JPH01165540A - ジアリールエーテルおよびジアリールスルフィドの製造方法 - Google Patents

ジアリールエーテルおよびジアリールスルフィドの製造方法

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JPH01165540A
JPH01165540A JP63289935A JP28993588A JPH01165540A JP H01165540 A JPH01165540 A JP H01165540A JP 63289935 A JP63289935 A JP 63289935A JP 28993588 A JP28993588 A JP 28993588A JP H01165540 A JPH01165540 A JP H01165540A
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JP
Japan
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aromatic ring
phenol
catalyst
fused aromatic
substituted fused
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JP63289935A
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Gregory P Hussmann
グレゴリー・ポール・ハスマン
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BP Corp North America Inc
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BP Corp North America Inc
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C321/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01Preparation of ethers
    • C07C41/09Preparation of ethers by dehydration of compounds containing hydroxy groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 発明の分野 本発明は一般的にはドリア含有触媒を含む方法によりジ
アリールエーテルまたはジアリールスルフィドの製法に
関し、より詳しくはこの種の方法において中性担体粒子
に沈着したドリアからなる触媒の使用に関する。
従来技術の説明 エンジニアリングポリマー製造におけるジフェニルエー
テルベースモノマーおよびジフェニルスルフィドベース
モノマーの商業的重要性はよく認識されている。どちら
の物質もそれ自身潜在的に有用なモノマーであり、オキ
シビスアニリンなどの確認された用途のモノマーに先駆
体として役立つことができる。例えば、4.4’−ジア
ミノジフェニルエーテルはトルロン(登録商標)および
ベスペル(登録商標)の製造に現在用いられている。
商業上の潜在的重要性を有する他のジフェニルエーテル
ベースモノマーはジフェニルエーテルの二酸、ジオール
、または二無水物を包含する。ジフェニルエーテルベー
スモノマーおよびジフェニルスルフィドベースモノマー
は確認された用途があるが、これらは高価格でそして便
利な製法がないためこれらモノマーの多くの応用を妨げ
ている。
ジフェニルエーテルベースモノマーおよびジフェニルス
ルフィドベースモノマーを製造する潜在的に低価格の方
法はそれぞれ、フェノールまたはチオフェノールの接触
脱水カップリングである。
フェノールまたはチオフェノールの脱水カップリングで
それぞれ相当するジフェニルエーテルまたはジフェニル
スルフィドを形成するために無担持または担持トリアが
触媒として用いられている。
例えば、英国特許第911,246号明細書はアルファ
アルミナに担持したドリアを含む触媒の存在下で、好ま
しくは蒸気相中でそしてほぼ大気圧および300ないし
550℃の温度、例えば475℃でフェノールの相当す
るジフェニルオキシドへの脱水カップリング法を開示し
ている。この触媒は、アルミナを硝酸トリウム五水塩に
含浸させそして硝酸トリウムを分解して酸化トリウムを
形成することにより作られた。この特許は、脱水カップ
リング反応において触媒の高活性に役立つ条件下で、こ
の特許に開示した触媒の活性は使用とともに低下したと
述べている。さらに、この特許のデータはカップリング
反応は立体特異的には生じなかったことを示している。
カルパナサミ等の“ドリア触媒によるフェノール分解の
研究” 、Proc、 Natl、 Symp、 Ca
tal、、第4版、 1978年、443〜450頁お
よび“トリアに対するフェノールとアルコールの反応″
、ジャーナル オブ キャタリスツ、63巻、433〜
437頁(1980)は、アンモニア添加による硝酸ト
リウム溶液からの沈殿を含む手法により作られたドリア
触媒の存在下でフェノールの脱水カップリングの研究を
報告した。この記事は触媒担体について述べておらずそ
して明らかにドリア触媒は無担持であった。著者はまた
、硝酸トリウムとトリウムオキサレートの熱分解によっ
てもドリア触媒を作ることができると指摘した。ジャー
ナル オブキャタリスツの記事において、これら三つの
異なるルートで作られた触媒の効果は定性的には同等で
あったとこの著者は指摘した。
カルパナサミ等の“ドリアに対するフェノールとアルコ
ールの反応:エーテル生成の機構“。
ジャーナル オブ キャタリスツ、66巻、281〜2
89頁(1980)は、トリウムオキサレートの熱分解
を含む手法により作られたトリア触媒の存在下でフェノ
ールの脱水カップリングを報告した。この記事は触媒担
体について述べておらず、明らかにドリア触媒は無担持
であった。この著者はまた、硝酸トリウムの熱分解また
は水酸化!・リウムの焼成によってもドリア触媒を作る
ことができること、およびこれら三種類の異なるルート
により作られた触媒の効果は定性的には似ていたことを
指摘している。
ブライナーとフロンの“フェノールの接触脱水:置換基
の位置の影響と性質”、 l1eb、 Chin。
Acta、、15巻、 1234〜1241頁(193
2年8月)は、上記のフェノールの脱水カップリングに
おけるドリア触媒の使用を開示している。触媒の製法は
開示されなかった。
サバタイヤ−等のComputes Rcndics、
 1912年260頁および1914年608頁はフェ
ノールの脱水カップリングを触媒するための無担持トリ
アの使用を開示している。
しかしながら、ある種の非常に望ましい立体特異性置換
ジアリールエーテルおよびジアリールスルフィドの製造
に対するこのようなl・リア触媒の選択性は工業的方法
で一般に受は入れられるよりもしばしば低い。さらに、
英国特許箱911,248号明細書に開示しているよう
に、フェノールの脱水カップリングで一般に使用される
条件下で用いると、ドリア触媒は代表的にはこのような
カップリング反応に対する活性の低下に会い、またある
種の非常に望ましい立体特異性の置換ジアリールエーテ
ルの製造に対する選択性がさらに低下する。
発明の目的 それ故に本発明の一般的目的は、ある種の立体特異性の
置換ジアリールエーテルおよび置換ジアリールスルフィ
ドの製造に対し改良された選択性を有する、フェノール
、チオフェノール、β−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系
化合物またはβ−チオ置換縮合芳香族環系化合物の改良
された接触脱水カップリング法を提供することである。
本発明の他の目的は、このような反応に対する改良され
た触媒選択性を有する、フェノール、チオフェノール、
β−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合物またはβ−チ
オ置換縮合芳香族環系化合物の改良された接触脱水カッ
プリング法を提供することである。
本発明のその他の目的および利点は以下の説明で明らか
であろう。
発明の要旨 これらの目的は、フェノール、チオフェノール、β−ヒ
ドロキシ置換縮合芳香族環系化合物、またはβ−チオ置
換縮合芳香族環系化合物を気相中で約300℃ないし約
600℃の範囲の温度で、中性担体に沈着したドリアか
らなる触媒粒子の床の存在下で加熱することからなるジ
アリールエーテルまたはジアリールスルフィドの改良さ
れた製造法により達成される。
好ましい態様の詳細な説明 本発明の方法の使用に適した反応体は、フェノール、チ
オフェノール、β−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合
物またはβ−チオ置換縮合芳香族環系化合物であって、
これらの中のフェノール系ヒドロキシまたはチオ置換基
を別にして、未置換であるか、′あるいは炭素原子数1
ないし10、好ましくは1ないし3の少なくとも1つの
アルキル基または脱水カップリング反応に不活性な少な
くとも1つの他の置換基または両糸で置換したものであ
る。前記の任意のアルキル置換基および他の不活性置換
基の各々は、フェノール系ヒドロキシまたはチオ置換基
に対しオルト以外に位置する少なくとも1つの芳香族環
炭素原子に付いている。
任意には、上記の任意のアルキル置換基は3ないし4個
の炭素原子を含み、そしてフェノール、チオフェノール
、または縮合芳香族環系化合物の芳香族環と組み合わせ
てこの芳香族環に融合した飽和環を形成する。好ましく
は、反応体はフェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合
芳香族環系化合物である。
それ故に、適当なこの種の物質(本発明の方法によりこ
れから作られる生成物をかっこ書で示す)は以下のもの
を含む:フェノール(ジフェニルエーテル)、β−ナフ
トール(ジナフチルエーテル)、m−クレゾール(3,
3’−ジメチルジフェニルエーテル)、p−クレゾール
(4,4’−ジメチルジフェニルエーテル)、3,4−
キシレノール(3,3’、4.4°−テトラメチルジフ
ェニルエーテル)、3.5−キシレノール(3,3°、
5,5°−テトラメチルジフェニルエーテル)、3,4
.5− トリメチルフェノール(3,3°、4,4°、
5,5−ヘキサメチルジフェニルエーテル)、5−テト
ラリノール(ジナフチルエーテル)、およびこれらの混
合物、例えばm−およびp−クレゾール(3,4’−ジ
メチルジフェニルエーテル)。加えて、適当な供給原料
は」二記に相当する化合物を含むが、ただしこれらの中
の1つまたはそれ以上のメチル置換基をエチルまたはフ
ェニル置換基で置換しおよび/またはヒドロキシ置換基
をチオ置換基で置換する。
本発明の方法の使用に適した触媒は中性担体に担持した
ドリアからなる。この文脈において中性担体は酸または
塩基の性質かないかまたは非當に弱い。適当な中性担体
は純粋なシリカ、純粋なジルコニア、炭素、アスベスト
および石英を含む。
この文脈において用語“純粋な”とはシリカまたはジル
コニアが金属不純物を元素状金属として計算して100
万部当り1000部以下、好ましくは500部以下を含
むことを意味する。好ましくは担体はヒユームドシリカ
またはヒユームドジルコニアである。この文脈において
、“ヒユームド”とはシリカまたはジルコニアを作るの
に一般に用いられている周知の方法をいう。ヒユームド
シリカおよびヒユームドジルコニアはザ・ジ・エル・カ
ボット社などから市販されている。
本発明の方法で用いる触媒のドリア含量は触媒の重量に
基づきThO2として計算して約1から、好ましくは約
10から約70、好ましくは約50重量パーセントの範
囲である。
好ましくは、何れの便利で慣用的な方法により中性担体
に含浸させた適当なトリウム塩の600℃〜800℃で
の直接焼成により触媒を作る。
この範囲外の温度での焼成はかなり低い活性の触媒を与
えた。好ましくは、担体は、)・リウム塩で含浸する前
に500℃〜1000℃で焼成する。前記の適当なトリ
ウム塩を代表的には中性担体に初期湿式法により含浸さ
せる。適当なトリウム塩は硝酸塩(五水和物)、炭酸塩
、オキサレートおよび水酸化物を含む。
実施において、本発明の方法はフェノール、チオフェノ
ール、β−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合物または
β−チオ置換縮合芳香族環系化合物を蒸気相中で前記触
媒の粒子の床へ重量時間空間速度的0.01から、好ま
しくは約0.1から約100、好ましくは約20、さら
に好ましくは約5グラム−供給化合物/触媒ダラム/時
間で送ることにより行なわれる。好ましくは、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、テトラヒ
ドロフランまたは1,4−ジオキサンなどの溶媒を用い
る。
好ましくは、前記したフェノール、チオフェノール、β
−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合物、またはβ−チ
オ置換縮合芳香族環系化合物を、前記触媒粒子の床へと
、本発明の方法で用いる条件下で実質的に不活性であっ
てかつフェノール、チオフェノール、またはβ−ヒドロ
キン置換縮合芳香族環系化合物またはβ−チオ置換縮合
芳香族環系化合物を触媒床へと運ぶためのキャリアーガ
スとして役立つ希釈ガスの存在下で送る。この目的のた
めの適当な物質は窒素、水素およびアルボンを含む。好
ましくは、水素を用いる。水素の使用は触媒寿命を高め
る別の利点を与える。
本発明の方法は約300℃から、好ましくは約400℃
から、約600℃1好ましくは約500℃の範囲の温度
で行なわれる。300℃以下の反応温度では反応体の転
換はほとんどまたは全く起らない。
600℃以上の反応温度では、副生成物の生成が高まり
、そして所望生成物の生成に対する選択性は急速に低下
した。上記範囲内の何れのj4えられた温度においても
、触媒は長期間による失活、例えば10口間の運転で初
期活性の約38パーセントの喪失、を受ける。しかしな
がら、この失活は反応温度の定められた上昇で克服でき
る。こうして、本発明の方法の実施において、400℃
から、好ましくは約425℃から約500℃、好ましく
は約450℃の温度範囲内において約0.04℃/日か
ら約0.45℃/日、好ましくは約0.2℃/日まで、
さらに好ましくは約0.085℃/日の増加速度で反応
温度を徐々に高めることが非常に好ましい。本発明の方
法の実施中におけるこの温度上昇は触媒活性を維持しそ
して所望の生成物をほぼ一定して得るという利点を与え
る。
本発明の方法は約0.1気圧から、好ましくは約1気圧
から約50気圧まで、好ましくは約5気圧までの圧力で
行なわれる。
本発明は以下の実施例から明瞭に理解できるであろう。
実施例 1 水分吸着法で測定してダラム当り2.4立方センチメー
トルの細孔容積を有する14/40メツシユ粒子の中性
ヒユームドシリカ8.3グラム(ジエー・エル・カボッ
ト社のカポシル−L90D)(粉末状で水と混合して厚
いペーストを作り、これを次いで100℃で一夜乾燥し
、次いで5006C〜1000℃で12時間焼成し最後
にふるいにかけたものであった)を40重量パーセント
濃度のTh(N03)4 番4H20の撹拌した水溶液
33.5グラム中に20分間浸した。Th(No  )
   ・4H20で含浸した粒子を次いで110℃で一
夜乾燥しそして650℃で12時間焼成した。得られる
触媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づきThO3とじ
て計算して44重量パーセントのトリアを含んでいた。
実施例 2 実施例1の手法を繰り返したが、ただし水分吸収法で1
itlJ定してダラム当り2.0立方センチメートルの
細孔容積を有する中性ヒユームドシリカ粒子(ジエー・
エルΦカポット社のカポシルM−5)(粉末状として水
と混合して厚いペーストを作り、これを100℃で一夜
乾燥しそして500℃〜1000℃で12時間焼成しそ
して最後にふるいにかけたものであった)であって、少
なくとも99.99重量パーセントの純度のものであり
そして100万部当り2重量部以下のアルミニウムと1
00万部当り5重量部以下のナトリウムを含むものを実
施例1で用いたヒユームドシリカのかわりに用いた。得
られる触媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づきT h
 O2として計算して42重量パーセントのトリアを含
んでいた。
実施例 3 実施例2の手法を繰り返したが、ただし実施例2で用い
た40重量パーセントのTh(N03)2・4H20を
含む溶液のかわりに28重量パーセント濃度のTh(N
o  >   ・4H20溶液を用いた。
得られる触媒U子は含浸触媒粒子の総重量に基づきTh
02として計算して27重量パーセントのドリアを含ん
でいた。
実施例 4 実施例1の手法を繰り返したが、ただし酸性で比較的低
純度の(100万部当り300重量部のアルミニウムと
100万部当り800重量部のナトリウム含有)14/
40メツシユのコロイダルシリカ粒子10グラム(ルド
ックス社)(粉末として水と混合して厚いペーストを作
り、これを100℃で一夜乾燥し次いで500℃〜10
00℃で12時間焼成しそして最後にふるいにかけた)
であって、0.04重量パーセントのアルミナを含みそ
して水分吸着法で測定してダラム当り1.5立方センチ
メートルの細孔容積を有するもの10グラムを実施例1
で用いたヒユームドシリカ粒子のかわりに用いた。得ら
れる触媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づきThO2
として計算して23重回パーセントのドリアを含んでい
た。
実施例 5 実施例1の手法を繰り返したが、ただし酸性で比較的低
純度の(たかだか99重回パーセントの純度でそして1
00万部当り1000重量部のアルミニウムと100万
部当り60重量部のナトリウムを含む)14/40メツ
シユのシリカライト粒子10グラム(粉末として水と混
合して厚いペーストを作り、次いでこれを100℃で一
夜乾燥し次いで500℃〜1000℃で12時間焼成し
そして最後にふるいにかけたもの)であって、水分吸着
法で測定してダラム当り085立方センチメートルの細
孔容積を有するものを実施例1のヒユームドシリカのか
わりに用いた。得られる触媒粒子は含浸触媒粒子の総f
f1fflに基づきThO2として計算して17重回パ
ーセントのトリアを含んでいた。
実施例 6 実施例1の手法を繰り返したが、ただし14/40メツ
シユの中性のジルコニア粒子(99,99重回パーセン
トの純度でそして100万部当り5重量部のアルミニウ
ム、シリコンおよびナトリウムを組み合せて含む)(ア
ルリッヒ社)(粉末として水と混合して厚いペーストを
作り、次いでこれを100 ℃で一夜乾燥し次いで50
0℃〜1000℃で12時間焼成しそして最後にふるい
にかけたもの)であって、水分吸着法で測定してダラム
当り0.5立方センチメートルの細孔容積を有するもの
10グラムを実施例1のヒユームドシリカのかわりに用
いた。得られる触媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づ
きThO2として計算して16重回パーセントのトリア
を倉んでいた。
実施例 7 実施例1の手法を繰り返したが、ただし50重回パーセ
ントのTh(NO3)4・4H20を含む水溶、i&2
1.2グラムと、14/42メツシユの酸化チタン粒子
(99,5重量パーセントの純度で、0.3重量パーセ
ント以下のアルミナを含む)(デグッサ社のP−25)
(水と混合して厚いペーストを作り、これを次いで10
0℃で一夜乾燥し次いで500℃〜1000℃で12時
間焼成したもの)であって、水分吸着法で測定してダラ
ム当り0.389立方センチメートルの細孔容積をもつ
もの27.7グラムとを、実施例1で用いた溶液および
ヒユームドシリカ粒子のかわりに用いた。・得られる触
媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づきThO2として
計算して15重回パーセントのドリアを含んでいた。
実施例 8 実施例1の手法を繰り返したが、ただし54重回パーセ
ントのTh(NO3)4 ・4H20を含む水溶液8.
67グラムと、14/42メツシユの塩基性酸化マグネ
シウム粒子(98重回パーセントの純度で、アルファ社
からのもの)(水と混合して厚いペーストを作り、これ
を次いで100℃で一夜乾燥し次いで500℃〜100
0℃で12時間焼成したもの)であって、水分吸着法で
測定してダラム当り0.343立方センチメートルの細
孔容積をもつもの10.7グラムとを、実施例1で用い
た溶液およびヒユームドシリカ粒子のかわりに用いた。
得られる触媒↑−γ子は含浸触媒粒子の総重量に基づき
ThO□として計算して17重回パーセントのドリアを
含んでいた。
実施例 9 実施例1の手法を繰り返したが、ただし50重回パーセ
ントのTh(NO)  ・4H20を含む水溶液14.
95グラムと、14/ 42メツシユの酸性ヒユームド
アルミナ粒子(99,6重量パーセントの純度で、デグ
ッサ社のもの)(水と混合して厚いペーストを作り、こ
れを次いで100℃で一夜乾燥し次いで500℃〜10
00℃で12時間焼成したもの)であって、水分吸着法
で測定してダラム当り0,68立方センチメートルの細
孔容積をもつもの10.0グラムとを、実施例1で用い
た溶液およびヒユームドシリカ粒子のかわりに用いた。
得られる触媒粒子は含浸触媒粒子の総重量に基づきTh
O2として計算して30重回パーセントのドリアを含ん
でいた。種々のアルミナ(ヒユームド、アルファおよび
ガンマ)を同様に試験し、これらは本発明の方法のカッ
プリング反応に有効ではないことがわかった。
実施例 10 硝酸ナト1功ム(Th(NO3)4・4H2o)50グ
ラムを600℃で14時間焼成した。得られるTh(N
O3)4 ・4H20をふるいにかけて14/40メツ
シユを片単離した。
実施例11〜23 実施例11〜23の各々は、内径1.2センチメートル
の単純な石英管反応炉であって反応器の8センチメート
ルの長さを満たす14/ 42メツシユ触媒5ミリリツ
トルを充填したものを用いて行った。
次いで管を二−ロサーム919系で制御した単一帯域の
12インチリンドバーグ炉に置いた。バーバード装置の
シリンジ駆動を用いて1分間当り0.09〜0.11グ
ラムの一般的速度でp−クレゾールを加えた。添加の前
にp−クレゾールをトルエン対p−クレゾールのモル比
1:1でトルエンに溶解させた。一般に、1分間当り1
0ミリリツトルの流量の窒素を反応器と触媒床に送った
。代表的には、供給化合物と触媒床との接触時間は3〜
4秒であった。長期間の触媒失活実験を同様にして行っ
たが、ただし、コンスタメチスモデル!ポンプを用いて
反応体を一定の制御速度で加えた。主たる生成物を再結
晶と蒸留により分離した。
実施例11〜23で用いた触媒と条件を第1表に示し、
これらの実施例の結果を第2表に示す。
第      1      表 用いた 負荷 触媒/供給 温 度 実施例 触媒の     当 リ の 実施例 (%)  ThO2重量 (℃)11   4
   23    0.9    45012   5
   17    1.0    45013   7
   15    1.2    45014   8
   17    0.9    45015   9
   30    1.1    45016   1
   44    1.4    45017   2
   42     L、l     45018  
 3   27    0.7    45019  
 6   16    1.3    45020  
 2   42    1.1    42521  
 2    ’42    1.l     4502
2   2   42    1.1    4752
3   10  100    12.4    42
5第    2    表 11 5.0 3.060 12 20.0 15.077 13 18.8 0 0 1B  30.7 27.890 17 34.5 27.880 18 19.1 18.094 19 1g、9 17.592 20 18.0 14.480 21 34.5 27.880 22 53.3 39.774 23 41 38.995 実施例11〜15および23は比較例であり、実施例1
6〜22は本発明の方法を解説している。実施例16〜
22の結果を比較例11〜15と比較すると、所望の生
成物である4、4゛−ジメチルジフェニルエーテルの生
成のための高選択性を達成するためには本発明において
中性でほぼ純粋な担体を用いることが重要であることが
わかる。比較例14における塩基性担体、酸化マグネシ
ウムの使用は酸化トリウムの触媒活性を劇的に抑制した
。比較例11〜13および15における酸性担体の使用
は異性化、脱アルキル化、アルキル化を高め、こうして
所望生成物の生成のための選択性の低下をもたらした。
上記の記載より、本発明の目的が達成されていることは
明らかである。ある種の態様のみを示してきたが、別の
態様および種々の変形は上記の記載から当業者に明らか
であろう。これらの変形は等価とみなされそして本発明
の精神および範囲内(外4名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノール、チオフェノール、β−ヒドロキシ置換
    縮合芳香族環系化合物またはβ−チオ置換縮合芳香族環
    系化合物を、気相中で約300℃ないし約600℃の範
    囲の温度において、中性担体に担持した酸化ナトリウム
    からなる触媒粒子の床の存在下で加熱することからなる
    、ジアリールエーテルまたはジアリールスルフィドの製
    造方法。 2、フェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合芳香族環
    系化合物を加熱してジアリールエーテルを形成する請求
    項1記載の方法。 3、前記のフェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合芳
    香族環系化合物は、これらのなかのフェノール系酸素置
    換基は別として、未置換のものであるかあるいは炭素原
    子数1ないし10の少なくとも1つのアルキル基または
    カップリング反応に不活性な少なくとも1つの他の置換
    基でもってあるいは両置換基でもって慣用的に置換され
    ており、前記のアルキル基および他の不活性基の各々は
    フェノール系酸素置換基に対しオルト以外の位置の芳香
    族環炭素原子に付いており、前記アルキル基は任意に炭
    素原子数3ないし4を含み、そしてフェノールまたはβ
    −ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合物の芳香族環と組
    み合わせてこの芳香族環に融合した飽和環を形成する、
    請求項2に記載の方法。 4、フェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合芳香族環
    系化合物はフェノール、m−クレゾール、p−クレゾー
    ル、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、3
    ,4,5−トリメチルフェノール、5−テトラリノール
    である請求項3に記載の方法。 5、カップリング反応に対し不活性の溶媒に溶解したフ
    ェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合芳香族環系化合
    物でカップリングを行う、請求項2に記載の方法。 6、溶媒はベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、
    ヘプタン、テトラヒドロフラン、または1,4−ジオキ
    サンである請求項5に記載の方法。 7、カップリング反応に対し不活性なキャリヤーガスを
    用いてフェノールまたはβ−ヒドロキシ置換縮合芳香族
    環系化合物を触媒床に運ぶ、請求項2に記載の方法。 8、キャリヤーガスは水素である、請求項7に記載の方
    法。 9、触媒担体は純粋シリカ、純粋ジルコニア、炭素、ア
    スベストおよび石英からなる群から選ばれる、請求項2
    に記載の方法。 10、触媒担体は純粋シリカまたは純粋ジルコニアであ
    ってかつ元素状金属として計算して100万部当り10
    00部以下の金属不純物を含む、請求項9記載の方法。 11、触媒担体はヒュームドシリカまたはジルコニアで
    ある、請求項10記載の方法。 12、約600℃ないし約800℃の範囲の温度で担体
    に沈着させたトリウム塩の焼成により触媒を作る、請求
    項2記載の方法。 13、トリウム塩の沈着の前に中性担体を500〜10
    00℃で焼成する、請求項12記載の方法。 14、反応温度は約425℃ないし約450℃の範囲で
    ある、請求項2記載の方法。 15、カップリング反応中に、約425℃ないし約45
    0℃の温度範囲で1口当り約0.04℃ないし約0.4
    5℃の上昇速度で反応温度を徐々に高める、請求項14
    記載の方法。
JP63289935A 1987-11-16 1988-11-16 ジアリールエーテルおよびジアリールスルフィドの製造方法 Pending JPH01165540A (ja)

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EP0317208A3 (en) 1990-11-28
US4898982A (en) 1990-02-06
EP0317208A2 (en) 1989-05-24

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