられた負荷、すなわちプリロードを受けて上記
シャフト4aに圧接しており、これによってシャフト4
aの滑りが防止されている。つまり、シャツ)4aの回
転が摩擦を介して上記Y軸摩擦駆動バー6の直進運動に
代えられ、これによって上記Yテーブル5は一方向、す
なわち図中にAで示す座標のY方向に変位する。ここで
、上記Yテーブル5の変位は図示しないY軸センサによ
って検出され、この検出結果に基づいてYテーブル5の
位置はフィードバック制御される。
また、上記Yテーブル5の枠内にはYテーブル5と同様
にほぼ正方形枠状の板体からなるXテーブル7が嵌合す
るようにして設けられている。そして、このXテーブル
7とYテーブル5との間にはXテーブル7のX方向への
変位をガイドする4つのX軸案内8・・・が設けられて
いる。また、上記Xテーブル7はこの、Xテーブル7に
設けらえたX軸摩擦駆動バー9をYテーブル4に設けた
正逆回転が可能なX軸駆動モータ10のシャフト10a
に圧接させている。そして、上記シャフト10aのすべ
りが防止され、このシャフト10aの回転で上記Xテー
ブル7は座標AのX方向へ変位する。
にほぼ正方形枠状の板体からなるXテーブル7が嵌合す
るようにして設けられている。そして、このXテーブル
7とYテーブル5との間にはXテーブル7のX方向への
変位をガイドする4つのX軸案内8・・・が設けられて
いる。また、上記Xテーブル7はこの、Xテーブル7に
設けらえたX軸摩擦駆動バー9をYテーブル4に設けた
正逆回転が可能なX軸駆動モータ10のシャフト10a
に圧接させている。そして、上記シャフト10aのすべ
りが防止され、このシャフト10aの回転で上記Xテー
ブル7は座標AのX方向へ変位する。
ここで、上記Xテーブル7の変位は図示しないX軸セン
サによって検出され、この検出結果に基づいてXテーブ
ル7の位置はフィードバック制御される。
サによって検出され、この検出結果に基づいてXテーブ
ル7の位置はフィードバック制御される。
さらに、上記Xテーブル7の枠内にはθテーブル11が
設けられている。このθテーブル11は上記Xテーブル
7上に取付けられたθ軸駆動モータ12によってXテー
ブル7の枠内で微小な回動変位を行なう。そして、この
θテーブル11の変位は3つのθテーブル案内13・・
・によってガイドされる。また、θテーブル11のほぼ
中央部にはレチクル14(またはマスク)が真空吸引力
を利用して固定されるようになっている。
設けられている。このθテーブル11は上記Xテーブル
7上に取付けられたθ軸駆動モータ12によってXテー
ブル7の枠内で微小な回動変位を行なう。そして、この
θテーブル11の変位は3つのθテーブル案内13・・
・によってガイドされる。また、θテーブル11のほぼ
中央部にはレチクル14(またはマスク)が真空吸引力
を利用して固定されるようになっている。
そして、上記θテーブル11の下部には厚肉のほぼ正方
形枠体よりなり、上下動および傾動可能なZ・チルトテ
ーブル15が設けられている。このZ・チルトテーブル
15の−L面には、第1図および第2図に示すように各
定点で転勤自在な3つ鋼球15a・・・が配置され、こ
の鋼球により上記θテーブル11を支持している。そし
て、この鋼球15a・・・はθテーブル11とZ・チル
トテーブル15の両方に接してZ・チルトテーブル15
の変位をθテーブル11に伝える。つまり、θテーブル
11はZ・チルトテーブル15の動きに連動して上下動
および傾動変位し、更にこの状態で回動変位することが
可能である。なお、θテーブル11が回動変位したとき
には上記鋼球15a・・・が軸受となり、これによって
θテーブル11の回転がZ・チルトテーブル15に伝わ
らずに円滑に行われる。また、Z・チルトテーブル15
の変位は。
形枠体よりなり、上下動および傾動可能なZ・チルトテ
ーブル15が設けられている。このZ・チルトテーブル
15の−L面には、第1図および第2図に示すように各
定点で転勤自在な3つ鋼球15a・・・が配置され、こ
の鋼球により上記θテーブル11を支持している。そし
て、この鋼球15a・・・はθテーブル11とZ・チル
トテーブル15の両方に接してZ・チルトテーブル15
の変位をθテーブル11に伝える。つまり、θテーブル
11はZ・チルトテーブル15の動きに連動して上下動
および傾動変位し、更にこの状態で回動変位することが
可能である。なお、θテーブル11が回動変位したとき
には上記鋼球15a・・・が軸受となり、これによって
θテーブル11の回転がZ・チルトテーブル15に伝わ
らずに円滑に行われる。また、Z・チルトテーブル15
の変位は。
三角形の頂点を記すようにして上記テーブルベース1上
の3点に設けられ上記Z・チルトテーブル15の下部を
支持するZ・チルト駆動機構16・・・によって行われ
る。これら各Z・チルト駆動機構16は、正逆回転が可
能なZ・チルト駆動モータ17と、Z・チルト駆動モー
タ17のシャフト17aの回動によって直線運動し傾斜
面18を進退させる進退部19とからなる。そして、上
記傾斜面18が上記Z・チルトテーブル15の下面の3
点を支持するとともに、上記3つの傾斜面18・・・の
進退がそれぞれ別個に制御されることで、上記Z・チル
トテーブル15の上下方向、および傾動の変位が生み出
される。ここで、第2図は2テーブル15が傾動変位し
、さらに、θテーブル11がZテーブル15に連動して
傾動変位した状態を示すものである。
の3点に設けられ上記Z・チルトテーブル15の下部を
支持するZ・チルト駆動機構16・・・によって行われ
る。これら各Z・チルト駆動機構16は、正逆回転が可
能なZ・チルト駆動モータ17と、Z・チルト駆動モー
タ17のシャフト17aの回動によって直線運動し傾斜
面18を進退させる進退部19とからなる。そして、上
記傾斜面18が上記Z・チルトテーブル15の下面の3
点を支持するとともに、上記3つの傾斜面18・・・の
進退がそれぞれ別個に制御されることで、上記Z・チル
トテーブル15の上下方向、および傾動の変位が生み出
される。ここで、第2図は2テーブル15が傾動変位し
、さらに、θテーブル11がZテーブル15に連動して
傾動変位した状態を示すものである。
そして、上記Z・チルトテーブル15と上記Xテーブル
7の変位は直接θテーブル11に伝えられ、また、上記
Yテーブル5の変位はXテーブル7を介してθテーブル
11に伝えられる。これによって、θテーブル11はテ
ーブルベース1に対してx、y、z、 θのの各方向
への変位、および傾動変位を行なう。
7の変位は直接θテーブル11に伝えられ、また、上記
Yテーブル5の変位はXテーブル7を介してθテーブル
11に伝えられる。これによって、θテーブル11はテ
ーブルベース1に対してx、y、z、 θのの各方向
への変位、および傾動変位を行なう。
このように構成することで、X、Y、 θの各テーブ
ル5,7.11は同一平面上に配置され、さらに、これ
らX、Y、 θの各テーブル5,7゜11の厚みをほ
ぼ同一にすることで3つのテーブル5,7.11が1つ
のテーブルの厚み内に収まることになる。つまり、装置
高のうち上記x、y。
ル5,7.11は同一平面上に配置され、さらに、これ
らX、Y、 θの各テーブル5,7゜11の厚みをほ
ぼ同一にすることで3つのテーブル5,7.11が1つ
のテーブルの厚み内に収まることになる。つまり、装置
高のうち上記x、y。
θの3つのテーブル5,7.11で占める高さは1つの
テーブルの高さで済む。したがって、装置の高さが低く
なり(たとえば65mm以下)、装置は小型化する。
テーブルの高さで済む。したがって、装置の高さが低く
なり(たとえば65mm以下)、装置は小型化する。
また、X、Y、 θの3つのテーブル5,7゜11が
配置された平面下でθテーブル11を支持したZ・チル
トテーブル15を設けることでθテることか可能になる
。
配置された平面下でθテーブル11を支持したZ・チル
トテーブル15を設けることでθテることか可能になる
。
また1本実施例ではテーブルベース1に固定的に設けら
れたZ・チルトテーブル15によってθテーブル11が
支持される構造としているので。
れたZ・チルトテーブル15によってθテーブル11が
支持される構造としているので。
θテーブル11に固定的に設゛けられたX、Yの両テー
ブル5.7が上下に弾んで位置決め精度が低下するとい
うことがない。また、x、yの両テーブル5.7の駆動
に摩擦を介する駆動方式を採用しているので、上記両テ
ーブル5.7の駆動にがたつきやバックラッシュが生じ
ることがない。
ブル5.7が上下に弾んで位置決め精度が低下するとい
うことがない。また、x、yの両テーブル5.7の駆動
に摩擦を介する駆動方式を採用しているので、上記両テ
ーブル5.7の駆動にがたつきやバックラッシュが生じ
ることがない。
なお、各軸の案内の機構に静圧軸受を採用することも可
能である。さらに2本発明は露光装置のウェハテーブル
にも適用可能である。
能である。さらに2本発明は露光装置のウェハテーブル
にも適用可能である。
また2本実施例ではYテーブルを大寸法として外側に、
そし゛(、Xテーブルを小寸法として内側に配置したが
2本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば、
Xテーブルを大寸法として外側に、そして、Yテーブル
を小寸法として外側に配置してもよい。
そし゛(、Xテーブルを小寸法として内側に配置したが
2本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば、
Xテーブルを大寸法として外側に、そして、Yテーブル
を小寸法として外側に配置してもよい。
本発明は、上述のように構成されているので。
以下に記載されるような効果を奏する。
Xテーブル、Yテーブル、およびθテーブルを同−手向
トに配置しているので装置高のうちX。
トに配置しているので装置高のうちX。
Y、θの3つのテーブルが占める高さがほぼ1つのテー
ブルの高さになり、これによって装置を小型化すること
ができる。
ブルの高さになり、これによって装置を小型化すること
ができる。
また、Xテーブル、Yテーブル、およびθテーブルを同
一平面上に配置し、更にθテーブルをZ拳チルトテーブ
ルで支持しているから、装置を小型化できるとともに、
制御精度を向上させることができる。
一平面上に配置し、更にθテーブルをZ拳チルトテーブ
ルで支持しているから、装置を小型化できるとともに、
制御精度を向上させることができる。
第6.1−図および第2図は本発明の一実施例を示すも
ので、第1図は装置の構造を示す分解斜視図。 第2図はθテーブルとZテーブルの連動状態を示す側面
図である。 5・・騰テーブル、7・・・中テーブル、11・・・θ
テーブル、15・・・Zテーブル。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦・第1図 第2図
ので、第1図は装置の構造を示す分解斜視図。 第2図はθテーブルとZテーブルの連動状態を示す側面
図である。 5・・騰テーブル、7・・・中テーブル、11・・・θ
テーブル、15・・・Zテーブル。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦・第1図 第2図
Claims (2)
- (1)水平面内でX方向に変位可能なXテーブルと、上
記X方向と直交するY方向に変位可能なYテーブルと、
上記水平面に対して垂直な回転軸を中心として回動変位
可能なθテーブルとを有する位置決め装置において、X
テーブル、Yテーブルのうち、一方を他のテーブルの内
側に配置し、その内側のテーブルのさらに内側にθテー
ブルを配置し、これらテーブルの上面が同一平面上にな
るように配置したことを特徴とする位置決め装置。 - (2)上下変位および傾動変位可能なZ・チルトテーブ
ルを設け、このZ・チルトテーブルでθテーブルを回動
変位、上下変位、および傾動変位可能に支持したことを
特徴とする請求項1記載の位置決め装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026790A JPH01202687A (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | 位置決め装置 |
EP89101756A EP0327949B1 (en) | 1988-02-08 | 1989-02-01 | Alignment stage device |
DE68911330T DE68911330T2 (de) | 1988-02-08 | 1989-02-01 | Vorrichtung mit einem Ausrichtungsgestell. |
US07/305,761 US4948330A (en) | 1988-02-08 | 1989-02-03 | Alignment stage device |
KR1019890001407A KR930000292B1 (ko) | 1988-02-08 | 1989-02-08 | 얼라인먼트 테이블 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026790A JPH01202687A (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | 位置決め装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01202687A true JPH01202687A (ja) | 1989-08-15 |
JPH0585037B2 JPH0585037B2 (ja) | 1993-12-06 |
Family
ID=12203110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63026790A Granted JPH01202687A (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01202687A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5958749A (en) * | 1987-07-08 | 1999-09-28 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | DNA encoding a polypeptide possessing maltotetraose-forming amylase activity |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6388492A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-19 | 松下電器産業株式会社 | 位置決めテ−ブル |
-
1988
- 1988-02-08 JP JP63026790A patent/JPH01202687A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6388492A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-19 | 松下電器産業株式会社 | 位置決めテ−ブル |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5958749A (en) * | 1987-07-08 | 1999-09-28 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | DNA encoding a polypeptide possessing maltotetraose-forming amylase activity |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0585037B2 (ja) | 1993-12-06 |
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