JPH01177266U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01177266U JPH01177266U JP7370588U JP7370588U JPH01177266U JP H01177266 U JPH01177266 U JP H01177266U JP 7370588 U JP7370588 U JP 7370588U JP 7370588 U JP7370588 U JP 7370588U JP H01177266 U JPH01177266 U JP H01177266U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- generation container
- plasma
- plasma generation
- ion
- inert gas
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン源
を示す概略図である。第２図は、従来のイオン源
の一例を示す概略図である。 ２…プラズマ生成容器、６…プラズマ境界面、
１０…イオンビーム、１２…蒸気発生炉、１４，
２０…ガス供給系、２６…不活性ガス。
を示す概略図である。第２図は、従来のイオン源
の一例を示す概略図である。 ２…プラズマ生成容器、６…プラズマ境界面、
１０…イオンビーム、１２…蒸気発生炉、１４，
２０…ガス供給系、２６…不活性ガス。
Claims (1)
- プラズマ生成容器内でプラズマを生成させてそ
こからイオンビームを引き出す構造のイオン源に
おいて、前記プラズマ生成容器内に、イオン種と
併せて不活性ガスを導入するようにしたことを特
徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7370588U JPH01177266U (ja) | 1988-06-02 | 1988-06-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7370588U JPH01177266U (ja) | 1988-06-02 | 1988-06-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01177266U true JPH01177266U (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=31298837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7370588U Pending JPH01177266U (ja) | 1988-06-02 | 1988-06-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01177266U (ja) |
-
1988
- 1988-06-02 JP JP7370588U patent/JPH01177266U/ja active Pending