JPH01177999A - 液体ジェット加工方法 - Google Patents

液体ジェット加工方法

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JPH01177999A
JPH01177999A JP137988A JP137988A JPH01177999A JP H01177999 A JPH01177999 A JP H01177999A JP 137988 A JP137988 A JP 137988A JP 137988 A JP137988 A JP 137988A JP H01177999 A JPH01177999 A JP H01177999A
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JP
Japan
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heavy liquid
abrasive
pressure water
workpiece
heavy
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JP137988A
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English (en)
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Yoshiharu Miyanaga
宮永 佳晴
Yutaka Osanai
裕 小山内
Masakazu Yokota
正和 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAIHATSU KOJI KK
Electric Power Development Co Ltd
Japan Steel Works Ltd
Original Assignee
KAIHATSU KOJI KK
Electric Power Development Co Ltd
Japan Steel Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、液体ジェット加工方法に関するものである。
(ロ)従来の技術 液体ジェット加工方法は、水に研摩材を懸濁させたもの
を高圧で加工物(コンクリート、岩石、鉄など)に噴射
して加工する加工方法である。従来は水に研摩材を懸濁
させたものを高圧水に供給しかしながら、上記のような
従来の液体ジェット加工方法には、研摩材を懸濁するた
めに水を用いていたため、径の比較的大きい研摩材の粒
子を大Jitに供給することが困難であるという問題点
があった。液体ジェット加工方法による加工能率を向上
するためには、できるだけ粒径の大きい研摩材を大量に
供給する必要がある。しかし、水によって移送可能な研
摩材の粒子の大きさ及び量には限界があり、所望どおり
の加工能率を得ることができなかった。特に研摩材供給
場所と実際に懸濁液を噴射する加工場所との間の距離が
長くなればなるほど水による研摩材の搬送が困難となる
本発明は、このような問題点を解決することを日本発明
は、研摩材の懸濁のために重液を使用することにより上
記問題点を解決する。すなわち、本発明による液体ジェ
ット加工方法は、水と重液材と研摩材とを混合して懸濁
重液とし、この懸濁重液を高圧水に混合して加工物に噴
射し加工物を加工する。
(ホ)作用 比重の大きい重液に研摩材を懸濁させたものをり大きい
運動エネルギーを研摩材の粒子に伝達することができ、
径の大きい粒子の研摩材を大量に搬送することができる
。また研摩材の粒径及び量が増加したのに加えて、研摩
材の速度も速くなるので、切削性能が大幅に向上する。
(へ)実施例 第1図に本発明の実施例を示す。この液体ジェット加工
装置は、水槽10、高圧ポンプ12、懸濁重液供給タン
ク14、混合室16、噴射ノズル18、再生処理装置2
0、懸濁重液調整タンク22などを有している。高圧ポ
ンプ12は水Mi10の水を高圧で高圧水管路24及び
26に吐出可能である。高圧水管路24及び26は混合
室16と接続されている。高圧木管路26の途中には懸
濁重液供給タンク14が設けられている。
懸濁重液供給タンク14には、懸濁重液調整タンク22
から管路28を通して後述のように調整済みの研摩材の
懸濁重液が供給される。懸濁重液供給タンク14は高圧
水管路26に調整済みの懸濁重液を供給する。混合室1
6は、高圧木管路24からの高圧水と、高圧木管路26
からの研摩材入りの高圧水とを混合する。噴射ノズル1
8は混合室16によって混合された研摩材入り高圧水を
加工物30に噴射する。使用済みの水、研摩材、重液材
などは再生処理装置20に回収される。再生処理装置2
0は管路34と接続されている。管路34は水NJ10
と接続されており、また懸濁重液調整タンク22とも接
続されている。上述の各管路にはバルブ37.38.4
0.42.44、及び46が設けられている。また、高
圧水管路26には逆止弁48が設けられている。
次にこの実施例の作用について説明する。懸濁重液調整
タンク22内には、水、重液材、界面活性剤及び研摩材
(ケイ砂、ガーネットなどの粒子)が供給され、所定の
濃度及び比重に調整される。界面活性剤は親木性を増大
し、重液への研摩材の懸濁を促進するためのものである
。懸濁重液調整タンク22によって調整された懸濁重液
は管路28を通して懸濁重液供給タンク14に供給され
る。懸濁重液供給タンク14は単位時間当たり一定量の
懸濁重液を高圧水管路26に供給する。高圧木管路26
には高圧ポンプ12によって加圧された高圧水が供給さ
れている。従フて、懸濁重液供給タンク14から高圧水
管路26に供給された懸濁重液は高圧水管路26を流れ
る高圧水に混合されて混合室16まで搬送される。−方
、混合室16には高圧木管路24からも高圧水が供給さ
れている。高圧木管路24からの高圧水と、高圧木管路
26からの懸濁重液を供給された高圧水とが混合室16
で混合され、次いで噴射ノズル18から加工物30に向
けて噴射される。これにより加工物30を切断すること
ができる。研摩材は重液によって搬送されるため、粒度
の大きい研摩材が搬送可能であり、また多量の研摩材が
搬送可能である。また、噴射ノズル18からの噴射速度
も向上する。これにより切削性能は大幅に向上し、加工
物30を効率良く切断することができる。加工物30の
切断に使用された水、懸濁重液などは再生処理装置20
に回収される。再生処理装置20では、水及び界面活性
剤と、重液材と、切りくず及び研摩材との3つに分離し
、水及び界面活性剤は管路34を通して懸濁重液調整タ
ンク22に戻し、また重液材も懸濁重液調整タンク22
に戻す。研摩材及び切りくずは廃棄処分される(なお、
粒径の大きい研摩材については選別して再利用すること
もできる)。懸濁重液調整タンク22では、管路34か
ら回収されろ水及び界面活性剤と、回収される重液材と
を再利用し、前述と同様の濃度及び比重を有する懸濁重
液を調整する。こうすることによって高価な重液材を再
利用しつつ、切削を続けることがで きる。
(ト)発明の詳細 な説明してきたように、本発明によると、重液を用いて
研摩材を搬送するようにしたので、径の大きい粒子の研
摩材を多量に搬送することができるようになり、切削性
能が向上する。また、重液を用いているため研摩材の噴
射速度を増大させることができ、この点でも切削性能が
向上する。
また、重液によって研摩材を搬送するので、研摩材の沈
降分離が生じにくく安定な流動状態が得られるため、懸
濁重液供給タンクの配置場所と噴射ノズルの配置場所と
が比較的離れた状態でも研摩材の搬送が可能となり作業
性が向上する。また、使用済みの液体を回収して重液材
を再生利用するようにすれば、高価な重液材の使用量が
減少し、加工に要する費用を節減することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す図である。 10・・・水槽、12・・・高圧ポンプ、14・・・懸
濁重液供給タンク、16・・・混合室、18・・・噴射
ノズル、20・・・再生処理装置、22・・・懸濁用液
調整タンク。 特許出願人 電 源 開 発 株 式 会 社小   
   山      内      裕開  発  工
  事  株  式  会  社株式会社日本製鋼所

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水と重液材と研摩材とを混合して懸濁重液とし、こ
    の懸濁重液を高圧水に混合して加工物に噴射し加工物を
    加工する液体ジェット加工方法。 2、懸濁液に親水性を増大する界面活性剤を添加する特
    許請求の範囲第1項記載の液体ジェット加工方法。 3、加工に使用した懸濁液から重液材を回収し再利用す
    る特許請求の範囲第1又は2項記載の液体ジェット加工
    方法。
JP137988A 1988-01-08 1988-01-08 液体ジェット加工方法 Granted JPH01177999A (ja)

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JP137988A JPH01177999A (ja) 1988-01-08 1988-01-08 液体ジェット加工方法

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JP137988A JPH01177999A (ja) 1988-01-08 1988-01-08 液体ジェット加工方法

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JPH01177999A true JPH01177999A (ja) 1989-07-14
JPH0532193B2 JPH0532193B2 (ja) 1993-05-14

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5068180A (en) * 1987-05-21 1991-11-26 Technicon Instruments Corporation Substrates for β-galactosidase

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