JPH01138689A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH01138689A
JPH01138689A JP62296814A JP29681487A JPH01138689A JP H01138689 A JPH01138689 A JP H01138689A JP 62296814 A JP62296814 A JP 62296814A JP 29681487 A JP29681487 A JP 29681487A JP H01138689 A JPH01138689 A JP H01138689A
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bit line
vdd
inverse
ras
memory cell
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布施 常明
Fujio Masuoka
富士雄 舛岡
Yasushi Sakui
康司 作井
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Abstract

PURPOSE:To shorten the cycle time of a dynamic RAM by taking in a column address in preference to a row address in a read cycle as well as a write cycle. CONSTITUTION:In the read cycle, a word line MW1 is selected and data in a dynamic RAM cell MC1 and a dummy cell DC2 is transferred to a latch type memory cell 20 when the inverse of a row address strobe RAS is switched from '1' to '0'. When the inverse of a column address strobe CAS is switched to '0' in preference to the inverse of the RAS at this time, a column selection line CSLi is selected just after word line section and data is read out to the external, and thereafter, a transfer gate 30 between bit lines BL and the inverse of BL and the latch type memory cell 20 is turned off, and bit lines are precharged with the inverse of RAS kept in the '0' state. In the write cycle, the timing of bit line precharge in the active period of the inverse of the RAS is accelerated.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体記憶装置に係り、特に破壊読出しを行
うダイナミック型メモリセルを集積したダイナミック型
RAM (dRAM)に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a dynamic RAM (dRAM) that integrates dynamic memory cells that perform destructive reading.

(従来の技術) 近年、コンピュータの大容ご化、高速化は目覚ましい。(Conventional technology) In recent years, computers have become larger and faster.

しかしながら、更に大容量化と高速化の両方を促進する
ことは、困難な状況になっている。例えば、主記憶装置
としてスタティックRAM (s RAM)を用いた場
合には、容量の点でダイナミックRAM (dRAM)
に劣り、価格もdRAMの場4合に比べて高くなる。d
RAMを主記憶装置として用いると、高速性においてs
 RAMに劣る。
However, it has become difficult to further increase both capacity and speed. For example, when static RAM (s RAM) is used as the main memory, dynamic RAM (dRAM)
In the case of dRAM, the price is also higher than in the case of dRAM. d
When RAM is used as the main memory, the speed is s
Inferior to RAM.

dRAMがs RAMに比べて動作速度の点で劣るのは
、従来よりdRAMはアドレス・マルチブレタス方式の
採用により集積度を高め、ビット・コストを下げている
ためである。またdRAMは破壊読出し型であるため、
リフレッシュとビット線プリチャージを必要とする、と
いう事情もある。
The reason why dRAM is inferior to sRAM in operating speed is that dRAM has conventionally adopted an address multi-letter system to increase the degree of integration and reduce bit cost. Also, since dRAM is a destructive read type,
There are also circumstances in which refresh and bit line precharge are required.

s RAMを主記憶装置として用いるコンピュータのマ
シン・サイクルは、sRAMのアクセス時間のみで決ま
るが、dRAMの場合にはアクセス時間とビット線プリ
チャージ時間により、マシン・サイクルが決まる。
The machine cycle of a computer using sRAM as a main memory is determined only by the access time of sRAM, but in the case of dRAM, the machine cycle is determined by the access time and bit line precharge time.

そして従来のアドレス・マルチプレクス方式のdRAM
システムでは、アドレス豐データ・セレクタはカラム・
アドレス・ストローブ(CAS)のみの情報で制御され
、dRAMの読出しサイクルと書込みサイクルの区別は
ない。即ちアクティブ・サイクルでは、dRAMにはロ
ウ・アドレス・ストローブ(RAS)が先に入って、次
いでCASが入る。アドレスデータ・セレクタからは常
にロウ・アドレス、カラム番アドレスの順で出力されて
これがdRAMチップに人力される。このためdRAM
のサイクル時間を短縮することが難しく、結局これを用
いたコンピュータのマシン・サイクルを十分に短縮でき
なかった。
and conventional address multiplexed dRAM.
On the system, the address data selector is
It is controlled using only address strobe (CAS) information, and there is no distinction between dRAM read cycles and write cycles. That is, in the active cycle, the row address strobe (RAS) is first input to dRAM, and then the CAS is input. The address/data selector always outputs the row address and column number address in this order, and these are manually input to the dRAM chip. For this reason, dRAM
It was difficult to shorten the cycle time of the machine, and in the end, the machine cycle of the computer using this could not be shortened sufficiently.

今後dRAMを用いてコンピュータの大容量化。In the future, dRAM will be used to increase the capacity of computers.

高速化を図る場合には、以上のような意味でサイクル時
間を如何に短縮するかが重要な問題となる。
In the case of increasing the speed, an important issue is how to shorten the cycle time in the above sense.

(発明が解決しようとする問題点) 以上のように従来のdRAMでは、アクセス時間の短縮
がそのままサイクル時間の短縮につながらず、従ってこ
れを使用したコンピュータのマシン・サイクルを短縮す
ることができない、という問題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional dRAM, shortening the access time does not directly lead to shortening the cycle time, and therefore, it is not possible to shorten the machine cycle of a computer using the dRAM. There was a problem.

本発明はこの様な問題を解決して、サイクル時間の短縮
を可能としたdRAMを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve such problems and provide a dRAM that can shorten the cycle time.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、アドレス・マルチプレクス方式のdRAMに
おいて、読出しサイクル、書込みサイクル共に、CAS
が先に入ってカラム・アドレスがまず取込まれ、次いで
RASが入ってロウ・アドレスが取込まれるようにした
ことを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving Problems) The present invention provides an address multiplex type dRAM in which CAS is used for both read and write cycles.
It is characterized in that RAS is entered first and the column address is fetched first, and then RAS is entered and the row address is fetched.

(作用) 本発明は特に、各ビット線と入出力線の間に、ビット線
プリチャージ期間中のデータの読出し。
(Function) The present invention particularly provides data reading between each bit line and an input/output line during a bit line precharge period.

書込みを可能とするラッチ型メモリセルを設けた場合に
有効である。即ち、読出しサイクルでは、RASが“1
”から0”になるとワード線が選択されてメモリセルの
データがラッチ型メモリセルに転送される。このとき、
RASに先行させてCASを“0”に落としておくと、
ワード線選択後直ぐにカラム選択線を選択してデータを
外部に読み出すことがきる。その後はビット線とラッチ
型メモリセルの間のトランスファゲートをオフとするこ
とで、RASが“0”の状態のまま、ビット線プリチャ
ージを行なうことができる。この結果、従来RASプリ
チャージ期間に行なっていたビット・プリチャージをR
,A Sアクティブ期間に行なうことができるため、サ
イクル時間の短縮が可能になる。また書込みサイクルで
も、カラム・アドレスが先行して取込まれるとRASア
クティブ期間中のビット線プリチャージのタイミングを
速めることができ、従ってサイクル時間の短縮につなが
る。
This is effective when a latch type memory cell that allows writing is provided. That is, in the read cycle, RAS is “1”.
When the value changes from "0" to "0", the word line is selected and the data in the memory cell is transferred to the latch type memory cell. At this time,
If you drop CAS to “0” before RAS,
Immediately after selecting a word line, a column selection line can be selected to read data to the outside. Thereafter, by turning off the transfer gate between the bit line and the latch type memory cell, bit line precharging can be performed while RAS remains in the "0" state. As a result, the bit precharge that was conventionally performed during the RAS precharge period is
, AS can be carried out during the active period, thereby making it possible to shorten the cycle time. Also, in the write cycle, if the column address is taken in advance, the timing of bit line precharge during the RAS active period can be accelerated, which leads to a reduction in cycle time.

(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、一実施例のdRAMの要部構成を示す。半導
体基板に、複数対のビット線BL。
FIG. 1 shows the main part configuration of a dRAM according to an embodiment. Multiple pairs of bit lines BL are provided on the semiconductor substrate.

BL (BLI 、 BLI 、BL2. BL2 、
・・・)と罠数本のワード線MW (MWI 、MW2
 、・・・)が交差して配設され、その各交差位置にd
RAMセルMC(MCI 、MC2、・・・)が配置さ
れる。
BL (BLI, BLI, BL2. BL2,
) and several word lines MW (MWI, MW2
,...) are arranged in an intersecting manner, and d is placed at each intersecting position.
RAM cells MC (MCI, MC2, . . . ) are arranged.

dRAMセルMCはワード線MWにより選択駆動されて
、ビット線BL、BLとの間でデータのやりとりを行う
。各ビット線対BL、BLには、dRAMセルの他、一
つずつダミーセルDCI 。
The dRAM cell MC is selectively driven by the word line MW and exchanges data with the bit lines BL. Each bit line pair BL, BL includes one dRAM cell and one dummy cell DCI.

DC2が設けられている。ダミーセルDCI 。DC2 is provided. Dummy cell DCI.

DC2はダミー・ワード線DWI 、DW2により駆動
される。ビット線BL、BLの一端部には、ビット線B
L、BLに読み出されたデータを検出するビット線セン
スアンプ10 (10,−1,10−2,・・・)が設
けられている。50’(50−1゜50−2.・・・)
はビット線BL、BLをイコライズし、プリチャージす
る回路(以下、プリチャージ回路)である。ビット線B
L、BLの他端部には、第1のトランスファゲート30
 (30−1゜30−2.・・・)を介してラッチ型メ
モリセル20(20−1,20−2,・・・)が接続さ
れている。
DC2 is driven by dummy word lines DWI and DW2. The bit lines BL and one end of the BL are connected to the bit line B.
Bit line sense amplifiers 10 (10, -1, 10-2, . . . ) are provided to detect data read out to L and BL. 50' (50-1゜50-2...)
is a circuit (hereinafter referred to as a precharge circuit) that equalizes and precharges the bit lines BL, BL. Bit line B
A first transfer gate 30 is provided at the other ends of L and BL.
The latch type memory cells 20 (20-1, 20-2, . . . ) are connected via (30-1, 30-2, . . . ).

ラッチ型メモリセル20は第2のトランスファゲート4
0 (40−1,40−2,・・・)を介して入出力線
I10.I10に接続されている。
The latch type memory cell 20 is connected to the second transfer gate 4
0 (40-1, 40-2, . . . ) via input/output lines I10. Connected to I10.

第2図は、第1図のdRAMの具体的な構成例である。FIG. 2 shows a specific configuration example of the dRAM shown in FIG. 1.

dRAMセルMCおよびダミーセルDCハ、−個のMO
Sトランジスタと一個のキャパシタからなる周知のもの
である。キャパシタの基準電位端子はプレート71S@
Vpt、に接続されている。
dRAM cell MC and dummy cell DC - MO
This is a well-known device consisting of an S transistor and one capacitor. The reference potential terminal of the capacitor is plate 71S@
Vpt.

ダミーセルDCI、DC2には、プリチャージ電源VD
Cに接続された書込み用のnチャネルMOS)ランジス
タQ91Q10が設けられている。ビット線センスアン
プ10は、nチャネルMOSトランジスタ対Q4.Q5
とpチャネルMOS)ランジスタ対Q6.Q7とから構
成され、それぞれの対のソースに活性化信号φSE+φ
SEが入るようになっている。プリチャージ回路50は
、ゲートに共通にイコライズ信号EQL1が入る3個の
nチャネルMOSトランジスタQ】〜Q3により構成さ
れている。Ql。
Dummy cells DCI and DC2 have a precharge power supply VD.
A writing n-channel MOS) transistor Q91Q10 connected to C is provided. Bit line sense amplifier 10 includes n-channel MOS transistor pair Q4. Q5
and p-channel MOS) transistor pair Q6. Q7, and an activation signal φSE+φ is applied to the source of each pair.
SE is now included. The precharge circuit 50 is composed of three n-channel MOS transistors Q] to Q3 whose gates commonly receive an equalize signal EQL1. Ql.

Q2はプリチャージ用であり、それぞれのソースがビッ
ト線BL、BLに接続され、ドレインは共通にプリチャ
ージ用電源VBLに接続されている。
Q2 is for precharging, and its sources are connected to the bit lines BL and BL, and its drains are commonly connected to the precharging power supply VBL.

イコライズ用MOSトランジスタQ3はソース。Equalizing MOS transistor Q3 is the source.

ドレインがそれぞれビット線BL、BLに接続されてい
る。
Drains are connected to bit lines BL and BL, respectively.

ラッチ型メモリセル20は、nチャネルMOSトランジ
スタ対Q+81Q19からなるフリップフロップと、p
チャネルMOSトランジスタ対Q21+ 022からな
るフリップフロップとにより構成されている。それぞれ
のトランジスタ対のソースには、ラッチ用クロックφC
E、  φCEが入る。Q20はイコライズ用のnチャ
ネルMOSトランジスタである。この様なラッチ型メモ
リセル20のノードA、Aはそれぞれ、第1のトランス
ファゲート30を構成するnチャネルMOSトランジス
タQ16.Ql7を介してビット線BL。
The latch type memory cell 20 includes a flip-flop consisting of a pair of n-channel MOS transistors Q+81Q19, and a p-channel MOS transistor pair Q+81Q19.
It is constituted by a flip-flop consisting of a channel MOS transistor pair Q21+022. A latch clock φC is connected to the source of each transistor pair.
E, φCE enters. Q20 is an n-channel MOS transistor for equalization. Nodes A, A of such a latch type memory cell 20 are connected to n-channel MOS transistors Q16 . Bit line BL via Ql7.

BLに接続され、また第2のトランスファゲート40を
構成するnチャネルMOSトランジスタQ23.Q24
を介して入出力線I10.I10に接続されている。第
1のトランスファゲート30はクロックφTにより制御
される。第2のトランスファゲート40は、カラム・ア
ドレスにより選択されるカラム選択線C3Lに接続され
ている。
An n-channel MOS transistor Q23 . Q24
via the input/output line I10. Connected to I10. The first transfer gate 30 is controlled by the clock φT. The second transfer gate 40 is connected to a column selection line C3L selected by a column address.

この様に構成されたdRAMでの読出しサイクルの動作
を、第3図を参照して説明する。第3図は、ビット線を
(1/2)VDDにプリチャージする方式で、ラッチ型
メモリセルのデータを入出力線に転送する動作を行う場
合の信号波形を示している。最初、ビット線イコライズ
信号EQL1のレベルはVDDであり、またビット線プ
リチャージ電源VBしは(1/2)VDpであるため、
ビット線BL、BLは全て(1/2)Vo・oにプリチ
ャージされている。いま、i番目のビット線対BLI、
BL1に着目し、dRAMセルMC。
The read cycle operation of the dRAM configured in this manner will be explained with reference to FIG. FIG. 3 shows signal waveforms when data in a latch type memory cell is transferred to an input/output line using a method of precharging the bit line to (1/2) VDD. Initially, the level of the bit line equalize signal EQL1 is VDD, and the bit line precharge power supply VB is (1/2) VDP, so
The bit lines BL and BL are all precharged to (1/2) Vo·o. Now, the i-th bit line pair BLI,
Focusing on BL1, dRAM cell MC.

のキャパシタのノードN1にはVDD(論理“1”)が
書き込まれているとする。またダミーセルDC2のキャ
パシタのノードN3には、(1/2)VDDのレベルが
書込み電源VOCにより初期設定されているとする。
It is assumed that VDD (logic "1") is written in the node N1 of the capacitor. It is also assumed that the level of (1/2) VDD is initially set at the node N3 of the capacitor of the dummy cell DC2 by the write power supply VOC.

CA S l)< RA S +:先行して論理“1”
(Vr+t)から論理“0” (VIL)になると、ま
ずカラム・アドレスがチップ内に取込まれる。例えばi
番目のカラムが選択されたとすると、カラム選択線C5
Liこはこの時点ではVSSからVDDに立上がらない
が、i番目のカラム・アドレスはカラム選択線のデコー
ダ(図示せず)にラッチされる。
CA S l) < RA S +: Logic “1” in advance
When (Vr+t) becomes logic "0" (VIL), the column address is first taken into the chip. For example i
If the th column is selected, the column selection line C5
Although Li does not rise from VSS to VDD at this point, the i-th column address is latched into a column selection line decoder (not shown).

次にRASが論理“1” (VIH)から“0”(V、
L)になると、イコライズ信号EQLL 。
Next, RAS changes from logic “1” (VIH) to “0” (V,
When it becomes L), the equalize signal EQLL.

EQL2がVDDからVSSに下がって、ワード線MW
、が選ばれ、これとダミーワード線D W 2が同時に
VSSから(3/2)VDDまで上がる。
EQL2 drops from VDD to VSS, word line MW
, is selected, and this and the dummy word line D W 2 are simultaneously raised from VSS to (3/2) VDD.

これにより、dRAMセルMCIMC−ミーセルDC2
の内容がそれぞれビット線BL、BLに読み出される。
As a result, dRAM cell MCIMC-me cell DC2
The contents of are read out to the bit lines BL and BL, respectively.

このとき、ラッチ型メモリセル2゜のイコライズ信号E
QL3がVDDからVSSに下がる。次いで、ビット線
センスアンプ10のnチャネル側活性化信号φSEが(
1/2)VDDからVSSに、引続きpチャネル側活性
化信号φSEが(1/2)VDDからVSSに下がる。
At this time, the equalization signal E of the latch type memory cell 2°
QL3 drops from VDD to VSS. Next, the n-channel side activation signal φSE of the bit line sense amplifier 10 becomes (
Subsequently, the p-channel side activation signal φSE falls from (1/2) VDD to VSS.

これにより、論理“1″のデータが読み出された側のビ
ット線BLはVDDまで上がり、ダミーセルDC2のデ
ータが読み出されたビット線BLがVSSまで下がる。
As a result, the bit line BL on the side from which logic "1" data has been read goes up to VDD, and the bit line BL from which the data of the dummy cell DC2 has been read goes down to VSS.

次に、クロックφTがVSSからVDDになり、第1の
トランスファゲート30がオンする。そしてラッチ信号
φCE +  φCεがそれぞれ(1/2)VDDから
vssになると、ビット線BL、BLの内容がラッチ型
メモリセル20の八−ドA、 Aに伝わる。次にカラム
選択線のデコーダにラッチされていたカラム・アドレス
によりカラム選択線C5LiがVSSからVDDまで上
がり、ノードA、Aが入出力セλ線I10.I10に接
続される。いまの場合、IloはVDDを保ち、Ilo
はVDDからVSSに下がって、データアウト量バッフ
ァがの出力V outがHlzから“H“レベル出力V
OHとなる。同時にクロックφTがVDDからVSSに
下がり、ビット線からラッチ型メモリセルが切離された
後、ワード線MWI 、  ダミーワード線DW2が(
3/2)VDDからVDDに下がり、ビット線イコライ
ズ信号EQLIがVSSからVDDに上がって、ビット
線プリチャージがなされる。
Next, the clock φT changes from VSS to VDD, and the first transfer gate 30 is turned on. When the latch signals φCE + φCε respectively go from (1/2) VDD to vss, the contents of the bit lines BL and BL are transmitted to the eighth nodes A and A of the latch type memory cell 20. Next, the column address latched in the column selection line decoder causes the column selection line C5Li to rise from VSS to VDD, and nodes A and A are connected to input/output lines I10. Connected to I10. In this case, Ilo keeps VDD and Ilo
falls from VDD to VSS, and the output V out of the data out amount buffer decreases from Hlz to “H” level output V
It becomes OH. At the same time, the clock φT falls from VDD to VSS, and after the latch type memory cell is separated from the bit line, the word line MWI and the dummy word line DW2 (
3/2) The voltage drops from VDD to VDD, and the bit line equalize signal EQLI rises from VSS to VDD, thereby precharging the bit line.

以上のようにしてこの実施例のdRAMでは、ビット線
にラッチ型メモリセルを設けて読出したデータをここに
一時蓄えることにより、RASアクティブ期間にもビッ
ト線プリチャージを行うことができる。
As described above, in the dRAM of this embodiment, by providing a latch type memory cell on the bit line and temporarily storing read data therein, the bit line can be precharged even during the RAS active period.

第4図は、書込みサイクルの動作を説明するための信号
波形である。書込みサイクルでも、CASがRASに先
行して“1”から“0″になり、i番目のカラム争アド
レスがカラム選択線のデコーダにラッチされることは、
読出しサイクルと同じである。書込みトリガ信号WEが
“1”から“0″になると書込み系回路が作動し、デー
タイン・バッファが動作して入出力線I 10゜Ilo
のセンスアンプが活性化される。例えば入力データが“
0”であれば、IloはVDDからVSSに下がり、I
loはVDDを保つ。
FIG. 4 shows signal waveforms for explaining the write cycle operation. Even in the write cycle, CAS goes from "1" to "0" before RAS, and the i-th column contention address is latched into the decoder of the column selection line.
Same as read cycle. When the write trigger signal WE changes from "1" to "0", the write system circuit operates, the data-in buffer operates, and the input/output line I10°Ilo is activated.
sense amplifier is activated. For example, if the input data is “
0”, Ilo falls from VDD to VSS and I
lo maintains VDD.

この後RASが“1”から“0″になると、イコライズ
信号EQL1〜EQL3がVDDからVSSに下がり、
ビット線BLf、BL1およびラッチ型メモリセルのノ
ードAt、AIはフローティングになる。入力されたロ
ウ・アドレスにより、ワード線MW1とダミーワード線
DW2のレベルがVSSから(3/2)VDDにまで上
がると同時に、既にカラム・デコーダにラッチされてい
たカラム・アドレスによりカラム選択線C5LiがVS
SからVDDまで上がり、クロックφTもVSSからV
DDまで上がる。これにより、第1.第2トランスファ
ゲート30.40はオンし、ビット線BLi、BLIは
それぞれ人出力線110.Iloに接続されて、一方B
Liは)1/2)VDDからVSSに下がり、他方BL
Iは(1/2)VDDからVDDに上がる。
After this, when RAS changes from "1" to "0", equalize signals EQL1 to EQL3 fall from VDD to VSS,
The bit lines BLf, BL1 and the nodes At, AI of the latch type memory cells become floating. Due to the input row address, the level of word line MW1 and dummy word line DW2 rises from VSS to (3/2) VDD, and at the same time, the level of column selection line C5Li is increased due to the column address already latched in the column decoder. is VS
The clock φT also rises from VSS to VDD.
It goes up to DD. As a result, the first. The second transfer gates 30.40 are turned on, and the bit lines BLi, BLI are connected to the human output lines 110.40, respectively. connected to Ilo, while B
Li falls from )1/2) VDD to VSS, and the other BL
I rises from (1/2) VDD to VDD.

次にnチャネル側センスアンプ活性化信号φsEとメモ
リセル・ラッチ信号φCEが同時に(1/2)VDDか
らVSSに下がり、pチャネル側センスアンプ活性化信
号φSEとメモリセル・ラッチ信号φCεが同時に(1
/2)VDDからvDDに上がり、選択メモリセルへの
データ書込みと非選択メモリセルの再書込みが始まる。
Next, the n-channel side sense amplifier activation signal φsE and the memory cell latch signal φCE simultaneously fall from (1/2) VDD to VSS, and the p-channel side sense amplifier activation signal φSE and the memory cell latch signal φCε simultaneously decrease ( 1
/2) The voltage rises from VDD to vDD, and data writing to the selected memory cell and rewriting to the unselected memory cell begin.

即ち、選択されたdRAMセルMCIMC−ドN1とダ
ミーセルDC2のノードN2はそれぞれビット線BL1
.BLiに接続されているため、ノードN、はVDDか
らVSSに下がって論理“0”が書込まれ、ノードN3
は(1/2)VDDからVDDに上がる。非選択メモリ
セルの再書込みが十分に行われた後、ワード線MWIと
ダミーワード線DW2は(3/2)VDDからVSSに
下がる。はぼ同時にクロツクφTもvDDからVSSに
下がり、ビット線からラッチ型メモリセルが切離される
と、ビット線イコライズ信号E’ Q L LがVss
からVDDに上がり、ビット線プリチャージが始まる。
That is, the selected dRAM cell MCIMC-domain N1 and the node N2 of the dummy cell DC2 are connected to the bit line BL1, respectively.
.. Since it is connected to BLi, node N, drops from VDD to VSS and a logic “0” is written, and node N3
increases from (1/2) VDD to VDD. After the unselected memory cells are sufficiently rewritten, the word line MWI and the dummy word line DW2 are lowered from (3/2) VDD to VSS. At about the same time, the clock φT also drops from vDD to VSS, and when the latch type memory cell is disconnected from the bit line, the bit line equalize signal E' Q L L goes down to Vss.
The voltage rises to VDD, and bit line precharging begins.

同時にイコライズ信号EQL2がVSSからVDDに上
がり、ダミーセルに(1/2)VDDの初期設定レベル
が書込まれる。
At the same time, the equalize signal EQL2 rises from VSS to VDD, and the initial setting level of (1/2) VDD is written into the dummy cell.

こうして書込みサイクルでは、書込むべきデータが速め
にラッチ型メモリセルにラッチされるために、その後の
ビット線プリチャージのタイミングも速めることができ
る。
In this way, in the write cycle, the data to be written is latched into the latch type memory cell quickly, so that the timing of subsequent bit line precharging can also be sped up.

以上説明したようにこの実施例では、各ビット線にラッ
チ型メモリセルを設けた構成を利用し、書込みサイクル
、読出しサイクル共にCASをRA Sに先行させて、
ロウ・アドレスより先に力多ム・アドレスをdRAMチ
ップ内に取込んでいる。従って読出しサイクルでは、ラ
ッチ型メモリセルに読出したデータを出力させながら、
ビット線プリチャージを行うことができる。即ち、従来
RASプリチャージ期間に行っていたビット線プリチャ
ージをRASアクティブ期間中に行うことができる。書
込みサイクルでは、ワード線が選択されると同時にカラ
ム選択線の選択が行われて速やかな書込みがなされ、書
込みサイクル終了後に直ぐにビット線プリチャージが行
われる。以上の結果、サイクル時間を従来に比べて大幅
に短縮することができる。
As explained above, this embodiment utilizes a configuration in which each bit line is provided with a latch type memory cell, and CAS precedes RA S in both write and read cycles.
The output address is loaded into the dRAM chip before the row address. Therefore, in the read cycle, while outputting the read data to the latch type memory cell,
Bit line precharge can be performed. That is, bit line precharging, which was conventionally performed during the RAS precharge period, can be performed during the RAS active period. In the write cycle, the column selection line is selected at the same time as the word line is selected, and writing is performed quickly, and the bit line is precharged immediately after the write cycle is completed. As a result of the above, the cycle time can be significantly shortened compared to the conventional method.

その他、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で種々変形
して実施することが可能である。
In addition, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the spirit thereof.

r発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、・読出しサイクル、
書込みサイクル共にカラム・アドレスをロウ・アドレス
に先行させて取込むことによって、dRAMのサイクル
時間の大幅な短縮が図られ、このシステムをdRAMを
主記憶装置とするコンピュータに適用すれば、高速のマ
シン・サイクルを実現することができる。
r Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, - read cycle;
By loading the column address before the row address during the write cycle, the cycle time of dRAM can be significantly shortened, and if this system is applied to a computer that uses dRAM as the main memory, it can be used in high-speed machines.・It is possible to realize the cycle.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例におけるdRAMの要部構成
を示すブロック図、第2図はその具体的回路構成を示す
図、第3図はその読出しサイクル動作を説明するための
信号波形図、第4図は同じく書込みサイクル動作を説明
するための信号波形図である。 MC(MCI 、MC2、・・・)・・・dRAMセル
、DCI 、DC2・・・ダミーセル、BE、、  B
L(BLI、BLl、BE2.BE2・・・)・・・ビ
・ント線、MW (MWL 、MW2 、  ・・・)
・・・ワード線、DWI 、DW2−1’ ミー’7−
F線、I 10゜Ilo・・・入出力線、10・・・セ
ンスアンプ、20・・・ラッチ型メモリセル、30・・
・第1のトランスファゲート、40・・・第2のトラン
スファゲート、50・・・プリチャージ回路。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
FIG. 1 is a block diagram showing the main part configuration of dRAM in one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing its specific circuit configuration, and FIG. 3 is a signal waveform diagram for explaining its read cycle operation. Similarly, FIG. 4 is a signal waveform diagram for explaining the write cycle operation. MC (MCI, MC2,...)...dRAM cell, DCI, DC2...dummy cell, BE, B
L (BLI, BLl, BE2.BE2...)... Bi-nt line, MW (MWL, MW2,...)
...Word line, DWI, DW2-1'Me'7-
F line, I 10゜Ilo...Input/output line, 10...Sense amplifier, 20...Latch type memory cell, 30...
- First transfer gate, 40... second transfer gate, 50... precharge circuit. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体基板にランダムアクセス可能なメモリセル
が集積形成され、各メモリセルとデータのやりとりを行
う複数本のビット線および、メモリセルの選択を行うビ
ット線と交差する複数本のワード線を備え、ビット線を
選択するカラム・アドレスとワード線を選択するロウ・
アドレスとが同一ピンから入力されるアドレス・マルチ
プレクス方式の半導体記憶装置において、読出しサイク
ル、書込みサイクル共に、初めにカラム・アドレス・ス
トローブによりカラム・アドレスが取込まれ、次いでロ
ウ・アドレス・ストローブによりロウ・アドレスが取込
まれるようにしたことを特徴とする半導体記憶装置。
(1) Randomly accessible memory cells are integrated on a semiconductor substrate, with multiple bit lines for exchanging data with each memory cell and multiple word lines that intersect with the bit lines for selecting memory cells. column address to select the bit line and row address to select the word line.
In an address multiplex semiconductor memory device where an address is input from the same pin, in both read and write cycles, the column address is first taken in by a column address strobe, and then by a row address strobe. A semiconductor memory device characterized in that a row address is captured.
(2)前記各ビット線には、ビット線プリチャージ期間
中にデータの読出し、書込みを行なうためのラッチ型メ
モリセルがトランスファゲートを介して接続されている
特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
(2) The semiconductor according to claim 1, wherein each bit line is connected to a latch type memory cell via a transfer gate for reading and writing data during a bit line precharge period. Storage device.
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