JPH01187747A - Electron beam generating device - Google Patents
Electron beam generating deviceInfo
- Publication number
- JPH01187747A JPH01187747A JP63008393A JP839388A JPH01187747A JP H01187747 A JPH01187747 A JP H01187747A JP 63008393 A JP63008393 A JP 63008393A JP 839388 A JP839388 A JP 839388A JP H01187747 A JPH01187747 A JP H01187747A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filament
- cathode
- electron beam
- shield body
- block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 17
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 14
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 abstract description 6
- 230000005596 ionic collisions Effects 0.000 abstract 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 9
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は電子ビーム溶解や電子ビーム蒸着等を行うの
に使用される電子ビーム発生装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electron beam generator used for performing electron beam melting, electron beam evaporation, and the like.
第５図は従来のこの種の電子ビーム発生装置を示したも
のである。同図において、■は装置容器である真空容器
、２はイオンストッパ、３はフィラメント （タングス
テンフィラメント等）、４は中央に貫通孔４ａを有する
ディスク状のブロックカソード（以下、単に、カソード
という）であり、フィラメント３とカソード４は熱陰極
ユニット（熱電子発生源）５を構成している。６は熱電
子の拡散を防止するためのウェーネルト電極、７は熱電
子加速用の陽極（アノード）であり、中央には、電子ビ
ームＢが通過する通路孔７ａが形成されている。８はフ
ィラメント加熱用電源（電圧ｖＦ）、ＥＫはフィラメン
ト３とカソード４間に印加される加速用電圧、ＥＡはカ
ソード４とアノード７間に印加される加速用電圧であり
、ウェーネルト電極６はカソード４と同電位にある。FIG. 5 shows a conventional electron beam generator of this type. In the figure, ■ is a vacuum container which is an apparatus container, 2 is an ion stopper, 3 is a filament (tungsten filament, etc.), and 4 is a disk-shaped block cathode (hereinafter simply referred to as a cathode) having a through hole 4a in the center. The filament 3 and cathode 4 constitute a hot cathode unit (thermionic generation source) 5. 6 is a Wehnelt electrode for preventing diffusion of thermoelectrons, 7 is an anode for accelerating thermoelectrons, and a passage hole 7a through which the electron beam B passes is formed in the center. 8 is a filament heating power source (voltage vF), EK is an acceleration voltage applied between the filament 3 and cathode 4, EA is an acceleration voltage applied between cathode 4 and anode 7, and Wehnelt electrode 6 is a cathode. It is at the same potential as 4.
フィラメント３はフィラメント加熱用電源８から電流を
供給されて昇温し、熱電子ｅを発生する。この熱電子ｅ
は、加速用電圧ＥＫにより加速されてカソード４に衝突
し該カソード４を加熱する。加熱されたカソード４は熱
電子ｅを発生し、この熱電子ｅはウェーネルト電極６で
拡散を防止されて収束し、この収束した熱電子（電子ビ
ーム）Ｂは加速用電圧ＥＡによりアノード７側に向けて
加速され、該アノード７の通路孔７ａを通過したのち、
図示しないが、更に、■もしくは複数の収束用電極又は
磁極で収束作用を受けたのち、偏向コイルを通過して被
加工物Ｗに照射される。The filament 3 is heated by being supplied with current from the filament heating power source 8 and generates thermoelectrons e. This thermoelectron e
is accelerated by the accelerating voltage EK, collides with the cathode 4, and heats the cathode 4. The heated cathode 4 generates thermionic electrons e, which are prevented from diffusing and converged by the Wehnelt electrode 6, and the converged thermionic electrons (electron beam) B are directed toward the anode 7 side by the accelerating voltage EA. After passing through the passage hole 7a of the anode 7,
Although not shown, the light is further subjected to a focusing action by (1) or a plurality of focusing electrodes or magnetic poles, and then passes through a deflection coil and is irradiated onto the workpiece W.
第６図は他の従来例を示したもので、熱電子ユニツ１−
５が、棒状のカソード４Ａと、該カソード４Ａを取り巻
く多巻きコイル状のフィラメント３Ｂからなる。Figure 6 shows another conventional example, in which the thermionic unit 1-
5 consists of a rod-shaped cathode 4A and a multi-turn coil-shaped filament 3B surrounding the cathode 4A.
この種の電子ビーム発生装置では、電子ビームＢが通過
する雰囲気中の気体分子が該電子ビームＢにより励起さ
れて陽イオンｐが生成し、該陽イオンｐのうちアノード
７近傍のものは、カソード４側に向って加速されて、そ
の一部が該フィラメント３に衝突し、フィラメント３を
損傷・破断させるので、フィラメント３の寿命が短くな
るという問題がある。In this type of electron beam generator, gas molecules in the atmosphere through which the electron beam B passes are excited by the electron beam B to generate positive ions p, and those near the anode 7 of the positive ions p are transferred to the cathode. The problem is that the life of the filament 3 is shortened because a part of it collides with the filament 3 and damages and breaks the filament 3.
この為、上記第５図に示す従来の装置では、真空容器１
内の真空度を高めて陽イオンｐの発生を抑制するととも
に、カソード４を設けて陽イオンｐのフィラメント３へ
の衝突を防止するようにしている。For this reason, in the conventional apparatus shown in FIG. 5 above, the vacuum vessel 1
The degree of vacuum inside is increased to suppress the generation of cations p, and a cathode 4 is provided to prevent the cations p from colliding with the filament 3.
しかしながら、この従来の装置では、フィラメント３と
カソード４とのセット位置にずれがあると、該フィラメ
ント３が陽イオンｐの衝突を受ける恐れがある。第６図
の従来の装置では、カソード４Ａが棒状ブロックである
ので、このカソード４Ａが陽イオンｐの直撃を受けて損
傷し、また、フィラメント３Ａも、ウェーネルト電極６
を通過してカソード４Ａの周囲に進入した陽イオンｐの
衝突を受ける恐れがある。However, in this conventional device, if there is a misalignment in the set positions of the filament 3 and the cathode 4, there is a risk that the filament 3 will be bombarded by the cations p. In the conventional device shown in FIG. 6, since the cathode 4A is a rod-shaped block, the cathode 4A is damaged by being directly hit by the cations p, and the filament 3A is also damaged by the Wehnelt electrode 6.
There is a risk that the cathode 4A will be collided with positive ions p that have passed through the cathode 4A and entered the area around the cathode 4A.
更に、第５図の従来装置では、カソード４、フィラメン
ト３を通過した陽イオンｐがイオンストッパ２に衝突す
るので、該イオンストッパ２がスパッタリングされ、飛
び出した金属粒子がフィラメント３に衝突して該フィラ
メント３を損傷する恐れがある上、金属蒸気の濃度が高
くなってアーク短絡確率が増え、運転を続行できなくす
るという問題があった。Furthermore, in the conventional device shown in FIG. 5, the positive ions p that have passed through the cathode 4 and the filament 3 collide with the ion stopper 2, so that the ion stopper 2 is sputtered, and the metal particles that fly out collide with the filament 3 and cause the ions to collide with the ion stopper 2. There was a problem in that there was a risk of damaging the filament 3, and the concentration of metal vapor increased, increasing the probability of arc short circuit, making it impossible to continue the operation.
この発明は上記問題を解消するためになされたもので、
熱陰極ユニットの、陽イオン衝突確率を大幅に低減して
、従来に比し、上記熱陰極ユニットの寿命を長くし、信
頼性を高めることができる電子ビーム発生装置を提供す
ることを目的とする。This invention was made to solve the above problem.
It is an object of the present invention to provide an electron beam generator that can significantly reduce the probability of cation collision of a hot cathode unit, thereby extending the life of the hot cathode unit and increasing its reliability compared to conventional ones. .
この発明は上記目的を達成するため、熱陰極ユニットを
、中央に貫通孔を有するブロックカソード、該ブロック
カソードの外側に該ブロックカソードと同心配置された
１回巻きのフィラメント、上記ブロックカソードの外周
面に向かって開口する遮蔽空間を画成する環状体を有し
該遮蔽空間にフィラメントを収納するシールド体からな
る構成としたものである。In order to achieve the above object, the present invention includes a hot cathode unit including a block cathode having a through hole in the center, a one-turn filament arranged concentrically with the block cathode outside the block cathode, and an outer peripheral surface of the block cathode. The structure includes a shield body that has an annular body defining a shielded space that opens toward the target and stores the filament in the shielded space.
この発明では、フィラメントがシールド体に収納されて
いるので、陽イオンや金属粒子の該フィラメントへの衝
突が防止される。また、フィラメントを１回巻きとして
径を太くしたので、衝突…偏に対して強く、また、蒸発
…耗に対する寿命も長い。In this invention, since the filament is housed in the shield body, collision of cations and metal particles with the filament is prevented. In addition, since the filament is wound once and the diameter is increased, it is strong against collisions and unevenness, and has a long life against evaporation and abrasion.
〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図面を参照して説明する。〔Example〕 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図において、１０はシールド体、１１は１回巻きの
太径のフィラメントであって、両者はカソード４ととも
に熱陰極ユニット５を構成する。In FIG. 1, 10 is a shield body, 11 is a single-turn large diameter filament, and both constitute a hot cathode unit 5 together with a cathode 4.
シールド体１０は第３図Ｔ８）及び（ｂ）に拡大して示
す如く円板状の上板１０Ａと下板１０Ｂ、上板１０Ａと
一体成形された側部材（この例では、環状の側板）ＬＯ
Ｇからなる環体であって、内側に開口する遮蔽空間Ｇを
画成する。１０ａはフィラメント用のリード間隙である
。The shield body 10 includes a disc-shaped upper plate 10A, a lower plate 10B, and a side member integrally molded with the upper plate 10A (in this example, an annular side plate), as shown in enlarged view in FIG. 3 T8) and (B). L.O.
It is a ring body made of G, and defines a shielded space G that opens inward. 10a is a lead gap for filament.
第２図は上記熱陰極ユニット５の具体的構成を関連する
他の構成要素とともに示したものである。同図において
、１２は絶縁性の支持基台であって、複数本のカソード
用支持杆１３を垂下支持しており、これら支持杆（例え
ば、モリブデンＭ。FIG. 2 shows the specific configuration of the hot cathode unit 5 together with other related components. In the figure, reference numeral 12 denotes an insulating support base, which suspends and supports a plurality of cathode support rods 13, which are made of molybdenum M, for example.
からなる）１３の下端に連結された支持リング（例えば
、モリブデンＭＯからなる）１４から該支持リング１４
の半径方向中央側へ伸びる複数本の支持アーム（例えば
、タングステンＷからなる）１５でカソード４が支持さ
れている。これらの支持アーム１５の一端はカソード４
の外周面の下部寄り部分に形成された孔に嵌入されてい
る。フィラメント１１はカソード４を取り巻くように該
カソード４の外周面に対して所定距離を隔てる位置に配
設され、支持基台１２から垂下するフィラメント用支持
杆（例えば、モリブデンＭｏからなる）１６で支持され
ている。１７は支持基台１２から垂下する支持杆（例え
ば、モリブデンＭｏからなる）であって、シールド体Ｉ
Ｏの遮蔽空間Ｇの開口がカソード４の外周面に近接対向
するように、該シールド体１０をカソード４と同心に支
持している。フィラメント１１はこのシールド体ｌＯの
遮蔽空間Ｇ内に収納されている。イオンストッパ２はカ
ソード４に対して所定距離上方に配設され支持板１８を
介し支持杆（例えば、モリブデンＭｏからなる）１９に
より支持基台１２に支持されている。ウェーネルト電極
６は鉛直向きの支持部６Ａを存し、該支持部６Ａの上端
フランジ部分を支持基台１２の下面に当接した上、該支
持 。The support ring 14 (for example, made of molybdenum MO) is connected to the lower end of the support ring 14 (made of molybdenum MO).
The cathode 4 is supported by a plurality of support arms 15 (made of tungsten W, for example) extending toward the center in the radial direction. One end of these support arms 15 is connected to the cathode 4
It is fitted into a hole formed in the lower part of the outer circumferential surface of. The filament 11 is disposed at a predetermined distance from the outer peripheral surface of the cathode 4 so as to surround the cathode 4, and is supported by a filament support rod 16 (for example, made of molybdenum Mo) hanging from a support base 12. has been done. 17 is a support rod (for example, made of molybdenum Mo) that hangs down from the support base 12, and is connected to the shield body I.
The shield body 10 is supported concentrically with the cathode 4 such that the opening of the shielding space G of O is closely opposed to the outer peripheral surface of the cathode 4. The filament 11 is housed within the shielded space G of this shield body IO. The ion stopper 2 is disposed a predetermined distance above the cathode 4 and is supported by a support base 12 via a support plate 18 and a support rod 19 (made of molybdenum Mo, for example). The Wehnelt electrode 6 has a vertically oriented support portion 6A, and the upper end flange portion of the support portion 6A is in contact with the lower surface of the support base 12, and then the support portion 6A is placed in contact with the lower surface of the support base 12.
基台１２の上面外周部に当接されて、該フランジ部分と
の間に支持基台１２の外周部を挟む止め部材２０に連結
されている。２１はウェーネルト電極６用のリードであ
る。ウェーネルト電極６には電圧Ｅ−により、カソード
４に対し負の電位を与えである。It is connected to a stopper member 20 that comes into contact with the outer periphery of the upper surface of the base 12 and holds the outer periphery of the support base 12 between it and the flange portion. 21 is a lead for the Wehnelt electrode 6. The Wehnelt electrode 6 is given a negative potential with respect to the cathode 4 by a voltage E-.
この実施例においては、フィラメント１１から放出され
る熱電子ｅがシールド体１０の開口を通過してカソード
４の外周面に衝突し、該カソード４を加熱する。この加
熱によりカソード４が熱電子ｅを発生する。また、電子
ビームＢが通過する雰囲気中で生成した陽イオンｐは熱
電極ユニット５側へ向かって加速されるが、この実施例
では、フィラメント１１がシールド体ｌＯで遮蔽されて
いるので、陽イオンの一部は該シールド体ｌＯに１１ｊ
突して消滅し、フィラメント１１に衝突する陽イオンｐ
は実質上無くなる。陽イオンｐの他の一部はカソード４
の貫通孔４ａを通過し、イオンストッパ２に衝突して金
属粒子を飛び出させるが、この金属粒子もシールド体Ｉ
Ｏに衝突して、フィラメント１１に衝突することはない
。In this embodiment, thermionic electrons e emitted from the filament 11 pass through the opening of the shield body 10 and collide with the outer peripheral surface of the cathode 4, thereby heating the cathode 4. This heating causes the cathode 4 to generate thermoelectrons e. In addition, the positive ions p generated in the atmosphere through which the electron beam B passes are accelerated toward the thermal electrode unit 5, but in this embodiment, the filament 11 is shielded by the shield lO, so the positive ions p are A part of 11j is attached to the shield body lO.
Cation p suddenly disappears and collides with filament 11
will virtually disappear. The other part of the cation p is the cathode 4
The metal particles pass through the through hole 4a and collide with the ion stopper 2, causing metal particles to fly out, but these metal particles also enter the shield body I.
It collides with O and does not collide with the filament 11.
また、本実施例では、フィラメント１１をシールド体１
０内に収納し、このシールド体１０の開口をカソード４
の外周面に近接対向させているので、熱電子ｅは拡散す
ることなくカソード４に向かって直進するため、ウェー
ネルト電極６が損傷されず、また、高温のブロックカソ
ード４の輻射損失が低減される効果がある。In addition, in this embodiment, the filament 11 is connected to the shield body 1.
0, and the opening of this shield body 10 is connected to the cathode 4.
Since the thermoelectrons e travel straight toward the cathode 4 without being diffused, the Wehnelt electrode 6 is not damaged and the radiation loss of the high-temperature block cathode 4 is reduced. effective.
また、本実施例のフィラメント１１は１回巻であるので
、その径を充分に大きくすることができ、このようにす
れば、フィラメント１１の蒸発損耗による寿命の短縮を
防止することができる。Further, since the filament 11 of this embodiment is wound once, its diameter can be made sufficiently large, and in this way, shortening of the life of the filament 11 due to evaporation loss can be prevented.
なお、上記実施例では、カソード４から加速される熱電
子ｅの拡散を防止して収束させるためにウェーネルト電
極６を配置しているが、第４図（ａｌに示す如く、シー
ルド体１０の下板ｌＯＢをウェーネルト電極形状として
該下板１０Ｂ部分で、このウェーネルト電ｉ６の作用を
兼ねさせ、該ウェーネルト電極６を省くこともできる。In the above embodiment, the Wehnelt electrode 6 is arranged to prevent and converge the thermoelectrons e accelerated from the cathode 4, but as shown in FIG. It is also possible to omit the Wehnelt electrode 6 by making the plate 1OB have a Wehnelt electrode shape so that the Wehnelt electrode i6 also functions in the lower plate 10B portion.
この場合のシールド体１０とカソード４および支持アー
ム１５との位置関係を第４図（ｂｌに示す゛。この例で
はシールド体１０は３分割体となつズいる。The positional relationship between the shield body 10, the cathode 4, and the support arm 15 in this case is shown in FIG. 4 (bl). In this example, the shield body 10 is divided into three parts.
また、上記実施例では、熱陰極ユニット５を吊り下げ支
持しているが、支柱により下から支える支持構造とする
場合もある。Further, in the above embodiment, the hot cathode unit 5 is suspended and supported, but a support structure in which it is supported from below by pillars may also be used.
この発明は以上説明した通り、フィラメントをカソード
の回りに配設してシールド体で遮蔽しており、カソード
は貫通孔を有しているので、陽イオン等の衝突によるフ
ィラメントやカソードの損傷を防止することができ、ま
た、フィラメントがｌ回巻であることにより、その径を
大きくとることができるので、熱陰極ユニットの寿命を
従来に比して充分長くすることができる。As explained above, in this invention, the filament is arranged around the cathode and is shielded by a shield body, and the cathode has a through hole to prevent damage to the filament and cathode due to collisions with cations, etc. Furthermore, since the filament is wound one turn, its diameter can be increased, so that the life of the hot cathode unit can be made sufficiently longer than in the past.
第１図はこの発明の実施例を示す概略構成図、第２図は
上記実施例における熱陰極ユニットの具体的構成を示す
側面図、第３図ｔａ＋及び（ｂｌはそれぞれ上記実施例
におけるシールド体の構成を分割状態で示した斜視図と
下面図、第４図（ａ）及び（ｂ）はそれぞれシールド体
の他の例を分割状態で示した斜視図と断面図、第５図及
び第６図は従来の電子ビーム発生装置を示す構成図であ
る。
４−・カソード、５−熱陰極ユニット、７・・・陽極、
１０−・・シールド体、１１−・フィラメント、１２・
・−支持基台、Ｇ −遮蔽空間。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view showing a specific configuration of a hot cathode unit in the above embodiment, and FIG. 4(a) and (b) are respectively a perspective view and a bottom view showing the structure of the shield body in a divided state, and FIGS. The figure is a configuration diagram showing a conventional electron beam generator. 4-Cathode, 5- Hot cathode unit, 7... Anode,
10--Shield body, 11--Filament, 12-
- Support base, G - Shielded space.
Claims (3)
ユニットの上記ブロックカソードが放出する熱電子を、
該ブロックカソードとの間に加速用電圧が印加される加
速用陽極を設けて電界加速し、電界加速された電子ビー
ムを被加工物に照射する電子ビーム発生装置において、
上記熱陰極ユニットが、中央に貫通孔を有するブロック
カソードと、該ブロックカソードの外側に該ブロックカ
ソードと同心配置された１回巻きのフィラメントと、上
記ブロックカソードの外周面に向かつて開口する遮蔽空
間を画成する環状の上下板を有し該遮蔽空間に上記フィ
ラメントを収納するシールド体からなり、該シールド体
を上記フィラメントに対し同電位もしくは負電位とした
ことを特徴とする電子ビーム発生装置。(1) Thermionic electrons emitted by the block cathode of the hot cathode unit consisting of a filament and a block cathode,
In an electron beam generator that provides an accelerating anode to which an accelerating voltage is applied between the block cathode and performs electric field acceleration, and irradiates the workpiece with an electric field accelerated electron beam,
The hot cathode unit includes a block cathode having a through hole in the center, a single-turn filament arranged concentrically with the block cathode outside the block cathode, and a shielded space opening toward the outer peripheral surface of the block cathode. An electron beam generating device comprising a shield body having annular upper and lower plates defining annular upper and lower plates and housing the filament in the shielded space, the shield body having the same potential or a negative potential with respect to the filament.
た２もしくは３分割体であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の電子ビーム発生装置。(2) The electron beam generator according to claim 1, wherein the shield body is a two- or three-piece body in which an upper plate and a lower plate are connected via side members.
ルト電極を兼ねていることを特徴とする特許請求の範囲
第１項または第２項記載の電子ビーム発生装置。(3) The electron beam generator according to claim 1 or 2, wherein the lower plate on the accelerating anode side of the shield body also serves as a Wehnelt electrode.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008393A JPH01187747A (en) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | Electron beam generating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008393A JPH01187747A (en) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | Electron beam generating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01187747A true JPH01187747A (en) | 1989-07-27 |
Family
ID=11691948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63008393A Pending JPH01187747A (en) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | Electron beam generating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01187747A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0584012U (en) * | 1992-04-09 | 1993-11-12 | レーザー濃縮技術研究組合 | Electron gun device |
| JP2011210401A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Jeol Ltd | Electron gun |
-
1988
- 1988-01-20 JP JP63008393A patent/JPH01187747A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0584012U (en) * | 1992-04-09 | 1993-11-12 | レーザー濃縮技術研究組合 | Electron gun device |
| JP2011210401A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Jeol Ltd | Electron gun |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100261007B1 (en) | Ion generating source for use in an ion implanter | |
| US3533910A (en) | Lithium ion source in apparatus for generating fusion reactions | |
| US5745536A (en) | Secondary electron ion source neutron generator | |
| EP0257394B1 (en) | Electron beam apparatus | |
| JP2013196985A (en) | Ion source device and ion beam generation method | |
| US7062017B1 (en) | Integral cathode | |
| JPH01187747A (en) | Electron beam generating device | |
| US3025429A (en) | Ion magnetron | |
| CN110942967A (en) | X-ray tube | |
| JP2019169255A (en) | Circular accelerator and particle beam irradiation device including the same | |
| US3286187A (en) | Ion source utilizing a spherically converging electric field | |
| JPH0968473A (en) | Thermal cathode type vacuum gage | |
| JP2002056786A (en) | Ion source for ion implanting equipment | |
| KR101909670B1 (en) | Apparatus for generating x-ray | |
| JP2005190757A (en) | X-ray generator | |
| JPS63274049A (en) | Scanning type electron microscope | |
| KR101869753B1 (en) | X-ray tube having electron beam control means | |
| US3857014A (en) | Electron beam generator | |
| JP7220122B2 (en) | Ion implanter, ion source | |
| KR101089231B1 (en) | X-ray tube | |
| JP3045619B2 (en) | Plasma generator | |
| JPH05258710A (en) | Ion implantation device | |
| JPS62229643A (en) | Electron ray generating device | |
| JP2021132025A (en) | Electron beam generation device and attachment member | |
| JPH10282298A (en) | X-ray irradiation device and method |