JPH01167880A - Horographic optical element and its manufacture - Google Patents
Horographic optical element and its manufactureInfo
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- JPH01167880A JPH01167880A JP32554287A JP32554287A JPH01167880A JP H01167880 A JPH01167880 A JP H01167880A JP 32554287 A JP32554287 A JP 32554287A JP 32554287 A JP32554287 A JP 32554287A JP H01167880 A JPH01167880 A JP H01167880A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ホログラフィック光学素子及びその製造方法
に関する。更に詳しくは、高回折効率を有し、貯蔵安定
性に優れたホログラフィック光学素子及びその製造方法
に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a holographic optical element and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a holographic optical element having high diffraction efficiency and excellent storage stability, and a method for manufacturing the same.
近年、ホログラムを光学素子として応用する試みが活発
に進められている。ホログラフィ技術を用いて作られる
ホログラフィック光学素子は、レンズとして用いた場合
、通常の光学レンズと比較して軽量で薄膜化できる特徴
を有し、システムの小型簡素化につながることが期待さ
れておシ、−部実用化も試みられている。In recent years, attempts have been made to apply holograms as optical elements. When used as a lens, holographic optical elements made using holography technology have the characteristics of being lighter and thinner than regular optical lenses, and are expected to lead to smaller and simpler systems. Attempts are also being made to put this into practical use.
一般に、ホログラフィック光学素子の特徴として、次の
点が挙げられる。In general, the following points are listed as characteristics of holographic optical elements.
（１）一つのホログラムで２つ以上の機能、例えばレン
ズ作用とビームスプリッタ−作用の組合せ、レンズ作用
とプリズム作用の組合せ、レンズ作用と干渉フィルター
作用の組合せなど複合機能をもたせることかできる。(1) One hologram can have two or more functions, such as a combination of a lens function and a beam splitter function, a combination of a lens function and a prism function, a combination of a lens function and an interference filter function, and other complex functions.
（２）任意の波面を所望の波面に変換することができる
。(2) Any wavefront can be converted into a desired wavefront.
（３）曲面にホログラムを作製することができる。(3) Holograms can be created on curved surfaces.
（４）レンズによって作られた波面と同一の波面を写し
取υ、レンズ波面と同一の波面を再生することができる
。(4) It is possible to copy the same wavefront as the wavefront created by the lens υ and reproduce the same wavefront as the lens wavefront.
（５）レプリカを多数作ることができる。(5) Many replicas can be created.
一方、レリーフホログラムの画像形成材料としては種々
のものが報告されているが、フォトレジストを使ったレ
リーフホログラムは大量のレプリカ複製が簡単にできる
利点をもりているので、実際に印刷分野に浸透し始めた
ホログラムは、すべてフォトレジストを用いて作製され
ている。On the other hand, various image forming materials for relief holograms have been reported, but relief holograms using photoresist have the advantage of being able to easily produce large numbers of replicas, so they have actually penetrated the printing field. All of the holograms that were started were made using photoresist.
フォトレジストには、ネガ型とポジ型の２種類があるが
、レリーフホログラムの画像形成材料としては、現在ポ
ジ型フォトレジストに限定されている。その理由は、Ａ
ｐｐｌ、０ｐｔｉｅｓ、、 １３ 、１２９（１９７４
）にも述べられているように、ネガ型フォトレジストで
は現像時の基板からレリーフホログラムが剥れるのを防
止する為に十分な露光量が必要でありうるが、ホログラ
ムの画像形成は通常低露光量で行表わまければならない
から、超微細レリーフホログラムが現像時に基板から容
易に脱落してしまい、レーザー光によって記録された干
渉縞をレリーフとして残すことができない為である。そ
の為、このような問題を生じないポジ型フォトレジスト
が汎用されている。There are two types of photoresists, negative type and positive type, but image forming materials for relief holograms are currently limited to positive type photoresists. The reason is A.
ppl, 0pties, 13, 129 (1974
), negative photoresists may require sufficient exposure to prevent the relief hologram from peeling off from the substrate during development, but hologram imaging typically requires low exposure. This is because the ultra-fine relief hologram easily falls off the substrate during development because it has to be expressed in rows in terms of quantity, making it impossible to leave the interference fringes recorded by the laser beam as a relief. Therefore, positive photoresists that do not cause such problems are widely used.
しかしながら、ポジ型フォトレジストは感度が低く、と
りわけ汎用レーザーであるアルゴン（Ａｒ ）に対する
感度が著しく低いことが欠点となっている。それ故に、
高解像力を持ち、Ａｒレーザーに高感度で感応しうるフ
ォトレジストおよびそれを用いるレリーフホログラムの
作製方法の出現が切望されている。However, the disadvantage of positive photoresists is that they have low sensitivity, particularly to argon (Ar), which is a general-purpose laser. Therefore,
There is a strong desire for the emergence of a photoresist that has high resolution and is highly sensitive to Ar laser, and a method for producing a relief hologram using the photoresist.
また、ホログラム光学素子は、現在のところ、実用上次
のような問題点を有していた。Furthermore, hologram optical elements currently have the following practical problems.
（１）回折効率が、使用する材料にもよるが、必ずしも
高くない。(1) Diffraction efficiency is not necessarily high, although it depends on the material used.
（２）耐候性について、使用する材料にもよるが、必ず
しも高くなく、経時劣化が起きる。(2) Regarding weather resistance, although it depends on the material used, it is not necessarily high and deterioration occurs over time.
本発明が解決しようとする問題点は、高回折効率を有し
、貯蔵安定性にも優れたホログラフィック光学素子を提
供し、新たな材料として、水性アルカリ現像液で現像可
能なネガ型フォトレジストを表面レリーフ型ホログラム
の画像形成材料として用いるホログラフィック光学素子
の製造方法を提供することにある。The problem to be solved by the present invention is to provide a holographic optical element with high diffraction efficiency and excellent storage stability, and to use a negative photoresist that can be developed with an aqueous alkaline developer as a new material. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a holographic optical element using as an image forming material for a surface relief type hologram.
本発明は、上記問題点を解決するために、基板の片面に
表面レリーフ型ホログラムを形成した樹脂層を配してな
るホログラフィック光学素子、及び、基板の片面に形成
された水性アルカリ現像液で現像可能なネガ型フォトレ
ジスト層に、干渉可能な２光束を互いに干渉させて直線
状ホログラム格子を記録した後、水性アルカリ現像液で
処理して基板上の片面に表面レリーフ型ホログラムを形
成するホログラフィック光学素子の製造方法を提供する
。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a holographic optical element comprising a resin layer on one side of a substrate with a surface relief hologram formed thereon, and an aqueous alkaline developer formed on one side of the substrate. A holographic method in which a linear hologram grating is recorded on a developable negative photoresist layer by interfering two interfering light beams, and then treated with an aqueous alkaline developer to form a surface relief hologram on one side of the substrate. A method of manufacturing a graphic optical element is provided.
第１図は、本発明のホログラフィック光学素子の一実施
例を示した断面図で、基板（１）の任意の片面に表面レ
リーフ型ホログラムを形成した樹脂層（２）が設けられ
てｈる。本発明のホログラフィック光学素子は、基本的
には第１図の構成から成シ、その使用にあたっては、第
２図に示したように、入射光（３）を２分割して透過光
（４）を使用する透過型ホログラフィック光学素子とし
て利用できる。また、第３図に示したように、表面レリ
ーフ型ホログラムを形成した樹脂層（２）の表面に金属
蒸着層（５）を設けることによりて、反射型ホログラフ
ィック光学素子として利用することもできる。FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the holographic optical element of the present invention, in which a resin layer (2) on which a surface relief hologram is formed is provided on any one side of a substrate (1). . The holographic optical element of the present invention basically has the configuration shown in FIG. 1, and when using it, as shown in FIG. ) can be used as a transmission type holographic optical element. Furthermore, as shown in FIG. 3, by providing a metal vapor deposition layer (5) on the surface of the resin layer (2) on which a surface relief hologram is formed, it can also be used as a reflective holographic optical element. .
本発明で使用する基板としては、透過型ホログラフィッ
ク光学素子の場合には、例えば、ガラス板、透明又は半
透明のプラスチックシート等が挙げられ１反射型ホログ
ラフィック光学素子の場合には、例えばガラス板、透明
又は半透明のプラスチックシート、着色プラスチックシ
ート、合成紙、鉄、アルミニウム等の金属フィルム及び
それらの積層体等が挙げられる。In the case of a transmission type holographic optical element, the substrate used in the present invention includes, for example, a glass plate, a transparent or translucent plastic sheet, etc.;1 In the case of a reflection type holographic optical element, for example, a glass plate, etc. Examples include plates, transparent or translucent plastic sheets, colored plastic sheets, synthetic paper, metal films such as iron and aluminum, and laminates thereof.
プラスチックシートの素材としては、例えば、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリエステルポリカーゴネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン、？リサルホン、セ
ルロースアセテート、ポリビニルアセテート、ポリビニ
ルブチラール、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル等が挙げ
られる。Materials for plastic sheets include, for example, polyester, polycarbonate, polyester polycargonate, polyethylene, polypropylene, etc. Examples include resulfone, cellulose acetate, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polystyrene, and polyvinyl acetate.
本発明で使用する表面レリーフ型ホログラムを形成する
樹脂層としては、レーデ露光、現像処理によって表面レ
リーフ型ホログラムを形成したネガ型フォトレジスト層
をそのまま利用することもできるし、レプリカとして熱
可塑性樹脂等に複製された表面レリーフ型ホログラム樹
脂層を利用することもできる。レプリカは、公知の方法
により、マスターホログラムからスタンツク−を作製し
、スタンノ平−から熱プレスにより熱可塑性樹脂にレリ
ーフ形状を転写することによって容易に形成することが
できる。As the resin layer forming the surface relief hologram used in the present invention, a negative photoresist layer on which a surface relief hologram is formed by Rede exposure and development treatment can be used as is, or a thermoplastic resin etc. can be used as a replica. It is also possible to utilize a surface relief type hologram resin layer that is replicated on the surface. A replica can be easily formed by creating a stand from a master hologram by a known method and transferring a relief shape from the stand to a thermoplastic resin using a hot press.
本発明のホログラフィック光学素子は、適当な基板上に
水性アルカリ現像液で現像可能なネガ型フォトレジスト
層を、スピンナー、パーコーター等で形成させた後、干
渉可能な２光束を互いに干渉させて、直線状ホログラム
格子を記録し、現像液で処理することによって簡単に作
製することができる。The holographic optical element of the present invention is produced by forming a negative photoresist layer that can be developed with an aqueous alkaline developer on a suitable substrate using a spinner, percoater, etc., and then causing two interferable beams of light to interfere with each other. It can be easily fabricated by recording a linear hologram grating and treating it with a developer.
水性アルカリ現像液で現像可能なネガ型フォトレジスト
としては、例えば、フェニレンソアクリレート基及び／
又はケイ皮酸基を主鎖もしくは側鎖に含有する重合体を
主成分とする感光性樹脂が挙げられる。このような感光
性樹脂としては、例えば、特開昭６０−１６５６４６号
公報、特開昭６１−１５８６０号公報及び特開昭６１−
５５６４３号公報等に記載されておシ、ｐｓ版用の感光
材料として一部実用化されている。Examples of negative photoresists that can be developed with an aqueous alkaline developer include phenylenethoacrylate groups and/or
Alternatively, there may be mentioned a photosensitive resin whose main component is a polymer containing a cinnamic acid group in the main chain or side chain. Examples of such photosensitive resins include those disclosed in JP-A-60-165646, JP-A-61-15860, and JP-A-61-1989.
It is described in Japanese Patent No. 55643, etc., and has been partially put into practical use as a photosensitive material for PS plates.
本発明によシ作製されたホログラフィック光学素子の入
射光に対する±１次回折光の回折効率は８０係以上に達
し、ビームスプリッタ−として利用されている光学レン
ズの光活用率とほぼ同等の値を示し喪。The diffraction efficiency of the ±1st-order diffracted light with respect to the incident light of the holographic optical element manufactured according to the present invention reaches a coefficient of 80 or more, which is approximately the same value as the light utilization efficiency of an optical lens used as a beam splitter. Showing mourning.
回折光の回折角は、干渉パターンの記録時におけるレー
ザ交叉角を調整することによって、任意の角度に調整す
ることができる。又、耐候性、湿気に対する安定性も良
好であり、光学素子としての優れた安定性を示した。The diffraction angle of the diffracted light can be adjusted to an arbitrary angle by adjusting the laser intersection angle when recording the interference pattern. Furthermore, the material had good weather resistance and stability against moisture, and exhibited excellent stability as an optical element.
本発明のホログラフィック光学素子は、そのまま使用す
ることが好ましいが、レプリカとして多数複製した形で
使用することもできる。Although it is preferable to use the holographic optical element of the present invention as it is, it can also be used in the form of a large number of replicas.
以下実施例により、本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to Examples.
〔水性アルカリ現像液で現像可能なネガ型フォトレジス
トの製造〕
ｐ−フユニレンジアクリレート酸ジエチル５４．８１（
０，２モル）トビスフエノールＡ（１モル）のエチレン
オキサイド（６，２モル）付加体１３３．２．９（０，
２６６モル）を、触媒（ジブチル錫オ印サイド６００■
）、禁止剤（フェノチアジン６０即）と共に攪拌装置、
窒素ガス導入管、温度計および留出管を備えた反応器に
仕込み、窒素ガス雰囲気下で攪拌しつつ１９０℃に加温
して反応を開始した。[Production of negative photoresist developable with aqueous alkaline developer] Diethyl p-fuynylene diacrylate 54.81 (
Ethylene oxide (6,2 mol) adduct of tobisphenol A (1 mol) 133.2.9 (0,2 mol)
266 mol) of the catalyst (600 mol of dibutyltin
), a stirring device with an inhibitor (phenothiazine 60 instant),
The mixture was charged into a reactor equipped with a nitrogen gas inlet tube, a thermometer, and a distillation tube, and the reaction was started by heating to 190° C. with stirring under a nitrogen gas atmosphere.
その後３時間半に亘って加熱、攪拌を続け１反応によシ
生成するエタノールを完全に留去させ、水酸基価４６．
５の線状、ｊｒ ＋７エステル樹脂を得た。Heating and stirring were then continued for 3 and a half hours to completely distill off the ethanol produced in one reaction, resulting in a hydroxyl value of 46.
A linear, jr +7 ester resin of 5 was obtained.
上記線状ポリエステル樹脂１００ｇを１４０℃に加温、
攪拌し、ピロメリット酸二無水物９．０９を仕込み、窒
素雰囲気下、常圧で２０分間、攪拌を続けた後、酸価４
３．５’の側鎖カルゲキシル基含有感光性ポリエステル
樹脂を得た。100g of the above linear polyester resin was heated to 140°C,
After stirring, 9.09% of pyromellitic dianhydride was added, and stirring was continued for 20 minutes at normal pressure in a nitrogen atmosphere, and the acid value was 4.
A photosensitive polyester resin containing a 3.5' side chain calgexyl group was obtained.
実施例１
側鎖カルがキシル基含有感光性ポリエステル樹脂７０ｇ
、光増感剤としてケトクマリン２９をシクロへキサノン
４０８ｇに溶解し、不揮発分１５％の７オトレジスト溶
液を調製し、スピンナー（１，０００ｒｙｎ／ ３０秒
間）を用いて、この溶液をガラス板上に塗布し、１１０
℃で２０分間熱処理して、フォトレジスト層の厚さ０．
９５μｍのレジスト乾板を得た。Example 1 70 g of photosensitive polyester resin containing xyl groups in the side chain
, Dissolve ketocoumarin 29 as a photosensitizer in 408 g of cyclohexanone to prepare a 7-otresist solution with a non-volatile content of 15%, and apply this solution on a glass plate using a spinner (1,000 ryn/30 seconds). 110
℃ for 20 minutes to reduce the thickness of the photoresist layer to 0.
A 95 μm resist dry plate was obtained.
空冷式アルゴンレーザーを出力光源とし、物体光：参照
光を１＝１の比率に分割し、ビーム交差角１０°、トー
タル出力５０．５μＷ／ｃＩｒＬ２となるよう光学系を
組み立てた。An air-cooled argon laser was used as the output light source, and an optical system was assembled so that the object beam:reference beam was divided at a ratio of 1=1, the beam intersection angle was 10°, and the total output was 50.5 μW/cIrL2.
前記レジスト乾板を乾板ホルダーにセットし、基板側か
ら、物体光と参照光による干渉パターンを４ｍＪ／ｃｍ
照射して、直線状ホログラム格子を記録し、露光済乾板
を得た。The resist dry plate was set in a dry plate holder, and the interference pattern of the object beam and reference beam was set at 4 mJ/cm from the substrate side.
The linear hologram grating was recorded and an exposed plate was obtained.
下記の組成の水性アルカリ現像液を調製し、バットに貯
蔵して液温を２０℃に保った。An aqueous alkaline developer having the following composition was prepared and stored in a vat to maintain the solution temperature at 20°C.
「ペレックスＮＢＬ Ｊ ７重責
部（花王アトラス■製のｔｅｒｔ−ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム系アニオン型界面活性剤）ラウリル
硫酸ナトリウム ３重量部トリエタ
ノールアミン ０．５重量部水
８９．５重量部前記露光済乾
板を、この現像液中に浸漬し、４分間軽くバットを振盪
しながら現像処理した。次いで、この乾板を流水で３０
秒間洗りた後、ドライヤーで乾燥することによって、ガ
ラス板上にレインデー的に輝く透明な表面レリーフ型ホ
ログラムを形成した樹脂層を有するホログラフィック光
学素子を得た。"Perex NBL J 7 Heavy Duty Department (Sodium tert-butylnaphthalene sulfonate based anionic surfactant manufactured by Kao Atlas■) Sodium lauryl sulfate 3 parts by weight Triethanolamine 0.5 parts by weight Water
89.5 parts by weight The exposed dry plate was immersed in this developer and developed for 4 minutes while gently shaking the bat. Next, soak this dry plate in running water for 30 minutes.
After washing for a few seconds, the resin layer was dried with a dryer to obtain a holographic optical element having a resin layer on which a transparent surface relief hologram that shines like a raindrop was formed on a glass plate.
このホログラフィック光学素子に対し、樹脂層側からＨ
ｅ −Ｎｅレーザーをブラッグ（ｎｒａｇｇ）角で入射
したところ、微弱な０次透過光と２本の明るい回折光が
観測された。入射光量に対する一１次、０次及び＋１次
の回折光量の割合は、それぞれ、４２％、４１％及び３
９％の値を示し、このホログラフィック光学素子は、光
有効活用率８０％以上のビームスプリッタ−としての機
能を有していた。For this holographic optical element, H
When an e-Ne laser was incident at the Bragg (nragg) angle, a weak zero-order transmitted light and two bright diffracted lights were observed. The ratios of the 1st-order, 0th-order, and +1st-order diffracted light amounts to the incident light amount are 42%, 41%, and 3%, respectively.
The value was 9%, and this holographic optical element had a function as a beam splitter with an effective light utilization rate of 80% or more.
また、とのホログラフィック光学素子を６０℃、湿度７
５％の恒温恒湿器中に３日間貯蔵したが、初期の回折効
率を維持しておシ、画像損傷、画像剥離等の異常も観察
されなかった。In addition, the holographic optical element was heated at 60°C and the humidity was 7°C.
Although it was stored for 3 days in a 5% temperature and humidity chamber, the initial diffraction efficiency was maintained and no abnormalities such as cracking, image damage, or image peeling were observed.
実施例２
実施例１で用いたフォトレジスト溶液を、ＮＩＩＬＩＯ
のパーコーターを用いて、ポリエステルフィルム（大日
本イン中化学工業■製「ＤＩＣルミラーＴ」、２５０μ
ｍ（７）上に塗布し、１２０℃で１５分間熱処理して、
フォトレジスト層の厚さ１．０μｍのレジスト乾板を得
た。Example 2 The photoresist solution used in Example 1 was
Polyester film ("DIC Lumirror T" manufactured by Dainippon Innaka Kagaku Kogyo ■, 250 μm) was coated using a Percoater.
m(7), heat treated at 120°C for 15 minutes,
A resist dry plate with a photoresist layer having a thickness of 1.0 μm was obtained.
空冷式アルインレーザーを出力光源とし、物体光：参照
光を１：２．３の比率に分割し、ビーム交差角１２°、
トータル出カフ ７ ｔｓＷ／ｃｒｎ２となるよう光学
系を組み立てた。An air-cooled Alin laser is used as the output light source, and the object beam:reference beam is divided at a ratio of 1:2.3, with a beam intersection angle of 12°,
The optical system was assembled so that the total cuff output was 7 tsW/crn2.
実施例１と同様にして露光済乾板を得、実施例１と同様
にして現像処理、乾燥することによって、ポリエステル
フィルム基板上にレインデー的に輝く透明な表面レリー
フ型ホログラムを形成した樹脂層を有するホログラフィ
ック光学素子を得た。An exposed dry plate was obtained in the same manner as in Example 1, and by developing and drying in the same manner as in Example 1, a resin layer was formed on a polyester film substrate with a transparent surface relief type hologram shining like a raindrop. A holographic optical element was obtained.
このホログラフィック光学素子に対し、Ｈｅ−Ｎ。For this holographic optical element, He-N.
レーザをＢｒａｇｇ角で入射したところ、実施例１の場
合よシも大きな回折角を持つ回折光が観測された。入射
光量に対する各回折光の光量を測定したところ、−１次
回折光４３．６ ％、＋１次回折光３７係及び０次透過
光５．２係の回折効率を示し、このホログラフィック光
学素子は、光活用率８０％′ 以上のビームスプリッタ
−としての機能を有していた。When the laser was incident at the Bragg angle, diffracted light having a larger diffraction angle than in Example 1 was observed. When the amount of each diffracted light was measured relative to the amount of incident light, the diffraction efficiency was 43.6% for the −1st order diffracted light, 37% for the +1st order diffracted light, and 5.2% for the 0th order transmitted light. It functioned as a beam splitter with a utilization rate of over 80%'.
本発明のホログラフィック光学素子は、高回折効率を有
し、経時劣化のない優れた安定性を示し、レンズ等一般
光学素子の代替品として、＠最薄膜化及びシステムの小
型簡素化の目的に有効に利用できる。The holographic optical element of the present invention has high diffraction efficiency and exhibits excellent stability without deterioration over time, and can be used as a substitute for general optical elements such as lenses for the purpose of making the film thinnest and simplifying the size of the system. Can be used effectively.
特に、本発明のホログラフィック光学素子は。In particular, the holographic optical element of the present invention.
光活用率８０係以上のビームスプリッタ−として、又、
光ファイバー等のデバイダ−及びカップラーとして有用
である。As a beam splitter with a light utilization rate of 80 or more,
It is useful as a divider and coupler for optical fibers, etc.
第１図は１本発明のホログラフィック光学素子の一実施
例を示す断面図である。
第２図は、透過型ホログラフィック光学素子によって入
射光が２分割されて透過する様子を示した模式図である
。
第３図は、反射型ホログラフィック光学素子によって入
射光が２分割されて反射する様子を示した模式図である
。
代理人 弁理士 高 橋 勝 利FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a holographic optical element according to the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing how incident light is divided into two parts and transmitted through a transmission type holographic optical element. FIG. 3 is a schematic diagram showing how incident light is divided into two parts and reflected by the reflective holographic optical element. Agent Patent Attorney Katsutoshi Takahashi
Claims (1)
樹脂層を配してなるホログラフィック光学素子。 ２、基板の片面に形成された水性アルカリ現像液で現像
可能なネガ型フォトレジスト層に、干渉可能な２光束を
互いに干渉させて直線状ホログラム格子を記録した後、
水性アルカリ現像液で処理して基板上の片面に表面レリ
ーフ型ホログラムを形成することを特徴とするホログラ
フィック光学素子の製造方法。 ３、ネガ型フォトレジストとしてフェニレンジアクリレ
ート基及び／又はケイ皮酸基を主鎖もしくは側鎖に含有
する重合体を使用する特許請求の範囲第２項に記載のホ
ログラフィック光学素子の製造方法。[Claims] 1. A holographic optical element comprising a resin layer with a surface relief hologram formed on one side of a substrate. 2. After recording a linear hologram grating on a negative photoresist layer formed on one side of the substrate and developable with an aqueous alkaline developer by causing two interfering beams of light to interfere with each other,
A method for producing a holographic optical element, comprising forming a surface relief hologram on one side of a substrate by processing with an aqueous alkaline developer. 3. The method for producing a holographic optical element according to claim 2, wherein a polymer containing a phenylene diacrylate group and/or a cinnamic acid group in the main chain or side chain is used as the negative photoresist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62325542A JP2803081B2 (en) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | Holographic optical element and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP62325542A JP2803081B2 (en) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | Holographic optical element and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01167880A true JPH01167880A (en) | 1989-07-03 |
| JP2803081B2 JP2803081B2 (en) | 1998-09-24 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP62325542A Expired - Fee Related JP2803081B2 (en) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | Holographic optical element and manufacturing method thereof |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2803081B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2103352A1 (en) * | 2008-03-18 | 2009-09-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Membranes suited for immobilizing biomolecules |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119227A (en) * | 1975-04-02 | 1976-10-19 | Hitachi Ltd | Method of preparing an uneven image formation |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP62325542A patent/JP2803081B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119227A (en) * | 1975-04-02 | 1976-10-19 | Hitachi Ltd | Method of preparing an uneven image formation |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2103352A1 (en) * | 2008-03-18 | 2009-09-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Membranes suited for immobilizing biomolecules |
| WO2009115938A1 (en) * | 2008-03-18 | 2009-09-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Membranes suited for immobilizing biomolecules |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2803081B2 (en) | 1998-09-24 |
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