JPH01144555A - High-frequency induction-coupled plasma analyzer - Google Patents
High-frequency induction-coupled plasma analyzerInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起
し生じたイオンを検出することにより該試料中の被測定
元素を分析する装置であって電源の異常を自己診断でき
るようにした高周波誘導結合プラズマ分析計に関する。[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is an apparatus for analyzing an element to be measured in a sample by exciting the sample using high-frequency inductively coupled plasma and detecting the generated ions. This invention relates to a high-frequency inductively coupled plasma analyzer that can self-diagnose abnormalities in the power supply.
〈従来の技術〉
高周波誘導結合プラズマ分析計は、高周波誘導結合プラ
ズマを用いて試料を励起させ、生じたイオンを検出し該
イオン量を精密に測定することにより、試料中の被測定
元素を高精度に分析するように構成されている。第３図
は、このような高周波誘導結合プラズマ分析計の従来例
の１つとして挙げられる高周波誘導結合プラズマ質量分
析計の構成説明図である。この図において、プラズマト
ーチ１の外室１ｂと最外室１ｃにはガス調節器２を介し
てアルゴンガス供給源３からアルゴンガスが供給され、
内室１ａには試料ＩＮ４内の試料がネプライザ５で霧化
されてのちアルゴンガスによって搬入されるようになっ
ている。また、プラズマトーチ１に巻回された高周波誘
導コイル６には高周波電源７によって高周波電流が流さ
れ、該コイル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が形成
されている。一方、ノズル８とスキマー９に挟まれたフ
ォアチャンバー／Ｏ内は、真空ポンプ１１によって例え
ばＩＴｏｒｒ、に吸引されている。また、センターチャ
ンバー１２の内部は第１油拡散ポンプ１２−によって例
えば／Ｏ−’Ｔｏｒｒ、に吸引され、マスフィルタ（例
えば四重径マスフィルタ）１４を収容しているリアチャ
ンバー１３内は第２油拡散ポンプ１５によって例えば１
Ｏ−ＩＴｏｒｒ、に吸引されている。この状態で上記高
周波磁界の近傍でアルゴンガス中に電子がイオンが植え
付けられると、該高周波磁界の作用によって瞬時に高周
波誘導プラズマ１８が生ずる。該プラズマ１８内のイオ
ンは、ノズル８やスキマー９を経由してのち図示しない
イオンレンズ（例えばダブレット四重径レンズ）の間を
通って収束されてのちマスフィルタ１４を介して二次電
子増倍管１６に導かれて検出され、該検出信号がコンピ
ータ１７に送出されて演算・処理されることによって前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。<Prior art> A high-frequency inductively coupled plasma analyzer excites a sample using high-frequency inductively coupled plasma, detects the generated ions, and precisely measures the amount of ions, thereby increasing the concentration of the element to be measured in the sample. Constructed to analyze with precision. FIG. 3 is an explanatory diagram of the configuration of a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, which is one of the conventional examples of such a high frequency inductively coupled plasma analyzer. In this figure, argon gas is supplied from an argon gas supply source 3 to an outer chamber 1b and an outermost chamber 1c of a plasma torch 1 via a gas regulator 2.
The sample in the sample IN4 is atomized by a nebulizer 5 and then carried into the inner chamber 1a by argon gas. Further, a high frequency current is passed through a high frequency induction coil 6 wound around the plasma torch 1 by a high frequency power supply 7, and a high frequency magnetic field (not shown) is formed around the coil 6. On the other hand, the inside of the forechamber/O sandwiched between the nozzle 8 and the skimmer 9 is suctioned to, for example, ITorr by a vacuum pump 11. The inside of the center chamber 12 is sucked to, for example, /O-'Torr by the first oil diffusion pump 12-, and the inside of the rear chamber 13 housing the mass filter (for example, a four-diameter mass filter) 14 is For example, 1
It is attracted to O-ITorr. In this state, when electrons and ions are planted in the argon gas near the high frequency magnetic field, high frequency induced plasma 18 is instantaneously generated by the action of the high frequency magnetic field. The ions in the plasma 18 pass through the nozzle 8 and the skimmer 9, and then pass through an ion lens (not shown) (for example, a doublet quadruple diameter lens) to be converged, and then pass through the mass filter 14 and undergo secondary electron multiplication. The sample is guided into a tube 16 and detected, and the detection signal is sent to a computer 17 where it is calculated and processed, thereby determining the analysis value of the element to be measured in the sample.
〈発明が解決しようとする問題点〉
然るに、上記従来例においては、電源に異常が発生した
か否かを人間（分析者）がチェックするようになってい
た。また、電源に異常がある場合には各ユニットに電源
入力が供給されていないことが多いため、これらのユニ
ットに電源入力が正確に供給されているか否かを調べる
のが最も単純且つ重要なこととなっていた。しかし、電
源入力が供給されるべき上記ユニットの数が多いため、
これらのユニットに電源入力が正確に供給されているか
否かを全て人間（分析者）がチェックしようとすると多
くの時間と繁雑な作業を必要とする欠点があった；
゛
本発明は、かかる従来例の欠点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、電源に異常が発生したか否かを自動
的にチェックして電源の異常を自己診断できるようにし
た高周波誘導結合プラズマ分析計分析計を提供すること
にある。<Problems to be Solved by the Invention> However, in the conventional example described above, a human (analyst) checks whether or not an abnormality has occurred in the power supply. Also, if there is an abnormality in the power supply, power input is often not being supplied to each unit, so the simplest and most important thing to do is to check whether the power input is accurately supplied to these units. It became. However, due to the large number of above units that should be supplied with power input,
If a human (analyst) were to check whether the power input is being accurately supplied to these units, it would require a lot of time and complicated work;
゛The present invention has been made in view of the drawbacks of the conventional example, and its purpose is to provide a high-frequency power supply system that automatically checks whether or not an abnormality has occurred in the power supply and can self-diagnose the abnormality of the power supply. An object of the present invention is to provide an inductively coupled plasma analyzer analyzer.
く問題点を解決するための手段〉
上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、高周波
誘導結合プラズマ分析計において、共通の電圧電源と、
該共通電圧電源に対して並列接続された複数個のトラン
スと、前記共通電圧電源に対して並列接続された複数個
のシリーズ電源と、高周波誘導結合プラズマ分析計本体
に装着され電源電圧を必要としている第１〜第ｎユニッ
トの一部であって前記トランスに夫々接続された第１〜
第ｎの電源入力部と、高周波誘導結合プラズマ分析計本
体に装着され電源電圧を必要としている第（ｎ＋１）〜
第２ｎユニットの一部であって前記シリーズ電源に夫々
１対ずつ接続された第（ｎ＋１）〜第４ｎの電源入力部
と、前記第１〜第４ｎの電源入力部に夫々付属するよう
に接続されこれら電源入力部へ入力される電源電圧を夫
々検出する第１〜第４ｎの電圧チェック部品と、該検出
信号が一定値に達しないときに前記第１〜第４ｎの電圧
チェック部品から接点信号が送られるＩ／Ｏボードと、
前記第１〜第４ｎの電源入力部へ入力される電源電圧が
前記一定値に達しているが否かを表示するワークステー
ションとを具備し、該ワークステーションの表示から前
記第１〜第４ｎの電源入力部へ入力される電源電圧の異
常を自己診断することにある。Means for Solving the Problems> A feature of the present invention that solves the above problems is that in a high frequency inductively coupled plasma analyzer, a common voltage power supply and
a plurality of transformers connected in parallel to the common voltage power supply; a plurality of series power supplies connected in parallel to the common voltage power supply; the first to nth units connected to the transformer, respectively;
The nth power supply input section and the (n+1)th to
The (n+1) to 4nth power input sections, which are part of the 2nth unit and are connected to the series power supply in pairs, are connected to the first to 4nth power input sections, respectively. and a contact signal from the first to fourth nth voltage check components when the detection signal does not reach a certain value. The I/O board to which the
and a workstation that displays whether or not the power supply voltages input to the first to fourth nth power input units have reached the certain value, and from the display of the workstation, the first to fourth nth The purpose is to self-diagnose abnormalities in the power supply voltage input to the power supply input section.
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、１９
は例えば三相２００Ｖの電圧電源、２０Ａ１〜２０Ａ１
はトランス、２０Ｂ１〜２０日１はシリーズ電源、２１
Ａ、〜２１Ａ１と２１Ｂ１〜２１Ｂ１は高周波誘導結合
プラズマ分析計に装着され電源電圧（例えば直流電圧／
ＯＶ、直流電圧２４■、交流電圧７．５Ｖ、交流電圧／
Ｏ０■、若しくは交流電圧２００■等）を必要としてい
る例えば増幅器などでなる各ユニットの電源入力部、２
２ Ａ、１〜２２Ａ１と２２Ｂ、〜２２Ｂπは電源入力
部２１Ａ、〜２１Ａ１と電源入力部２１Ｂ、〜２１Ｂπ
に夫々付属している電圧チェック部品、２３はＩ／Ｏボ
ード、２４は例えばパーソナルコンピータでなるワーク
ステーションである。また、電源入力部２１Ａ１〜２１
Ａπと電源入力部２１Ｂ１〜２１Ｂ１へ入力される電源
電圧は電圧チェック部品２２Ａ１〜２２Ａ１と電圧チェ
ック部品２２Ｂ１〜２２Ｂ１で夫々検出されるようにな
っている。尚、第３図で示した高周波誘導プラズマａｍ
分析計の全体的な構成は本発明実施例においても同一で
あるため、ここでの重複説明は省略する。<Example> Hereinafter, the present invention will be described in detail using the drawings. 1st
The figure is an explanatory diagram of the main part configuration of the embodiment of the present invention, and in the figure, 19
For example, a three-phase 200V voltage power supply, 20A1 to 20A1
is a transformer, 20B1 to 20 days 1 is a series power supply, 21
A, ~21A1 and 21B1~21B1 are installed in a high frequency inductively coupled plasma analyzer and are connected to the power supply voltage (e.g. DC voltage/
OV, DC voltage 24■, AC voltage 7.5V, AC voltage/
The power input section of each unit, such as an amplifier, which requires a voltage of 00 or AC voltage of 200
2A, 1 to 22A1 and 22B, to 22Bπ are the power input section 21A, to 21A1 and the power input section 21B, to 21Bπ
23 is an I/O board, and 24 is a workstation consisting of, for example, a personal computer. In addition, power input sections 21A1 to 21
Aπ and the power supply voltage input to the power supply input sections 21B1 to 21B1 are detected by the voltage check components 22A1 to 22A1 and the voltage check components 22B1 to 22B1, respectively. In addition, the high frequency induced plasma am shown in Fig. 3
Since the overall configuration of the analyzer is the same in the embodiments of the present invention, repeated explanation will be omitted here.
第１図のような要部構成からなる本発明実施例において
、以下、第２図に示したフローチャートを用いながら動
作説明を行なう。第１図及び第２図において、電源入力
部２１Ａ１〜２１Ａ１と電源入力部２１Ｂ１〜２１Ｂ１
へ入力される電源電圧は電圧チェック部品２２Ａ１〜２
２Ａ１と電圧チェック部品２２Ｂ１〜２２Ｂ１で夫々検
出され、各々一定の電圧値（例えば直流電圧／ＯＶ、直
流電圧２４Ｖ、交流電圧７．５Ｖ、交流電圧／Ｏ０Ｖ、
若しくは交流電圧２００Ｖ等の値）となっているか否か
チェックされる。このようなチェックによって、特定の
電源入力部（例えば電源入力部２１ＡＴＬ）へ入力され
るべき電源電圧が上記一定の電圧値に達せず電源電圧が
異常であると判断された場合には、該電源入力部（例え
ば電源入力部２１ＡＴＬ）の電源電圧をチェックした電
圧チェック部品（例えば電源入力＃２２Ａｖｔ）からＩ
／Ｏボード２３へ接点出力が送られ、ワークステーショ
ン２４に当該電源入力部（例えば電源入力部２１Ａ１）
の電源電圧が異常である旨表示されるようになる。また
、上述のようなチェックによって、電源入力部へ入力さ
れるべき電源電圧が全て上記一定の電圧値に達しており
電源電圧が正常であると判ＩＪＪｉされた場合には、全
ての電圧チェック部品からＩ／Ｏボード２３へ接点出力
が送られ、ワークステーション２４に全ての電源入力部
の電源電圧が正常である旨表示される。従って、ワーク
ステーション２４の表示を見るだけで、電源入力部へ入
力されるべき電源電圧が一定の電圧値に達しているか否
か、即ち、電源電圧が正常であるか否かが分かるように
なる。In the embodiment of the present invention having the essential configuration as shown in FIG. 1, the operation will be explained below using the flowchart shown in FIG. In FIG. 1 and FIG. 2, power input units 21A1 to 21A1 and power input units 21B1 to 21B1
The power supply voltage input to the voltage check components 22A1-2
2A1 and the voltage check components 22B1 to 22B1, each having a certain voltage value (for example, DC voltage/OV, DC voltage 24V, AC voltage 7.5V, AC voltage/O0V,
or a value such as an AC voltage of 200 V). Through such checks, if it is determined that the power supply voltage to be input to a specific power supply input section (for example, the power supply input section 21ATL) does not reach the above-mentioned certain voltage value and the power supply voltage is abnormal, the power supply voltage is I
The contact output is sent to the /O board 23, and the workstation 24 receives the power input section (for example, the power input section 21A1).
A message will appear indicating that the power supply voltage is abnormal. In addition, if it is determined that all the power supply voltages to be input to the power supply input section have reached the above-mentioned certain voltage value by the above-mentioned check and that the power supply voltages are normal, then all the voltage check parts A contact output is sent from the I/O board 23 to the workstation 24, indicating that the power supply voltages of all power input sections are normal. Therefore, just by looking at the display on the workstation 24, it is possible to know whether the power supply voltage to be input to the power supply input section has reached a certain voltage value, that is, whether the power supply voltage is normal or not. .
尚、本発明は上述の実施例に限定されることなく種々の
変形が可能であり、上記ワークステーション２４に代え
てパネル上の警報ランプやブザーを用いても良いものと
する。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments and can be modified in various ways, and an alarm lamp or buzzer on a panel may be used in place of the workstation 24.
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したような本発明の実施例によれば、電
源に異常が発生したが否かを自動的にチェックして電源
の異常を自己診断できるようにした高周波誘導結合プラ
ズマ分析計が実現する。また、ワークステーション２４
に一括表示されたデータを見るだけで、電源の異常箇所
が一目で分がり電源チェックかが極めて容易にできると
いう利点もある。<Effects of the Invention> According to the embodiments of the present invention as described in detail above, a high-frequency inductively coupled plasma that automatically checks whether an abnormality has occurred in the power supply and can self-diagnose an abnormality in the power supply is provided. The analyzer becomes a reality. In addition, workstation 24
Another advantage is that by simply looking at the data displayed all at once, you can see at a glance where there is an abnormality in the power supply, making it extremely easy to check the power supply.
第１図は本発明実施例の要部構成説明図、第２図は本発
明実施例の動作を説明するフローチャート、第３図は高
周波誘導結合プラズマ分析計の全体図である。
１・・・プラズマトーチ、３・・・アルゴンガス供給源
、８・・・・・・ノズル、９・旧・・スキマー、／Ｏ・
・・・・・フォアチャンバー、
１２・・・・・・センターチャンバー、１３・・・リア
チャンバー、１１１・・・・・・マスフィルタ、１７・
・・・・・信号処理部。
１８・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、１９・・・
・・・電圧電源
２０Ａ１〜２０Ａ１・・・・・・トランス２０Ｂ、〜２
０Ｂ１・・・・・・シリーズ電源２１Ａ、〜２１Ａπ、
’２１Ｂｔ 〜２１Ｂ１・・・・・・・・・・・・・
・・各ユニットの電源入力部２２ Ａ ＋〜２２Ａπ、
２２Ｂ１〜２２Ｂπ・・・・・・・・・・・・・・・電
圧チェック部品２３・・・・・・Ｉ／Ｏボード
２４・・・・・・ワークステーションFIG. 1 is an explanatory diagram of the main part configuration of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a flowchart explaining the operation of the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an overall diagram of a high frequency inductively coupled plasma analyzer. 1... Plasma torch, 3... Argon gas supply source, 8... Nozzle, 9... Old skimmer, /O.
...Fore chamber, 12... Center chamber, 13... Rear chamber, 111... Mass filter, 17.
...Signal processing section. 18...High frequency inductively coupled plasma, 19...
...Voltage power supply 20A1-20A1...Transformer 20B, ~2
0B1...Series power supply 21A, ~21Aπ,
'21Bt ~21B1・・・・・・・・・・・・・
・・Power input section 22A+~22Aπ of each unit,
22B1~22Bπ・・・・・・・・・・・・Voltage check parts 23・・・I/O board 24・・・Workstation
Claims (2)
じたイオンを検出することにより前記試料中の被測定元
素を分析する高周波誘導結合プラズマ分析計において、
共通の電圧電源と、該共通電圧電源に対して並列接続さ
れた複数個のトランスと、前記共通電圧電源に対して並
列接続された複数個のシリーズ電源と、高周波誘導結合
プラズマ分析計本体に装着され電源電圧を必要としてい
る第１〜第ｎユニットの一部であって前記トランスに夫
々接続された第１〜第ｎの電源入力部と、高周波誘導結
合プラズマ分析計本体に装着され電源電圧を必要として
いる第（ｎ＋１）〜第２ｎユニットの一部であって前記
シリーズ電源に夫々１対ずつ接続された第（ｎ＋１）〜
第４ｎの電源入力部と、前記第１〜第４ｎの電源入力部
に夫々付属するように接続されこれら電源入力部へ入力
される電源電圧を夫々検出する第１〜第４ｎの電圧チェ
ック部品と、該検出信号が一定値に達しないときに前記
第１〜第４ｎの電圧チェック部品から接点信号が送られ
るＩ／Ｏボードと、前記第１〜第４ｎの電源入力部へ入
力される電源電圧が前記一定値に達しているか否かを表
示するワークステーションとを具備し、該ワークステー
ションの表示から前記第１〜第４ｎの電源入力部へ入力
される電源電圧の異常を自己診断することを特徴とする
高周波誘導結合プラズマ分析計。(1) In a high frequency inductively coupled plasma analyzer that analyzes the element to be measured in the sample by exciting the sample using high frequency inductively coupled plasma and detecting the generated ions,
A common voltage power supply, a plurality of transformers connected in parallel to the common voltage power supply, a plurality of series power supplies connected in parallel to the common voltage power supply, and installed in the main body of a high frequency inductively coupled plasma analyzer. The first to nth power input sections, which are part of the first to nth units that require a power supply voltage and are connected to the transformer, respectively, and the first to nth power supply input sections that are attached to the main body of the high frequency inductively coupled plasma analyzer and which require a power supply voltage. The (n+1)th to (n+1)th units that are part of the required (n+1) to 2nth units and are connected to the series power supply in pairs, respectively.
a 4nth power input section; and 1st to 4nth voltage check components that are connected to the first to fourthn power input sections and detect the power supply voltages input to these power input sections, respectively; , an I/O board to which a contact signal is sent from the first to fourth nth voltage check components when the detection signal does not reach a certain value; and a power supply voltage input to the first to fourth nth power input sections. a workstation that displays whether or not the voltage has reached the certain value; Features: High frequency inductively coupled plasma analyzer.
第（１）項記載の高周波誘導結合プラズマ分析計。(2) The high frequency inductively coupled plasma analyzer according to claim (1), wherein the unit is an operational amplifier.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62301943A JPH01144555A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | High-frequency induction-coupled plasma analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62301943A JPH01144555A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | High-frequency induction-coupled plasma analyzer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01144555A true JPH01144555A (en) | 1989-06-06 |
Family
ID=17902978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62301943A Pending JPH01144555A (en) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | High-frequency induction-coupled plasma analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01144555A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8083638B2 (en) | 2008-03-04 | 2011-12-27 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Control device for vehicle power transmitting apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59148531A (en) * | 1983-02-08 | 1984-08-25 | 日本電気株式会社 | Power source controller |
| JPS62202450A (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Yokogawa Electric Corp | High frequency inductive coupling plasma-mass spectrometer |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP62301943A patent/JPH01144555A/en active Pending
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
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