JPH01132944A - 高周波を利用した測定溶液中の成分測定計 - Google Patents
高周波を利用した測定溶液中の成分測定計Info
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- JPH01132944A JPH01132944A JP28930087A JP28930087A JPH01132944A JP H01132944 A JPH01132944 A JP H01132944A JP 28930087 A JP28930087 A JP 28930087A JP 28930087 A JP28930087 A JP 28930087A JP H01132944 A JPH01132944 A JP H01132944A
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、化学プロセスなどにおいて律速的に状態量成
分を測定または検知することができる新規な非接触式、
非破壊式の高周波を利用した測定溶液中の成分測定計に
関するものである。
分を測定または検知することができる新規な非接触式、
非破壊式の高周波を利用した測定溶液中の成分測定計に
関するものである。
(従来の技術)
あらゆる工業、製造事業所および作業工程において、特
に生産工場ではその生産工程(ρrocess)の条件
を一定に保つとか、また時間的に定まった変化に従わせ
たりする制御がどうしても必要であり、種々の制御シス
テムが組み込まれたときに最も有用な結果を生む。この
ことは省エネ、省力、経済性等を左右することになり、
合理的制御なしでは、それらの目的を十分に果たせない
といえる。
に生産工場ではその生産工程(ρrocess)の条件
を一定に保つとか、また時間的に定まった変化に従わせ
たりする制御がどうしても必要であり、種々の制御シス
テムが組み込まれたときに最も有用な結果を生む。この
ことは省エネ、省力、経済性等を左右することになり、
合理的制御なしでは、それらの目的を十分に果たせない
といえる。
特に、化学プロセスにおける制御システムには調節計、
バルブ、撹拌あるいは化学反応そのものなど、多くの状
態量の要素が含まれていて、それらの要因すべてが制御
を成功するか否かにかかってくる。したがって、通常の
化学プロセスの制御ではいわゆる状態量成分を検知して
、その情報のフィードバックが基本になる。
バルブ、撹拌あるいは化学反応そのものなど、多くの状
態量の要素が含まれていて、それらの要因すべてが制御
を成功するか否かにかかってくる。したがって、通常の
化学プロセスの制御ではいわゆる状態量成分を検知して
、その情報のフィードバックが基本になる。
一般に、化学プロセスでは律速的に成分検知が必要であ
り、フィードバックループ内の重要な要素であると共に
不可欠な方法である。
り、フィードバックループ内の重要な要素であると共に
不可欠な方法である。
従来の成分測定手段、特に化学的イオン制御プロセスに
おいて用いられる成分測定(検知も含む。
おいて用いられる成分測定(検知も含む。
以下同じ、)方法としては、
[相]測定対象試料に測定計を直接接融させるか否かに
より、接触的方法と非接触方法に大別するか、または別
の角度からみて ■測定対象試料を破壊するか否かにより、破壊的方法と
非破壊的方法に大別される。
より、接触的方法と非接触方法に大別するか、または別
の角度からみて ■測定対象試料を破壊するか否かにより、破壊的方法と
非破壊的方法に大別される。
前記した接触的方法/非接触的方法の区分において従来
の成分測定計を考察すると、電導度計、pu計、OR’
P計(酸化還元電位計)、電位計、電流的滴定計などの
測定対象となる成分溶液に電極(主として貴金属)を浸
漬して測定する接触式のもの、あるいは光学的測定計(
反射、透過、比色の測定)や電磁誘導式測定計(透電恒
数、磁気モーメントの測定)などの非接触式のものがあ
る。
の成分測定計を考察すると、電導度計、pu計、OR’
P計(酸化還元電位計)、電位計、電流的滴定計などの
測定対象となる成分溶液に電極(主として貴金属)を浸
漬して測定する接触式のもの、あるいは光学的測定計(
反射、透過、比色の測定)や電磁誘導式測定計(透電恒
数、磁気モーメントの測定)などの非接触式のものがあ
る。
そこで、次に前記した各種測定手段の実用性について考
案する。
案する。
化学プロセスにおける成分性状を測定または検知する場
合、往々にして、測定特性は対数値をとることが多い。
合、往々にして、測定特性は対数値をとることが多い。
したがって、高濃度域溶液あるいは極端に希薄な溶液で
は感度が一定にならず特に、高濃度領域では感度が低く
成分測定は困難であるといえる。
は感度が一定にならず特に、高濃度領域では感度が低く
成分測定は困難であるといえる。
即ち、高濃度領域成分の測定および検知ではPH計のよ
うにpH1〜2あるいは12〜14値では酸誤差やアル
カリ誤差という欠点がある。
うにpH1〜2あるいは12〜14値では酸誤差やアル
カリ誤差という欠点がある。
実際上、諸工業および諸工業生産工程ではN規定や%濃
度の成分を取り扱うケースが多く、もはやPH1以下あ
るいはpH12以上の成分測定は不可欠である。 PH
計に限らず、従来の測定手段は実状にあわず1作業工程
を制御することが困難になり、やむを得ず希釈法とか比
率法といった方法を採る。
度の成分を取り扱うケースが多く、もはやPH1以下あ
るいはpH12以上の成分測定は不可欠である。 PH
計に限らず、従来の測定手段は実状にあわず1作業工程
を制御することが困難になり、やむを得ず希釈法とか比
率法といった方法を採る。
これはどうしてもサンプリングによって行われるのが通
例で、所望の成分を一部抜き取って測定するので、化学
プロセスのライン系から廃棄することになり、制御のタ
イムラグや誤差が生じて精度の点1合理性の面に不満が
多いものとなる。なお。
例で、所望の成分を一部抜き取って測定するので、化学
プロセスのライン系から廃棄することになり、制御のタ
イムラグや誤差が生じて精度の点1合理性の面に不満が
多いものとなる。なお。
この種の方法は前記した区分からすれば破壊的測定に位
置づけられるものである。
置づけられるものである。
一方、非破壊的方法では前記の欠点は無いものの、成分
組成や性状の絶対値情報を得にくい難点がある6例えば
化学的エツチング操作において。
組成や性状の絶対値情報を得にくい難点がある6例えば
化学的エツチング操作において。
エツチング溶液は濃紺色特有の色相であり光学的測定を
採用しても直接的に測定できない、またこのエツチング
溶液を希釈したり、あるい他の発色剤を用いて反射、透
過、比色などで測定しようとしても測定が困雅なもので
ある。しかしながら。
採用しても直接的に測定できない、またこのエツチング
溶液を希釈したり、あるい他の発色剤を用いて反射、透
過、比色などで測定しようとしても測定が困雅なもので
ある。しかしながら。
諸工業における作業工程の、特に高濃度成分を扱う作業
工程でしかも製造ラインの連続化の場合には、非破壊的
測定方法や検知方法が最も適切な方法なのである。
工程でしかも製造ラインの連続化の場合には、非破壊的
測定方法や検知方法が最も適切な方法なのである。
また、成分測定の精度向上の面から従来技術を考察する
と、例えば特に最近においては、測定系の物質の特性変
化、性状変化を検出するうえで、半導体の諸効果を利用
した多くのセンサが開発されている。しかしながら、こ
の半導体素子は一般的には高い感度を有しているので変
化量に関する信号の検出、増幅には有利であるものの、
(6号以外の変化量に対しても敏感に応答してしまう欠
点があり、必ずしも精度向上に寄与するものではない、
従って、新たに測定計を開発する場合、この測定精度を
十分に確保することが極めて重要である。
と、例えば特に最近においては、測定系の物質の特性変
化、性状変化を検出するうえで、半導体の諸効果を利用
した多くのセンサが開発されている。しかしながら、こ
の半導体素子は一般的には高い感度を有しているので変
化量に関する信号の検出、増幅には有利であるものの、
(6号以外の変化量に対しても敏感に応答してしまう欠
点があり、必ずしも精度向上に寄与するものではない、
従って、新たに測定計を開発する場合、この測定精度を
十分に確保することが極めて重要である。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者らは、前記した従来の各種測定計の欠点を解消
すべく鋭意検討した結果、高周波発振器を含む同調回路
に、低周波の交番電流発生器からの補助コイルで巻回さ
れた永久磁石とを相互作用させることにより、非接触式
で非破壊式の、かつ測定精度の優れる高周波を利用した
成分測定計が得られることを見い出し、本発明を完成す
るに至った・ 〔発明の構成〕 (問題点を解決するための手段) 本発明を゛概説すれば、本発明は、 高周波を利用した潤定容液中の成分測定計において、 ・低周波の交番電流発生器からの補助コイルに巻回され
た永久磁石、 ・測定容液用の試料容器を巻回した高周波発振器からの
高周波コイルを、前記永久磁石の作る磁界と高周波コイ
ルの作る磁界が直角になるように、前記永久磁石の磁界
中に設置された高周波発振器と高周波コイルを含む同調
回路、 ・前記補助コイルに低周波の交番電流を印加した状態で
、測定溶液の内容に依存して高周波コイルに生じる変化
量を検出する、前記同調回路に設けられた検出計、 から構成さ、れることを特徴とする高周波を利用した測
定溶液中の成分測定計に関するものである。
すべく鋭意検討した結果、高周波発振器を含む同調回路
に、低周波の交番電流発生器からの補助コイルで巻回さ
れた永久磁石とを相互作用させることにより、非接触式
で非破壊式の、かつ測定精度の優れる高周波を利用した
成分測定計が得られることを見い出し、本発明を完成す
るに至った・ 〔発明の構成〕 (問題点を解決するための手段) 本発明を゛概説すれば、本発明は、 高周波を利用した潤定容液中の成分測定計において、 ・低周波の交番電流発生器からの補助コイルに巻回され
た永久磁石、 ・測定容液用の試料容器を巻回した高周波発振器からの
高周波コイルを、前記永久磁石の作る磁界と高周波コイ
ルの作る磁界が直角になるように、前記永久磁石の磁界
中に設置された高周波発振器と高周波コイルを含む同調
回路、 ・前記補助コイルに低周波の交番電流を印加した状態で
、測定溶液の内容に依存して高周波コイルに生じる変化
量を検出する、前記同調回路に設けられた検出計、 から構成さ、れることを特徴とする高周波を利用した測
定溶液中の成分測定計に関するものである。
以下、本発明の構成について詳しく説明する。
まず、本発明の高周波を利用した測定溶液中の成分測定
計の構成について第1図の回路図に基づいて説明する。
計の構成について第1図の回路図に基づいて説明する。
第1図に示されるように、本発明の成分測定計の回路図
は、大きくわけて ・高周波発生器■−−周波コイル■(これは試料容器■
を巻回する)−検出計に)の回路系。
は、大きくわけて ・高周波発生器■−−周波コイル■(これは試料容器■
を巻回する)−検出計に)の回路系。
・低周波の交番電流発生器■−−助コイル0−永久磁石
■(磁石は補助コイルで巻回される)の系。
■(磁石は補助コイルで巻回される)の系。
の二つから構成される。
(i) 高周波発生器■を含む回路系について。
第1図の高周波発生器■−高高周波コイルー−検出計)
から構成される回路系を、第2図のように書きなおすと
、これは周知の同調回路となる。従って、前記高周波発
生器■を含む回路系を、以下。
から構成される回路系を、第2図のように書きなおすと
、これは周知の同調回路となる。従って、前記高周波発
生器■を含む回路系を、以下。
同調回路系ともいう。
第2図において、高周波発生器■より抵抗rを通じて電
流を流して、電圧降下Vを生じさせる。
流を流して、電圧降下Vを生じさせる。
一方、高周波コイル■−試料容器■間の測定端子(A、
B)に直列的に可変コンデンサー〇を結び直列回路を形
成する。いま、可変コンデンサー〇を操作して回路の同
調をとり、このときの端子電圧Vcを電圧計で測定する
。 Vc/vの比の値をQ値とすれば、他の条件を一定
にして試料溶液のみを変化させた場合、試料溶液の成分
変化に応じてQ値の変化量を検出することができる。な
お、第2図のLeはコイルの自己インダクタンス、Rc
は抵抗、Ceはコンデンサである。
B)に直列的に可変コンデンサー〇を結び直列回路を形
成する。いま、可変コンデンサー〇を操作して回路の同
調をとり、このときの端子電圧Vcを電圧計で測定する
。 Vc/vの比の値をQ値とすれば、他の条件を一定
にして試料溶液のみを変化させた場合、試料溶液の成分
変化に応じてQ値の変化量を検出することができる。な
お、第2図のLeはコイルの自己インダクタンス、Rc
は抵抗、Ceはコンデンサである。
即ち、測定対象となる溶液試料を満たした試料容器■を
、高周波発振器■を含む同調回路系の一部(等価回路と
して直列回路でも並列回路であっても良い)に挿入して
おくと、測定溶液の状態変化(成分化合物の変化やイオ
ン濃度の変化など)に応じて、特性変化(溶液の電気伝
導度、透電恒数など)、共鳴エネルギーの吸収が生起し
たとき、電気的発振器側からみればVc/v=Q値が変
わることになる1本発明の測定計は、このQ値が変化す
るという現象にベースを置くもので、これにより測定溶
液の濃度測定や成分検知、さらには生産プロセスの制御
を行なおうとするものである。
、高周波発振器■を含む同調回路系の一部(等価回路と
して直列回路でも並列回路であっても良い)に挿入して
おくと、測定溶液の状態変化(成分化合物の変化やイオ
ン濃度の変化など)に応じて、特性変化(溶液の電気伝
導度、透電恒数など)、共鳴エネルギーの吸収が生起し
たとき、電気的発振器側からみればVc/v=Q値が変
わることになる1本発明の測定計は、このQ値が変化す
るという現象にベースを置くもので、これにより測定溶
液の濃度測定や成分検知、さらには生産プロセスの制御
を行なおうとするものである。
次に、前記したQ値の測定において、同調回路系がどの
ような特性をもつものでなければならないか説明する。
ような特性をもつものでなければならないか説明する。
(イ) 今、高周波コイル■に巻回された試料容器■に
測定溶液を入れて測定する場合、測定系の電気回路は、
第3図■に示される等価回路が構成されていると認めら
れる。第3図において、C1・・・試料容器の静電容量 C2・・・測定溶液の静電容量 R・・・測定溶液の電気抵抗 L・・・高周波コイルのインダクタンスを示す。第3図
■は説明の便宜上、測定溶液の特性として静電容量(C
2)と電気抵抗(R)のみを考慮し、外部エネルギーの
吸収による共鳴などについては考慮していない。しかし
、Q値の変動要因の説明としてはこれで十分と考えられ
る。このような測定系において、LとC工は一定である
から、C2とRの変化に応じて電気的な変化量を捉える
ことができる。さらに本発明においては、高周波を用い
ていることから、C2も殆んど変化しないから、この測
定系の電気的変化量は、Rに大きく依存することになる
。測定溶液として電解質溶液を用い、その濃度測定を行
なう場合を想定してみる。この場合、重質濃度が小さい
ときRは大きく、従って高周波電流はRに流れず、はと
んど全部C3を通して流れるので、第3図■のようにR
を無視して良、い、第3図■のようにRを無視すると、
発振周波数10は次式で表わされる。
測定溶液を入れて測定する場合、測定系の電気回路は、
第3図■に示される等価回路が構成されていると認めら
れる。第3図において、C1・・・試料容器の静電容量 C2・・・測定溶液の静電容量 R・・・測定溶液の電気抵抗 L・・・高周波コイルのインダクタンスを示す。第3図
■は説明の便宜上、測定溶液の特性として静電容量(C
2)と電気抵抗(R)のみを考慮し、外部エネルギーの
吸収による共鳴などについては考慮していない。しかし
、Q値の変動要因の説明としてはこれで十分と考えられ
る。このような測定系において、LとC工は一定である
から、C2とRの変化に応じて電気的な変化量を捉える
ことができる。さらに本発明においては、高周波を用い
ていることから、C2も殆んど変化しないから、この測
定系の電気的変化量は、Rに大きく依存することになる
。測定溶液として電解質溶液を用い、その濃度測定を行
なう場合を想定してみる。この場合、重質濃度が小さい
ときRは大きく、従って高周波電流はRに流れず、はと
んど全部C3を通して流れるので、第3図■のようにR
を無視して良、い、第3図■のようにRを無視すると、
発振周波数10は次式で表わされる。
(ロ) 次に、電解質濃度が高くなると、Rは極めで小
さくなるため、R=Oと仮定してC2は短絡すると考え
てよい。即ち、第3図■のようにRとC2を無視した回
路となり、その場合の発振周波数fは次式で表ねされる
。
さくなるため、R=Oと仮定してC2は短絡すると考え
てよい。即ち、第3図■のようにRとC2を無視した回
路となり、その場合の発振周波数fは次式で表ねされる
。
!=−
2πJLC□
これは、fが測定溶液の濃度には依存せず、Lと01だ
けで決まることを意味する。
けで決まることを意味する。
この場合、共振回路に流れる電流の最大値(最大の検出
値)を得ようとするには、RとC□の関係は次式を満足
するものでなければならない。
値)を得ようとするには、RとC□の関係は次式を満足
するものでなければならない。
2πfC1R=1
即ち、上式において実際上C1,Rが小さい値をとるこ
とから、fをできるだけ高くする方が良いことが判る。
とから、fをできるだけ高くする方が良いことが判る。
特に、測定溶液としてエツチング溶液などの濃度の高い
電解質溶液を測定しようとする場合、Rは極めて小さい
値をとるので高い周波数を使用する方が測定濃度範囲を
広くとれるために有利である。
電解質溶液を測定しようとする場合、Rは極めて小さい
値をとるので高い周波数を使用する方が測定濃度範囲を
広くとれるために有利である。
本発明者らの実験により1周波数が高くなければなるほ
ど電磁シールドをより完全にしないと測定値にバラツキ
が生じること、経済性に欠けること、取扱上に電波法な
どの規定をうけること、などを考慮して数1(1MHz
、より好ましくは10〜30M1lzの周波数が良好で
ある。
ど電磁シールドをより完全にしないと測定値にバラツキ
が生じること、経済性に欠けること、取扱上に電波法な
どの規定をうけること、などを考慮して数1(1MHz
、より好ましくは10〜30M1lzの周波数が良好で
ある。
しかしながら、前記した10〜30MHzの周波数帯で
は、同調回路系に生じるQ値の検出量が極めて微弱であ
り実用に供し得ない。
は、同調回路系に生じるQ値の検出量が極めて微弱であ
り実用に供し得ない。
前記した欠点は、第1図に示した低周波の交番電流発生
器■−補助コイル0−永久磁石■で形成される回路(以
下、付加回路という、)により解決することができる。
器■−補助コイル0−永久磁石■で形成される回路(以
下、付加回路という、)により解決することができる。
(it) 低周波の交番電流発生器■を含む回路系に
ついて。
ついて。
前記(i)の高周波発振器■を含む回路系、即ち同調回
路系の欠点を解決するため、本発明においては測定系に
永久磁石■による強磁界と補助コイル0による弱い交番
電流磁界との合成磁界を作用させる。
路系の欠点を解決するため、本発明においては測定系に
永久磁石■による強磁界と補助コイル0による弱い交番
電流磁界との合成磁界を作用させる。
即ち、同調回路における高周波コイル■により外周を巻
回された試料容器■を、前記永久磁石■と補助コイル0
とにより作られる合成磁界に対して高周波コイル■の作
る磁界が直角になるように、前記合成磁界中に設置され
る。
回された試料容器■を、前記永久磁石■と補助コイル0
とにより作られる合成磁界に対して高周波コイル■の作
る磁界が直角になるように、前記合成磁界中に設置され
る。
これは、あたかもスピーカーまたはレシーバ−の原理を
応用したもので、永久磁石■の作る磁界と低周波の交番
電流が流れている補助コイル0の作る磁界の重畳により
前記(i)の同調回路系により発生した微弱な検出量を
増大ならしめる(振幅の増大)作用を利用(相互誘導作
用の利用)したものといえる。これを、測定系の化学種
のレベルにたって考察すると次のようになる。
応用したもので、永久磁石■の作る磁界と低周波の交番
電流が流れている補助コイル0の作る磁界の重畳により
前記(i)の同調回路系により発生した微弱な検出量を
増大ならしめる(振幅の増大)作用を利用(相互誘導作
用の利用)したものといえる。これを、測定系の化学種
のレベルにたって考察すると次のようになる。
測定系に置かれた一つの化学種の原子核の核磁気共鳴を
一定の周波数で測定してみると、化合物によって異った
磁場(磁界)に共鳴点が現われる。
一定の周波数で測定してみると、化合物によって異った
磁場(磁界)に共鳴点が現われる。
そして原子またはイオンでは、その閉殻をなす電子は外
磁場(永久磁石)を打ち消すような磁場(反磁場)を与
えるが、反磁場は外磁場と同じ向きの磁場につけ加えら
れるようになる。これは外磁場によっても電子の電流分
布が分極して磁気モーメントが誘起されることによるも
のと解される。
磁場(永久磁石)を打ち消すような磁場(反磁場)を与
えるが、反磁場は外磁場と同じ向きの磁場につけ加えら
れるようになる。これは外磁場によっても電子の電流分
布が分極して磁気モーメントが誘起されることによるも
のと解される。
本発明は、低周波の交番電流発生器0を含む付加回路の
設定により、ilI!I定溶液の変化に応じて高周波発
振器■を含む同調回路に生じる微弱な検出fit(変化
M)を大きく増大させることができるという、新たな知
見に基づいており、本発明により極めて有効な成分測定
手段を提供することができる。
設定により、ilI!I定溶液の変化に応じて高周波発
振器■を含む同調回路に生じる微弱な検出fit(変化
M)を大きく増大させることができるという、新たな知
見に基づいており、本発明により極めて有効な成分測定
手段を提供することができる。
前記低周波の交番電流発生器■を含む付加回路において
、低周波の交番電流発生器として例えば10〜100K
Hz、出力電圧2〜5vのものが使用される。また、永
久磁石■として、磁束(フラックス)が約1 、000
ウエーバ、磁束密度が約4 、000テラス程度のもの
が使用される。
、低周波の交番電流発生器として例えば10〜100K
Hz、出力電圧2〜5vのものが使用される。また、永
久磁石■として、磁束(フラックス)が約1 、000
ウエーバ、磁束密度が約4 、000テラス程度のもの
が使用される。
なお、第1図の測定計の回路図において、検出計のあと
に接続される演算回路(ハ)は、検出量の直線性やログ
性への変換、各種成分と濃度と指示に対する電気的勾配
・温度勾配・PH勾配などの補償や補正、およびゼロ調
節の加減などを行なう電気回路であり、また出力回路0
はアナログまたはデジタルの測定表示および制御出力を
得る電気回路であることを示す、また、第1図の検出計
(イ)は検波機能のもとに高周波信号から低周波の信号
を取り出している。
に接続される演算回路(ハ)は、検出量の直線性やログ
性への変換、各種成分と濃度と指示に対する電気的勾配
・温度勾配・PH勾配などの補償や補正、およびゼロ調
節の加減などを行なう電気回路であり、また出力回路0
はアナログまたはデジタルの測定表示および制御出力を
得る電気回路であることを示す、また、第1図の検出計
(イ)は検波機能のもとに高周波信号から低周波の信号
を取り出している。
次に、前記した高周波発生器■を含む回路系、即ち同調
回路系において、測定溶液の状態量変化に応じて検出さ
れるQ値が変化することの理由を、前述した測定溶液の
静電容i (C2)や電気抵抗(R)のほかにどのよう
な要因に基づいているかについて説明する。これは、本
発明が利用している測定原理と本発明の測定計の適応範
囲を・説明することになるものである。
回路系において、測定溶液の状態量変化に応じて検出さ
れるQ値が変化することの理由を、前述した測定溶液の
静電容i (C2)や電気抵抗(R)のほかにどのよう
な要因に基づいているかについて説明する。これは、本
発明が利用している測定原理と本発明の測定計の適応範
囲を・説明することになるものである。
あらゆる物質は固有の磁気能率と角運動を有しており、
これに外部磁界が加わると磁気能率の方向は外部磁界の
方向に一致しようとする。これはこの方向が最も位置エ
ネルギーが小さいからである。あらゆる物質の核の磁気
能率のとりうる状態は、スピン量子数(角運動量の大き
さ)で決まり、核磁石がとりうる方向はそれぞれ異なる
。例えば。
これに外部磁界が加わると磁気能率の方向は外部磁界の
方向に一致しようとする。これはこの方向が最も位置エ
ネルギーが小さいからである。あらゆる物質の核の磁気
能率のとりうる状態は、スピン量子数(角運動量の大き
さ)で決まり、核磁石がとりうる方向はそれぞれ異なる
。例えば。
プロトンでは1/2、窒素では1、塩素では3/2とい
うように決まった方向を示す。これら位置における核と
外部磁界との間の磁気的エネルギーは外部磁界との傾斜
が大きいほど大である。
うように決まった方向を示す。これら位置における核と
外部磁界との間の磁気的エネルギーは外部磁界との傾斜
が大きいほど大である。
そこで、前記したように配列している物質の原子核に、
さらに外部磁界に直角な高周波の磁界を加えると、核磁
石はこの高周波磁界によって強制的に振動させられる。
さらに外部磁界に直角な高周波の磁界を加えると、核磁
石はこの高周波磁界によって強制的に振動させられる。
そして、核磁石は許された任意の2つの位置の間の位置
エネルギーの差をΔE、ボルツマン定数をhとして、高
周波磁界がΔE=Ifを満足するような周波数fをもつ
とき、核磁石はこの2つの状態間を転移する現象、即ち
共鳴現象を生ずる。その際、低エネルギー位置から高エ
ネルギー位置へ転移する核の数が、高エネルギー位置か
ら低エネルギー位置へ転移するものより多くなる。従っ
て多数の核を考えた場合、平均のエネルギーは高くなり
、そのために必要なエネルギーは高周波磁界から供給さ
れることになる。
エネルギーの差をΔE、ボルツマン定数をhとして、高
周波磁界がΔE=Ifを満足するような周波数fをもつ
とき、核磁石はこの2つの状態間を転移する現象、即ち
共鳴現象を生ずる。その際、低エネルギー位置から高エ
ネルギー位置へ転移する核の数が、高エネルギー位置か
ら低エネルギー位置へ転移するものより多くなる。従っ
て多数の核を考えた場合、平均のエネルギーは高くなり
、そのために必要なエネルギーは高周波磁界から供給さ
れることになる。
本発明の高周波発振器■を含む同調回路系において、共
鳴現象のため周波数がズレることになる。
鳴現象のため周波数がズレることになる。
即ち、高周波コイル間の電磁波のエネルギーが核スピン
系(別言すれば測定試料である溶液成分のエネルギー準
位の遷移)で消費されるため、その発振振幅が僅かに小
さくなり(一種の振幅変調波となる)、結果的に第2図
で説明したようにQ値(=Vc/v値)が低下すること
になる。本発明はこの変化量を検出計にて電圧値または
電流値で検出して測定試料の状態量の変化を求めようと
するものである。
系(別言すれば測定試料である溶液成分のエネルギー準
位の遷移)で消費されるため、その発振振幅が僅かに小
さくなり(一種の振幅変調波となる)、結果的に第2図
で説明したようにQ値(=Vc/v値)が低下すること
になる。本発明はこの変化量を検出計にて電圧値または
電流値で検出して測定試料の状態量の変化を求めようと
するものである。
本発明の測定計は、前記した核スピン系の共鳴現象を利
用しているため、物質の種類や成分変化を正確に反映し
ているのである。これは、前記した状態間のエネルギー
差のΔEは、外部磁界の強さHに比例するから(ΔE=
lf=aH)、f=kHの関係が得られること、そして
に値は原子核の種類によって定まる定数で、核の磁気能
率や角運動量などによって決まるものであることからみ
て当然のことである。
用しているため、物質の種類や成分変化を正確に反映し
ているのである。これは、前記した状態間のエネルギー
差のΔEは、外部磁界の強さHに比例するから(ΔE=
lf=aH)、f=kHの関係が得られること、そして
に値は原子核の種類によって定まる定数で、核の磁気能
率や角運動量などによって決まるものであることからみ
て当然のことである。
本発明の成分測定計により測定溶液を測定するには、測
定溶液を試料容器■に満たして行なえば良い。試料容器
■は、ガラス製でもプラスチック製でもよいが、誘電率
の一定なものを選定して用い、第1図に示されるように
同調回路の高周波コイル■中に挿入すれば良い。
定溶液を試料容器■に満たして行なえば良い。試料容器
■は、ガラス製でもプラスチック製でもよいが、誘電率
の一定なものを選定して用い、第1図に示されるように
同調回路の高周波コイル■中に挿入すれば良い。
なお、第1図は測定溶液を非連続式に測定する態様が示
されているが、連続式に測定できることはいうまでもな
い。
されているが、連続式に測定できることはいうまでもな
い。
連続的に測定するには1例えばある反応系から測定溶液
を連続的に抜出し、試料容器■の下部入口から試料容器
■内に供給するとともに、上部出口から反応系に測定溶
液を戻すようにすれば良い。
を連続的に抜出し、試料容器■の下部入口から試料容器
■内に供給するとともに、上部出口から反応系に測定溶
液を戻すようにすれば良い。
試料容器■への測定溶液の供給は、定量ポンプまたはヘ
ッダータンクにより、所望の供給速度、例えば1〜52
7分の割合で供給すれば良い。
ッダータンクにより、所望の供給速度、例えば1〜52
7分の割合で供給すれば良い。
本発明の成分測定計の適用範囲は、既に説明したように
、測定溶液の状態変化量を明確な原理に基づいて電気量
に変換しているため、溶液濃度、特に濃度溶液の濃度測
定にとどまらず、固液分散系溶液いわゆるss値に相当
する固形濃度を含む濃度測定、溶液成分の性質や性状(
無極性、絶縁性、磁性、非磁性など)の測定および検知
が可能である。
、測定溶液の状態変化量を明確な原理に基づいて電気量
に変換しているため、溶液濃度、特に濃度溶液の濃度測
定にとどまらず、固液分散系溶液いわゆるss値に相当
する固形濃度を含む濃度測定、溶液成分の性質や性状(
無極性、絶縁性、磁性、非磁性など)の測定および検知
が可能である。
本発明の成分測定計は、いかなる成分の測定溶液とも接
液することなく非接触的に状態量の変化を測定(または
検出)することができること、およびサンプリングする
ようなことはせず、非破壊的にプロセスのライン中の状
態量の変化量を測定(検知)す゛ることができること、
タイムラグや誤差が皆無であり、合理的な工程制御管理
、高生産性、品質管理等を可能にする。
液することなく非接触的に状態量の変化を測定(または
検出)することができること、およびサンプリングする
ようなことはせず、非破壊的にプロセスのライン中の状
態量の変化量を測定(検知)す゛ることができること、
タイムラグや誤差が皆無であり、合理的な工程制御管理
、高生産性、品質管理等を可能にする。
〔実 施 例〕
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳しく説明するが
、本発明の要旨を超えない限り本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
、本発明の要旨を超えない限り本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
(実施例1)
ここでは、本発明の成分測定計の有効性を、フロート式
比重計と比較して検討してみる。
比重計と比較して検討してみる。
■ 測定装置について(第1図参照)
(i) 測定容器
・パイレックスガラス製で、180(+2) X 50
(φ)×1(t)、容積約27On+Ilのものを使用
した。
(φ)×1(t)、容積約27On+Ilのものを使用
した。
・測定容器の下部に測定溶液入口、上部に測定溶液出口
を設けて連続的に測定できるようにするとともに、温度
センサも設置した。
を設けて連続的に測定できるようにするとともに、温度
センサも設置した。
(it) 通液条件
定量ポンプにて3.9Q1分の割合で測定溶液を通液し
た。
た。
(iii) 電気的条件
・高周波コイル・・・1(φ)エナメル線を測定容器に
10回、疎巻きした。
10回、疎巻きした。
・高周波発振器・・・発振周波数27MHz、(出力1
0+mV程度、但し出力はオッシロスコープで測定)・
交番電流発生器・・・20にHz、出力2v・検出計・
・・電圧計を用いて検出し、出力回路に0〜5vを出力
させ、これを0〜10目盛(メーター指示)に対応させ
た。
0+mV程度、但し出力はオッシロスコープで測定)・
交番電流発生器・・・20にHz、出力2v・検出計・
・・電圧計を用いて検出し、出力回路に0〜5vを出力
させ、これを0〜10目盛(メーター指示)に対応させ
た。
■ 測定結果について
HCQの2N〜6N濃度の濃度溶液を用いて測定実験(
at15℃)を行ない、第4図の結果を得た。比較実験
の間接的測定法であるフロート式比重計による精度と極
めて高い相関を示した。
at15℃)を行ない、第4図の結果を得た。比較実験
の間接的測定法であるフロート式比重計による精度と極
めて高い相関を示した。
(実施例2)
実施例1の測定装置を用いて(NH4)z SO4の3
0〜50wt%濃度の濃厚溶液を測定(at20℃)シ
、第5図の結果を得た。この場合も、実施例1と同様1
間接的測定法であるフロート式比重計による精度と極め
て高い相関を示した。
0〜50wt%濃度の濃厚溶液を測定(at20℃)シ
、第5図の結果を得た。この場合も、実施例1と同様1
間接的測定法であるフロート式比重計による精度と極め
て高い相関を示した。
(実施例3)
実施例1の測定装置を用いてプリント配線基板製造時に
おけるアルカリ・エッチャントの金銅(Cu)濃度を測
定した。アルカリ・エッチャントは。
おけるアルカリ・エッチャントの金銅(Cu)濃度を測
定した。アルカリ・エッチャントは。
NH4OH/NH,Cg/Cu”十の建浴液を用いて銅
を酸化溶出させるもので、エツチング液中にCu” (
cupric)とCu” (cuprous)の全Cu
濃度が次第に高くなる。エツチング速度を適正なものに
維持するためには該全Cu濃度([Cu”) + (C
u”])を所定の範囲、例えば140〜160g/Qに
正確に維持しなければならない。なお、当業界において
は1間接的な測定手段であるフロート式比重計による測
定が大勢を占めている。
を酸化溶出させるもので、エツチング液中にCu” (
cupric)とCu” (cuprous)の全Cu
濃度が次第に高くなる。エツチング速度を適正なものに
維持するためには該全Cu濃度([Cu”) + (C
u”])を所定の範囲、例えば140〜160g/Qに
正確に維持しなければならない。なお、当業界において
は1間接的な測定手段であるフロート式比重計による測
定が大勢を占めている。
P11=10で、20℃と50℃のもとで測定した結果
を第6図に示す。本発明の測定装置による結果はフロー
ト式比重計によるものと極めて高い相関を示すとともに
、精度(分解能)が高く有効であることが確認された。
を第6図に示す。本発明の測定装置による結果はフロー
ト式比重計によるものと極めて高い相関を示すとともに
、精度(分解能)が高く有効であることが確認された。
また再現性についても、測定装置ONL、た後に通液し
た場合も、あるいは通液後に測定装置をONL、た場合
も、いずれも誤差なく測定することが確認された。
た場合も、あるいは通液後に測定装置をONL、た場合
も、いずれも誤差なく測定することが確認された。
(実施例4)
実施例3と関連して、プリント配線基板を連続製造する
場合、アルカリ・エッチャント中の全Cu濃度の管理に
本発明の測定装置が有効かどうか実験した。
場合、アルカリ・エッチャント中の全Cu濃度の管理に
本発明の測定装置が有効かどうか実験した。
実施例1で使用した本発明の測定装置に、エツチング液
槽(液温50’ ±10℃)からアルカリ・エッチャン
ト(NH40H/NH4CFI/Cu”子糸など)を連
続的に導き、全Cu濃度の管理目標点として ・上限値160g/Q、測定装置の指示値7.75・下
限値150g/Q、測定装置の指示値4.5を設定し、
連続操業におけるアルカリ・エッチャント中の全Cu濃
度を管理した。指示値が7.75に達したとき、これに
基づく電気信号により補充液供給用ポンプを作動させて
エツチング液槽に補充液(N)1.OH系)を供給し、
この供給量に見合った量をエツチング液槽から排出さ
せた。なお1通常のCu+1を含むアルカリ・エツチン
グ操作において、生成するCu+は酸素や適切な酸化剤
によりCu”今に酸化されているため、補充液にはCu
“+を含まないものが使用される。 また、指示値が4
.5に達したとき補充液供給用ポンプを停止して補充液
の供給を停止させた。
槽(液温50’ ±10℃)からアルカリ・エッチャン
ト(NH40H/NH4CFI/Cu”子糸など)を連
続的に導き、全Cu濃度の管理目標点として ・上限値160g/Q、測定装置の指示値7.75・下
限値150g/Q、測定装置の指示値4.5を設定し、
連続操業におけるアルカリ・エッチャント中の全Cu濃
度を管理した。指示値が7.75に達したとき、これに
基づく電気信号により補充液供給用ポンプを作動させて
エツチング液槽に補充液(N)1.OH系)を供給し、
この供給量に見合った量をエツチング液槽から排出さ
せた。なお1通常のCu+1を含むアルカリ・エツチン
グ操作において、生成するCu+は酸素や適切な酸化剤
によりCu”今に酸化されているため、補充液にはCu
“+を含まないものが使用される。 また、指示値が4
.5に達したとき補充液供給用ポンプを停止して補充液
の供給を停止させた。
結果を第7図に示す。第7図より第6図の結果どおりの
精度と再現性を反復し本発明の測定装置は連続操業にお
けるアルカリ・エッチャント中の全Cu@度を管理する
うえで極めて有用であることが判る。
精度と再現性を反復し本発明の測定装置は連続操業にお
けるアルカリ・エッチャント中の全Cu@度を管理する
うえで極めて有用であることが判る。
本発明の新たな811定手段である高周波を利用した測
定溶液中の成分測定計は、測定溶液を接液することなく
非接触的に測定できること、及びサンプリングするよう
なことはせずに非破壊的にプロセスのライン中の状態変
化量を測定できること、タイムラグや誤差が皆無である
などの優れた特徴を有するものである。従って、本発明
の成用測定計は、各種の測定溶液の状態変化量(1度、
性質、性状など)の測定ならびに検知はもとより、化学
プロセスにおいて合理的な工程制御管理、高生産性、品
質管理等に極めて有用である。
定溶液中の成分測定計は、測定溶液を接液することなく
非接触的に測定できること、及びサンプリングするよう
なことはせずに非破壊的にプロセスのライン中の状態変
化量を測定できること、タイムラグや誤差が皆無である
などの優れた特徴を有するものである。従って、本発明
の成用測定計は、各種の測定溶液の状態変化量(1度、
性質、性状など)の測定ならびに検知はもとより、化学
プロセスにおいて合理的な工程制御管理、高生産性、品
質管理等に極めて有用である。
第1図は、本発明の高周波を利用した測定溶液中の成分
測定計の回路図を示す。第2図は、本発明の成分測定計
を構成する同調回路のQ値の説明図である。第3図■〜
■は、本発明の成分測定計を構成する同調回路の一部の
等価回路図である。 第4図は、本発明の成分測定計を用いてHCQ$度を測
定したときの結果をグラフに示したもので。 第5図は9本発明の成分測定計を用いて(NO4)Z−
3O4濃度を測定したときの結果をグラフに示したもの
で、第6図は1本発明の成分測定計を用いてアルカリ・
エッチャント中の全Cu濃度を測定したときの結果をグ
ラフに示したもので、第7図は本発明の成分測定計を連
続操業時におけるアルカリ・エッチャント中の全Cul
!lI度の管理に適用したときの結果をグラフに示した
ものである。 1・・・高周波発振器 2・・・高周波コイル3・
・・試料容器 4・・・検出計5・・・低周波
の交番電流発生器 6・・・補助コイル 7・・・永久磁石特許出願
人 株式会社ヤマトヤ商会 代理人 弁理士 水 野 喜 夫 第 1 図 高周波発振器 検出計 演算回路第 2
図 第 3 図 ■ ■ ■ 第4図 (NH4)zskCDa度測定結果(20’C)第5図 tlcIの濃度測定結果(15℃) (PH=10.20℃、 50℃) 8、 1.、、、、 、
測定計の回路図を示す。第2図は、本発明の成分測定計
を構成する同調回路のQ値の説明図である。第3図■〜
■は、本発明の成分測定計を構成する同調回路の一部の
等価回路図である。 第4図は、本発明の成分測定計を用いてHCQ$度を測
定したときの結果をグラフに示したもので。 第5図は9本発明の成分測定計を用いて(NO4)Z−
3O4濃度を測定したときの結果をグラフに示したもの
で、第6図は1本発明の成分測定計を用いてアルカリ・
エッチャント中の全Cu濃度を測定したときの結果をグ
ラフに示したもので、第7図は本発明の成分測定計を連
続操業時におけるアルカリ・エッチャント中の全Cul
!lI度の管理に適用したときの結果をグラフに示した
ものである。 1・・・高周波発振器 2・・・高周波コイル3・
・・試料容器 4・・・検出計5・・・低周波
の交番電流発生器 6・・・補助コイル 7・・・永久磁石特許出願
人 株式会社ヤマトヤ商会 代理人 弁理士 水 野 喜 夫 第 1 図 高周波発振器 検出計 演算回路第 2
図 第 3 図 ■ ■ ■ 第4図 (NH4)zskCDa度測定結果(20’C)第5図 tlcIの濃度測定結果(15℃) (PH=10.20℃、 50℃) 8、 1.、、、、 、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高周波を利用した測定溶液中の成分測定計において
、 ●低周波の交番電流発生器からの補助コイルに巻回され
た永久磁石、 ●測定溶液用の試料容器を巻回した高周波発振器からの
高周波コイルを、前記永久磁石の作る磁界と高周波コイ
ルの作る磁界が直角になるように、前記永久磁石の磁界
中に設置された高周波発振器と高周波コイルを含む同調
回路、 ●前記補助コイルに低周波の交番電流を印加した状態で
、測定溶液の内容に依存して高周波コイルに生じる変化
量を検出する、前記同調回路に設けられた検出計、 から構成されることを特徴とする高周波を利用した測定
溶液中の成分測定計。 2、高周波発振器が、10〜30MHzの高周波を発生
するものである特許請求の範囲第1項に記載の高周波を
利用した測定溶液中の成分測定計。 3、低周波の交番電流発生器が、10〜100KHzの
交番電流を発生するものである特許請求の範囲第1項に
記載の高周数を利用した測定溶液中の成分測定計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28930087A JPH01132944A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波を利用した測定溶液中の成分測定計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28930087A JPH01132944A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波を利用した測定溶液中の成分測定計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132944A true JPH01132944A (ja) | 1989-05-25 |
Family
ID=17741397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28930087A Pending JPH01132944A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波を利用した測定溶液中の成分測定計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01132944A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010540929A (ja) * | 2007-09-28 | 2010-12-24 | ティツー・バイオシステムズ・インコーポレーテッド | プラスチック製サンプル容器を用いるnmr装置による診断 |
JP2016027788A (ja) * | 2011-07-25 | 2016-02-18 | ソニー株式会社 | 検知装置、受電装置、送電装置、非接触電力伝送システム及び検知方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5290992A (en) * | 1976-01-26 | 1977-07-30 | Hitachi Ltd | Nuclear magnetic resonator |
JPS5729845B2 (ja) * | 1976-08-31 | 1982-06-25 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP28930087A patent/JPH01132944A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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