JPH01168709A - Syndiotactic polystyrene film - Google Patents

Syndiotactic polystyrene film

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JPH01168709A
JPH01168709A JP32871087A JP32871087A JPH01168709A JP H01168709 A JPH01168709 A JP H01168709A JP 32871087 A JP32871087 A JP 32871087A JP 32871087 A JP32871087 A JP 32871087A JP H01168709 A JPH01168709 A JP H01168709A
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polystyrene
syndiotactic polystyrene
poly
syndiotactic
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Masanobu Imayoshi
今吉 正暢
Teruo Arai
輝夫 新井
Ikuji Otani
郁二 大谷
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical strength and to attempt to improve transparency, by using a syndiotactic polystyrene having a specified wt.-average MW. CONSTITUTION:The title film having a total optical transmittance of 90% or higher and a density of 1.00-1.15 at 25 deg.C is formed by heat-molding, drawing, quenching and heat-treating a syndiotactic polystyrene having a wt.-average MW of 10<4>-10<6> (measured in 1,2,4-trichlorobenzene at 130 deg.C by means of gel permeation chromatography). This film is suitably used for a variety of wrapping materials and insulating materials. The raw material polystyrene may have a substituent such as Cl, CH3, etc., in its uncleus and is obtd. by polymerizing a raw material styrene in the presence of a catalyst composed of a Ti compd. such as titanium halide and an alkylaluminoxane.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はシンジオタクチックポリスチレン系フィルム、
さらに詳しくいえば、透明性、耐熱性、耐薬品性1寸法
安定性、機械的強度に優れ、かつ平衡水分率が低いなど
、優れた特徴を肩するシンジオタクチックポリスチレン
系フィルムに関、するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to syndiotactic polystyrene films,
More specifically, it relates to syndiotactic polystyrene films that have excellent characteristics such as transparency, heat resistance, chemical resistance, 1-dimensional stability, mechanical strength, and low equilibrium moisture content. It is.

従来の技術 従来、ポリスチレンフィルムは光沢、透明性。Conventional technology Traditionally, polystyrene film is glossy and transparent.

可視光線透過性などに優れ、かつ吸水率や吸湿率が小さ
いなどの特徴を有し、各種包装材料として幅広く用いら
れておシ、また誘電率、誘電正接などの電気特性に優れ
ていることから、コンデンサー用、高周波ケーブル絶縁
、ポリバリコン、その細胞縁用などの電気絶縁材料とし
ても広く用いられている。
It has characteristics such as excellent visible light transmittance and low water absorption rate and moisture absorption rate, and is widely used as a variety of packaging materials.It also has excellent electrical properties such as dielectric constant and dielectric loss tangent. It is also widely used as an electrical insulating material for capacitors, high-frequency cable insulation, polyvariconders, and their cell edges.

このポリスチレンフィルムは、工業的には塊状重合、溶
液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法によるラジカル
重合によって得られたポリスチレンを製膜することによ
シ、製造されている。このようなラジカル重合で得られ
たポリスチレンは、通常アタクチック構造のもので、立
体規則性を有していない。
This polystyrene film is industrially manufactured by forming a polystyrene film obtained by radical polymerization using methods such as bulk polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, and suspension polymerization. Polystyrene obtained by such radical polymerization usually has an atactic structure and does not have stereoregularity.

ところで、立体規則性を宥するポリスチレン系樹脂とし
ては、アイソタクチック構造のものと。
By the way, polystyrene resins that support stereoregularity include those with an isotactic structure.

シンジオタクチック構造のものとがあシ、前者のアイソ
タクチック構造のものは、主としてチーグラー型触媒を
用いる重合によって得られることが知られておシ、一方
、後者のシンジオタクチック構造のものは、主としてハ
ロゲン化チタンやアルコキシチタンなどのチタニウム化
合物とアルキルアルミノキサンとの組合せから成る触媒
の存在下に1重合することによって得られることが知ら
れている(特開昭62−104818号公報)。
It is known that the former isotactic structure is mainly obtained by polymerization using a Ziegler type catalyst, while the latter syndiotactic structure is known to be obtained by polymerization using a Ziegler type catalyst. It is known that it can be obtained by monopolymerization in the presence of a catalyst consisting mainly of a combination of a titanium compound such as titanium halide or alkoxy titanium and an alkylaluminoxane (Japanese Patent Laid-Open No. 104818/1983).

これらの立体規則性を有するポリスチレン系樹脂は、立
体規則性を有しないアタクチック構造のポリスチレン系
樹脂に比べて、高い融点を有し。
These polystyrene resins with stereoregularity have a higher melting point than polystyrene resins with an atactic structure that do not have stereoregularity.

かつ耐薬品性に優れていることから、耐熱性、耐薬品性
のポリマーとしての用途が期待されている。
Since it also has excellent chemical resistance, it is expected to be used as a heat-resistant and chemical-resistant polymer.

その用途の1つとしてフィルムが挙げられるが。One of its uses is film.

アイソタクチックポリスチレンにおいては、融点は高い
ものの、結晶化速度が極めて遅く1通常の成形法では脆
弱なフィルムしか得られないため、例えば該ポリスチレ
ンに製膜媒体である低分子量有機化合物を含有させ、こ
れを比較的低い温度で製膜したのち、適当な温度で延伸
処理して該低分子量有機化合物を除去し、耐熱性及び耐
薬品性に優れたアイソタクチックポリスチレンフィルム
を製造する方法が提案されている(特開昭62−130
826号公報)。
Although isotactic polystyrene has a high melting point, it has an extremely slow crystallization rate (1) and only brittle films can be obtained using normal molding methods. A method has been proposed in which a film is formed at a relatively low temperature and then stretched at an appropriate temperature to remove the low molecular weight organic compound to produce an isotactic polystyrene film with excellent heat resistance and chemical resistance. (Unexamined Japanese Patent Publication No. 62-130
Publication No. 826).

一方、シンジオタクチックポリスチレンについては、融
点が約270℃と高く、また結晶化速度も発明が解決し
ようとする問題点 シンジオタクチックポリスチレンについては、その融点
が約270℃と高い上に、結晶化速度が速いため、耐熱
性、耐薬品性に優れたフィルムとしての用途が考えられ
るが、通常の成形法・では、白色不透明でかつ脆弱なフ
ィルムしか得られないという欠点があシ、また、前記の
アイソタクチックポリスチレンの場合と同様に製膜媒体
を用いて製膜したのち、延伸して成るフィルムは、不透
明になるのを免れないという欠点を有している。
On the other hand, syndiotactic polystyrene has a high melting point of about 270°C, and its crystallization rate is also a problem that the invention aims to solve. Since the speed is fast, it can be used as a film with excellent heat resistance and chemical resistance, but the drawback is that the usual molding method can only produce a white, opaque and brittle film. As in the case of isotactic polystyrene, a film produced by forming a film using a film-forming medium and then stretching it has the disadvantage that it inevitably becomes opaque.

本発明は、このような従来のシンジオタクチックポリス
チレン及びアイツタクチツクポリスチレンのもつ欠点を
克服し、優れた耐熱性、耐薬品性。
The present invention overcomes the drawbacks of conventional syndiotactic polystyrene and syndiotactic polystyrene, and provides excellent heat resistance and chemical resistance.

機械的強度を有し、しかも透明性の良好なポリスチレン
フィルムを得ることを目的としてなされたものである。
This was done with the aim of obtaining a polystyrene film that has mechanical strength and good transparency.

問題点を解決するための手段 本発明者らは、優れた物性をもつポリスチレンフィルム
を開発するために鋭意研究を重ねた結果。
Means to Solve the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive research to develop a polystyrene film with excellent physical properties.

特定の重量平均分子量を有し、実質上の無定形のシンジ
オタクチックポリスチレンからなるフィルムを一軸延伸
又は二軸延伸して得られる、特定の密度のフィルムが意
外にも優れた透明性を有することを見出し、この知見に
基づいて本発明をなすに至った。
A film of a specific density obtained by uniaxially or biaxially stretching a film made of substantially amorphous syndiotactic polystyrene having a specific weight average molecular weight has surprisingly excellent transparency. The present invention was made based on this finding.

すなわち1本発明は、ゲルパーミネーションクロマトク
ラフィー(1,2,4−)リクロルベンゼン中、130
℃で測定)による重量平均分子量が10.000〜1,
000,000の範囲にある。核置換基を有し、又は有
しないシンジオタクチックポリスチレンから成り、かつ
90%以上の全光線透過率及び1.00〜1.15  
の範囲の密度を有することを特ンジオタクチツク構造で
あるポリスチレン系樹脂は、炭素−炭素結合から形成さ
れる主鎖に対して、側鎖であるフェニル基又は置換フェ
ニル基が主として交互に反対方向に位置する立体構造を
有するものであって、そのタフティシティは核磁気共鳴
法(NMR法)によυ定食される。このNMR法によ)
測定されるタフティシティ−は、連続する複数個の構成
単位の存在割合1例えば2個の場合はダイアツド、3個
の場合はトリアット、5個の場合はペンタッドでもって
示すことができるが、本発明でいうジンジオクタチック
構造を有するポリスチレン系樹脂とは、通常ダイアツド
で85%以上、若しくはペンタッドで50%以上のシン
ジオタクチック構造を有するものを意味する。
That is, 1 the present invention is based on gel permeation chromatography (1,2,4-)lychlorobenzene containing 130
The weight average molecular weight (measured at °C) is 10.000 to 1,
In the range of 000,000. Consists of syndiotactic polystyrene with or without nuclear substituents, and has a total light transmittance of 90% or more and 1.00 to 1.15
Polystyrene-based resins have a special geotactic structure and have a density in the range of 20 to 30. The phenyl groups or substituted phenyl groups, which are side chains, are mainly located alternately in opposite directions with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds. Its toughness can be determined by nuclear magnetic resonance (NMR). (by this NMR method)
Toughness to be measured can be expressed by the abundance ratio of consecutive constituent units (1), for example, 2 in the case of diats, 3 in the case of triats, and 5 in the case of pentads. The polystyrene resin having a syndiotactic structure as used in the invention usually means one having a syndiotactic structure of 85% or more in terms of diad or 50% or more in pentad.

該ポリスチレン系樹脂としては、ポリスチレンをはじめ
、ポリアルキルスチレンやポリハロゲン化スチレンなど
の種々の核置換ポリスチレンが挙げられる。核置換ポリ
スチレンの具体例としては、ポリ(o−、m−又はp−
メチルスチレン)、ポリ(2,4−12,5−13,4
−又は3,5−ジメチルスチレン)、ポリ(p−t−7
チルスチレン)すどのポリ(アルキルスチレン)、ポリ
(o−、m−又はp−クロロスチレン)、ポリ(o−、
m−又はp−ブロモスチレン)、 ポリ(o −、m−
又はp−フルオロスチレン)、ポリ(0−メチル−p−
フルオロスチレン)などのポリ(ハロゲン化スチレン)
、ポリ(Oon −又it:p−りoo)チルスチレン
)などのポリ(ハロゲン置換アルキルスチレン)、ポリ
(o−、m−又はp−メトキシスチレン)、ポリ(o−
、m−又はp−エトキシスチレン〕などのポリ(アルコ
キシスチレン)、ポリ(o−、m−文はp−カルボキシ
メチルスチレン)などのポリ(カルボキシアルキルスチ
レン)。
Examples of the polystyrene resin include polystyrene as well as various nuclear-substituted polystyrenes such as polyalkylstyrene and polyhalogenated styrene. Specific examples of nuclear-substituted polystyrene include poly(o-, m- or p-
methylstyrene), poly(2,4-12,5-13,4
- or 3,5-dimethylstyrene), poly(pt-7
poly(alkylstyrene), poly(o-, m- or p-chlorostyrene), poly(o-,
m- or p-bromostyrene), poly(o-, m-
or p-fluorostyrene), poly(0-methyl-p-
Poly(halogenated styrene) such as fluorostyrene)
, poly(halogen-substituted alkylstyrene), poly(o-, m- or p-methoxystyrene), poly(o-
, m- or p-ethoxystyrene], and poly(carboxyalkylstyrene) such as poly(o-, m- is p-carboxymethylstyrene).

ポリ(p−ビニルベンジルプロビルエーテル)すどのポ
リ(アルキルエーテルスチレン)、ポリ(p−)リメチ
ルシリルスチレン)などのポリ(アルキルシリルスチレ
ン)、さらにはポリ(ビニルベンジルジメトキシホスフ
ァイド)などが挙げられる。
Poly(alkyl silyl styrene) such as poly(p-vinylbenzylprobyl ether), poly(alkyl ether styrene), poly(p-)limethylsilyl styrene), and even poly(vinylbenzyl dimethoxy phosphide). Can be mentioned.

本発明においては、前記のポリスチレン系樹脂の中で、
特にスチレンを重合して得られるポリスチレンが好適で
ある。また、本発明で用いるシンジオタクチック構造を
有するポリスチレン系樹脂は、必ずしも単一化合物であ
る必要がなく、シンジオタクテイシテイ−が前記範囲に
あれば、アイソタクチック構造やアタクチック構造のポ
リスチレン系樹脂との混合物や、共重合体鎖中に組み込
まれたものであってもよい。
In the present invention, among the above polystyrene resins,
In particular, polystyrene obtained by polymerizing styrene is suitable. Furthermore, the polystyrene resin having a syndiotactic structure used in the present invention does not necessarily have to be a single compound, and as long as the syndiotacticity is within the above range, the polystyrene resin having an isotactic structure or an atactic structure can be used. It may be a mixture with or incorporated into a copolymer chain.

前記のシンジオタクチック構造を有するポリスチレン系
樹脂は、原料モノマーとしてスチレンやアルキルスチレ
ン、ハロゲン化スチレンなどのスチレン誘導体を用い1
例えばハロゲン化チタンやアルコキシチタンなどのチタ
ニウム化合物と、アルキルアルミノキサンとの組合せか
ら成る触媒の存在下に重合することによって製造するこ
とができる。このような重合方法によシ、高いシンジオ
タクテイシテイ−を有するポリスチレン系樹脂が得られ
るが、必要に応じ、溶剤などを用いる分別手段によって
、は)’1100%に近いシンジオタクテイシテイ−を
有するポリスチレン系樹脂を得ることもできる。
The polystyrene resin having the syndiotactic structure described above uses styrene derivatives such as styrene, alkyl styrene, and halogenated styrene as raw material monomers.
For example, it can be produced by polymerization in the presence of a catalyst consisting of a combination of a titanium compound such as titanium halide or alkoxytitanium and alkylaluminoxane. Polystyrene resins with high syndiotacticity can be obtained by such polymerization methods, but if necessary, by fractionation using a solvent etc., it is possible to obtain a syndiotacticity close to 1100%. It is also possible to obtain a polystyrene resin having the following properties.

本発明のフィルムを製造するには、まず、このようにし
て得られた立体規則性がシンジオタクチック構造である
ポリスチレン系樹脂を、実質上無定形のフィルムに成形
する。この実質上無定形のフィルムに成形する方法につ
いては特に制限はないが1通常該ポリスチレン系樹脂の
融点以上の温度で、プレス又はTダイなどを用いて加熱
成形したフィルムを、冷却プレス又は冷却ロールや冷却
槽を用いて、好ましくは150℃/分以上の降温速度で
急冷することによシ、実質上無定形のシンジオタクチッ
クポリスチレン系フィルムが得られる。
To produce the film of the present invention, first, the thus obtained polystyrene resin whose stereoregularity is a syndiotactic structure is molded into a substantially amorphous film. There are no particular restrictions on the method of forming this substantially amorphous film, but 1. Usually, the film is heated and formed using a press or T-die at a temperature higher than the melting point of the polystyrene resin, and then the film is formed using a cooling press or cooling roll. A substantially amorphous syndiotactic polystyrene film can be obtained by rapid cooling using a cooling tank or a cooling tank, preferably at a temperature decreasing rate of 150° C./min or more.

この際冷却速度が遅いと、結晶化が進行し、不透明化や
脆化の原因となる。
At this time, if the cooling rate is slow, crystallization progresses, causing opacity and embrittlement.

次に、このようにして得られた実質上無定形のフィルム
を、そのガラス転移温度以上、冷結晶化温度以下の範囲
の温度において延伸する。前記のガラス転移温度及び冷
結晶化温度は、ポリスチレン系樹脂の種類やシンジオタ
クテイシテイ−の値などによって異なるが1例えばシン
ジオタクテイシテイ−が99%以上のポリスチレンにお
いては、ガラス転移温度は93℃、冷却結晶化温度は1
44℃であシ、また融点は268℃であった延伸温度が
前記範囲を逸脱すると所望の物性を有するフィルムが得
られず、本発明の目的を達成することができない。
The substantially amorphous film thus obtained is then stretched at a temperature in the range above its glass transition temperature and below its cold crystallization temperature. The above-mentioned glass transition temperature and cold crystallization temperature vary depending on the type of polystyrene resin and the value of syndiotacticity.1 For example, in polystyrene with syndiotacticity of 99% or more, the glass transition temperature is 93%. ℃, cooling crystallization temperature is 1
The stretching temperature was 44° C. and the melting point was 268° C. If the stretching temperature exceeds the above range, a film having desired physical properties cannot be obtained and the object of the present invention cannot be achieved.

また、延伸方法については特に制限はなく、従来慣用さ
れている方法1例えば圧延装置や伸張延伸装置などを用
い、同時又は遂次二軸延伸、あるいは−軸延伸するなど
の方法を用いることができる。
Furthermore, there is no particular restriction on the stretching method, and conventionally used methods such as simultaneous or sequential biaxial stretching, or -axial stretching using a rolling device, elongation stretching device, etc. can be used. .

次いで、このようにして得た延伸フィルムを。Next, the stretched film thus obtained.

さらに緊張下に、冷結晶化温度以上、融点未満の範囲の
温度において熱処理する。この熱処理の時間は、10分
ないし2時間程度で十分である。このような熱処理を施
さないと、十分に満足しうる物性をもつフィルムが得ら
れない。
Further, it is heat-treated under tension at a temperature in the range above the cold crystallization temperature and below the melting point. A sufficient time for this heat treatment is about 10 minutes to 2 hours. Without such heat treatment, a film with sufficiently satisfactory physical properties cannot be obtained.

このようにして得たフィルムは、25℃における密度が
1.00〜1.15の範囲にあることが必要である。こ
の範囲外のものは、所望の物性を備えたものとはならな
い。
The film thus obtained needs to have a density at 25° C. in the range of 1.00 to 1.15. Anything outside this range will not have the desired physical properties.

発明の効果 このようにして得られたシンジオタクチックポリスチレ
ン系フィルムは、透明性、耐熱性、耐薬品性1寸法安定
性1機械的強度などに優れ、かつ平衡水分率が低いなど
、優れた特徴を有している。
Effects of the Invention The syndiotactic polystyrene film thus obtained has excellent characteristics such as excellent transparency, heat resistance, chemical resistance, dimensional stability, mechanical strength, and low equilibrium moisture content. have.

特に耐熱性、耐薬品性などに優れたフィルムとして各種
包装材料や絶縁材料などとして好適に用いられる。
In particular, as a film with excellent heat resistance and chemical resistance, it is suitably used as various packaging materials and insulating materials.

実施例 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが1
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
Examples Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited in any way by these examples.

なお1例中のメチルエチルケトン不溶部の含有率は、式 メチルエチルケトン不溶部の含有率(4)−全生成ポリ
マーの重量 によって求めた。
The content of methyl ethyl ketone insoluble parts in one example was determined by the formula: content of methyl ethyl ketone insoluble parts (4) - weight of total produced polymer.

実施例1 (1)  シンジオタクチックポリスチレンの製造不活
性ガスで置換した内容積1500−のステンレス鋼製オ
ートクレーブに、トルエン600 td 、!: )チ
ルアルミノキサン(東洋ストウファー製)120mmo
lと、テトラエトキシチタン帆6mmolを加え1次い
でスチレン600−を加えて50℃で2時間重合反応を
行った。反応終了後、塩酸−メタノールによシ反応を停
止し、生成ポリマーをろ別後。
Example 1 (1) Production of syndiotactic polystyrene 600 td of toluene was placed in a stainless steel autoclave with an internal volume of 1500 ml and purged with inert gas. : ) Tylaluminoxane (manufactured by Toyo Stouffer) 120 mmo
1 and 6 mmol of tetraethoxy titanium were added, and then 600% of styrene was added and a polymerization reaction was carried out at 50° C. for 2 hours. After the reaction was completed, the reaction was stopped using hydrochloric acid-methanol, and the resulting polymer was filtered off.

乾燥した。この結果得られたポリスチレンは922であ
った。
Dry. The resulting polystyrene was 922.

このポリスチレンのメチルエチルケトン不溶部の含有率
は96チであって、この不溶部の立体規則性は”C−N
MRスペクトル解析の結果、99チ以上シンジオタクチ
ック構造であった。、また、このシンジオタクチックポ
リスチレンのゲルパーミネーションクロマトグラフィー
(1,2,4−トリクロルベンゼン中、130℃で測定
)によシ測定される重量平均分子量は48.7 X 1
04であり、示差走査熱量計を用いて測定した融点は2
56℃及び266℃であった。
The content of the methyl ethyl ketone insoluble part in this polystyrene is 96%, and the stereoregularity of this insoluble part is "C-N
As a result of MR spectrum analysis, it was found to have a syndiotactic structure with 99 or more molecules. Moreover, the weight average molecular weight of this syndiotactic polystyrene measured by gel permeation chromatography (measured in 1,2,4-trichlorobenzene at 130°C) is 48.7 × 1
04, and the melting point measured using a differential scanning calorimeter is 2.
The temperatures were 56°C and 266°C.

(2)  シンジオタクチックポリスチレンフィルムの
製造 前記のシンジオタクチックポリスチレンを。
(2) Production of syndiotactic polystyrene film The syndiotactic polystyrene described above.

310℃でプレス成形後、冷却プレスを用いて室温まで
急冷し、透明な密度1.05f/cI/iの実質上無定
形のフィルムを得た。
After press molding at 310° C., it was rapidly cooled to room temperature using a cooling press to obtain a transparent, substantially amorphous film having a density of 1.05 f/cI/i.

この実質上無定形のフィルムを示差走査熱量計を用いて
熱量分析を行ったところ、ガラス転移温度は93℃、冷
結晶化温度は144℃、融点は268℃であった。
When this substantially amorphous film was subjected to calorimetric analysis using a differential scanning calorimeter, the glass transition temperature was 93°C, the cold crystallization temperature was 144°C, and the melting point was 268°C.

このフィルムをフィルムストレッチャによシ、110℃
で3.OX 3.0同時二軸延伸を行い、さらに延伸後
フィルムストレッチャにセットしたまま160℃で30
分間熱処理した。
Place this film on a film stretcher at 110°C.
So 3. OX 3.0 simultaneous biaxial stretching and further stretching at 160℃ for 30 minutes while set on a film stretcher.
Heat treated for minutes.

得られたフィルムは密度、1、lot/dの全光線透過
率が92.5%の透明性を有するものであって、ヤング
率は700に9/cdであシ、150℃、10分間での
熱収縮は認められなかった。
The obtained film has a density of 1, lot/d, total light transmittance of 92.5%, and a Young's modulus of 700 to 9/cd, at 150°C for 10 minutes. No heat shrinkage was observed.

比較例1 実施例1において310℃でプレス成形後、冷却プレス
を用いて急冷せず、室温下で放冷したところ、密度1.
08の白色、不透明な結晶性の脆いフィルムが得られた
Comparative Example 1 In Example 1, after press molding at 310° C., the density was not quenched at room temperature without being rapidly cooled using a cooling press, and the density was 1.
A white, opaque, crystalline, brittle film of 0.08 was obtained.

このフィルムをフィルムストレッチャにより、110℃
で3.OX 3.0同時二軸延伸したところ、延伸時に
破断し延伸不能であった。
This film was stretched to 110℃ using a film stretcher.
So 3. When OX 3.0 was simultaneously biaxially stretched, the film broke during stretching and could not be stretched.

比較例2 実施例1において、延伸温度及び熱処理温度をそれぞれ
145℃とした以外は、実施例1と同様にして延伸を行
った。
Comparative Example 2 Stretching was carried out in the same manner as in Example 1, except that the stretching temperature and the heat treatment temperature were each 145°C.

得られたフィルムは、密度1.09 f/−の白色、不
透明なものであって、ヤング率は620に9/cdであ
シ、150℃、10分間での熱収縮率は9%であった。
The obtained film was white and opaque with a density of 1.09 f/-, a Young's modulus of 620/9/cd, and a heat shrinkage rate of 9% at 150°C for 10 minutes. Ta.

実施例2 実施例1において、熱処理温度を210℃とした以外は
、実施例1と同様にして延伸を行った。
Example 2 Stretching was performed in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was 210°C.

得られたフィルムは、密度1.11f/’cdの全光線
透過率が92.7%の透明性を有するものであって、ヤ
ング率は740にy / diであシ、200℃、10
分間での熱収縮は認められなかった。
The obtained film had transparency with a total light transmittance of 92.7% at a density of 1.11 f/'cd, a Young's modulus of 740 y/di, and a temperature of 200°C and 10%.
No heat shrinkage was observed within minutes.

特許出願人  旭化成工業株式会社Patent applicant: Asahi Kasei Industries, Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 ゲルパーミネーシヨンクロマトグラフイー(1,2
,4−トリクロルベンゼン中、130℃で測定)による
重量平均分子量が10,000〜1,000,000の
範囲にある、核置換基を有し、又は有しないシンジオタ
クチツクポリスチレンから成り、かつ90%以上の全光
線透過率及び1.00〜1.15の範囲の密度を有する
ことを特徴とするフィルム。
1 Gel permeation chromatography (1,2
, 4-trichlorobenzene at 130° C.) with a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 1,000,000, with or without nuclear substituents; % or more and a density in the range of 1.00 to 1.15.
JP62328710A 1987-12-25 1987-12-25 Syndiotactic polystyrene film Expired - Fee Related JP2748935B2 (en)

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